JP4725846B2 - 回折光学素子の製造方法 - Google Patents
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「回折光学素子入門」 株式会社オプトニクス社 2002年
Claims (10)
- 回折面に入射する入射光の入射角度ごとに異なる回折像を形成させるように前記回折面が構成されている回折光学素子の製造方法であって、
前記回折面の形状を決定する回折面形状決定ステップと、
決定された前記回折面の形状を基板に形成する回折面形成ステップとを有し、
前記回折面形状決定ステップは、
前記回折面の初期位相パターンに関して入射光の前記回折面に対する入射角度ごとに位相回復アルゴリズムを実行して、前記入射角度ごとに前記回折面の位相パターンを取得し、
取得した前記入射角度ごとの前記位相パターンから最小自乗法により一つの最適位相パターンを求め、
求めた前記最適位相パターンを新たな前記初期位相パターンとして用い、前記位相回復アルゴリズムによる前記入射角度ごとの前記位相パターンの取得および前記最小自乗法による前記最適位相パターンの算出を繰り返し、所望の状態に収束された前記位相パターンを前記回折面の形状として決定することを特徴とする回折光学素子の製造方法。 - 前記回折面が2段以上の段数からなる階段を有して断面階段状をなすことを特徴とする請求項1に記載の回折光学素子の製造方法。
- 前記回折面が4段以上の段数からなる階段を有して断面階段状をなすことを特徴とする請求項1に記載の回折光学素子の製造方法。
- 入射光の波長をλとしたとき、前記階段の少なくとも1段の高さがλ以下であることを特徴とする請求項2もしくは3に記載の回折光学素子の製造方法。
- 前記回折面の回折溝の深さが2μm以上であることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の回折光学素子の製造方法。
- 前記回折面の回折溝の深さが4μm以上であることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の回折光学素子の製造方法。
- 前記回折面の回折溝のピッチ幅が4μm以下であることを特徴とする請求項2〜6のいずれかに記載の回折光学素子の製造方法。
- 前記回折面の回折溝のピッチ幅が2μm以下であることを特徴とする請求項2〜6のいずれかに記載の回折光学素子の製造方法。
- 入射光の波長をλとしたとき、前記回折面の回折溝のピッチ幅がλ以下であることを特徴とする請求項2〜6のいずれかに記載の回折光学素子の製造方法。
- 入射光の波長をλとしたとき、前記回折面の回折溝のピッチ幅がλ×2/3以下であることを特徴とする請求項2〜6のいずれかに記載の回折光学素子の製造方法。
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