JP4713204B2 - 光学デバイス用キャビティ構造体、及び光学デバイス - Google Patents
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Description
実施形態1では、図1から図7を用いて、光学デバイス用キャビティ構造体1の構造及び製造方法と光学デバイス100の構造及び製造方法とを示す。図1及び図2は、各々、光学デバイス用キャビティ構造体1の構造を示す斜視図及び断面図である。図3から図5は、光学デバイス用キャビティ構造体1の製造工程を示す断面図である。図6及び図7は、各々、光学デバイス100の製造工程を示す断面図及び斜視図である。
光学デバイス用キャビティ構造体1は、図1及び図2に示すように、配線基板に実装される実装面(図1の裏面)から第1金属層12、第1絶縁体層11、第2金属層14、第2絶縁体層13、第3金属層16、第3絶縁体層15の順に積層されてなり、第1端子部112,112,…、第2端子部116,116,…、キャビティ部2、チップ戴置部114及び透光性部材戴置部15aを備えている。ここで図2(a)は、図2(b)のIIA−IIA線断面図である。そして、図6(c)及び図7(a)乃至(c)に示すように、光学素子チップ121が戴置されて、導電性細線123により接続されて透光性部材124を接着させた後、配線基板(不図示)に実装される。なお、第1、第2及び第3絶縁体層11,13,15は、各々、吸湿機能を有する多孔質材料(不図示)を含有している。
図6(c)及び図7(c)に示すように、光学デバイス100は、光学デバイス用キャビティ構造体1と、光学素子チップ121と、透光性部材124とを備えている。光学素子チップ121は、例えば受光素子である撮像素子などや、発光素子である半導体レーザなどである。透光性部材124は目的とする光(例えば、可視光、赤外光など)を70%以上透過させるものであって、具体的にはガラス板である。そして、この光学デバイス100を配線基板に実装させると、第1端子部112、第2端子部116,…及び導電性細線123,…を介して、光学素子チップ121に電圧が印加される。その結果、光学素子チップ121は、光の発光または受光を行う。光学素子チップ121が発光素子である場合には、発光された光は透光性部材124を透過して光学デバイス100の外部へ放射される。光学素子チップ121が受光素子である場合には、光は、透光性部材124を透過して光学素子チップ121で受光され受光信号が電気信号に変換されて配線基板に伝達される。
図3(a)から図4(e)に示す工程に従って母材基板10を製造後、図5(a)に示すレーザ光照射を行うことにより、図5(c)に示す光学デバイス用キャビティ構造体1を製造する。以下、詳細に示す。
まず、図3(a)に示すように、第1絶縁体層11の裏面に第1金属層12を形成し、第1絶縁体層11の表面に第2金属層14を形成して3つの層が積層された積層物を形成する。
まず、図4(e)に示す母材基板10の表面(上面)全体に、レーザ光を照射する。このとき、レーザ強度などが相対的に強いレーザ光を母材基板10の表面の中央部と第1端子部112が形成される周縁部とへ照射し、レーザ強度などが相対的に弱いレーザ光を中央部と第1端子部112が形成される周縁部とに挟まれた部分へ照射する。なお、母材基板10の表面の中央部は、第3金属層16が形成されていない部分と舌片状部16aとに対応する母材基板10の表面である。そして、相対的に強いレーザ光を母材基板10の表面の中央部に照射することにより、図5(a)に示すように、このレーザ光が照射された第3絶縁体層15の部分と第3金属層16で被覆されていない第2絶縁体層13の部分と第2金属層14に覆われていない周縁部の第1絶縁体層11とが除去される。第3絶縁体層15の除去により、複数の第2の舌片状部16a,…が露出され、キャビティ部2の各内壁面に複数の突設部21,…が形成される。また、第2絶縁体層13の除去により、第2金属層14の中央部分が露出されて、キャビティ部2の底面を形成するとともに、複数の第1の舌片状部である第1端子部112上面が露出される。さらに、周縁部の第1絶縁体層11が除去されることで、第1端子部112が形成される。本工程においては、各金属層は、レーザストップ層として機能する。そのため、各突設部21の端面(側面)では、第2絶縁体層13と第3金属層16とが面一となる。なお、このとき、第2金属層14の表面のRzが1μm以上5μm以下となるように、レーザ照射条件を調整することが好ましい。
まず、図6(a)及び図7(a)に示すように、光学素子チップ121の裏面に接着剤122を塗布して、図5(c)に示す光学デバイス用キャビティ構造体1のチップ戴置部114に光学素子チップ121を戴置する。
変形の形態1における光学デバイス用キャビティ構造体101を図8に示す。図8に示すように、キャビティ部の開口部102aの輪郭形状は、開口部102aの略中点に対して非点対称であり、具体的には、矩形の頂点が曲線状に切り取られてなる形状である(以下、矩形の頂点が曲線状に切り取られてなる部分81aを「非点対称部81a」という)。換言すると、開口部102aの輪郭形状は、矩形の4つの頂点のうちの1つの頂点が円弧に形成されてなる。また別の言い方をすると、開口部102aの輪郭形状は、矩形の4つの頂点のうちの1つの頂点が丸コーナーである。そして、特定の機能を有する第1端子部112と最も近い開口部の頂点部分に非点対称部81aを形成すれば、開口部102a側から光学デバイス用キャビティ構造体101を観察することによりその特定の機能を有する第1端子部112の位置を視認できる。
変形の形態2における光学デバイス用キャビティ構造体201を図9に示す。図9に示すように、穴91aが、光学デバイス用キャビティ構造体201の表面に形成されている。そして、特定の機能を有する第1端子部112の近くの光学デバイス用キャビティ構造体201の表面に穴91aを形成すれば、開口部202a側から光学デバイス用キャビティ構造体201を観察することによりその特定の機能を有する第1端子部112の位置を視認できる。
実施形態2では、図10及び図11を用いて、光学デバイス用キャビティ構造体3の構造及び製造方法を示す。図10は、本実施形態に係る光学デバイス用キャビティ構造体3の構造を示す断面図である。図11は、本実施形態に係る光学デバイス用キャビティ構造体3の製造工程の一部を示す断面図である。
本実施形態の光学デバイス用キャビティ構造体3は、実施形態1に係る光学デバイス用キャビティ構造体1と固定手段Aの構成のみを異にする。具体的には、図10に示すように、固定手段Aは、第3絶縁体層15の表面に形成されたレジスト層31である。すなわち、透光性部材戴置部135は、レジスト層31の表面である。そして、透光性部材戴置部135がレジスト層31の表面であるため、透光性部材124を密着させて固定させることができる。
まず、図3及び図4に示す工程に従って、本実施形態の光学デバイス用キャビティ構造体3の母材基板を製造する。この工程は実施形態1と同じである。
実施形態3では、図12から図14を用いて、光学デバイス用キャビティ構造体5の構造及び製造方法と光学デバイス500の構造及び製造方法とを示す。図12は、本実施形態に係る光学デバイス用キャビティ構造体5の構造を示す断面図である。図13及び図14は、本実施形態に係る光学デバイス用キャビティ構造体5の製造工程と光学デバイス500の製造工程とを示す断面図である。なお、本実施形態のキャビティ構造体5は、第3絶縁体層15よりも下の部分は実施形態1のキャビティ構造体1と同じであるので、実施形態1とは異なっている部分を主に説明する。
本実施形態に係る光学デバイス用キャビティ構造体5は、図12に示すように、実装面から順に、第1金属層12、第1絶縁体層11、第2金属層14、第2絶縁体層13、第3金属層16、第3絶縁体層15、第4金属層52、第4絶縁体層53の順に積層されてなる。
本実施形態の光学デバイス用キャビティ構造体5の製造方法の前半部分は、実施形態1と同じであるので、まず、図3及び図4に示す方法で、図4(e)に示す積層体を形成する。
実施形態4では、図15から図17を用いて、光学デバイス用キャビティ構造体7の構造及び製造方法と光学デバイス700の構造及び製造方法とを示す。図15は、本実施形態に係る光学デバイス用キャビティ構造体7の構造を示す断面図である。図16は、本実施形態に係る光学デバイス用キャビティ構造体7の製造工程を示す断面図である。図17は、光学デバイス700の斜視図である。なお、本実施形態のキャビティ構造体7は、第3絶縁体層15よりも下の部分は実施形態1のキャビティ構造体1と同じであるので、実施形態1とは異なっている部分を主に説明する。
本実施形態に係る光学デバイス用キャビティ構造体7は、図15に示すように、実装面から順に、第1金属層12、第1絶縁体層11、第2金属層14、第2絶縁体層13、第3金属層16、第3絶縁体層15、第4金属層72、第4絶縁体層73の順に積層されてなり、光学部品嵌合部175を備えている。キャビティ部6の各内壁面は、底面から開口部へ向かう方向に、第2絶縁体層13、第3金属層16、第3絶縁体層15の順に積層されて形成されている。
本実施形態の光学デバイス用キャビティ構造体7の製造方法の前半部分は、実施形態1と同じであるので、まず、図3及び図4に示す方法に従って、図4(e)に示す積層体を形成する。
実施形態5では、図18から図20を用いて、光学デバイス用キャビティ構造体9の構造及び製造方法を示す。図18及び図19は、本実施形態に係る光学デバイス用キャビティ構造体9の製造工程を示す断面図であり、図20は、本実施形態に係る光学デバイス用キャビティ構造体9の裏面側の斜視図である。なお、本実施形態のキャビティ構造体9は、第1絶縁体層11よりも上の部分は実施形態1のキャビティ構造体1と同じであるので、実施形態1とは異なっている部分を主に説明する。
光学デバイス用キャビティ構造体9は、図19(b)に示すように、実装面から順に、第1金属層12、スタンドオフ用絶縁体層93、スタンドオフ用金属層92、第1絶縁体層11、第2金属層14、第2絶縁体層13、第3金属層16、第3絶縁体層15の順に積層されてなる。キャビティ部8の各内壁面は、底面から開口部へ向かう方向に、第2絶縁体層13、第3金属層16、第3絶縁体層15の順に積層されて形成されている。そして、第1端子部94は、外壁面25から外方に突き出しているとともに、実装面から突き出している。
まず、図18(a)に示すように、第1絶縁体層11の表面に第2金属層14を形成し、第1絶縁体層11の裏面にスタンドオフ用金属層92を形成する。
本発明は、上記実施形態1から5について、以下のような構成としてもよい。
2,4,6,8 キャビティ部
2a,102a,202a 開口部
11,13,15 絶縁体層
12,14,16 金属層
15a,135,52a 透光性部材戴置部
16a 第2の舌片状部
21 突設部
25 外壁面
28 湾曲面
31 レジスト層
41 第1突設部
42 第2突設部
94,112 第1端子部
114 チップ戴置部
116 第2端子部
121 光学素子チップ
124 透光性部材
175 光学部品嵌合部
A 固定手段
Claims (11)
- 光学素子チップが戴置されて配線基板に実装される光学デバイス用キャビティ構造体であって、
少なくとも3層の絶縁体層と少なくとも3層の金属層とが交互に、第1の金属層、第1の絶縁体層、第2の金属層、第2の絶縁体層、第3の金属層、第3の絶縁体層の順で積層されてなり、
前記配線基板に実装される実装面とは反対側の面の中央部分に矩形の開口部を有するキャビティ部と、
前記開口部を取り囲む前記反対側の面に形成され、前記光学素子チップが受光または発光する光を透過させる透光性部材が戴置される透光性部材戴置部と、
前記配線基板の配線と電気的に接続される第1端子部と
を備えており、
前記キャビティ部では、
底面は、前記第2の金属層の一部であるとともに、前記光学素子チップが戴置されるチップ戴置部であり、
各内壁面は、前記底面から前記開口部へ向かう方向に、前記第2の絶縁体層、前記第3の金属層及び前記第3の絶縁体層が積層されて形成されており、表面には、該第2の絶縁体層及び該第3の金属層で構成される突設部が複数形成され、
前記各突設部における前記第3の金属層は、前記光学素子チップと電気的に接続される第2端子部であり、
前記第1端子部は、前記第1の金属層、前記第1の絶縁体層および前記第2の金属層を構成要素としているとともに、前記実装面に対して垂直な外壁面から外方に突き出しており、当該第1端子部の下面と、側面のうちの前記外方に突き出した先端部とが導電体層に覆われ、該導電体層によって前記第1の金属層と前記第2の金属層とが電気的に接続されており、
前記第1端子部の先端部は凹形状の湾曲面をなしており、
前記各突設部における前記第3の金属層は、前記内壁面と前記外壁面との間の部分において前記第2の金属層と電気的に接続されていることによって前記第1端子部と電気的に接続されており、
前記透光性部材戴置部は、前記第3の絶縁体層の一部であり、
前記第3の絶縁体層の表面は、前記透光性部材を固定させるため粗面化されている
ことを特徴とする光学デバイス用キャビティ構造体。 - 請求項1に記載の光学デバイス用キャビティ構造体において、
前記第3の絶縁体層の前記表面は、Rzが5μm以上20μm以下に粗面化されている、光学デバイス用キャビティ構造体。 - 請求項1に記載の光学デバイス用キャビティ構造体において、
前記第1端子部の下面が前記実装面の中央部分よりも下方に突き出している、光学デバイス用キャビティ構造体。 - 請求項1または3に記載の光学デバイス用キャビティ構造体において、
前記チップ戴置部の表面は、Rzが1μm以上5μm以下に形成されている、光学デバイス用キャビティ構造体。 - 請求項1または3に記載の光学デバイス用キャビティ構造体において、
前記絶縁体層には、吸湿機能を有する多孔質材料が混合されている、光学デバイス用キャビティ構造体。 - 請求項1または3に記載の光学デバイス用キャビティ構造体において、
前記実装面には、周縁部に金属層が形成され、該周縁部の内側に反り防止用凹部が形成されている、光学デバイス用キャビティ構造体。 - 請求項1または3に記載の光学デバイス用キャビティ構造体において、
前記実装面と反対側の前記面における前記キャビティ部の前記開口部の輪郭形状が、該開口部の中心点に対して非点対称である、光学デバイス用キャビティ構造体。 - 請求項1または3に記載の光学デバイス用キャビティ構造体において、
前記実装面と反対側の前記面には、前記第1端子部における端子の配置方向を示す穴部が形成されている、光学デバイス用キャビティ構造体。 - 請求項1乃至8のいずれか一つに記載の光学デバイス用キャビティ構造体と、
前記光学デバイス用キャビティ構造体のチップ戴置部に戴置された光学素子チップと、
前記光学デバイス用キャビティ構造体の透光性部材戴置部に戴置された透光性部材と、を備えていることを特徴とする光学デバイス。 - 請求項9に記載の光学デバイスにおいて、
前記光学素子チップと前記第2端子部の表面とは、導電性細線により電気的に接続されており、
前記導電性細線は、樹脂により封止されている、光学デバイス。 - 請求項9または10に記載の光学デバイスにおいて、
前記光学素子チップの光学面は、前記第2端子部の前記表面よりも前記開口部側に配置されている、光学デバイス。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005112374A JP4713204B2 (ja) | 2005-04-08 | 2005-04-08 | 光学デバイス用キャビティ構造体、及び光学デバイス |
KR1020060030143A KR20060106891A (ko) | 2005-04-04 | 2006-04-03 | 광학 디바이스용 캐비티 구조체, 광학 디바이스 및 광학디바이스용 캐비티 구조체의 제조방법 |
US11/396,651 US7286729B2 (en) | 2005-04-04 | 2006-04-04 | Optical device cavity structure, optical device, and method for manufacturing an optical device cavity structure |
TW095112046A TW200636943A (en) | 2005-04-04 | 2006-04-04 | Optical device cavity structure, optical device, and method for manufacturing an optical device cavity structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005112374A JP4713204B2 (ja) | 2005-04-08 | 2005-04-08 | 光学デバイス用キャビティ構造体、及び光学デバイス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006294808A JP2006294808A (ja) | 2006-10-26 |
JP4713204B2 true JP4713204B2 (ja) | 2011-06-29 |
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ID=37415067
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005112374A Expired - Fee Related JP4713204B2 (ja) | 2005-04-04 | 2005-04-08 | 光学デバイス用キャビティ構造体、及び光学デバイス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4713204B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6238525B2 (ja) * | 2013-01-31 | 2017-11-29 | キヤノン株式会社 | 半導体パッケージおよび電子機器 |
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JP2006294808A (ja) | 2006-10-26 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080821 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A02 | Decision of refusal |
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A521 | Written amendment |
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A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20090223 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
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A521 | Written amendment |
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R250 | Receipt of annual fees |
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