JP4709168B2 - レポート検索方法，レポート検索システム、およびレビュー装置 - Google Patents

Description

本発明は、データベースから所望のレポートを検索する方法，検索システム、およびレビュー装置に関するものである。特に、半導体欠陥のレビュー装置のように、欠陥の分布，各種欠陥の画像，欠陥のＸ線スペクトル分析の結果，欠陥分類の結果など、多種多様な情報の中から、状況に応じて所望の情報を取捨選択して検索し、その情報が記載されたレポートを表示するものである。

半導体デバイスの製造プロセスにおいて、半導体デバイスの歩留を高くするためには、各製造プロセスで発生する異常や欠陥を早期に発見し、対策を施すことが重要である。近年、半導体デバイスの微細化にともない、歩留に影響を与える欠陥が多様化しており、したがって対策の検討に際して必要とされる情報量も増加している。

半導体デバイスの欠陥を観察するレビュー装置は、欠陥に関する多様な情報を取得するための装置であり、半導体デバイスの微細化に対応して電子顕微鏡（以下、ＳＥＭと称する場合がある）を応用した装置が実用化されている。レビュー装置は、一般に、ウェーハマップと呼ばれる半導体ウェーハ上の欠陥の分布図，電子顕微鏡の画像（以下、ＳＥＭ画像と称す），光学顕微鏡の画像（以下、ＯＭ画像と称す），Ｘ線スペクトルの画像（以下、ＥＤＸ結果と称す），自動欠陥分類の結果（以下、ＡＤＣ結果と称す），欠陥サイズの分布（以下、サイズ分布と称す）などを出力することができる。また、各画像の倍率，画像取得時の光学条件，オペレータがコメントを記載したメモなども情報として、レビュー装置または記憶装置に記憶される。

なお、欠陥分類には、作業者が目視で行うマニュアル欠陥分類や、あるていどの分類が自動で行われ、詳細分類を作業者が行うなどの半自動欠陥分類があるが、ここでは、自動欠陥分類も含めた全ての方法による欠陥分類の結果をＡＤＣ結果と呼ぶことにする。

レビュー装置によって、欠陥の画像と、その欠陥の分析結果や欠陥の座標などの付帯情報はオペレータによって整理されて、レポートとしてまとめられる。このレポートは、レビュー装置やレビュー装置にネットワークで接続されたレポート管理サーバのディスプレイに表示可能なように、電子ファイル化される。

ＳＥＭ画像とその付帯情報を電子化されたレポートファイルにまとめる技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。この技術によれば、欠陥の画像とテキスト化された付帯情報とが、定型フォーマットのレポートに貼りこむことによって、レポートが簡便に作成可能になる。

レポートは、欠陥が発生したときの報告書として機能するだけでなく、データベースに保存することによって、後日の欠陥発生時の原因究明と対策の検討に役に立つ。

レビュー装置やレポート管理サーバのディスプレイに今回発生した欠陥の画像を表示させ、類似の欠陥の画像をデータベースに記憶させた過去の画像の中から、オペレータの目で見つけ出すことが行われてきた。しかし、過去の画像の数の増加，半導体デバイスの微細化に伴う欠陥の種類の増加，オペレータの技術レベルの差などによって、時間と精度の問題が深刻になってきたため、コンピュータの画像類似検索機能を利用することで、オペレータの作業負担の軽減，時間の短縮，検索精度の向上がはかられている。

欠陥には様々な種類があるため、レポートを作成するオペレータの考え方によってレポートのフォーマットが多種多様になる可能性がある。上述した技術（特許文献１）においても、レポートに貼り付けられる付帯情報はオペレータが指定するようになっているため、過去の類似画像が検索できても、レポートに記載された付帯情報から重要なデータが抜け落ちている可能性は否定できない。

欠陥の発生原因究明と対策の検討に際して有用な情報は、欠陥の種類によって異なっている。例えば、類似の欠陥が多数ある場合は、多数の画像を並べて相互に比較できるようにしたサムネイル画像一覧機能，欠陥の形状や表面性状が重要な場合は拡大ＳＥＭ画像，欠陥の物質が重要な場合はＥＤＸ結果などである。しかしながら、例えば、今回の欠陥の原因究明にはその物質が重要な決め手である場合に、データベースに保存されたレポートからＥＤＸ結果が抜け落ちていると、オペレータはＥＤＸ結果以外の付帯情報や画像でしか検討できないため、今回の欠陥発生の対策の検討に多大の手間と費用がかかってしまうことになる。そこで、欠陥の画像に付帯する全ての情報をレポートに記載することが考えられるが、オペレータにとって情報量が増えることになるので、使いづらいレポートが出来上がり、より多くの手間と時間がかかってしまうことになる。

特開平１１−９６３８４号公報

本発明は、過去の情報が記録されたレポートから所望の情報を検索することにより、欠陥等の異常の対策を迅速に行うことができるレポート検索方法，レポート検索システム、およびレビュー装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明は、半導体の製造プロセスにおける外観不良の観察結果として、外観不良の画像と、該画像に関するレポートへ記載されるよう予め設定された付帯情報と、当該記載されるよう設定された付帯情報には含まれない付帯情報とをレポートファイルとしてデータベースへ記憶し、設定された検索条件に基づき、当該検索条件に一致する第１の付帯情報を含むレポートファイルを前記データベースから検索し、更に、前記検索条件とは一致しない付帯情報で前記レポートファイルに共通して含まれる第２の付帯情報を前記検索されたレポートファイルから抽出し、前記第１の付帯情報および当該第１の付帯情報に関する画像と、前記第２の付帯情報とを出力ないし表示画面に表示し、更に、前記レポートへ記載される付帯情報として、ウェーハマップ，ＳＥＭ画像，取得条件，ＡＤＣ結果のいずれかを含む情報を使用し、前記レポートへ記載されない付帯情報として、ＯＭ画像，ＥＤＸ結果，サイズ分布，メモのいずれかの情報を使用することを特徴とする。

本発明によれば、過去の情報が記録されたレポートから所望の情報を検索することにより、欠陥等の異常の対策を迅速に行うことができるレポート検索方法，レポート検索システム、およびレビュー装置を得ることができる。

本発明の一実施例を図面を参照して説明する。図１は、ＳＥＭ式欠陥レビュー装置の主要な構成を示す断面図である。欠陥レビュー装置本体１００は、電子銃１０１で発射された電子ビーム１０７を試料１０５へ照射し、試料１０５で発生した二次粒子１０８を二次粒子検出器１０９で検出するものである。電子ビーム１０７は、レンズ１０２で集束され、偏向器１０３で試料１０５を走査するように偏向され、対物レンズ１０４により試料
１０５上で細く絞られる。電子ビーム１０７は真空中で用いられるものであるが、図では真空ポンプ等の環境制御部分は省略している。試料１０５は３軸方法に移動可能なステージ１０６に置かれ、ステージ１０６の移動や停止は、ステージ制御部１１２により制御される。

レンズ１０２，偏向器１０３，対物レンズ１０４は電子光学系制御部１１０により制御される。電子ビーム１０７が照射された試料１０５から、試料の形状や材質に応じて、二次電子，反射電子，Ｘ線等の二次粒子１０８が発生する。発生した二次粒子１０８は、二次粒子検出器１０９で検出され、アナログ信号をディジタル信号へ変換するＡ／Ｄ変換部１１１でディジタル信号に変換され、画像処理部１１４でＳＥＭ画像が形成される。また形成されたＳＥＭ画像を使用して、欠陥検出，コントラスト調整，立体像形成などの画像処理が画像処理部１１４で実行される。

全体制御部１１３は、これに接続されたキーボード１１６，マウス１１８，記憶装置
１１７からの入力を解釈し、電子光学系制御部１１０，ステージ制御部１１２，画像処理部１１４を制御する。また、必要に応じてディスプレイ１１５，記憶装置１１７に各種の処理内容を出力する。

欠陥レビュー装置は、図示しない検査装置で検出した欠陥の座標とアライメントマークの座標を受け取り、それらの座標に基づいて欠陥を検出し、自動またはマニュアルによって分類された欠陥の座標と分類結果を記憶装置１１７へ保存する。また、欠陥レビュー装置は、欠陥の分類結果からレポートを作成し、そのデータを記憶装置１１７に記憶する機能も有する。レポートの内容は、図３の説明のところで詳述する。

図２は、複数の欠陥レビュー装置を接続したシステム構成図であり、レポート検索機能のネットワーク構成の事例を示している。図２（ａ）は、複数の欠陥レビュー装置２０１，２０２，２０３がネットワーク２０４で接続されているシステムを示している。図２
（ｂ）は、レポート検索機能を欠陥レビュー装置に搭載せず、ネットワーク２０４に接続されたレポート管理サーバ２０５で集中管理し、レビュー装置の設置場所以外からレポートへのアクセスが可能なレポートビューワ２０６，２０７を設置したシステムを示している。図２（ｃ）は、図２（ａ）と同じく欠陥レビュー装置にレポート検索機能を搭載し、更にレポートの一括管理が可能なレポート管理サーバ２０５と、レビュー装置の設置場所以外からレポートへのアクセスが可能なレポートビューワ２０６，２０７も設置したシステムを示している。

図２（ａ）の例は、図２（ｂ）のようなレポート管理サーバ２０５を導入する必要がないので、初期投資を抑えることができるシステムである。但し、各欠陥レビュー装置には、レポート検索機能を搭載する必要がある。半導体デバイスの製造工程に少数の欠陥レビュー装置しか導入されない場合には、総合的にコスト面で有効なシステムである。

多数の欠陥レビュー装置が導入されることが想定される場合には、図２（ｂ），図２
（ｃ）に示したレポート管理サーバ２０５で多数の欠陥レビュー装置のレポートの作成，保存，検索機能を集中管理するシステムが望ましい。レポート検索機能を備えたレポートビューワ２０６，２０７を導入すれば、各欠陥レビュー装置やレポート管理サーバ２０５の設置場所から離れた場所からでも、レポート検索が可能となる。図２（ｃ）に示したシステムでは、レポート管理サーバ２０５，レポートビューワ２０６，２０７，欠陥レビュー装置２０１，２０２，２０３のレポート検索機能のすべてで、レポートの検索が可能である。

図３は、レポートファイルの内容を示す説明図である。欠陥レビュー装置で欠陥に関する付帯情報がファイル化され、付帯情報のうちの予め設定された主要な情報が画像３０１に表示されるとともに、ひとまとまりのレポートファイルとして作成される。付帯情報にはレポートに記載されるデータ内容３０２と、記載されないデータ内容３０３とがあり、両方のデータが付帯情報ファイルとしてレポートに付帯して出力される。レポートに記載されるか否かは、予め設定される。出力されたレポートは、レポートを作成した欠陥レビュー装置の記憶装置１１７，レポート管理サーバ２０５の図示しない記憶装置に記憶される。

レポートに記載されるデータ内容３０２は、ウェーハマップ，ＳＥＭ画像，取得条件，ＡＤＣ結果であり、レポートに記載されないデータ内容は、ＯＭ画像，ＥＤＸ結果，サイズ分布，メモ等であり、図３の付帯情報ファイル３０４に示されたような詳細なデータが含まれる。データのうち、複数の項目のまとまりでひとつの組を形成するものは、組ごとにＩＤ等の名称を付けてまとまりとして記憶する。例えば、図３の付帯情報ファイルの中の「ＳＥＭ画像」のＩＤが「０００００１」のデータの組は、「低倍倍率」で取得した画像の倍率値、「高倍倍率」で取得した画像の倍率の値等のひとつの欠陥に関するＳＥＭ画像の付帯情報を表している。なお、レポート作成のタイミングは、レポート作成時でもよいし、レポート検索開始時でもよい。

欠陥レビュー装置の記憶装置１１７やレポート管理サーバ２０５の図示しない記憶装置に記憶されたレポートは、欠陥レビュー装置のレポート検索機能，レポート管理サーバ
２０５，レポートビューワ２０６，２０７で検索が実行される。

図４は、レポート検索の手順を示すフローチャートである。欠陥レビュー装置のレポート検索機能，レポート管理サーバ２０５，レポートビューワ２０６，２０７の図示しないマイクロプロセッサにより、レポートの検索が実行される。レポート管理サーバ２０５，レポートビューワ２０６，２０７はもちろん、欠陥レビュー装置のレポート検索機能も、ネットワーク２０４に接続された全ての欠陥レビュー装置で作成された全てのレポートを検索することができる。

はじめに、オペレータのレポート検索開始の指示により、欠陥レビュー装置の記憶装置１１７やレポート管理サーバ２０５の図示しない記憶装置に記憶されたレポートの全てに対して、付帯情報ファイルが作成済みかどうかを確認し（ステップ４０１）、作成済みでない場合には付帯情報ファイルを作成する（ステップ４０２）。付帯情報ファイルが作成済みかどうかをオペレータが判断する場合には、欠陥レビュー装置のディスプレイ１１５または、レポート管理サーバ２０５，レポートビューワ２０６，２０７の図示しないディスプレイに、付帯情報ファイルが作成済みかどうかを表示させ、この表示を見たオペレータの判断により、次のステップへ移る。

次に、オペレータは、レポートの検索条件を設定する（ステップ４０３）。検索条件の設定の内容は図５または図６の説明で詳述する。欠陥レビュー装置のレポート検索機能，レポート管理サーバ２０５，レポートビューワ２０６，２０７の図示しないマイクロプロセッサは、設定された検索条件に基づき、レポート検索を実行し（ステップ４０４）、検索結果を欠陥レビュー装置のディスプレイ１１５または、レポート管理サーバ２０５，レポートビューワ２０６，２０７の図示しないディスプレイに表示する（ステップ４０５）。検索結果の表示の詳細は図８または図９の説明で詳述する。

ディスプレイに表示された検索結果は、検索条件が共通であるが、検索条件以外の共通項も存在するため、オペレータの共通項の表示の指示があった場合には(ステップ４０６)、共通項の抽出を実行し（ステップ４０７）、図９の説明で詳述するようにその結果を表示する（ステップ４０８）。条件を変えて再検索する場合は、図示しない再検索指示画面によるオペレータの指示で（ステップ４０９）、検索条件設定（ステップ４０３）に戻る。再検索しない場合は終了する（ステップ４１０）。

図５は、検索条件設定表示の一例を示す画面図である。画面には、図３に示したレポートに記載されているデータ内容３０２の項目がタブで表示されており、取得条件タブ501を指定すると、取得条件に関するデータの一覧が取得条件リスト５０２として表示される。

オペレータは各データのうち、検索キーワードとするものにチェックマークを付け、プルダウンリスト５０３から検索条件を選択する。図５に示す例では、「日時」「デバイス」「プロセス」「ＡＤＲレシピ」を検索キーワードとして設定し、「日時」については
「２００５.０６.１８〜２００５.０６.３０」を検索条件として指定している。保存ボタン５０４の指定により、設定した検索条件を保存することができる。

保存済みの検索条件を読み込み（あるいは、呼び出し）、表示させることもできる。例えば、取得条件リスト５０２のうち「日時」だけにチェックマークを付け、読込ボタン
５０５を指定すると、以前に保存されたデータのうち、「日時」が一致するデータが取得条件リスト５０２に表示される。

取得条件に関する検索条件が決まったら、検索ボタン５０６の指示により、図７に示す、検索条件の確認画面が表示される。レポート検索が終了すると、その結果は、図８に示されるような検索結果表示画面が表示される。レポート検索を中止する場合は、閉じるボタン５０７を指定する。

図６は、検索条件設定表示の一例を示す画面図である。画面には、図３に示したレポートに記載されているデータ内容３０２の項目がタブで表示されており、ウェーハマップタブ６０１を指定すると、ウェーハマップ６０２とともに、ウェーハマップに関するデータの一覧がウェーハマップ検索条件リスト６０３として表示される。ウェーハマップ検索条件リスト６０３で、検索条件にチェックを入れる。図の例では、ウェーハ外周部クラスタを検索条件として設定する場合には、分布状態の項目のプルダウンリストから「クラスタ」を選択し、分布位置の項目のプルダウンリストから「外周」を選択し、チェックマークを付ける。

また、ウェーハマップ上の線状欠陥分布を領域で指定したい場合には、分布状態の項目のプルダウンリストから「線状」を選択し、分布位置の項目のプルダウンリストから「マップ指定」を選択し、チェックマークを付ける。「マップ指定」を選択した場合には、マウス等のポインティングデバイスにより、欠陥発生場所を設定できる。例えば、ウェーハマップ６０２上で、ダイを表す矩形内の任意の位置を指定するとそのダイが選択され、他のダイと区別するために、選択されたダイ６０４が明度差表示あるいは色分け表示される。

ウェーハマップ検索条件は保存ボタン５０４の指定で保存されるが、戻し送りボタン
６０５の指定で、保存された複数のウェーハマップ検索条件を保存された順番で表示させることができる。

検索条件設定のデータとして、取得条件，ウェーハマップを例示したが、図３で示したように、他に、レポートに記載されたデータとして、ＳＥＭ画像，ＡＤＣ結果があり、レポートに記載されないデータとして、ＯＭ画像，ＥＤＸ結果，サイズ分布，メモなどがある。ＳＥＭ画像では、倍率，欠陥の有無などが検索キーワードとなる。ＯＭ画像では、倍率，画像取得の有無，欠陥の有無などが検索キーワードとなる。ＳＥＭ画像とＯＭ画像の検索条件を組み合わせることで、ＳＥＭ画像では検出できなかったがＯＭ画像では検出できた欠陥に関する過去の事例のレポートを検索することができるようになる。ＳＥＭ画像とＯＭ画像の検索条件を組み合わせる場合には、ＳＥＭ画像タブの検索キーワードとＯＭ画像タブの検索キーワードの両方にチェックマークを付け、検索を実行させることで可能となる。

ＡＤＣ結果の検索条件では、ＡＤＣを実行した結果、得られた特定カテゴリの発生頻度などを検索キーワードとすると、従来、検索が困難であった事例のレポートを検索することが可能になる。例えば、異物のデータとして、全欠陥に対する異物の占める割合をレポートに含めておき、異物が６０％以上のデータを指定することで、異物が６０％以上を占める事例のレポートが検索できる。また、スクラッチのデータとして個数をレポートに含めておき、スクラッチが１０個以上のデータを指定することで、スクラッチが１０個以上の事例のレポートが検索できる。

ＥＤＸ結果の検索条件では、特定元素の発生事例などが検索キーワードとなる。ＡＤＣ結果とＥＤＸ結果とを組み合わせることで、異物とその材料の関係を特定したレポートの検索が可能になる。例えば、ＡＤＣ結果の検索条件の画面で異物を選択し、ＥＤＸ結果の検索条件の画面でアルミニウムを指定すると、異物の材料がアルミニウムである欠陥が発生した過去事例のレポートを検索することができる。

サイズ分布の検索条件では、欠陥のサイズ分布が検索キーワードとなる。例えば、欠陥のサイズをデータとしてレポートに保存しておくことにより、サイズ分布の検索条件の画面で１μｍ以上を選択あるいは指定すると、１μｍ以上の欠陥の事例のレポートを検索することができる。また、サイズの範囲や、全欠陥に占める割合をデータとしてレポートに保存しておくことにより、例えば、全欠陥に対して０.３から０.６μｍのサイズの欠陥が３０％以上を占めていた事例のレポートを検索することができる。また、ＡＤＣ結果とサイズ分布の検索条件を組み合わせることにより、例えば、ＡＤＣ結果の検索条件の画面でスクラッチを指定し、サイズ分布の検索条件の画面で１μｍ以上を指定して検索を実行させると、１μｍ以上のサイズのスクラッチが発生した過去事例のレポートを検索することができる。

メモの検索条件では、オペレータがレポートに登録したコメントの中の語句が検索キーワードとなる。例えば、推定原因，推定原因に対する対策内容，対策結果などをキーワードにして、過去事例のレポートを検索することができる。これにより、過去の対策事例を参考に、現在注目している課題に対する対策を検討することができる。

図７は、検索条件の最終確認画面図である。図５や図６に示した画面で検索ボタンを指定すると、図７に示す画面が表示され、検索式が検索式表示領域７０１に、検索条件が検索条件表示領域７０２に表示される。検索式は、検索条件を全て「ＡＮＤ」で結合したものがはじめに表示され、検索式表示領域７０１で検索式を修正することで、任意の検索式に変更することができる。検索式が確定したら、検索続行ボタン７０３を指定すると、検索が実行される。

図８は、検索結果表示の一例を示す画面図である。検索されたレポートの画像８０１が表示される。検索されたレポートが複数の場合は、最も拡大された画像８０１に、予め指定された項目の順番の最も上位のレポートが表示される。さらに、画像８０１とともに他のレポートがサムネイル表示される。サムネイルで選択されたレポートの画像８０２は、画像８０１として拡大表示される。また、拡大表示された画像の順番が、順番表示窓803に表示される。図８の例では、検索されたレポート３０件のうちの２番目の画像８０２が画像８０１として拡大表示されている。拡大された画像８０１の指定方法はもう一種類あり、前ボタン８０４を指定すると、サムネイル画像がひとつ分戻った画像が画像８０１に拡大表示され、次ボタン８０５を指定すると、サムネイル画像がひとつ分先に送られた画像が画像８０１に拡大表示される。詳細ボタン８０６を指定すると、拡大表示された画像８０１に対応する付帯情報ファイルの内容が、画像８０１に重ねられて表示される。あるいは、画面全体が付帯情報ファイルを表示するように切り替わってもよい。その付帯情報ファイルの内容は図３に示した付帯情報ファイル３０４と同様のフォーマットである。共通項ボタン８０７を指定すると、図９に示す画像が表示される。

図９は、検索結果表示の一例を示す画面図である。検索された複数のレポートに共通するデータには、検索条件の他に検索条件でないデータも含まれている場合がある。画面の一方に検索条件のデータを示す一覧表９０１が、もう一方に検索条件でない共通データの一覧表９０２が表示されている。図７で指定した検索式は検索式表示領域９０３に表示されている。共通データの一覧表９０２に示されているデータのうち、検索結果３０件の全てのレポートに共通なデータは１００％、一部のレポートで共通なデータはその百分率が、頻度表示領域９０４に表示される。

共通データの一覧表９０２に示されているデータは、検索条件の設定時には共通しているかどうかが分からなかったデータである。例えば、一覧表９０２の中の、「ウェーハ外周部クラスタ」や「○○装置洗浄」等の情報は、従来の手法では得ることが困難であり、外観不良の対策の検討にとって有効な情報を得ることができる。

また、図２（ｂ）や図２（ｃ）に示したシステムの場合には、レポートビューワ２０６，２０７を半導体デバイスの製造工程から離して設置できるので、例えば、対策の検討に使用する会議室等に１台設置し、複数の専門家の意見を聞くことにより、迅速な対策を講じることが出来る可能性がある。

上述したように、本発明によれば、外観不良の過去事例のデータのポイントをまとめた結果であるレポートを検索対象として検索するため、多種多様な情報の中に必要な情報が埋もれることなく、効率よく検索することができ、外観不良対策の迅速な対応が可能となる。また、検索結果は過去に作成されたレポートのままで出力するため、あらためてレポートを作成する手間を省略することが可能である。また、従来、画像を対象にして所望の画像を検索する場合、画像の類似度検索を行う場合があるが、画像の数が例えば数百点であるのに対して、それらの画像に対応するデータは数点から数十点であり、本発明は画像でなくデータを検索対象としていることから、短い時間で精度の高い検索が可能であり、外観不良対策の迅速な対応が可能となる。また、レポートの付帯情報ファイルを作成するときに、レポートに掲載しない情報もテキスト化等で記憶させておき、検索時にこれらのレポートに掲載しない情報も検索キーワードにできるようにしておくことにより、レポート作成時には見落としていたポイントや、検索実行前には気がつかなかった情報を知ることができ、これらの情報が外観不良の分析に有用な情報となる可能性があるため、従来の手法と比較して、本発明は非常に有用な検索システムである。

ＳＥＭ式欠陥レビュー装置の主要な構成を示す断面図。 複数の欠陥レビュー装置を接続したシステム構成図。 レポートファイルの内容を示す説明図。 レポート検索の手順を示すフローチャート。 検索条件設定表示の一例を示す画面図。 検索条件設定表示の一例を示す画面図。 検索条件の最終確認画面図。 検索結果表示の一例を示す画面図。 検索結果表示の一例を示す画面図。

符号の説明

１００ 欠陥レビュー装置本体
１１３ 全体制御部
１１４ 画像処理部
１１５ ディスプレイ
１１６ キーボード
１１７ 記憶装置
１１８ マウス
２０１，２０２，２０３ 欠陥レビュー装置
２０４ ネットワーク
２０５ レポート管理サーバ
２０６，２０７ レポートビューワ
３０１ 画像
３０２，３０３ データ内容
３０４ 付帯情報ファイル
５０１ 取得条件タブ
５０２ 取得条件リスト
５０３ プルダウンリスト
５０４ 保存ボタン
５０５ 読込ボタン
５０６ 検索ボタン
５０７ 閉じるボタン
６０１ ウェーハマップタブ
６０２ ウェーハマップ
６０３ ウェーハマップ検索条件リスト
６０４ 選択されたダイ
６０５ 戻し送りボタン
７０１，９０３ 検索式表示領域
７０２ 検索条件表示領域
７０３ 検索続行ボタン
８０１，８０２ 画像
８０３ 順番表示窓
８０４ 前ボタン
８０５ 次ボタン
８０６ 詳細ボタン
８０７ 共通項ボタン
９０１，９０２ 一覧表
９０４ 頻度表示領域

Claims (4)

1. 半導体の製造プロセスにおける外観不良の観察結果として、外観不良の画像と、該画像に関するレポートへ記載されるよう予め設定された付帯情報と、当該記載されるよう設定された付帯情報には含まれない付帯情報とをレポートファイルとしてデータベースへ記憶し、
   設定された検索条件に基づき、当該検索条件に一致する第１の付帯情報を含むレポートファイルを前記データベースから検索し、
   更に、前記検索条件とは一致しない付帯情報で前記レポートファイルに共通して含まれる第２の付帯情報を前記検索されたレポートファイルから抽出し、
   前記第１の付帯情報および当該第１の付帯情報に関する画像と、前記第２の付帯情報とを出力ないし表示画面に表示し、
   更に、前記レポートへ記載される付帯情報として、ウェーハマップ，ＳＥＭ画像，取得条件，ＡＤＣ結果のいずれかを含む情報を使用し、
   前記レポートへ記載されない付帯情報として、ＯＭ画像，ＥＤＸ結果，サイズ分布，メモのいずれかの情報を使用することを特徴とするレポート検索方法。
2. 請求項１に記載のレポート検索方法において、
   前記第２の付帯情報を含むレポートファイルの前記第１の付帯情報を含むレポートファイルに対する割合を出力することを特徴とするレポート検索方法。
3. 請求項１に記載のレポート検索方法において、
   前記レポートへ記載される付帯情報と前記レポートへ記載されない付帯情報の中から複数の付帯情報を組み合わせて前記検索条件が設定されることを特徴とするレポート検索方法。
4. 試料上に存在する外観不良に関する画像と、該画像に関連する付帯情報とを出力する機能を有するレビュー装置に接続されるレポート検索システムにおいて、
   当該レポート検索システムは、前記外観不良に関する画像と前記付帯情報とを含むレポートを出力する機能を有するものであって、
   前記レポートへ記載されるよう予め設定された付帯情報と、当該記載されるよう設定された付帯情報には含まれない付帯情報を合わせて記憶するデータベースと、
   前記レポート検索を実行するプロセッサと、
   前記第１の付帯情報および当該第１の付帯情報に関する画像と、前記第２の付帯情報とを出力するレポートビューワとを有し、
   前記プロセッサは、
   設定された検索条件に基づき、当該検索条件に一致する第１の付帯情報を含むレポートファイルを前記データベースから検索し、
   前記検索条件とは一致しない付帯情報で前記レポートファイルに共通して含まれる第２の付帯情報を前記検索されたレポートファイルから抽出し、
   前記データベースには、
   前記レポートへ記載される付帯情報として、ウェーハマップ，ＳＥＭ画像，取得条件，ＡＤＣ結果のいずれかの情報と、
   前記レポートへ記載されない付帯情報として、ＯＭ画像，ＥＤＸ結果，サイズ分布，メモのいずれかの情報とが記憶されることを特徴とするレポート検索システム。

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