JP4708496B2 - 傾斜複合粒子およびその製造方法 - Google Patents
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Description
(1)純度が高く、溶出成分による液晶への影響が少ない
(2)粒径精度が良く、下式
CV(%)=[微粒子径の標準偏差(μm)]
/[平均粒子径(μm)]×100
で得られるCV値(変動係数)を10%以下とすることができるなどの利点を有している。
そこで、最近、樹脂粒子とシリカ粒子の中間の硬さを有し、シリカ粒子よりも液晶に近い熱膨張係数を持つ、有機成分を有するシリカ粒子の開発が行われてきた。
例えば、メチルトリメトキシシランを原料とし、ポリメチルシルセスキシロキサン微粒子を製造する方法が提案されている(特許文献1参照)。しかしながら、この方法においては、技術内容から、単分散でかつ硬さが制御された回復率の良好な粒子を得ることは困難である。また、一般式
RmSi(OR′)4−m
(式中、RおよびR′は、それぞれ特定の有機基を示し、mは0〜3の整数である。)
で表される有機ケイ素化合物を加水分解、縮合して得られた粒子を熱処理することで、特定の圧縮弾性率を有する粒子からなる液晶セル用スペーサを製造する技術が開示されている(特許文献2参照)。この技術においては、スペーサの圧縮弾性率は、熱処理工程において、粒子内部に存在する有機基の一部を分解し、その分解程度により制御されている。しかしながら、この場合、熱分解された粒子内部の有機基部分にボイドが発生し、得られた液晶セル用スペーサの破壊強度が低下するのを免れないという問題があった。
なお、任意に圧縮弾性率を制御する理由は、液晶基板内に存在するカラーフィルターや保護膜などの硬さが、液晶表示素子メーカー各社において様々であり、要求される硬さが異なるのが現状であり、それに対応するためである。
すなわち、本発明は、
(1)異なる有機基を有する2種以上のポリオルガノシロキサンを有し、粒子中心部から表面方向に向かって、組成が段階的または連続的に変化していることを特徴とする傾斜複合粒子(以下、傾斜複合粒子Iと称す。)、
(2)異なる有機基を有する2種以上のポリオルガノシロキサンを有し、粒子中心部から表面方向に向かって、組成が段階的または連続的に変化している球状複合粒子を焼成してなることを特徴とする傾斜複合粒子(以下、傾斜複合粒子IIと称す。)、および
(3)上記傾斜複合粒子IIからなる液晶表示装置用スペーサ、
を提供するものである。
Y(GPa)≧0.13X−0.196
の関係を満たし、かつ回復率が90%以上であることが肝要である。10%圧縮弾性率、破壊強度および回復率のいずれか1つでも上記範囲を逸脱すると、液晶表示装置用スペーサとしての性能を充分に満たすことができなくなるおそれがある。液晶装置用スペーサの性能の面から、特に10%圧縮弾性率は3〜15GPa(300〜1500kgf/mm2)の範囲が好ましく、更に好ましくは、5〜10GPa(500〜1000kgf/mm2)の範囲が好ましい。一方、破壊強度は500MPa(50kgf/mm2)以上が好ましい。
(1)10%圧縮弾性率(n=10)
微小圧縮試験機(島津製作所MCTE−200)により、試料台上に粒子を散布し、その中の試料粒子1個について、粒子の中心方向に一定の負荷速度で荷重をかけ、荷重−圧縮変位を測定し、粒子径の10%変位時の荷重を求めた。この荷重と粒子の圧縮変位及び粒子径を次式に代入し、10%圧縮弾性率を算出した。なお、負荷速度は、0.284mN/秒(0.029gf/秒)にて行った。
E=[3×P10×(1−K2)]/[20.5×S1.5×R0.5]
[ただし、Eは圧縮弾性率(MPa)、P10は圧縮荷重(N)、Kは粒子のポアソン比(定数0.38)、Sは圧縮変位(mm)、Rは粒子の半径(mm)である。]
上記測定機を用いて、同様に試料粒子1個について、圧縮破壊荷重を求め、次式により破壊強度を算出した。なお、負荷速度は、2.65mN/秒(0.27gf/秒)にて行った。
St(MPa)=2.8P/πd2
[ただし、Pは圧縮破壊強度(N)、dは試料の粒径(mm)である。]
上記測定機を用いて、同様に試料台上に散布した粒子1個について、粒子中心方向に、反転荷重値(1.96mN=0.2gf)まで負荷を与え、その後原点用荷重値(0.098mN=0.01gf)まで徐荷を行った。この間の荷重−圧縮変位を測定し、原点用荷重値から反転荷重値までの変位をL1とし、原点用荷重値から、反転荷重徐荷後の原点用荷重値までの変位をL2とし、下記式に代入し、回復率を求めた。なお、この際の負荷速度は1.42mN/秒(0.145gf/秒)とした。
回復率(%)=[(L1−L2)/L1]×100
本発明の傾斜複合粒子I、IIの製造方法としては前記性状を有する傾斜複合粒子I、IIが得られる方法であればよく、特に制限はないが、以下に示す本発明の方法に従えば、効率よく所望の傾斜複合粒子I、IIを製造することができる。
上記有機ケイ素化合物としては、一般式(I)
R1nSi(OR2)4−n …(I)
で表される化合物(nは1〜3の整数である)を用いることができる。
熟成終了後は、常法に従い生成した粒子を充分に洗浄したのち、必要ならば分級処理を行い、極大粒子または極小粒子を取り除き、乾燥処理を行う。分級処理方法としては特に制限はないが、粒径により沈降速度が異なるのを利用して分級を行う湿式分級法が好ましい。乾燥処理は、通常常温〜150℃の範囲の温度で行われる。
この方法によれば、反応場に滴下される有機ケイ素化合物含有水溶液の組成が連続的に変化していくので、前記(1)の方法で得られたものが、実質上段階的な傾斜構造を有するのに対し、実質上連続的な傾斜構造を有する粒子が得られる。また、各有機ケイ素化合物をそれぞれ水に溶かし、水溶液として用いるので、反応場における溶媒に対する溶解速度差による影響を、粒子形成において受けなくなるため、傾斜複合構造を前記(1)の2層系の反応よりも作りやすい。
このようにして、10%圧縮弾性率、破壊強度及び回復率が所望の範囲にある単分散性の実質上真球状の傾斜複合粒子IIが得られる。
本発明の傾斜複合粒子IIは、前記の性状を有することから、特に、液晶表示装置用スペーサとして好適である。
実施例1
300ミリリットル容のプラスチック容器に、1モル/リットル濃度のアンモニア水0.2ミリリットル/リットルを含有する水溶液250ミリリットルを入れ、これを磁気撹拌装置によって約60rpmで撹拌しながら、ビニルトリメトキシシラン(VTMS)5gをゆっくり添加し、上層にVTMS層を形成させた。次いで、これを室温にて上層が完全に消失するまで撹拌したのち、VTMS3.3gとメチルトリメトキシシラン(MTMS)1.7gとの均質混合液をゆっくり添加し、上層にVTMSとMTMSの混合液層を形成させ、さらにこの上層が完全に消失するまで撹拌した。次に、VTMS2.5gとMTMS2.5gとの均質混合液、VTMS1.7gとMTMS3.3gとの均質混合液及びMTMS5gを、上記と同様にして、それぞれ順次添加していき、傾斜的にケイ素化合物の組成を変化させてポリメチルシルセスキオキサン(PMSO)/ポリビニルシルセスキオキサン(PVSO)粒子の形成を行った。
300ミリリットル容のプラスチック容器に、1モル/リットル濃度のアンモニア水0.12ミリリットル/リットルを含有する水溶液250ミリリットルを入れ、これを磁気撹拌装置によって約60rpmで撹拌しながら、VTMS12.5gをゆっくり添加し、上層にVTMS層を形成させた。次いで、これを室温にて上層が完全に消失するまで撹拌したのち、MTMS12.5gをゆっくり添加し、上層にMTMS層を形成させ、同様に上層が完全に消失するまで撹拌した。その後、実施例1と同様に操作して乾燥粉末を得た。
次に、このようにして得られた粒子を、窒素雰囲気下、330〜400℃の各温度で2時間焼成を行い、表2に示す性状の粒子2−1〜2−3を得た。
300ミリリットル容のプラスチック容器に、1モル/リットル濃度のアンモニア水0.1ミリリットル/リットルを含有する水溶液250ミリリットルを入れ、これを磁気撹拌装置によって約60rpmで撹拌しながら、VTMS4gをゆっくり添加し、上層にVTMS層を形成させた。次いで、これを室温にて上層が完全に消失するまで撹拌したのち、MTMS20gをゆっくり添加し、上層にMTMS層を形成させ、同様に上層が完全に消失するまで撹拌した。その後、実施例1と同様に操作して乾燥粉末を得た。
次に、このようにして得られた粒子を、窒素雰囲気下、340〜500℃の各温度で2時間焼成を行い、表3に示す性状の粒子3−1〜3−5を得た。
1500ミリリットル容のプラスチック容器に、1モル/リットル濃度のアンモニア水0.1ミリリットル/リットルを含有する水溶液1000ミリリットルを入れ、これを磁気撹拌装置によって約60rpmで撹拌しながら、VTMS25gをゆっくり添加し、上層にVTMSを形成させた。次いで、これを室温にて上層が完全に消失するまで撹拌したのち、MTMS75gをゆっくり添加し、上層にMTMS層を形成させ、同様に上層が完全に消失するまで撹拌した。その後、実施例1と同様に操作して乾燥粉末を得た。
次に、このようにして得られた粒子を、窒素雰囲気下、340〜500℃の各温度で2時間焼成を行い、表4に示す性状の粒子4−1〜4−5を得た。
実施例1において、各アルコキシシランの添加順序を全く逆にし、かつ1モル/リットル濃度のアンモニア水含有水溶液中の1モル/リットル濃度のアンモニア水含有量を0.4ミリリットル/リットルに変えた以外は、実施例1と同様に操作して乾燥粉末を得た。
次に、このようにして得られた粒子を、窒素雰囲気下、330〜550℃の各温度で2時間焼成を行い、表5に示す性状の粒子5−1〜5−4を得た。
300ミリリットル容のプラスチック容器に、イオン交換水225ミリリットルおよびVTMS25gを入れ、均一になるまで撹拌して部分加水分解液Aを得た。同様に、300ミリリットル容のプラスチック容器に、イオン交換水225ミリリットルおよびMTMS25gを入れ、均一になるまで撹拌して部分加水分解液Bを得た。
実施例1において、アルコキシシランとしてMTMSのみを25g用い、かつ1モル/リットル濃度のアンモニア水含有水溶液中の1モル/リットル濃度のアンモニア水含有量を1.0ミリリットル/リットルに変えて、一段で粒子の形成を行った以外は、実施例1と同様に操作して乾燥粉末を得た。
次に、このようにして得られた粒子を、窒素雰囲気下、640〜660℃の各温度で数時間焼成を行い、表7に示す性状の粒子7−1〜7−4を得た。
比較例1において、MTMSの代わりにVTMSを25g添加し、かつ1モル/リットル濃度のアンモニア水含有水溶液中の1モル/リットル濃度のアンモニア水含有量を0.1ミリリットル/リットルに変えた以外は、比較例1と同様に操作して乾燥粉末を得た。
次に、このようにして得られた粒子を、窒素雰囲気下、270〜400℃の各温度で2時間焼成を行い、表8に示す性状の粒子8−1〜8−6を得た。
2リットルセパラブルフラスコに、1モル/リットル濃度のアンモニア水0.25ミリリットル/リットルを含有する水溶液1600ミリリットルを入れ、これを撹拌羽根にて30rpmで撹拌しながらMTMS140gを添加し、上層にMTMS層を形成させた。これを室温で上層が完全に消失するまで撹拌した。その後撹拌速度を75rpmにして、テトラエトキシシラン(TEOS)75gをメタノール75gに溶解した液を添加した。さらに約1時間撹拌を行ったのち、25重量%アンモニア水10ミリリットルを添加し、恒温槽中にて50℃で3時間の熟成を行った。以下、実施例1と同様に操作して乾燥粉末を得た。
次に、このようにして得られた粒子を、窒素雰囲気下、550℃で9時間焼成を行った。この粒子について初期圧縮曲線を求めた。その結果をグラフにして図2に示す。この図から分かるように、変曲点が確認された。
Claims (4)
- ケイ素原子に結合した1〜3個の非加水分解性基と3〜1個のアルコキシル基を有する有機ケイ素化合物の中から2種以上を選び、加水分解、縮合反応させることにより、2種以上のポリオルガノシロキサンを有し、粒子中心部から表面方向に向って組成が段階的に変化している球状複合粒子を形成させたのち、乾燥処理し、次いで200〜700℃の温度において焼成する傾斜複合粒子の製造方法において、
2種以上のポリオルガノシロキサンが、有機成分の熱分解温度が異なる2種からなること、および
有機成分の熱分解温度の低いポリオルガノシロキサンが中心部に向って多くなるように存在させ、かつ有機成分の熱分解温度の高いポリオルガノシロキサンが表面側に向って多くなるように存在させた球状複合粒子を、有機成分の熱分解温度の低いポリオルガノシロキサンの熱分解温度より高く、かつ有機成分の熱分解温度の高いポリオルガノシロキサンの熱分解温度より低い温度で焼成すること
を特徴とする傾斜複合粒子の製造方法。 - ケイ素原子に結合した1〜3個の非加水分解性基と3〜1個のアルコキシル基を有する有機ケイ素化合物の中から選ばれた単独または2種以上を含み、かつそれぞれ組成が異なる複数組の有機ケイ素化合物を、二段階以上で加水分解、縮合反応させ、2種のポリオルガノシロキサンを有し、粒子中心部から表面方向に向って組成が段階的に変化している球状複合粒子を形成させる請求項1に記載の方法。
- 前記有機ケイ素化合物の単独または2種以上の混合物と、アンモニアおよび/またはアミンを含有する水溶液または水と有機溶剤との混合溶剤溶液とを、2層状態を保持しながら、界面で反応させ、上層が消失したのち、上記と同様の操作を繰り返すことにより、二段階以上で加水分解、縮合反応させる請求項2に記載の方法。
- 請求項1ないし3のいずれか1項に記載の方法で得られた傾斜複合粒子からなる液晶表示装置用スペーサ。
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