JP4700114B2 - 半導体モジュール - Google Patents
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Description
本発明は、モジュール基板上に電子部品を搭載した半導体モジュールに関するものであり、特に、電子部品を介してモジュール基板と対向配置され、電子部品と接着剤で接着される天板を有する半導体モジュールに関するものである。
従来から、モジュール基板と電子部品を介して対向配置される天板を有する半導体モジュールが提案されている。例えば特許文献1では、上記の天板を、樹脂またはセラミックス等からなる絶縁板で構成している。
ところで、天板を有する従来の半導体モジュールとして、洋白材(金属)からなる足付天板をモジュール基板に対してはんだ付けした構造のものもある。モジュール基板の小型化に対応するためには、足なしの天板にする必要があるが、モジュール基板に搭載される電子部品に足なしの天板を固着した構造とした場合、万が一、天板が外れたときに、その天板(金属)が、半導体モジュールが実装されるメイン基板の部品に接触し、電気的にショートを起こすことが懸念される。
そこで、天板を絶縁構造(金属を樹脂で覆う構造)にすれば、天板が外れたときの上記の不都合を回避できると考えられる。しかし、その反面、天板が異種材料を重ね合わせた構造となるため、半導体モジュールのメイン基板への実装時に、温度変化に伴って天板の反りが発生し、電子部品の実装不良が生ずる。以下、この問題についてより詳しく説明する。
図5(a)は、金属を樹脂で絶縁した構造の天板を有する半導体モジュールの一構成例を示す断面図である。この半導体モジュールでは、モジュール基板101上に導体パターン102を介して電子部品103が搭載されている。電子部品103は、必要に応じてはんだ104を用いて導体パターン102と接着(はんだ付け)される。そして、電子部品103を覆うように、天板105がモジュール基板101と対向して配置される。
天板105は、樹脂層105aの片面に金属層105bを貼り合わせ、さらに金属層105bを覆うようにソルダーレジスト105cをコーティングして構成されている。この構成により、天板105の剛性と絶縁性とが確保される。
一方、図6(a)は、金属を樹脂で絶縁した構造の天板を有する半導体モジュールの他の構成例を示す断面図である。この半導体モジュールは、樹脂層105aにおける金属層105bの形成面を、図5(a)の天板105とは逆にした構成となっている。つまり、図6(a)の天板105は、樹脂層105aにおける電子部品搭載側に金属層105bを貼り合わせ、その金属層105bを覆うようにソルダーレジスト105cをコーティングして構成されている。
いずれの天板105も、モジュール基板101上に搭載された、背が高く、塗布面積を確保できる電子部品103と接着剤106で固定される。また、モジュール中央の電子部品103と天板105とを接着できない場合、外周部の複数の電子部品103と天板105とを接着することで、天板105はモジュール基板101と平行に保持される。
ところが、図5(a)および図6(a)のように、樹脂層105aの片面に金属層105bを貼り合せた構成では、樹脂層105aと金属層105bとで熱膨張率が異なるため、温度変化に伴って天板105の反りが発生する。このため、半導体モジュールをリフローはんだ付けによってメイン基板に搭載する際に、モジュール内の電子部品103の実装不良が起こる。
つまり、図5(a)および図6(a)で示した半導体モジュールは、図示しないメイン基板に実装される際にリフローはんだ付けされるが、その際に、半導体モジュールがメイン基板上で加熱されることで、モジュール内のはんだ104や天板105を固定している接着剤106が溶融、軟化する。図5(a)の構成において、はんだ104や接着剤106が溶融、軟化している状態で天板105が反ると、図5(b)に示すように、天板105が電子部品103を押さえることになる。冷却時、はんだ104は最初に固まるため、電子部品103は傾いたままの状態で固定されてしまう。
一方、図6(a)の構成においては、はんだ104や接着剤106が溶融、軟化している状態で天板105が反ると、図5(b)に示すように、接着剤106で固定された電子部品103を天板105が持ち上げることになる。そして、上記と同様に、冷却時には電子部品103が傾いたままの状態で固定されてしまう。
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたもので、その目的は、異種材料からなる天板の温度変化に伴う反りを無くし、これによって、半導体モジュールのメイン基板への搭載時に電子部品の実装不良を低減することができる半導体モジュールを提供することにある。
本発明の半導体モジュールは、モジュール基板上に搭載される電子部品を介して前記モジュール基板と対向配置され、前記電子部品と接着剤で接着される天板を有する半導体モジュールにおいて、前記天板は、樹脂層と金属層とを含み、かつ、絶縁性を有しており、前記金属層は、前記樹脂層の表裏にそれぞれ形成されており、温度変化に伴う、前記樹脂層とその表面の金属層との熱膨張率の差によって生ずる天板の反りが、前記樹脂層とその裏面の金属層との熱膨張率の差によって生ずる天板の反りでキャンセルされることを特徴としている。
上記の構成によれば、モジュール基板(配線基板)と対向配置される天板は、モジュール基板上の電子部品と接着剤で接着される。この天板が絶縁性を有していることにより、天板が外れて、半導体モジュールが実装されるメイン基板(回路基板)に接触したとしても、電気的なショートが発生するのを回避できる。
また、天板は、異種材料である樹脂層と金属層とを含んで構成されているが、金属層は、樹脂層の表裏にそれぞれ形成されており、温度変化に伴う、樹脂層とその表面の金属層(第1の金属層とも称する)との熱膨張率の差によって生ずる天板の反りが、樹脂層とその裏面の金属層(第2の金属層とも称する)との熱膨張率の差によって生ずる天板の反りでキャンセルされる。これにより、温度変化に伴う天板の挙動が、樹脂層の表面側と裏面側とで対称となり、温度変化時の天板全体の反りを無くすことができる。したがって、例えば半導体モジュールのメイン基板への実装時におけるリフローはんだ付け工程において、天板と接着剤を介して接着されたモジュール内の電子部品が、天板の反りによってモジュール基板に押し付けられたり、反対に、持ち上げられたりするのを回避することができ、電子部品のモジュール基板に対する実装不良を低減することができる。
本発明の半導体モジュールにおいて、前記樹脂層の表裏の各金属層は、互いに同一厚さでかつ同一材料で形成されていてもよい。この場合、温度変化時の天板全体の反りを確実にかつ容易に無くすことができるので、電子部品の実装不良を確実にかつ容易に低減することができる。
本発明の半導体モジュールにおいて、前記樹脂層の表裏の各金属層は、規則的なパターンで配置される複数の金属部にそれぞれ分割されていてもよい。この場合、各金属層を樹脂層に対して一面ベタ状に形成する場合に比べて、各金属層と樹脂層とで伸縮力の差が小さくなり、効果的である。つまり、各金属層の少ない量で上述した本発明の効果を得ることができる。
本発明の半導体モジュールにおいて、前記各金属部は、前記樹脂層の表裏の各金属層において同一ピッチで配置されていることが望ましい。この場合、各金属部による天板の反り防止効果を、天板の全面にわたって均等に得ることができる。
本発明の半導体モジュールにおいて、前記各金属部は、前記樹脂層の表裏の各金属層間でずれて配置されており、かつ、互いに垂直な2つの配列方向の両方向にずれて配置されていることが望ましい。この構成では、例えば、一方の金属層(第1の金属層)において4つの金属部で囲まれる位置に対応する位置に、他方の金属層(第2の金属層)の金属部を位置させることができる。これにより、天板全体の剛性を均等に確保することができる。
本発明の半導体モジュールにおいて、前記各金属部の占有面積の総和は、前記樹脂層の表裏の各金属層間で同じであることが望ましい。この場合、温度変化時における樹脂層と第1の金属層との伸縮力の差と、樹脂層と第2の金属層との伸縮力の差とを同じにすることができ、温度変化時の天板の反りを確実に無くすことができる。
本発明の半導体モジュールにおいて、前記樹脂層は、透明または半透明の樹脂で構成されており、前記天板は、前記樹脂層上に前記各金属層を覆うように形成される絶縁層をさらに含んでおり、前記樹脂層の表面側の金属層およびそれを覆う絶縁層が、前記樹脂層の裏面側の金属層の一部と対向する領域を除いて形成されていてもよい。
この構成では、樹脂層の裏面側の金属層の一部(金属部)を、透明または半透明の樹脂層を透かして表面側から視認することができ、この透かして見える領域をマーキング代わりに使用することができる。これにより、レーザーマーキング等によるマーキングの手間を省いて生産効率を向上させることができる。また、樹脂層上の各金属層が絶縁層で覆われるので、天板の絶縁性を確実に確保することができる。
本発明の半導体モジュールにおいて、前記天板は、前記モジュール基板上に搭載される1個の電子部品と接着剤で接着されていることが望ましい。この構成では、電子部品と天板との接着箇所が1つであるので、たとえその接着箇所を起点として天板の反りが何らかの原因で発生したとしても、他の電子部品が天板によって持ち上げられることがなく、電子部品の実装不良を確実に防止することができる。
本発明の半導体モジュールにおいて、前記天板における前記接着剤との接触面は、凹凸形状であることが望ましい。この構成では、接触面が平面である場合に比べて、天板と接着剤との接触面積を増大させることができ、接着強度を上げることができる。また、これにより、モジュール中央の電子部品ではなく、周辺部の電子部品と天板とを接着する構成とすることもでき、接着の際のバリエーションが増大する。
本発明の半導体モジュールにおいて、前記天板は、前記モジュール基板上に搭載される複数の電子部品の一部が嵌る開口部を有していてもよい。複数の電子部品の高さが異なる場合、背の高い電子部品が天板の開口部に嵌るように、天板と残りの電子部品とを接着剤で接着すれば、背の高い電子部品を用いながらモジュール自体の高さを低く抑えることが可能となる。これにより、背の高い電子部品を用いる場合でも小型のモジュールを実現することが可能となる。
本発明の半導体モジュールにおいて、前記天板の前記樹脂層は、リフローはんだ付け工程における耐熱性を有する有機材料で構成されていることが望ましい。この場合、リフローはんだ付けによってメイン基板に実装し得る半導体モジュールを確実に実現することができる。
本発明によれば、天板の金属層は、樹脂層の表裏にそれぞれ形成されており、温度変化に伴う、樹脂層とその表面の金属層との熱膨張率の差によって生ずる天板の反りが、樹脂層とその裏面の金属層との熱膨張率の差によって生ずる天板の反りでキャンセルされるので、温度変化時の天板全体の反りを無くすことができる。これにより、例えば半導体モジュールのメイン基板への実装時におけるリフローはんだ付け工程において、天板と接着剤を介して接着されたモジュール内の電子部品が、天板の反りによってモジュール基板に押し付けられたり、反対に、持ち上げられたりするのを回避することができ、電子部品のモジュール基板に対する実装不良を低減することができる。
〔実施の形態1〕
本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。
本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。
図1(a)は、本実施形態の半導体モジュールの概略の構成を示す平面図であり、図1(b)は、図1(a)のA−A’線矢視断面図である。本実施形態の半導体モジュールにおいて、モジュール基板1(配線基板)上には、導体パターン2を介して電子部品3が搭載されている。電子部品3は、インダクタ、コンデンサ、抵抗などの受動部品や、ICや半導体などの能動部品を含んでおり、必要に応じてはんだ4を用いて導体パターン2と接着(はんだ付け)される。そして、電子部品3を介してモジュール基板1と対向するように、天板5が配置されている。天板5は、複数の電子部品3のうち、1個の電子部品3の上面と接着剤6(弾性材)で接着されている。
また、モジュール基板1の裏面、すなわち、電子部品搭載側とは反対側の面には、不図示のメイン基板(回路基板)と外部接続電極を介して接続される導体パターン7が形成されている。上記構成の半導体モジュールは、リフローはんだ付けによってメイン基板に実装される。
次に、上記した天板5の構成について説明する。天板5は、樹脂層11と、金属層12・13と、絶縁層としてのソルダーレジスト14・15とを有して構成されている。樹脂層11の表面における外周部を除く部位には金属層12(第1の金属層)が形成されており、この金属層12を覆うようにソルダーレジスト14が樹脂層11上にコーティングされている。一方、樹脂層11の裏面における外周部を除く部位には金属層13(第2の金属層)が形成されており、この金属層13を覆うようにソルダーレジスト15が樹脂層11上にコーティングされている。この結果、天板5は、樹脂層11に対して表裏対称な層構造となっている。
なお、樹脂層11の表面とは、樹脂層11においてモジュール基板1との対向側(電子部品3と接着剤6で接着される側)とは反対側の面を指し、樹脂層11の裏面とは、モジュール基板1との対向側の面を指すものとする。したがって、例えば、樹脂層11の表面側の金属層と言えば金属層12を指し、樹脂層11の裏面側の金属層と言えば金属層13を指す。
上記のような天板5の層構造により、金属層12・13が樹脂(樹脂層11、ソルダーレジスト14・15)で覆われることになるので、天板5の絶縁性を確保することができる。したがって、天板5が外れてメイン基板に接触したとしても、電気的なショートが発生するのを回避できる。また、天板5が金属層12・13を有していることにより、天板5の剛性も確保することができる。
ここで、樹脂層11は、リフローはんだ付け工程における耐熱性を有する、非導電性の有機材料で構成されている。具体的には、リフローはんだ付け工程におけるピーク温度は、240〜250℃程度であり、樹脂層11は少なくともこの温度に耐え得る材料で構成される必要があることから、本実施形態では、樹脂層11は例えば厚さ0.1mm程度のガラスエポキシ材で構成されている。ガラスエポキシ材の熱膨張率は、ガラス転移点(140〜180℃)に達するまでは、10〜20×10-6/℃であり、ガラス転移点を越えた温度では、ガラス転移点に達するまでの熱膨張率よりも1桁大きくなるものと考えられる。このように、樹脂層11が上記材料で構成されていることにより、リフローはんだ付けによってメイン基板に実装し得る半導体モジュールを確実に実現することができる。
金属層12・13は、互いに同一厚さでかつ同一金属材料で構成されており、本実施形態では樹脂層11よりも薄い銅箔(例えば厚さ数十μm)でそれぞれ構成されている。銅箔の熱膨張率は、16.5×10-6/℃(20℃)である。ちなみに、リフロー炉内に相当する温度での銅箔の熱膨張率は、18.3×10-6/℃(227℃)であり、20℃のときの熱膨張率と大きな差はない。
同一厚さで同一材料の金属層12・13が樹脂層11の表裏の両面にそれぞれ形成されていることにより、半導体モジュールのメイン基板への実装時におけるリフローはんだ付け工程において、天板5が熱挙動的に表裏対称となる。つまり、温度変化に伴う、樹脂層11と金属層12との熱膨張率の差によって生ずる天板5の反りが、樹脂層11と金属層13との熱膨張率の差によって生ずる天板5の反りでキャンセルされ、温度変化時の天板5の反りが無くなる。よって、リフローはんだ付け工程において、天板5と接着剤6を介して接着されたモジュール内の電子部品3が、天板5の反りによってモジュール基板1に押し付けられたり、反対に、持ち上げられたりするのを回避することができ、電子部品3のモジュール基板1に対する実装不良を低減することができる。つまり、天板5が樹脂および金属の異種材料を含む構成であっても、リフローはんだ付け工程において、熱膨張率の差に起因する天板5の反りを無くすことができ、電子部品3の実装不良を低減することができる。
なお、金属層12・13は、同一厚さで同一材料に限定されるわけではない。つまり、金属層12・13を互いに異なる材料で構成し、その代わりに、金属層12・13の厚さを調整することにより、天板5を熱挙動的に表裏対称にすることは可能である。この場合、天板5に使用する金属材料のバリエーションを増大させることができる。つまり、金属層12・13の構成材料の組み合わせの自由度を増大させることができる。
以上のことをまとめると、本実施形態の半導体モジュールは、天板5における金属層12・13が樹脂層11の表裏にそれぞれ形成され、金属層12・13の厚さおよび構成材料が互いに同一であろうとなかろうと、温度変化に伴う、樹脂層11と金属層12との熱膨張率の差によって生ずる天板5の反りが、樹脂層11と金属層13との熱膨張率の差によって生ずる天板5の反りでキャンセルされればよいということができる。
特に、樹脂層11の表裏に形成される金属層12・13が互いに同一厚さでかつ同一材料で形成されていれば、リフローはんだ付け工程における天板5の反りを確実にかつ容易に無くすことができる。この結果、リフローはんだ付け時の電子部品3の実装不良を確実にかつ容易に低減することができる。
また、本実施形態では、天板5は、1個の電子部品3と接着剤6で接着されており、電子部品3と天板5との接着箇所が1つであるので、たとえ何らかの原因でその接着箇所を起点として天板5がモジュール内側に凸となるように反ったとしても、天板5と他の電子部品3とは接着されていないことから、他の電子部品3が天板5によって持ち上げられることがなく、他の電子部品3が実装不良となるのを確実に防止することができる。
〔実施の形態2〕
本発明の他の実施の形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、説明の便宜上、実施の形態1と同一の構成には同一の部材番号を付記し、その説明を省略する。
本発明の他の実施の形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、説明の便宜上、実施の形態1と同一の構成には同一の部材番号を付記し、その説明を省略する。
図2(a)は、本実施形態の半導体モジュールの概略の構成を示す平面図であり、図2(b)は、図2(a)のB−B’線矢視断面図である。本実施形態の半導体モジュールにおいては、樹脂層11の表面側の金属層12は、規則的なパターンで均一に配置される複数の金属部12aにそれぞれ分割されている。各金属部12aは、例えば、直径0.3mmの円形パターンで、互いに垂直な2方向(縦方向および横方向)に0.4mmピッチでそれぞれ配置されている。
上記の金属層12と同様に、樹脂層11の裏面側の金属層13も規則的なパターンで均一に配置される複数の金属部13aにそれぞれ分割されている。各金属部13aは、例えば、直径0.3mmの円形パターンで、互いに垂直な2方向(縦方向および横方向)に0.4mmピッチでそれぞれ配置されている。ただし、各金属部13aは、各金属部12aとはずれて配置されている。より具体的には、各金属部13aは、各金属部12aに対して、縦方向および横方向のそれぞれに半ピッチ(例えば0.2mm)ずらした位置に形成されている。
本実施形態のように、各金属層12・13が、規則的なパターンで配置される複数の金属部12a・13aにそれぞれ分割されている場合、実施の形態1のように各金属層12・13が樹脂層11に対して一面ベタ状に形成される場合に比べて、各金属層12・13の占有面積が例えば半分に減少し、その分、各金属層12・13と樹脂層11とで伸縮力(熱応力)の差が小さくなる。しかし、このように構成しても、温度変化に伴う、樹脂層11と金属層12との熱膨張率の差によって生ずる天板5の反りを、樹脂層11と金属層13との熱膨張率の差によって生ずる天板5の反りでキャンセルすることができ、温度変化時の天板5の反りを無くすことができる。したがって、各金属層12・13の少ない量で上記の効果を得ることができ、効果的である。
また、本実施形態では、各金属部12a・13aは、樹脂層11の表裏の各金属層12・13において同一ピッチで配置されているので、各金属部12a・13a(各金属層12・13)による天板5の反り防止効果を、天板5の全面にわたって均等に得ることができる。
また、各金属部12a・13aは、樹脂層11の表裏の各金属層12・13間でずれて配置されており、かつ、互いに垂直な2つの配列方向(縦方向および横方向)の両方向にずれて配置されているので、図2(a)に示すように、一方の金属層12において4つの金属部12aで囲まれる位置に対応する位置に、他方の金属層13の金属部13aを位置させることができる。同様に、他方の金属層13において4つの金属部13aで囲まれる位置に対応する位置に、一方の金属層12の金属部12aを位置させることができる。したがって、樹脂層11の表裏いずれかに金属部が存在する状態(またはそれに近い状態)となり、天板5の全面で均一な剛性を確保することができる。
また、各金属部12a・13aが、それぞれ規則的なパターンで樹脂層11の表裏に均一に配置されることにより、樹脂層11に対する金属部12aの占有面積の総和は、樹脂層11に対する金属部13aの占有面積の総和と同じである。このように、各金属部12a・13aの占有面積の総和が、樹脂層11の表裏の各金属層12・13間で同じであることにより、温度変化時における樹脂層11と金属層12との伸縮力の差と、樹脂層11と金属層13との伸縮力の差とを同じにすることができ、温度変化時の天板5の反りを確実に無くすことができる。
また、本実施形態では、樹脂層11の裏面側、すなわち、電子部品3との接着側に位置する各金属部13aが互いに独立して配置され、円形の金属部13aが存在する箇所と存在しない箇所とが生じることにより、図2(b)に示すように、各金属部13aを覆うように樹脂層11上に形成されるソルダーレジスト15に凹凸が生じる。つまり、この結果、天板5における接着剤6との接触面が凹凸形状となる。これにより、実施の形態1のように接触面が平面である場合に比べて、天板5と接着剤6との接触面積を増大させることができ、接着強度を増大させることができる。また、接着強度の増大により、モジュール中央の電子部品3ではなく、周辺部の電子部品3と天板5とを接着する構成とすることもでき、接着の際のバリエーションを増大させることができる。
なお、本実施形態では、各金属部12a・13aの形状を円形としているが、方形やその他の形状であってもよい。また、各金属部12a・13aの大きさや配列ピッチは、上記した値に限定されるわけではない。
〔実施の形態3〕
本発明のさらに他の実施の形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、説明の便宜上、実施の形態1・2と同一の構成には同一の部材番号を付記し、その説明を省略する。
本発明のさらに他の実施の形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、説明の便宜上、実施の形態1・2と同一の構成には同一の部材番号を付記し、その説明を省略する。
図3(a)は、本実施形態の半導体モジュールの概略の構成を示す平面図であり、図3(b)は、図3(a)のC−C’線矢視断面図である。本実施形態の半導体モジュールは、実施の形態2において、樹脂層11の表面側の金属層12およびそれを覆うソルダーレジスト14が、樹脂層11の裏面側の金属層13の一部(一部の金属部13a)と対向する領域を除いて形成された構成となっている。つまり、樹脂層11の表面側において、裏面側の金属層13の一部と対向する領域には金属層12(金属部12a)は形成されていない。そして、上記領域においては、ソルダーレジスト14に孔14aが形成されている。したがって、樹脂層11の表面の一部は、孔14aを介して露出していることになる。
樹脂層11が、上述したガラスエポキシ材等の透明または半透明の樹脂で構成される場合、表面側から孔14aおよび樹脂層11を介して、裏面側の金属層13の一部(金属部13a)を透かして視認でき、この透かして視認できる領域をマーキング代わりに使用することができる。通常、モジュールの1番ピンを示すマークをレーザーマーキング等によって天板に表示することが行われるが、上記した本実施形態の構成では、透かして視認できる領域をマーキング代わりに使用できるので、レーザーマーキング等を用いる手法に比べてマーキングの手間を省くことができ、モジュールの生産効率を上げることができる。
〔実施の形態4〕
本発明のさらに他の実施の形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、説明の便宜上、実施の形態1〜3と同一の構成には同一の部材番号を付記し、その説明を省略する。
本発明のさらに他の実施の形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、説明の便宜上、実施の形態1〜3と同一の構成には同一の部材番号を付記し、その説明を省略する。
図4(a)は、本実施形態の半導体モジュールの概略の構成を示す平面図であり、図4(b)は、図4(a)のD−D’線矢視断面図である。本実施形態の半導体モジュールは、実施の形態1において、天板5が開口部5aを有した構成となっている。開口部5aは、樹脂層11およびソルダーレジスト14・15の各層を全て貫通または切り欠いて形成されており、金属層12・13は樹脂層11の外周部を除く領域に形成されている。なお、開口部5aは、周囲が閉じた孔であってもよく、図4(a)に示すように周囲の一部が開いた切り欠き形状であってもよい。
本実施形態では、開口部5aは、モジュール基板1上に搭載される複数の電子部品3の一部(例えば最も背の高い電子部品3a)が嵌る大きさおよび形状で形成されている。したがって、最も背の高い電子部品3aを開口部5aに嵌める一方、他の1個の電子部品3bと天板5とを接着剤6で接着することにより、半導体モジュールが構成される。なお、最も背の高い電子部品3aとは、モジュール基板1上に搭載される複数の電子部品3のうちで、天板5側の上面がモジュール基板1から最も離れている電子部品を指す。
このように、モジュール基板1上の複数の電子部品3の高さが異なる場合、背の高い電子部品3aが天板5の開口部5aに嵌るように、天板5と残りの電子部品3bとを接着剤6で接着すれば、背の高い電子部品3aを用いながらモジュール自体の高さを低く抑えることが可能となる。これにより、背の高い電子部品3aを用いる場合でも小型のモジュールを実現することが可能となる。
なお、天板5に形成される開口部5aの個数は、1個に限定されるわけではない。例えば、n個の電子部品3がモジュール基板1上に搭載される場合は、最大n−1個の開口部5aを天板5に形成し、残りの1個の電子部品3と天板5とを接着剤6で接着するようにしてもよい。
以上、各実施の形態の半導体モジュールによれば、(1)天板5の剛性が確保され、(2)リフローはんだ付け時に天板5の反りが発生しにくく、(3)天板5の熱伸縮が電子部品3の実装に悪影響を及ぼしにくい、(4)天板5の接合強度を保持した、天板貼付け構造の半導体モジュールを実現することができる。
なお、各実施の形態の構成を適宜組み合わせて半導体モジュールを構成することも勿論可能である。例えば、天板5に開口部5aを設ける実施の形態4の構成と、金属層12・13を分割パターンで形成する実施の形態2・3の構成とを組み合わせて半導体モジュールを構成することも可能である。
本発明は、メイン基板にリフローはんだ付けされる半導体モジュールに利用することができる。
1 モジュール基板
3 電子部品
3a 電子部品
3b 電子部品
5 天板
5a 開口部
6 接着剤
11 樹脂層
12 金属層
12a 金属部
13 金属層
13a 金属部
14 ソルダーレジスト(絶縁層)
15 ソルダーレジスト(絶縁層)
3 電子部品
3a 電子部品
3b 電子部品
5 天板
5a 開口部
6 接着剤
11 樹脂層
12 金属層
12a 金属部
13 金属層
13a 金属部
14 ソルダーレジスト(絶縁層)
15 ソルダーレジスト(絶縁層)
Claims (11)
- モジュール基板上に搭載される電子部品を介して前記モジュール基板と対向配置され、前記電子部品と接着剤で接着される天板を有する半導体モジュールにおいて、
前記天板は、樹脂層と金属層とを含み、かつ、絶縁性を有しており、
前記金属層は、前記樹脂層の表裏にそれぞれ形成されており、
温度変化に伴う、前記樹脂層とその表面の金属層との熱膨張率の差によって生ずる天板の反りが、前記樹脂層とその裏面の金属層との熱膨張率の差によって生ずる天板の反りでキャンセルされることを特徴とする半導体モジュール。 - 前記樹脂層の表裏の各金属層は、互いに同一厚さでかつ同一材料で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体モジュール。
- 前記樹脂層の表裏の各金属層は、規則的なパターンで配置される複数の金属部にそれぞれ分割されていることを特徴とする請求項2に記載の半導体モジュール。
- 前記各金属部は、前記樹脂層の表裏の各金属層において同一ピッチで配置されていることを特徴とする請求項3に記載の半導体モジュール。
- 前記各金属部は、前記樹脂層の表裏の各金属層間でずれて配置されており、かつ、互いに垂直な2つの配列方向の両方向にずれて配置されていることを特徴とする請求項4に記載の半導体モジュール。
- 前記各金属部の占有面積の総和は、前記樹脂層の表裏の各金属層間で同じであることを特徴とする請求項5に記載の半導体モジュール。
- 前記樹脂層は、透明または半透明の樹脂で構成されており、
前記天板は、前記樹脂層上に前記各金属層を覆うように形成される絶縁層をさらに含んでおり、
前記樹脂層の表面側の金属層およびそれを覆う絶縁層が、前記樹脂層の裏面側の金属層の一部と対向する領域を除いて形成されていることを特徴とする請求項3から6のいずれかに記載の半導体モジュール。 - 前記天板は、前記モジュール基板上に搭載される1個の電子部品と接着剤で接着されることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載の半導体モジュール。
- 前記天板における前記接着剤との接触面は、凹凸形状であることを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の半導体モジュール。
- 前記天板は、前記モジュール基板上に搭載される複数の電子部品の一部が嵌る開口部を有していることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載の半導体モジュール。
- 前記天板の前記樹脂層は、リフローはんだ付け工程における耐熱性を有する有機材料で構成されていることを特徴とする請求項1から10のいずれかに記載の半導体モジュール。
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