JP4699874B2 - レーザ発生装置 - Google Patents
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ここでは、筐体1が図示省略のレーザ加工機の顕微鏡の鏡筒の上端部に固定されており、二つの反射ミラー58,59があおり調整されて該反射ミラー58,59で反射されて出力するレーザ光の出力方向が上記顕微鏡の光軸に合致された状態にある場合について説明する。
2…レーザ発振ユニット
3…波長変換ユニット
4…波長分離ユニット
5…波長選択ユニット
6…出力光学ユニット
7…部屋
8…ベース部材
8a…一方の端部
8b…他方の端部
9…主仕切り
10…副仕切り
21…ケース
22…SHG結晶(非線形光学結晶)
23…THG結晶(非線形光学結晶)
27…シャッタ
31…第1の遮光板
32…第2の遮光板
34,37,39…フィルタ
35,42,45…セラミック板
52…ビームエキスパンダ
53…出力光変位手段
58,59…出力光変位手段の反射ミラー
L1…第1のレーザ光
L2…第2のレーザ光
R1…第1のレーザ光の光路
R2…第2のレーザ光の光路
R3…光軸
O1,O2…回動軸
Claims (7)
- 単一波長のレーザ光を発生するレーザ発振ユニットと、
前記単一波長のレーザ光を波長変換して複数波長のレーザ光を出力する波長変換ユニットと、
前記複数波長のレーザ光を波長の異なる二つのレーザ光に分離して互いに平行な二つの光路を通って射出する波長分離ユニットと、
前記二つの光路の遮断と開放を同時に実行し、前記複数波長のレーザ光から特定波長のレーザ光を選択して出力する波長選択ユニットと、
前記二つの光路を同一の光軸に合致させると共に、該光軸が合致されたレーザ光の出力方向を変位可能とする出力光学ユニットと、
を備え、
前記波長選択ユニットは、前記二つの光路の間に、個別に回動可能な第1及び第2の遮光板を配置して構成され、
前記第1の遮光板は、非回動状態にあるとき、前記二つの光路のうち、一方の光路を開放すると共に他方の光路を遮断又は開放し、所定角度だけ回動した回動状態にあるとき、前記二つの光路のいずれも開放するように形成され、
前記第2の遮光板は、非回動状態にあるとき、前記一方の光路を遮断すると共に前記他方の光路を開放し、所定角度だけ回動した回動状態にあるとき、前記一方の光路を開放すると共に前記他方の光路を遮断するように形成され、
前記第1及び第2の遮光板の回動状態を制御して、前記複数波長のレーザ光から特定波長のレーザ光を選択して出力し得るようにした、
ことを特徴とするレーザ発生装置。 - 前記第1及び第2の遮光板は、前記光路を開放する位置に特定波長のレーザ光を選択的に透過させるフィルタを設けたことを特徴とする請求項1記載のレーザ発生装置。
- 前記第1及び第2の遮光板は、前記光路を遮断する位置にセラミック板を設けたことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ発生装置。
- 前記波長変換ユニットは、入力する単一波長のレーザ光を複数波長のレーザ光に変換する複数の非線形光学結晶を近接配設して一つのケース内に収容したことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のレーザ発生装置。
- 前記出力光学ユニットは、レーザ光の出力側に二枚の反射ミラーをその反射面を対向させてそれぞれ個別にあおり調整可能に配設し、前記各反射ミラーで反射されて出力するレーザ光の出力方向を変位可能にしたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のレーザ発生装置。
- 前記出力光学ユニットは、前記合致された光軸上に前記選択された特定波長のレーザ光の径を広げるビームエキスパンダを備えたことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のレーザ発生装置。
- 前記構成要素としての各ユニットは、ベース部材に複数に仕切られて形成された各部屋にそれぞれ収容されて設置されたことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のレーザ発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005331152A JP4699874B2 (ja) | 2005-11-16 | 2005-11-16 | レーザ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005331152A JP4699874B2 (ja) | 2005-11-16 | 2005-11-16 | レーザ発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007136478A JP2007136478A (ja) | 2007-06-07 |
JP4699874B2 true JP4699874B2 (ja) | 2011-06-15 |
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ID=38199957
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005331152A Expired - Fee Related JP4699874B2 (ja) | 2005-11-16 | 2005-11-16 | レーザ発生装置 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4699874B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010054547A (ja) * | 2008-08-26 | 2010-03-11 | Lasertec Corp | 紫外レーザ装置 |
DE102011005835A1 (de) * | 2011-03-21 | 2012-09-27 | Trumpf Laser Gmbh + Co. Kg | Vorrichtung und Verfahren zur Aufweitung eines Laserstrahls |
CN112436891A (zh) * | 2020-12-25 | 2021-03-02 | 中国电子科技集团公司第三十四研究所 | 一种激光光闸 |
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-
2005
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JP2001062583A (ja) * | 1999-08-27 | 2001-03-13 | Ushio Sogo Gijutsu Kenkyusho:Kk | 光路変更手段を備えた加工用レーザ装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007136478A (ja) | 2007-06-07 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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