JP4692518B2 - Eiコア用の方向性電磁鋼板 - Google Patents
Eiコア用の方向性電磁鋼板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4692518B2 JP4692518B2 JP2007152071A JP2007152071A JP4692518B2 JP 4692518 B2 JP4692518 B2 JP 4692518B2 JP 2007152071 A JP2007152071 A JP 2007152071A JP 2007152071 A JP2007152071 A JP 2007152071A JP 4692518 B2 JP4692518 B2 JP 4692518B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grain
- steel sheet
- electrical steel
- oriented electrical
- annealing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Description
無方向性電磁鋼板を使用した場合には、方向性電磁鋼板を使用した場合に比較して磁気特性のレベルが低いために、コアの磁気特性は劣っている。しかしながら、無方向性電磁鋼板は方向性電磁鋼板に比較して、製造プロセスが単純なため価格が低いので、経済的な観点から判断して使用されている。
一方、方向性電磁鋼板は圧延方向の磁気特性は良好であるが、圧延直角方向の磁気特性は著しく劣っている。しかしながら、EIコア内での磁束の流れの向きは、圧延直角方向となる領域が2割程度あるものの、8割程度の領域は圧延方向であるため、EI型コアの鉄心材料として方向性電磁鋼板を使用した場合には、無方向性電磁鋼板よりもはるかに良好な特性が得られる。そのため、鉄損を重視する場合の多くは方向性電磁鋼板が用いられている。
方向性電磁鋼板の表面には、通常、フォルステライト(Mg2SiO4) を主体とした下地被膜(グラス被膜)が形成されているが、このフォルステライト被膜は、無方向性電磁鋼板に被覆されている有機樹脂系の被膜に比べると著しく硬質なため、打抜き金型の磨耗が大きい。そのため、金型の再研磨または交換が必要となり、需要家における鉄心加工時の作業効率の低下とコストアップをもたらすことになる。また、スリット性、切断性もフォルステライト被膜の存在により、劣化する。
なお、特許文献1および特許文献2には、仕上焼鈍時に適用するMgOを主体とする焼鈍分離剤中に薬剤を配合することによって、フォルステライト被膜の形成を抑制する技術が、また特許文献3には、Mnを含有する素材に対しシリカ、アルミナを主体とする焼鈍分離剤を適用することによって、フォルステライト被膜の形成を抑制する技術が、それぞれ提案されている。
しかしながら、これらの方法では、フォルステライト被膜の悪影響は排除できるものの、結晶粒径が粗大であることによる加工性の劣化については改善は望み得ない。
本発明は、上記の実状に鑑み開発されたもので、加工性および磁気特性に優れ、また経済的にも有利な、全く新しいEIコア用の方向性電磁鋼板を提案することを目的とする。
質量%で、C:0.0020%、Si:3.5 %およびMn:0.04%を含み、かつAlを20 ppm、Nを8ppm 、その他の成分を 30ppm以下に低減し、しかもインヒビタ成分を含まない組成になる鋼スラブを、連続鋳造にて製造した。ついで、1150℃に加熱後、熱間圧延により 3.0mm厚とした熱延板を、窒素雰囲気中にて 850℃で1分間均熱したのち、急冷した。
ついで、冷間圧延により0.35mmの最終板厚としたのち、水素:50 vol%、窒素:50 vol%、露点:−30℃および水素:50 vol%、窒素:50 vol%、露点:50℃の二種類の雰囲気中にて 930℃で均熱20秒の再結晶焼鈍を施した。
その後、最終仕上焼鈍を施した。この最終仕上焼鈍は、露点:−20℃の窒素雰囲気中にて、常温から 875℃まで50℃/hの速度で昇温し、50時間保定したのち、さらに水素雰囲気に切り替えて20℃/hの速度で種々の温度まで昇温した。
ついで、最終仕上焼鈍終了後、重クロム酸アルミニウム、アクリル樹脂エマルジョンおよびほう酸よりなる有機系コーティング(膜厚:1μm )を施した。
かくして得られた製品板を用いてEI型コアを作製し、その鉄損 (W15/50)を測定した。また、比較のため、同じ板厚の市販の方向性電磁鋼板を用いて作製したEI型コアについても、同様の調査を行った。
同図に示したように、再結晶焼鈍を露点:−30℃の乾燥雰囲気中で行った場合には、最終仕上焼鈍の到達温度が 875〜950 ℃の範囲で特に良好な鉄損が得られ、1000℃を超えると劣化することが判明した。しかしながら、劣化した場合でも市販の方向性電磁鋼板に比べると良好な鉄損を示していた。
これに対し、再結晶焼鈍を露点:50℃の湿潤雰囲気中で行った場合には、乾燥雰囲気中で行った場合に比べると鉄損が劣っており、市販の方向性電磁鋼板に近い鉄損しか得られなかった。
図3に、最終仕上焼鈍後の結晶組織を示す。
同図によれば、数cmもの粗大な二次再結晶粒内部に、粒径が0.15〜0.50mm程度の微細結晶粒が散在していることが分かる。また、断面組織を調べたところ、これらの微細結晶粒は板厚を貫通していることが判った。
このように、粒径:0.15〜0.50mmの微細結晶粒の存在頻度とEIコアの鉄損との間に強い相関があることが判明した。
同図によれば、到達温度が高くなるほど微細粒が減少することが分かる。
同図に示されるとおり、微細結晶粒の頻度が2個/cm2以上、より好ましくは50個/cm2以上になると、良好な鉄損が得られることが新たに究明された。
表1に、仕上焼鈍到達温度と打抜き回数との関係について調べた結果を示す。
また、再結晶焼鈍を乾燥雰囲気中で行った場合には、特に到達温度が1000℃以下で良好な打抜き回数を示し、到達温度が高くなるほど劣化する傾向が認められた。
調査の結果、鋼中窒素量は 875℃の保定中に増加し、昇温時 950℃以上では脱窒が進行し窒素量が減少することが判明した。
図6に、鋼中N量と打抜き回数との関係を示すが、鋼中N量が 10ppm以上になると打抜き性が著しく改善されることが注目される。
本発明は、上記の知見に立脚するものである。
1.質量%で、Si:2.0〜8.0 %、Mn:0.005〜3.0 %およびN:10〜100 ppm を含有し、残部はFeおよび不可避的不純物の組成になる方向性電磁鋼板(但し、{110}<001>方位からの方位差が20°以内の結晶粒の面積率が25〜75%である場合を除く)であって、二次再結晶粒の内部に粒径が0.15mm以上、0.50mm以下の微細結晶粒を2個/cm2 以上、100.3個/cm2以下の頻度で含み、かつフォルステライト(Mg2SiO4) を主体とする下地被膜を有しないことを特徴とするEIコア用の方向性電磁鋼板。
また、この発明では、素材中にインヒビタ成分を含有しないので、スラブの高温加熱や脱炭焼鈍、高温純化焼鈍などを施す必要がないため、低コストにて大量生産可能であるという大きな利点がある。
本発明に従い、再結晶焼鈍を露点が40℃以下の低酸化性または非酸化性雰囲気中で行うことによって、フォルステライト被膜や下地被膜等の表面酸化物を排除し、また最終仕上焼鈍における到達温度を1000℃以下に抑えることによって微細結晶粒を残存させることが、鉄損の低減に有効に寄与する理由については必ずしも明らかではないが、本発明者らは次のように考えている。
まず、再結晶焼鈍および最終仕上焼鈍を低酸化性または非酸化性雰囲気中で行い、表面酸化物の形成を排除することは、磁気的に平滑な表面を保ち、磁壁の移動を容易にして、ヒステリシス損失を低減させるものと考えられる。さらに、二次再結晶粒の内部の微細結晶粒の存在は、磁区を細分化して渦電流損失を低減するものと考えられる。通常のインヒビタを用いる技術では、1000℃を超える高温焼鈍でインヒビタ成分(S, Se, N等)を純化しなければ低鉄損が得られないが、本発明のようにインヒビタを使用しない方法では、純化を行わなくとも二次再結晶が完了すれば低鉄損が得られるため、仕上焼鈍における到達温度を低めに抑え、微細粒を残存させる方法が有効に作用するものと考えられる。
発明者らは、ゴス方位粒が二次再結晶する理由について鋭意研究を重ねた結果、一次再結晶組織における方位差角が20〜45°である粒界が重要な役割を果たしていることを見出し、Acta Materia1 45巻(1997)1285ページに報告した。
方向性電磁鋼板の二次再結晶直前の状態である一次再結晶組織を解析し、様々な結晶方位を持つ各々の結晶粒周囲の粒界について、粒界方位差角が20〜45°である粒界の全体に対する割合(%)を調査した結果を図7に示す。図7において、結晶方位空間はオイラー角(Φ1 、Φ、Φ2 )のΦ2 =45°断面を用いて表示しており、ゴス方位など主な方位を模式的に表示してある。
二次再結晶は、インヒビタと呼ばれる析出物の拡散律速による成長・粗大化に伴って発現することが知られている。高エネルギー粒界上の析出物は、仕上焼鈍中に優先的に粗大化が進行するので、ゴス方位となる粒の粒界が優先的にピン止めがはずれて、粒界移動を開始しゴス方位粒が成長すると考えられる。
従って、この理論に従えば、インヒビタを用いなくとも、粒界の移動速度差を生じさせることができれば、ゴス方位に二次再結晶させることが可能となる。
従って、素材の高純度化によって、上記のような不純物元素の影響を排除することにより、高エネルギー粒界の構造に依存する本来的な移動速度差が顕在化して、ゴス方位に二次再結晶させることが可能になる。
まず、本発明の電磁鋼板の成分としては、質量%でSi:2.0〜8.0 %を含有する必要がある。
というのは、Siが2.0%に満たないと十分な鉄損改善効果が得られず、一方8.0%を超えると加工性が劣化するからである。
また、Mnについては、後述するスラブ成分についての説明と同じ理由で、0.005〜3.0 質量%含有させるものとする。
さらに、加工性を確保するためには、Nを 10ppm以上含有させる必要がある。しかしながら、100 ppm を超えると析出物の影響で鉄損が劣化するので、Nは10〜100 ppm の範囲に制限する必要がある。
ここに、微細粒の粒径が0.15mm未満の場合あるいは0.50mm以上の場合には、磁区の細分化効果が小さく鉄損低減に寄与しないので、粒径が0.15〜0.50mmの範囲の微細結晶粒の存在頻度に着目するが、かかる微細結晶粒の存在頻度が2個/cm2 に満たないと、磁区細分化効果が減少して十分な鉄損の改善が望めない。なお、かかる微細結晶粒の存在頻度の上限は100.3個/cm2とする。
C:0.08%以下
素材段階でC量が0.08%を超えていると、脱炭焼鈍を施してもCを磁気時効が起こらない 50ppm以下まで低減することが困難になるので、C量は0.08%以下に制限しておく必要がある。特に、素材段階で 60ppm以下に低減しておくことが、再結晶焼鈍を乾燥雰囲気中で行い脱炭を省略して平滑な製品表面を得る上で望ましい。
Mnは、熱間加工性を良好にするために必要な元素であるが、0.005 %に満たないその添加効果に乏しく、一方 3.0%を超えると磁束密度が低下するので、Mn量は0.005 〜3.0 %とする。
なお、Siは、製品板である電磁鋼板について、上述したところと同じである。
Alは 100 ppm以下、またNは 50ppm以下好ましくは 30ppm以下まで低減することが、良好に二次再結晶を発現させる上で必要である。
さらに、インヒビタ形成元素であるSやSeについても 50ppm以下、好ましくは30 ppm以下に低減することが有利である。
その他、窒化物形成元素であるTi, Nb, B, Ta, V等についても、それぞれ50ppm 以下に低減することが鉄損の劣化を防ぎ、加工性を確保する上で有効である。
すなわち、熱延板組織を改善して磁気特性を向上させる目的で、Niを添加することができる。しかしながら、添加量が 0.005%未満では磁気特性の向上量が小さく、一方1.50%を超えると二次再結晶が不安定になり磁気特性が劣化するので、Ni添加量は 0.005〜1.50%とすることが好ましい。
また、鉄損を向上させる目的で、Sn:0.01〜1.50%、Sb:0.005 〜0.50%、Cu:0.01〜1.50%、P:0.005 〜0.50%およびCr:0.01〜1.5 %等を単独または複合して添加することができる。しかしながら、それぞれの添加量が下限に満たないと鉄損向上効果が小さく、一方上限を超えると二次再結晶粒の発達が抑制されるので、いずれも上記の範囲で添加する必要がある。
上記の好適成分組成に調整した溶鋼から、通常、造塊法や連続鋳造法を用いてスラブを製造する。また、直接鋳造法を用いて 100mm以下の厚さの薄鋳片を直接製造してもよい。
スラブは、通常の方法で加熱して熱間圧延するが、鋳造後、加熱せずに直ちに熱延に供してもよい。また、薄鋳片の場合には、熱間圧延を行っても良いし、熱間圧延を省略してそのまま以後の工程に進めてもよい。
なお、冷間圧延に際しては、圧延温度を 100〜250 ℃に上昇させて行うこと、および冷間圧延途中で 100〜250 ℃の範囲での時効処理を1回または複数回行うことが、ゴス組織を発達させる点で有効である。
さらに、再結晶焼鈍の雰囲気は露点:40℃以下好ましくは0℃以下の低酸化性または非酸化性雰囲気を使用して、表面酸化物の生成を極力抑制することが平滑な表面を保ち、良好な鉄損を得る上で最も肝要な点である。
なお、上記の最終冷間圧延後あるいは再結晶焼鈍後に、浸珪法によってにSi量を増加させる技術を併用してもよい。
この際、最終仕上焼鈍の雰囲気としては、窒素を含有させることが、二次再結晶を発現させ、かつ10 ppm以上の固溶窒素を確保する上で有効である。
また、酸化物生成を抑制するために、露点:40℃以下好ましくは0℃以下の低酸化性または非酸化性雰囲気を用いる。というのは、露点が40℃を超えると表面酸化物の生成量が多すぎて鉄損が劣化するだけでなく、打抜き性も大きく劣化するからである。
さらに、最終仕上焼鈍は二次再結晶発現のために 800℃以上で行う必要があるが、800 ℃までの加熱速度は、磁気特性に大きな影響を与えないので任意の条件でよい。最高到達温度は1000℃以下、好ましくは 950℃以下とすることが、二次再結晶粒内部に円相当径で粒径が0.15mm以上、0.50mm以下の微細結晶粒を2個/cm2 以上好ましくは50個/cm2 以上の頻度で形成させて鉄損を低下させるために必要である。
C:0.002 %, Si:3.4 %, Mn:0.07%およびSb:0.03%を含み、かつAl:30ppm 、N:9ppm に低減し、その他の成分も全て 50ppm以下に低減した組成になる鋼スラブを、連続鋳造にて製造した。ついで、1100℃で20分加熱後、熱間圧延により2.6 mm厚とした熱延板に対し、 800℃で60秒均熱する条件で熱延板焼鈍を行った。その後、150 ℃の温度の冷間圧延にて0.30mmの最終板厚に仕上げた。
ついで、水素:75 vol%、窒素:25 vol%で、かつ表2に示す種々の露点になる雰囲気中にて 930℃, 均熱10秒の再結晶焼鈍を行った。その後、窒素:50 vol%、Ar:50 vol%の混合雰囲気中にて 800℃までを50℃/hの速度で昇温し、800 ℃以上を10℃/hの速度で 900℃まで昇温し、この温度に30時間保持する条件で最終仕上焼鈍を行った。なお、最終仕上焼鈍後の鋼中N量は 33ppmであった。
その後、重クロム酸アルミニウム、エマルジョン樹脂およびエチレングリコールを混合したコーティング液を塗布し 300℃で焼き付けて製品とした。
また、製品板における粒径:0.05〜0.50mmの微細結晶粒の存在頻度を、鋼板表面の3cm角の領域内での微細結晶粒の数を計測することにより求めた。
さらに、打抜き性を評価するために、25トンプレス機にて、17mm角(材質:SKD−11)、打抜き速度:350 ストローク/分、クリアランス:6%板厚の条件で、市販の打抜き油を使用し、カエリ高さが50μm に達するまで連続打抜きを行った。
得られた結果を表2に示す。
C:0.003 %、Si:3.3 %、Mn:0.52%およびCu:0.08%を含み、かつAl:50ppm 、N:12 ppmに低減し、その他の成分も全て 50ppm以下に低減した組成になる鋼スラブを、連続鋳造にて製造した。ついで、1200℃で20分加熱後、熱間圧延により 2.2mm厚としたのち、 900℃, 20秒の熱延板焼鈍を施した。その後、常温にて1回目の冷間圧延を行い 1.5mm厚にとしたのち、 950℃, 30秒の中間焼鈍後、常温での2回目の冷間圧延により、途中板厚:0.90mmの時に 200℃, 5時間の時効処理を挟んで0.27mmの最終板厚に仕上げた。
ついで、水素:75 vol%、窒素:25 vol%、かつ露点:−40℃の雰囲気中にて900 ℃, 均熱30秒の再結晶焼鈍を行った。その後、表3に示す焼鈍雰囲気中にて、常温から 900℃まで30℃/hの速度で昇温し、この温度に50時間保持する条件で最終仕上焼鈍を行った。
その後、重クロム酸アルミニウム、エマルジョン樹脂およびエチレングリコールを混合したコーティング液を塗布し 300℃で焼き付けて製品とした。
表4に示す成分組成になる鋼スラブを、1160℃に加熱後、熱間圧延により 3.2mm厚の熱延板とした。なお、表4に示されない成分に関しては全て 50ppm以下に低減した。
ついで、熱延板焼鈍を1000℃, 均熱60秒の条件で行った。その後、冷間圧延により0.50mmの最終板厚に仕上げた。ついで、水素:75 vol%、窒素:25 vol%、かつ露点:−35℃の雰囲気中にて 980℃, 均熱20秒の再結晶焼鈍を行った。ついで、850 ℃まで10℃/hの速度で昇温し、この温度に75時間保持する最終仕上焼鈍を、露点:−40℃の窒素雰囲気中にて行った。
その後、重クロム酸アルミニウム、アクリル樹脂エマルジョンおよびほう酸を混合したコーティング液を塗布し 300℃で焼き付けて製品とした。
なお、このような製品は、鋼中に 10ppm以上の窒素を含有し、二次再結晶粒の内部に円相当径で粒径が0.15mm以上、0.50mm以下の微細結晶粒を2個/cm2 以上含有していた。
Claims (2)
- 質量%で、Si:2.0〜8.0 %、Mn:0.005〜3.0 %およびN:10〜100 ppm を含有し、残部はFeおよび不可避的不純物の組成になる方向性電磁鋼板(但し、{110}<001>方位からの方位差が20°以内の結晶粒の面積率が25〜75%である場合を除く)であって、二次再結晶粒の内部に粒径が0.15mm以上、0.50mm以下の微細結晶粒を2個/cm2以上、100.3個/cm2以下の頻度で含み、かつフォルステライト(Mg2SiO4) を主体とする下地被膜を有しないことを特徴とするEIコア用の方向性電磁鋼板。
- 請求項1において、鋼板が、質量%で、さらに、Ni:0.005〜1.50%、Sn:0.01〜1.50%、Sb:0.005〜0.50%、Cu:0.01〜1.50%、P:0.005〜0.50%およびCr:0.01〜1.50%のうちから選んだ少なくとも1種または2種以上を含有する組成になることを特徴とするEIコア用の方向性電磁鋼板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007152071A JP4692518B2 (ja) | 2007-06-07 | 2007-06-07 | Eiコア用の方向性電磁鋼板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007152071A JP4692518B2 (ja) | 2007-06-07 | 2007-06-07 | Eiコア用の方向性電磁鋼板 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001011409A Division JP3997712B2 (ja) | 2001-01-19 | 2001-01-19 | Eiコア用の方向性電磁鋼板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007302999A JP2007302999A (ja) | 2007-11-22 |
JP4692518B2 true JP4692518B2 (ja) | 2011-06-01 |
Family
ID=38837172
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007152071A Expired - Fee Related JP4692518B2 (ja) | 2007-06-07 | 2007-06-07 | Eiコア用の方向性電磁鋼板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4692518B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6011586B2 (ja) * | 2013-07-24 | 2016-10-19 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板の製造方法 |
WO2016035530A1 (ja) * | 2014-09-01 | 2016-03-10 | 新日鐵住金株式会社 | 方向性電磁鋼板 |
JP6260513B2 (ja) * | 2014-10-30 | 2018-01-17 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板の製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000119823A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-25 | Kawasaki Steel Corp | 鉄損の低い電磁鋼板 |
-
2007
- 2007-06-07 JP JP2007152071A patent/JP4692518B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000119823A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-25 | Kawasaki Steel Corp | 鉄損の低い電磁鋼板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007302999A (ja) | 2007-11-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100837129B1 (ko) | 포스테라이트를 주체로 하는 하지피막을 갖지 않는,자기특성이 양호한 방향성 전자강판과 그 제조방법 | |
WO2013137092A1 (ja) | 無方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP6236470B2 (ja) | 磁気特性に優れる無方向性電磁鋼板 | |
EP3225704B1 (en) | Method for manufacturing grain-oriented electrical steel sheet | |
WO2014129034A1 (ja) | 磁気特性に優れるセミプロセス無方向性電磁鋼板の製造方法 | |
CN110678568A (zh) | 无方向性电磁钢板及其制造方法 | |
JP5871137B2 (ja) | 方向性電磁鋼板 | |
JP2001303214A (ja) | 高周波磁気特性に優れた方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
JP4358550B2 (ja) | 圧延方向とその板面内垂直方向磁気特性の優れた無方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP3997712B2 (ja) | Eiコア用の方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP2008150697A (ja) | 電磁鋼板の製造方法 | |
JP5839172B2 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP4692518B2 (ja) | Eiコア用の方向性電磁鋼板 | |
JP3956621B2 (ja) | 方向性電磁鋼板 | |
JP6795092B2 (ja) | 方向性電磁鋼板 | |
JP2003171718A (ja) | 圧延面内での平均磁気特性に優れた電磁鋼板の製造方法 | |
JP4810777B2 (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
JP4258185B2 (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
JP4224957B2 (ja) | 下地被膜を有しない方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP3896937B2 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP3994667B2 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP2005002401A (ja) | 無方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP5353234B2 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP3893783B2 (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
JP2021509150A (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100518 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110125 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110207 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140304 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4692518 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |