JP4676339B2 - 荷電ビーム装置及び試料作製・観察方法 - Google Patents
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Description
2 イオンビーム照射軸
3 電子ビーム照射系
4 電子ビーム照射軸
5 試料室筐体
6 試料
7 荷電粒子検出器
10 試料ステージ
12 CRT
13 制御部
20 加工断面
21 3D解析したい領域(幅W深さD長さL)
22 初期穴加工の矩形
30 試料ステージの所望のトレースライン
31 所望の解析領域
Claims (5)
- イオンビームを発生させるイオン源と、前記イオンビームを集束させるレンズと、前記イオンビームを前記試料上で走査する偏向器と、前記電子ビームを発生させる電子源と、前記電子ビームを集束させるレンズと、前記電子ビームを前記試料上で走査する偏向器と、前記試料の画像を取得するために前記試料から発生した二次粒子を検出する検出器とを具備し、前記イオンビームと前記電子ビームとが鋭角の角度で交わる位置が存在し、その交わる位置に前記試料を配置することができるステージあるいはマニピュレータ機構あるいはその両方を具備する荷電ビーム装置において、
前記イオンビームあるいは前記電子ビームの何れか、あるいはその両方のビームの照射に同期して、前記イオンビームと前記電子ビームとが交わる位置に前記試料の加工断面を合わすように前記イオンビームのX方向の位置を固定し、前記イオンビームをY方向に往復動させながら、前記試料を移動させることで立体的な加工を行い、その加工断面を連続的あるいは断続的に観察することを特徴とする荷電ビーム装置。 - 請求項1に記載の荷電ビーム装置において、
前記加工断面は前記イオンビームと前記電子ビームとが交わる位置に合わせた平面であり、かつ加工に用いる前記イオンビームと観察に用いる前記電子ビームの二つの光軸を含む平面に対して垂直な平面であることを特徴とする荷電ビーム装置。 - 請求項1または請求項2のいずれかに記載の荷電ビーム装置において、
前記試料上の加工領域の位置は、メモリに保存した観察像に所望の加工断面が移動するトレースラインを線で指定することで設定することを特徴とする荷電ビーム装置。 - 請求項3に記載の荷電ビーム装置において、
設定した前記トレースラインに従い前記ステージあるいはマニピュレータあるいはその両方が移動することで前記試料の立体的な加工を行うことを特徴とする荷電ビーム装置。 - イオンビームを発生させるイオン源と、前記イオンビームを集束させるレンズと、前記イオンビームを前記試料上で走査する偏向器と、前記電子ビームを発生させる電子源と、前記電子ビームを集束させるレンズと、前記電子ビームを前記試料上で走査する偏向器と、前記試料の画像を取得するために前記試料から発生した二次粒子を検出する検出器とを具備し、前記イオンビームと前記電子ビームとが鋭角の角度で交わる位置が存在し、その交わる位置に前記試料を配置することができるステージあるいはマニピュレータ機構あるいはその両方を具備する荷電ビーム装置による試料作製・観察方法において、
前記イオンビームあるいは前記電子ビームの何れか、あるいはその両方のビームの照射に同期して、前記イオンビームと前記電子ビームとが交わる位置に前記試料の加工断面を合わすように前記イオンビームのX方向の位置を固定し、前記イオンビームをY方向に往復動させながら、前記試料を移動させることで立体的な加工を行う段階と、
その加工断面を連続的あるいは断続的に観察する段階と、を備えたことを特徴とする試料作製・観察方法。
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Families Citing this family (4)
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005135761A (ja) * | 2003-10-30 | 2005-05-26 | Sii Nanotechnology Inc | Fibを用いた加工焦点位置修正方法とそれを実施する装置 |
JP2006294354A (ja) * | 2005-04-07 | 2006-10-26 | Nec Electronics Corp | 試料体の加工観察装置及び試料体の観察方法 |
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Patent Citations (2)
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---|---|---|---|---|
JP2005135761A (ja) * | 2003-10-30 | 2005-05-26 | Sii Nanotechnology Inc | Fibを用いた加工焦点位置修正方法とそれを実施する装置 |
JP2006294354A (ja) * | 2005-04-07 | 2006-10-26 | Nec Electronics Corp | 試料体の加工観察装置及び試料体の観察方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11221280B2 (en) | 2017-10-25 | 2022-01-11 | Hitachi High-Tech Corporation | Method of preparing biological tissue sample and method of observing biological tissue section sample |
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