JP4671388B2 - Film for flexible printed circuit boards - Google Patents

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Description

本発明は、ポリフェニレンエーテル系樹脂組成を有し、耐熱性、難燃性、耐屈曲性、電気特性および耐吸湿性に優れる、熱可塑性樹脂組成物からなるフレキシブルプリント基板用フィルムに関する。   The present invention relates to a film for a flexible printed circuit board comprising a thermoplastic resin composition, which has a polyphenylene ether-based resin composition and is excellent in heat resistance, flame retardancy, flex resistance, electrical characteristics, and moisture absorption resistance.

近年、エレクトロニクス分野の発展が目覚ましく、特に通信用・民生用の電子機器の小型化、軽量化、高密度化が進み、これらの性能に対する要求がますます高度なものとなっている。このような要求に対して、フレキシブル印刷配線板は可撓性を有し、繰り返し屈曲に耐える特性を有しているため、狭い空間に立体的高密度の実装が可能であり、電子機器への配線、ケーブル、あるいはコネクター機能を付与した複合部品としてその用途が拡大しつつある。フレキシブルプリント基板は高い耐熱性と優れた電気・機械特性を備えている電気絶縁性の基材フィルムと金属箔とを接着剤を介して積層一体化したもので、このフレキシブルプリント基板に要求される特性としては、接着性、耐熱性、電気特性、加工性、耐屈曲性、耐湿性、難燃性などが挙げられる。従来、これらフレキシブルプリント基板には、ベースフィルムやカバーレイフィルムとしてポリイミドが広く用いられている(特許文献1)。   In recent years, the development of the electronics field has been remarkable, and in particular, electronic devices for communication and consumer use have been reduced in size, weight and density, and the demands for these performances have become increasingly sophisticated. In response to such demands, flexible printed wiring boards are flexible and have the characteristics of withstanding repeated bending, so that three-dimensional and high-density mounting is possible in a narrow space. Applications are expanding as composite parts with wiring, cable, or connector functions. A flexible printed circuit board is a laminate of an electrically insulating base film with high heat resistance and excellent electrical and mechanical properties and a metal foil laminated with an adhesive, and is required for this flexible printed circuit board. Properties include adhesion, heat resistance, electrical properties, workability, flex resistance, moisture resistance, flame resistance, and the like. Conventionally, polyimide has been widely used as a base film or a coverlay film in these flexible printed boards (Patent Document 1).

ところが、最近の高密度実装化に伴い、低誘電率や低誘電正接に代表される電気特性や、耐湿後の電気特性の安定性、などのさらなる向上が求められている。またポリイミドフィルムは、高機能性ではあるが、熱硬化性樹脂である場合が多く、例えば前駆体であるポリアミック酸を出発ポリマーとして溶液状態から、溶剤を除去しながら、熱硬化させ、キュアするという非常に煩雑なプロセスを経て得られるものである。かくして原料が高価なことに加え、プロセス面からも高価なものとなっていた。従って、安価で高品質なフィルムが待望されていた。特に熱可塑性樹脂により得られるフィルムは、比較的プロセスも簡略化され、成形時に発生した製品以外の余剰品もリサイクルが可能である。従って熱可塑性樹脂は、安価にはなるが、耐熱性、電気特性、難燃性、耐屈曲性に代表される高機能性を有する、フレキシブルプリント基板フィルムに適した熱可塑性樹脂は極めて少なかった。
特開平5−13902号公報
However, with recent high-density mounting, further improvements such as electrical characteristics typified by low dielectric constant and low dielectric loss tangent, and stability of electrical characteristics after moisture resistance are required. The polyimide film is highly functional, but is often a thermosetting resin. For example, the precursor polyamic acid is used as a starting polymer, and is cured and cured while removing the solvent from the solution state. It is obtained through a very complicated process. Thus, in addition to the expensive raw materials, the process was also expensive. Therefore, an inexpensive and high quality film has been awaited. In particular, a film obtained from a thermoplastic resin has a relatively simplified process, and it is possible to recycle surplus products other than products generated during molding. Therefore, although the thermoplastic resin is inexpensive, there are very few thermoplastic resins suitable for a flexible printed circuit board film having high functionality represented by heat resistance, electrical characteristics, flame retardancy, and bending resistance.
Japanese Patent Laid-Open No. 5-13902

本発明は、耐熱性、難燃性、耐屈曲性、電気特性、耐吸湿性に優れる、熱可塑性樹脂組成物からなるフレキシブルプリント基板用フィルムを提供することを目的とするものである。   An object of this invention is to provide the film for flexible printed circuit boards which consists of a thermoplastic resin composition which is excellent in heat resistance, a flame retardance, bending resistance, an electrical property, and moisture absorption resistance.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ポリフェニレンエーテル系樹脂を85重量%以上含有する樹脂組成を有する樹脂組成物が、その目的に適合しうることを見いだし、この知見に基づいて本発明をなすに至った。
すなわち、本発明は、
1.(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂を85重量%以上含有する樹脂組成を有するフレキシブルプリント基板用フィルム、
2.(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂85〜99.5重量部と、(B)液晶ポリエステル0.5〜15重量部からなる樹脂組成を有するフレキシブルプリント基板用フィルム、
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that a resin composition having a resin composition containing 85% by weight or more of a polyphenylene ether-based resin can meet the purpose, and this The present invention has been made based on the findings.
That is, the present invention
1. (A) A film for a flexible printed circuit board having a resin composition containing 85 % by weight or more of a polyphenylene ether resin,
2. (A) 85 to 99.5 parts by weight of a polyphenylene ether resin and (B) a film for a flexible printed circuit board having a resin composition consisting of 0.5 to 15 parts by weight of a liquid crystal polyester,

3.(A)成分と(B)成分の合計100重量部に対して、(C)I価、II価、III価またはIV価の金属元素を含有する化合物0.1〜10重量部を含有する樹脂組成を有する上記2に記載のフレキシブルプリント基板用フィルム、
4.(C)I価、II価、III価またはIV価の金属元素が、Zn元素及び/またはMg元素であることを特徴とする上記3に記載のフレキシブルプリント基板用フィルム、
5.(A)成分と(B)成分の合計100重量部に対して、(D)難燃剤0.1〜20重量部を含有する樹脂組成を有する上記2〜4のいずれかに記載のフレキシブルプリント基板用フィルム、
3. A resin containing 0.1 to 10 parts by weight of a compound containing (C) an I-valent, II-valent, III-valent or IV-valent metal element with respect to a total of 100 parts by weight of the component (A) and the component (B) The film for flexible printed circuit board according to 2 above, having a composition,
4). (C) The film for flexible printed circuit board according to 3 above, wherein the metal element of I value, II value, III value or IV value is Zn element and / or Mg element,
5. (D) Flexible printed circuit board in any one of said 2-4 which has a resin composition containing 0.1-20 weight part of flame retardants with respect to a total of 100 weight part of (A) component and (B) component. For film,

6.(D)難燃剤がリン酸エステル化合物および/またはホスファゼン化合物であることを特徴とする上記5記載のフレキシブルプリント基板用フィルム、
7.上記1〜6のいずれかに記載のフレキシブルプリント基板用フィルムを構成する樹脂が、熱可塑性樹脂である上記1〜6のいずれかに記載のフレキシブルプリント基板用フィルム、
8.平均厚みが5〜100μmである上記1〜7のいずれかに記載のフレキシブルプリント基板用フィルム、
9.上記1〜8のいずれかに記載のフレキシブルプリント基板用フィルムからなるフレキシブルプリント基板回路、
を提供するものである。
6). (D) The film for flexible printed circuit board according to 5 above, wherein the flame retardant is a phosphate ester compound and / or a phosphazene compound,
7). The flexible printed circuit board film according to any one of 1 to 6, wherein the resin constituting the flexible printed circuit board film according to any one of 1 to 6 is a thermoplastic resin,
8). The film for flexible printed circuit boards according to any one of 1 to 7 above, wherein the average thickness is 5 to 100 μm,
9. The flexible printed circuit board which consists of a film for flexible printed circuit boards in any one of said 1-8,
Is to provide.

本発明のフレキシブルプリント基板用フィルムは、耐熱性、難燃性、耐屈曲性、電気特性、耐吸湿性に優れ、特に耐吸湿性、低誘電率及び低誘電正接に代表される電気特性に優れる。   The flexible printed circuit board film of the present invention is excellent in heat resistance, flame retardancy, bending resistance, electrical properties, and moisture absorption resistance, and particularly excellent in electrical properties represented by moisture absorption resistance, low dielectric constant, and low dielectric loss tangent. .

以下、本願発明について具体的に説明する。
本発明の(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂とは、(式1)の繰り返し単位構造
Hereinafter, the present invention will be specifically described.
The (A) polyphenylene ether resin of the present invention is a repeating unit structure of (Formula 1)

Figure 0004671388
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(R1、R4は、それぞれ独立して、水素、第一級もしくは第二級の低級アルキル、フェニル、アミノアルキル、炭化水素オキシを表わす。R2、R3は、それぞれ独立して、水素、第一級もしくは第二級の低級アルキル、フェニルを表わす。)
からなり、還元粘度(0.5g/dl、クロロホルム溶液、30℃測定)が、0.15〜1.0dl/gの範囲にあるホモ重合体及び/または共重合体である。さらに好ましい還元粘度は、0.20〜0.70dl/gの範囲、最も好ましくは0.40〜0.60の範囲である。
(R 1 and R 4 each independently represents hydrogen, primary or secondary lower alkyl, phenyl, aminoalkyl or hydrocarbon oxy. R 2 and R 3 each independently represent hydrogen Represents primary or secondary lower alkyl or phenyl.)
And a reduced viscosity (0.5 g / dl, chloroform solution, measured at 30 ° C.) is a homopolymer and / or copolymer in the range of 0.15 to 1.0 dl / g. A more preferred reduced viscosity is in the range of 0.20 to 0.70 dl / g, most preferably in the range of 0.40 to 0.60.

この(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂の具体的な例としては、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2−メチル−6−フェニル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2,6−ジクロロ−1,4−フェニレンエーテル)等が挙げられ、さらに、2,6−ジメチルフェノールと他のフェノール類(例えば、2,3,6−トリメチルフェノールや2−メチル−6−ブチルフェノール)との共重合体のようなポリフェニレンエーテル共重合体も挙げられる。中でもポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)、2,6−ジメチルフェノールと2,3,6−トリメチルフェノールとの共重合体が好ましく、さらにポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)が好ましい。   Specific examples of the (A) polyphenylene ether resin include poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether), poly (2-methyl-6-ethyl-1,4-phenylene ether), Poly (2-methyl-6-phenyl-1,4-phenylene ether), poly (2,6-dichloro-1,4-phenylene ether), and the like, and 2,6-dimethylphenol and other phenols. Also included are polyphenylene ether copolymers such as copolymers with a class (for example, 2,3,6-trimethylphenol and 2-methyl-6-butylphenol). Of these, poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether) and a copolymer of 2,6-dimethylphenol and 2,3,6-trimethylphenol are preferable, and poly (2,6-dimethyl-1 , 4-phenylene ether).

本発明で使用する(A)ポリフェニレンエーテルの製造方法の例として、米国特許第3306874号明細書記載の第一銅塩とアミンのコンプレックスを触媒として用い、2,6−キシレノールを酸化重合する方法がある。
米国特許第3306875号、同第3257357号および同第3257358号の明細書、特公昭52−17880号および特開昭50−51197号および同63−152628号の各公報等に記載された方法も(A)ポリフェニレンエーテルの製造方法として好ましい。
本発明の(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂は、重合行程後のパウダーのまま用いてもよいし、押出機などを用いて、窒素ガス雰囲気下あるいは非窒素ガス雰囲気下、脱揮下あるいは非脱揮下にて溶融混練することでペレット化して用いてもよい。
As an example of the method for producing (A) polyphenylene ether used in the present invention, there is a method of oxidative polymerization of 2,6-xylenol using a complex of cuprous salt and amine described in US Pat. No. 3,306,874 as a catalyst. is there.
The methods described in U.S. Pat. Nos. 3,306,875, 3,257,357 and 3,257,358, Japanese Patent Publication Nos. 52-17880, and JP-A-50-51197 and 63-152628 are also available ( A) It is preferable as a method for producing polyphenylene ether.
The (A) polyphenylene ether-based resin of the present invention may be used as it is after the polymerization process, or using an extruder or the like, under a nitrogen gas atmosphere or a non-nitrogen gas atmosphere, under devolatilization or non-devolatilization. You may use it by pelletizing by melt-kneading below.

本発明の(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂は、種々のジエノフィル化合物により官能化されたポリフェニレンエーテルも含まれる。種々のジエノフィル化合物には、例えば無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸、フェニルマレイミド、イタコン酸、アクリル酸、メタクリル酸、メチルアリレート、メチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、ステアリルアクリレート、スチレンなどの化合物が挙げられる。さらにこれらジエノフィル化合物により官能化する方法としては、ラジカル発生剤存在下あるいは非存在下で押出機などを用い、脱揮下あるいは非脱揮下にて溶融状態で官能化してもよい。あるいはラジカル発生剤存在下あるいは非存在下で、非溶融状態、すなわち室温以上、かつ融点以下の温度範囲にて官能化してもよい。この際、ポリフェニレンエーテルの融点は、示差熱走査型熱量計(DSC)の測定において、20℃/分で昇温するときに得られる温度−熱流量グラフで観測されるピークのピークトップ温度で定義され、ピークトップ温度が複数ある場合にはその内の最高の温度で定義される。   The (A) polyphenylene ether resin of the present invention includes polyphenylene ethers functionalized with various dienophile compounds. Examples of various dienophile compounds include maleic anhydride, maleic acid, fumaric acid, phenylmaleimide, itaconic acid, acrylic acid, methacrylic acid, methyl allylate, methyl methacrylate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, stearyl acrylate, styrene, and the like. Can be mentioned. Furthermore, as a method of functionalizing with these dienophile compounds, an extruder or the like may be used in the presence or absence of a radical generator, and functionalization may be performed in a molten state under devolatilization or non-devolatilization. Alternatively, it may be functionalized in the non-molten state, that is, in the temperature range from room temperature to the melting point in the presence or absence of a radical generator. In this case, the melting point of polyphenylene ether is defined by the peak top temperature of the peak observed in the temperature-heat flow graph obtained when the temperature is raised at 20 ° C./min in the differential thermal scanning calorimeter (DSC) measurement. If there are a plurality of peak top temperatures, the peak top temperature is defined as the highest temperature.

本発明の(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂には、ポリフェニレンエーテル樹脂単独又はポリフェニレンエーテル樹脂と芳香族ビニル系重合体との混合物であり、さらに他の樹脂が混合されたものも含まれる。芳香族ビニル系重合体とは、例えば、アタクティックポリスチレン、ハイインパクトポリスチレン、シンジオタクティックポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体などが挙げられる。ポリフェニレンエーテル樹脂と芳香族ビニル系重合体との混合物を用いる場合は、ポリフェニレンエーテル樹脂と芳香族ビニル系重合体との合計量に対して、ポリフェニレンエーテル樹脂が70wt%以上であり、好ましくは80wt%以上、さらに好ましくは90wt%以上である。   The polyphenylene ether resin (A) of the present invention is a polyphenylene ether resin alone or a mixture of a polyphenylene ether resin and an aromatic vinyl polymer, and further includes a mixture of other resins. Examples of the aromatic vinyl polymer include atactic polystyrene, high impact polystyrene, syndiotactic polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer, and the like. When a mixture of a polyphenylene ether resin and an aromatic vinyl polymer is used, the polyphenylene ether resin is 70 wt% or more, preferably 80 wt%, based on the total amount of the polyphenylene ether resin and the aromatic vinyl polymer. More preferably, it is 90 wt% or more.

本発明のフレキシブルプリント基板用フィルムは、上記(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂を85重量%以上含有する樹脂組成を有する樹脂組成物から成形して得られる。
本発明の(B)液晶ポリエステルはサーモトロピック液晶ポリマーと呼ばれるポリエステルで、公知のものを使用できる。例えば、p−ヒドロキシ安息香酸およびポリエチレンテレフタレートを主構成単位とするサーモトロピック液晶ポリエステル、p−ヒドロキシ安息香酸および2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸を主構成単位とするサーモトロピック液晶ポリエステル、p−ヒドロキシ安息香酸および4,4′−ジヒドロキシビフェニルならびにテレフタル酸を主構成単位とするサーモトロピック液晶ポリエステルなどが挙げられ、特に制限はない。本発明で使用される(B)液晶ポリエステルとしては、下記構造単位(イ)、(ロ)、および必要に応じて(ハ)および/または(ニ)からなるものが好ましく用いられる。
The film for flexible printed circuit boards of the present invention is obtained by molding from a resin composition having a resin composition containing 85 % by weight or more of the above (A) polyphenylene ether resin.
The (B) liquid crystal polyester of the present invention is a polyester called a thermotropic liquid crystal polymer, and known ones can be used. For example, a thermotropic liquid crystal polyester mainly composed of p-hydroxybenzoic acid and polyethylene terephthalate, a thermotropic liquid crystal polyester mainly composed of p-hydroxybenzoic acid and 2-hydroxy-6-naphthoic acid, p-hydroxybenzoic acid Examples thereof include thermotropic liquid crystal polyesters mainly composed of acid, 4,4'-dihydroxybiphenyl and terephthalic acid, and are not particularly limited. As the (B) liquid crystalline polyester used in the present invention, those composed of the following structural units (A) and (B) and, if necessary, (C) and / or (D) are preferably used.

Figure 0004671388
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ここで、構造単位(イ)、(ロ)はそれぞれ、p−ヒドロキシ安息香酸から生成したポリエステルの構造単位と、2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸から生成した構造単位である。構造単位(イ)、(ロ)を使用することで、優れた耐熱性、流動性や剛性などの機械的特性のバランスに優れた本発明の熱可塑性樹脂組成物を得ることができる。上記構造単位(ハ)、(ニ)中のXは、下記(式2)よりそれぞれ任意に1種あるいは2種以上選択することができる。   Here, the structural units (A) and (B) are respectively a structural unit of a polyester generated from p-hydroxybenzoic acid and a structural unit generated from 2-hydroxy-6-naphthoic acid. By using the structural units (a) and (b), it is possible to obtain the thermoplastic resin composition of the present invention having an excellent balance of mechanical properties such as excellent heat resistance, fluidity and rigidity. X in the structural units (c) and (d) can be arbitrarily selected from the following (Formula 2), respectively.

Figure 0004671388
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構造式(ハ)において好ましいのは、エチレングリコール、ハイドロキノン、4,4′−ジヒドロキシビフェニル、2,6−ジヒドロキシナフタレン、ビスフェノールAそれぞれから生成した構造単位であり、さらに好ましいのは、エチレングリコール、4,4′−ジヒドロキシビフェニル、ハイドロキノンであり、特に好ましいのは、エチレングリコール、4,4′−ジヒドロキシビフェニルである。構造式(ニ)において好ましいのは、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ジカルボキシナフタレンそれぞれから生成した構造単位であり、さらに好ましいのは、テレフタル酸、イソフタル酸である。   In the structural formula (c), preferred are structural units formed from ethylene glycol, hydroquinone, 4,4′-dihydroxybiphenyl, 2,6-dihydroxynaphthalene, and bisphenol A, and more preferred are ethylene glycol, 4 4,4'-dihydroxybiphenyl and hydroquinone, and particularly preferred are ethylene glycol and 4,4'-dihydroxybiphenyl. In the structural formula (d), preferred are structural units formed from terephthalic acid, isophthalic acid and 2,6-dicarboxynaphthalene, and more preferred are terephthalic acid and isophthalic acid.

構造式(ハ)および構造式(ニ)は、上記に挙げた構造単位を少なくとも1種あるいは2種以上を併用することができる。具体的には、2種以上併用する場合、構造式(ハ)においては、1)エチレングリコールから生成した構造単位/ハイドロキノンから生成した構造単位、2)エチレングリコールから生成した構造単位/4,4′−ジヒドロキシビフェニルから生成した構造単位、3)ハイドロキノンから生成した構造単位/4,4′−ジヒドロキシビフェニルから生成した構造単位、などを挙げることができる。   In the structural formula (c) and the structural formula (d), at least one or two or more of the structural units listed above can be used in combination. Specifically, when two or more kinds are used in combination, in the structural formula (c), 1) a structural unit generated from ethylene glycol / a structural unit generated from hydroquinone, 2) a structural unit generated from ethylene glycol / 4,4 Examples include structural units formed from '-dihydroxybiphenyl, 3) structural units formed from hydroquinone / 4, structural units formed from 4,4'-dihydroxybiphenyl, and the like.

また、構造式(ニ)においては、1)テレフタル酸から生成した構造単位/イソフタル酸から生成した構造単位、2)テレフタル酸から生成した構造単位/2,6−ジカルボキシナフタレンから生成した構造単位、などを挙げることができる。ここでテレフタル酸量は2成分中、好ましくは40wt%以上、さらに好ましくは60wt%以上、特に好ましくは80wt%以上である。テレフタル酸量を2成分中40wt%以上とすることで、比較的に流動性、耐熱性が良好な樹脂組成物となる。液晶ポリエステル(B)成分中の構造単位(イ)、(ロ)、(ハ)、(ニ)の使用分割は特に限定されない。ただし、構造単位(ハ)と(ニ)は基本的にほぼ等モル量となる。   In the structural formula (d), 1) a structural unit generated from terephthalic acid / a structural unit generated from isophthalic acid, 2) a structural unit generated from terephthalic acid / 2, a structural unit generated from 2,6-dicarboxynaphthalene , Etc. Here, the amount of terephthalic acid is preferably 40 wt% or more, more preferably 60 wt% or more, and particularly preferably 80 wt% or more in the two components. By setting the amount of terephthalic acid to 40 wt% or more of the two components, a resin composition having relatively good fluidity and heat resistance can be obtained. The division of use of the structural units (A), (B), (C), and (D) in the liquid crystal polyester (B) component is not particularly limited. However, the structural units (c) and (d) are basically in equimolar amounts.

また、構造単位(ハ)、(ニ)からなる構造単位(ホ)を、(B)成分中の構造単位として使用することもできる。具体的には、1)エチレングリコールとテレフタル酸から生成した構造単位、2)ハイドロキノンとテレフタル酸から生成した構造単位、3)4,4′−ジヒドロキシビフェニルとテレフタル酸から生成した構造単位、4)4,4′−ジヒドロキシビフェニルとイソフタル酸から生成した構造単位、5)ビスフェノールAとテレフタル酸から生成した構造単位、などを挙げることができる。   Moreover, the structural unit (e) consisting of the structural units (c) and (d) can also be used as the structural unit in the component (B). Specifically, 1) a structural unit produced from ethylene glycol and terephthalic acid, 2) a structural unit produced from hydroquinone and terephthalic acid, 3) a structural unit produced from 4,4'-dihydroxybiphenyl and terephthalic acid, 4) And structural units formed from 4,4'-dihydroxybiphenyl and isophthalic acid, and 5) structural units formed from bisphenol A and terephthalic acid.

Figure 0004671388
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本発明の(B)液晶ポリエステル成分には、必要に応じて本発明の特徴と効果を損なわない程度の少量の範囲で、他の芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシカルボン酸から生成する構造単位を導入することができる。本発明の(B)成分の溶融時での液晶状態を示し始める温度(以下、液晶開始温度という)は、好ましくは150〜350℃、さらに好ましくは180〜320℃である。液晶開始温度をこの範囲にすることは、得られる樹脂製フィルム中に黒色異物が少なくなり、好ましい。   The liquid crystal polyester component (B) of the present invention is formed from other aromatic dicarboxylic acids, aromatic diols, and aromatic hydroxycarboxylic acids within a small range that does not impair the features and effects of the present invention as necessary. Structural units can be introduced. The temperature at which the liquid crystal state at the time of melting of the component (B) of the present invention (hereinafter referred to as the liquid crystal start temperature) is preferably 150 to 350 ° C, more preferably 180 to 320 ° C. It is preferable to set the liquid crystal start temperature within this range because black foreign matters are reduced in the obtained resinous film.

本発明の(C)I価、II価、III価またはIV価の金属元素を含有する化合物は、金属を含有する無機化合物または有機化合物である。本発明の(C)成分は、本質的に金属元素を主たる構成成分とする化合物である。(C)成分におけるI価、II価、III価またはIV価をとりうる金属元素の具体例として、Li、Na、K、Zn、Cd、Sn、Cu、Ni、Pd、Co、Fe、Ru、Mn、Pb、Mg、Ca、Sr、Ba、Al、Ti、Ge、Sbが挙げられる。中でもZn、Mg、Ti、Pb、Cd、Sn、Sb、Ni、Al、Ge元素が好ましく、さらにはZn、Mg、Ti元素が好ましい。樹脂組成物あるいはフィルムそのものとしての剥離がなく、フィルムの靱性を大きく向上させる観点から、I価、II価、III価またはIV価の金属元素がZn元素および/またはMg元素であることが特に好ましい。   The (C) compound containing an I-valent, II-valent, III-valent or IV-valent metal element of the present invention is an inorganic compound or organic compound containing a metal. The component (C) of the present invention is a compound essentially comprising a metal element as a main constituent component. Specific examples of metal elements that can take I, II, III, or IV in the component (C) include Li, Na, K, Zn, Cd, Sn, Cu, Ni, Pd, Co, Fe, Ru, Examples include Mn, Pb, Mg, Ca, Sr, Ba, Al, Ti, Ge, and Sb. Of these, Zn, Mg, Ti, Pb, Cd, Sn, Sb, Ni, Al, and Ge elements are preferable, and Zn, Mg, and Ti elements are more preferable. It is particularly preferable that the metal element of I, II, III, or IV is a Zn element and / or an Mg element from the viewpoint of greatly improving the toughness of the film without peeling as the resin composition or the film itself. .

(C)I価、II価、III価またはIV価の金属元素を含有する化合物の具体例として、上記金属元素の酸化物、水酸化物、アルコキサイド塩、脂肪族カルボン酸塩、酢酸塩が望ましい。さらに、好ましい酸化物の例としては、ZnO、MgO、TiO4、TiO、PbO、CdO、SnO、SbO、Sb、NiO、Al、GeOなどが挙げられる。また、好ましい水酸化物の例としては、Zn(OH)、Mg(OH)、Ti(OH)、Ti(OH)、Pb(OH)、Cd(OH)、Sn(OH)、Sb(OH)、Sb(OH)、Ni(OH)、Al(OH)、Ge(OH)などが挙げられる。また好ましいアルコキサイド塩の例としては、Ti(OiPr)、Ti(OnBu)などが挙げられる。また好ましい脂肪族カルボン酸塩の例としては、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸チタニウム、ステアリン酸鉛、ステアリン酸カドニウム、ステアリン酸すず、ステアリン酸アンチモン、ステアリン酸ニッケル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸ゲルマニウムなどが挙げられる。中でも特に好ましい具体例は、ZnO、Mg(OH)、Ti(OiPr)、Ti(OnBu)、酢酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニウム、が挙げられる。さらに層剥離の無さの観点から、ZnO、Mg(OH)が好ましい。またこれらの(C)成分は、本発明の効果を損なわない範囲で、不純物を含んでいてもよい。 (C) As specific examples of the compound containing a metal element of I, II, III, or IV, oxides, hydroxides, alkoxide salts, aliphatic carboxylates, and acetates of the above metal elements are desirable. . Furthermore, examples of preferable oxides include ZnO, MgO, TiO 4 , TiO 2 , PbO, CdO, SnO, SbO, Sb 2 O 3 , NiO, Al 2 O 3 , and GeO. Examples of preferred hydroxides include Zn (OH) 2 , Mg (OH) 2 , Ti (OH) 4 , Ti (OH) 2 , Pb (OH) 2 , Cd (OH) 2 , Sn (OH ) 2 , Sb (OH) 2 , Sb (OH) 3 , Ni (OH) 2 , Al (OH) 3 , Ge (OH) 2 and the like. Examples of preferable alkoxide salts include Ti (OiPr) 4 and Ti (OnBu) 4 . Examples of preferred aliphatic carboxylates include zinc stearate, magnesium stearate, titanium stearate, lead stearate, cadmium stearate, tin stearate, antimony stearate, nickel stearate, aluminum stearate, stearic acid. Examples include germanium. Among these, particularly preferred specific examples include ZnO, Mg (OH) 2 , Ti (OiPr) 4 , Ti (OnBu) 4 , zinc acetate, zinc stearate, and aluminum stearate. Furthermore, ZnO and Mg (OH) 2 are preferable from the viewpoint of no delamination. Moreover, these (C) components may contain the impurity in the range which does not impair the effect of this invention.

(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂の配合量は、85重量%以上であることが好ましい。さらには85〜99.5重量部で、好ましくは85〜99重量部で、さらに好ましくは85〜98重量部である。この配合量が99.5重量部より多いと、流動性が大きく低下し、トルク(押出機の負荷)の観点から押出機の設定温度を高くする必要があり、このことは、フィルム中に含まれる黒色異物が多くなり好ましくない。この配合量が85重量部より少ないと、フィルムの耐熱性や電気特性が悪化する。ここで、黒色異物は、黒点とかこげとかチャーとか呼ばれるものであり、フィルムの絶縁性が低下する影響を与えるものである。 (A) It is preferable that the compounding quantity of polyphenylene ether-type resin is 85 weight% or more. Furthermore, it is 85 to 99.5 parts by weight, preferably 85 to 99 parts by weight, and more preferably 85 to 98 parts by weight. When the blending amount is more than 99.5 parts by weight, the fluidity is greatly reduced, and it is necessary to increase the set temperature of the extruder from the viewpoint of torque (extruder load), which is included in the film. The amount of black foreign matter is increased, which is not preferable. If the blending amount is less than 85 parts by weight, the heat resistance and electrical characteristics of the film are deteriorated. Here, the black foreign matter is called a black spot, a shadow or a char, and has an effect of lowering the insulating properties of the film.

本発明における(B)成分の液晶ポリエステルの配合量は、0.5〜15重量部で、好ましくは1〜15重量部で、さらに好ましくは2〜15重量部である。この配合量が15重量部より多いと、液晶ポリマーの異方性のため、フィルムの厚みむら低下を招いてしまう。この配合量が0.5重量部より少ないと、流動性が大きく低下し、フィルム中の黒色異物が多くなってしまう。
本発明における(C)成分の配合量は、(A)と(B)の合計100重量部に対して、0.1〜10重量部含有することが好ましく、さらに0.2〜5重量部が好ましく、特にさらには0.4〜3重量部が好ましい。この(C)成分の含有量は、0.1重量部より少ないとフィルムそのものの層剥離が顕著になってしまい、10重量部より多いと比重が大きくなるし、電気特性が低下することがある。
The blending amount of the liquid crystal polyester as the component (B) in the present invention is 0.5 to 15 parts by weight, preferably 1 to 15 parts by weight, and more preferably 2 to 15 parts by weight. When the blending amount is more than 15 parts by weight, the thickness unevenness of the film is reduced due to the anisotropy of the liquid crystal polymer. When this compounding quantity is less than 0.5 weight part, fluidity | liquidity will fall large and the black foreign material in a film will increase.
The blending amount of the component (C) in the present invention is preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 0.2 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight as a total of (A) and (B). Particularly preferred is 0.4 to 3 parts by weight. When the content of the component (C) is less than 0.1 parts by weight, delamination of the film itself becomes remarkable. When the content is more than 10 parts by weight, the specific gravity increases and the electrical characteristics may be deteriorated. .

本発明の(D)難燃剤は、リン系難燃剤、シリコーンポリマーに代表される有機系難燃剤と水酸化マグネシウムや水酸化アルミニウムやポリリン酸アンモニウムに代表される無機系難燃剤である。(D)難燃剤のうち、リン系難燃剤としては、赤燐、リン酸エステル化合物、亜リン酸エステル化合物、ホスファゼン化合物、が挙げられる。これらの中で、対金属特に銅箔密着性の観点、及び絶縁性と難燃レベルと環境の観点からリン酸エステル化合物とホスファゼン化合物が好ましい。これらのリン酸エステル化合物とホスファゼン化合物はそれぞれ単独で用いてもよいし、併用して用いてもよい。
特に、リン酸エステル系化合物の特に好ましい例としては、下記式(3)で表される化合物群より選ばれるものを挙げることができる。
The flame retardant (D) of the present invention is a phosphorus flame retardant, an organic flame retardant represented by a silicone polymer, and an inorganic flame retardant represented by magnesium hydroxide, aluminum hydroxide or ammonium polyphosphate. Among the flame retardants (D), examples of the phosphorus-based flame retardant include red phosphorus, phosphate ester compounds, phosphite ester compounds, and phosphazene compounds. Among these, phosphate compounds and phosphazene compounds are preferable from the viewpoints of adhesion to metals, particularly copper foil, and from the viewpoints of insulation, flame retardancy, and environment. These phosphate ester compounds and phosphazene compounds may be used alone or in combination.
Particularly preferred examples of the phosphoric ester compound include those selected from the group of compounds represented by the following formula (3).

Figure 0004671388
Figure 0004671388

(式中、Q、Q、Q、Qは、炭素数1から6の アルキル基または水素を表し、nは1以上の整数、m、m、m、mは0から3の整数を示し、Xは以下の式(4)のいずれかから選択される。) (In the formula, Q 1 , Q 2 , Q 3 and Q 4 represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or hydrogen, n is an integer of 1 or more, and m 1 , m 2 , m 3 and m 4 are 0. To X, and X is selected from any of the following formulas (4).)

Figure 0004671388
Figure 0004671388

(式中、S、S、Sはメチル基または水素を表す。n、n、nは0から2の整数を示す。) (Wherein, S 1, S 2, S 3 is .n 1, n 2, n 3 represents methyl group or hydrogen is an integer from 0 to 2.)

具体的には、大八化学社製のCR−741、CR−747、CR−733Sなどが好適である。
本発明における(D)難燃剤の配合量は、(A)成分と(B)成分の合計100重量部に対して、0.1〜20重量部の割合で含有されていることが好ましく、さらに好ましくは1〜15重量部、特により好ましくは3〜10重量部である。この含有量が、0.1重量部より少ないと、十分な難燃性が得られず、20重量部より多いと、耐熱性が低下する。
Specifically, CR-741, CR-747, CR-733S manufactured by Daihachi Chemical Co., Ltd. are suitable.
The blending amount of the flame retardant (D) in the present invention is preferably contained in a proportion of 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the components (A) and (B). Preferably it is 1-15 weight part, More preferably, it is 3-10 weight part. When this content is less than 0.1 parts by weight, sufficient flame retardancy cannot be obtained, and when it is more than 20 parts by weight, the heat resistance is lowered.

本発明では、上記の成分の他に、本発明の特徴および効果を損なわない範囲で必要に応じて他の附加的成分、例えば、酸化防止剤、エラストマー(エチレン/プロピレン共重合体、エチレン/1−ブテン共重合体、エチレン/プロピレン/非共役ジエン共重合体、エチレン/アクリル酸エチル共重合体、エチレン/メタクリル酸グリシジル共重合体、エチレン/酢酸ビニル/メタクリル酸グリシジル共重合体およびエチレン/プロピレン−g−無水マレイン酸共重合体、ABSなどのオレフィン系共重合体、ポリエステルポリエーテルエラストマー、ポリエステルポリエステルエラストマー、ビニル芳香族化合物−共役ジエン化合物ブロック共重合体、ビニル芳香族化合物−共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素添加物)、可塑剤(オイル、低分子量ポリエチレン、エポキシ化大豆油、ポリエチレングリコール、脂肪酸エステル類等)、難燃助剤、耐候(光)性改良剤、各種着色剤、離型剤等を添加してもかまわない。   In the present invention, in addition to the above-described components, other additional components, for example, antioxidants, elastomers (ethylene / propylene copolymers, ethylene / 1, as necessary, as long as the characteristics and effects of the present invention are not impaired. -Butene copolymer, ethylene / propylene / nonconjugated diene copolymer, ethylene / ethyl acrylate copolymer, ethylene / glycidyl methacrylate copolymer, ethylene / vinyl acetate / glycidyl methacrylate copolymer and ethylene / propylene -G-Maleic anhydride copolymer, olefin copolymer such as ABS, polyester polyether elastomer, polyester polyester elastomer, vinyl aromatic compound-conjugated diene compound block copolymer, vinyl aromatic compound-conjugated diene compound block Copolymer hydrogenated product), plasticizer (oi , Low molecular weight polyethylene, epoxidized soybean oil, polyethylene glycol, fatty acid esters), flame retardant agents, weathering (light) resistance improvers, various colorants, may be added such as mold release agents.

本発明のフレキシブルプリント基板用フィルムは、上記の樹脂組成を有する熱可塑性のフィルムである。フィルムの厚みは、5〜100μmである。可撓性の観点から、さらに10〜70μmが好ましく、特に20〜60μmが好ましい。
本発明の樹脂組成物は種々の方法で製造することができる。例えば、単軸押出機、二軸押出機、ロール、ニーダー、ブラベンダープラストグラフ、バンバリーミキサー等による加熱溶融混練方法が挙げられるが、中でも二軸押出機を用いた溶融混練方法が最も好ましい。この際の溶融混練温度は特に限定されるものではないが、通常150〜350℃の中から任意に選ぶことができる。
The film for flexible printed circuit boards of this invention is a thermoplastic film which has said resin composition. The thickness of the film is 5 to 100 μm. From the viewpoint of flexibility, the thickness is further preferably 10 to 70 μm, particularly preferably 20 to 60 μm.
The resin composition of the present invention can be produced by various methods. For example, a heat melt kneading method using a single screw extruder, a twin screw extruder, a roll, a kneader, a Brabender plastograph, a Banbury mixer or the like can be mentioned. Among them, a melt kneading method using a twin screw extruder is most preferable. Although the melt kneading temperature in this case is not particularly limited, it can usually be arbitrarily selected from 150 to 350 ° C.

特に、成形プロセスが簡素である観点から、これらの樹脂組成物は熱可塑性樹脂であることが好ましい。成形は、押出フィルム成形により得ることもできるし、本発明の樹脂組成の原料である各成分を押出フィルム成形機に直接投入し、ブレンドとフィルム成形を同時に実施して得ることもできる。
本発明のフレキシブルプリント基板用フィルムは、押出しチューブラー法、場合によってはインフレーション法とも呼ばれる方法にて製造することができる。円筒から出てきたパリソンがすぐに冷却してしまわないように、50〜290℃の温度範囲の中から適宜選択して、パリソンの温度制御することがシート厚みを均一にし、層剥離のないシートを作成する上で極めて重要である。そして本発明のフレキシブルプリント基板用フィルムは、Tダイ押出成形によっても製造することができる。この場合、無延伸のまま用いてもよいし、1軸延伸してもよいし、2軸延伸することによっても得られる。シートの強度、剛性を高めたい場合は、延伸することが効果的である。
In particular, from the viewpoint that the molding process is simple, these resin compositions are preferably thermoplastic resins. Molding can be obtained by extrusion film molding, or can be obtained by directly charging each component, which is a raw material of the resin composition of the present invention, into an extrusion film molding machine and simultaneously performing blending and film molding.
The flexible printed circuit board film of the present invention can be produced by an extrusion tubular method, and in some cases, a method called an inflation method. In order to prevent the parison coming out of the cylinder from being cooled immediately, the temperature of the parison is appropriately selected from the temperature range of 50 to 290 ° C., and the temperature of the parison can be made uniform, and the sheet does not have delamination Is extremely important in creating. And the film for flexible printed circuit boards of this invention can be manufactured also by T-die extrusion molding. In this case, it may be used without stretching, may be uniaxially stretched, or may be obtained by biaxially stretching. Stretching is effective for increasing the strength and rigidity of the sheet.

本発明のフレキシブルプリント基板用フィルムの厚み測定方法は、特に限定されるものではないが、例えば、マイクロゲージによって測定することができる。その厚みは、流動方法及び直角方向に20点以上のポイントを測定し、その平均値で求める。好ましい厚みは、5〜100μmであり、さらに10〜70μmであり、さらには15〜60μm、さらに特には20〜50μmである。5μm未満だとフィルムの取り扱いが容易でなくなり、100μmを越えると可撓性低下のおそれがある。   Although the thickness measuring method of the film for flexible printed circuit boards of this invention is not specifically limited, For example, it can measure with a micro gauge. The thickness is obtained by measuring the flow method and at least 20 points in the direction perpendicular to the average value. The preferred thickness is 5 to 100 μm, further 10 to 70 μm, further 15 to 60 μm, and more particularly 20 to 50 μm. If it is less than 5 μm, handling of the film becomes difficult, and if it exceeds 100 μm, flexibility may be lowered.

本発明のフレキシブルプリント基板回路は、本発明のポリフェニレンエーテル系樹脂を含有する樹脂組成を有するフィルムから得られる。基本構成は、ベースフィルム、銅箔に代表される金属配線、カバーレイフィルムからなり各々の間にエポキシ樹脂接着剤により接着される。その方法として未硬化の接着剤を硬化させる為に、250℃未満、好適には200℃以下、さらに好適には50〜200℃、特に80〜200℃、その中でも特に80〜180℃程度の温度、50kg/cm以下の圧力で0.5〜60分間程度圧着し、フレキシブルプリント基板のライン/スペースを接着剤で埋めて、さらに必要であれば圧力開放下に100〜200℃の温度で、10分〜30時間程度加熱することによって、上記接着剤を硬化させる。さらには複数層にすることによっても本発明のフレキシブルプリント基板回路を得ることができる。 The flexible printed circuit board of the present invention is obtained from a film having a resin composition containing the polyphenylene ether resin of the present invention. The basic structure consists of a base film, a metal wiring typified by copper foil, and a coverlay film, and is bonded to each other with an epoxy resin adhesive. In order to cure the uncured adhesive as the method, the temperature is less than 250 ° C., preferably 200 ° C. or less, more preferably 50 to 200 ° C., particularly 80 to 200 ° C., and particularly about 80 to 180 ° C. , Pressure bonding at a pressure of 50 kg / cm 2 or less for about 0.5 to 60 minutes, filling the line / space of the flexible printed circuit board with an adhesive, and if necessary, at a temperature of 100 to 200 ° C. under pressure release, The adhesive is cured by heating for about 10 minutes to 30 hours. Furthermore, the flexible printed circuit board of the present invention can be obtained by using a plurality of layers.

本発明のポリフェニレンエーテル系樹脂を含有する樹脂組成を有するフィルムをカバーレイフィルムとして用いてもよいし、ベースフィルムとして用いてもよいし、カバーレイフィルムとベースフィルムの両方に用いてもよい。
また上記フレキシブルプリント基板回路を製造する際、離型材料としてプレス板と本発明のフィルムの間に離型フィルムをはさむ。この離型フィルムとして使用可能な材料としては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、4−メチルペンテン−1系樹脂フィルム、シリコーン離型剤付きポリエチレンフィルム、シリコーン離型剤付きポリプロピレンフィルム、ポリエチレン樹脂コート紙、ポリプロピレン樹脂コート紙及び4−メチルペンテン−1系樹脂コート紙などが挙げられ、離型材の厚さは、フィルムベースのもので10〜75μm、紙ベースのもので50〜200μmが好ましいが、必要に応じて適宜の厚さのものが使用される。
次に、実施例および参考例によって本発明を説明する。
A film having a resin composition containing the polyphenylene ether resin of the present invention may be used as a coverlay film, a base film, or both a coverlay film and a base film.
Moreover, when manufacturing the said flexible printed circuit board, a release film is inserted between a press board and the film of this invention as a release material. Materials that can be used as the release film include polyethylene film, polypropylene film, 4-methylpentene-1 resin film, polyethylene film with silicone release agent, polypropylene film with silicone release agent, polyethylene resin-coated paper, polypropylene Examples include resin-coated paper and 4-methylpentene-1-based resin-coated paper. The thickness of the release material is preferably 10 to 75 μm for a film-based material and 50 to 200 μm for a paper-based material. The appropriate thickness is used.
Next, the present invention will be described with reference to examples and reference examples.

本発明を以下、実施例に基づいて説明する。但し本発明はその主旨を越えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
製造例1:ポリフェニレンエーテル(PPE−1)の製造例
2,6−ジメチルフェノールを酸化重合して得た還元粘度0.43のパウダー状のポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)である。
製造例2:液晶ポリエステル(LCP−1)の製造例
窒素雰囲気下において、p−ヒドロキシ安息香酸、2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸、無水酢酸を仕込み、加熱溶融し、重縮合することにより、以下の理論構造式を有する液晶ポリエステル(LCP−1)を得た。なお、組成の成分比はモル比を表す。
The present invention will be described below based on examples. However, the present invention is not limited to the following examples as long as the gist thereof is not exceeded.
Production Example 1: Production Example of Polyphenylene Ether (PPE-1) Powdered poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether) having a reduced viscosity of 0.43 obtained by oxidative polymerization of 2,6-dimethylphenol ).
Production Example 2: Production Example of Liquid Crystalline Polyester (LCP-1) In a nitrogen atmosphere, p-hydroxybenzoic acid, 2-hydroxy-6-naphthoic acid, acetic anhydride was charged, heated and melted, and subjected to polycondensation. A liquid crystal polyester (LCP-1) having the following theoretical structural formula was obtained. In addition, the component ratio of a composition represents molar ratio.

Figure 0004671388
Figure 0004671388

各樹脂組成物のフィルム成形と物性評価及びフレキシブルプリント基板回路を、以下の方法に従って実施した。
(1)Tダイ押出成形
得られたペレットを、シリンダー温度300℃、Tダイ温度300℃に設定したスクリュー径65mmのベント付き単軸押出機を用い、吐出量60kg/hr、Tダイスリットの厚み0.15mm、ダイスリットの幅650mm、圧延ローラ表面温度130℃、厚みが50μmになるように、引き取り速度を制御し、押出フィルム成形を実施した。
Film formation and physical property evaluation of each resin composition and flexible printed circuit board were performed according to the following methods.
(1) T-die extrusion molding The pellet obtained was discharged at a rate of 60 kg / hr and the thickness of the T-die slit using a vented single screw extruder with a screw diameter of 65 mm set at a cylinder temperature of 300 ° C and a T-die temperature of 300 ° C. Extrusion film molding was carried out by controlling the take-up speed so that the thickness was 0.15 mm, the die slit width was 650 mm, the rolling roller surface temperature was 130 ° C., and the thickness was 50 μm.

(2)フレキシブルプリント基板回路の作製
上記(1)で得られたフィルムあるいは市販のフィルムをベースフィルムとし、厚さ20μmのエポキシ系接着剤を介し、厚さ35μm、幅50μmの銅箔が接着された銅張り積層板(ア)を得た。次に厚さ50μmの上記フィルム上に、流動開始温度80℃のエポキシ系接着剤を厚さ20μmで塗布してカバーレイフィルム(イ)を得た。4−メチルペンテン−1系樹脂フィルム(三井化学(株)製、TPX(登録商標)フィルム、MX 004)を離型フィルム(ウ)とした。(イ)のエポキシ系接着剤層が(ア)の銅箔側に接するように、(ウ)、(ア)、(イ)、(ウ)の順にフィルムを重ね、190℃、50kgf/cm、1分間、熱プレスを実施し、フレキシブルプリント基板回路を得た。
(2) Fabrication of flexible printed circuit board Using the film obtained in (1) above or a commercially available film as a base film, a copper foil having a thickness of 35 μm and a width of 50 μm is bonded via an epoxy adhesive having a thickness of 20 μm. A copper-clad laminate (a) was obtained. Next, an epoxy-based adhesive having a flow start temperature of 80 ° C. was applied to the film having a thickness of 50 μm at a thickness of 20 μm to obtain a coverlay film (A). A 4-methylpentene-1 resin film (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., TPX (registered trademark) film, MX 004) was used as a release film (c). The films are stacked in the order of (C), (A), (B), and (C) so that the epoxy adhesive layer of (A) is in contact with the copper foil side of (A), and 190 ° C., 50 kgf / cm 2. A hot press was performed for 1 minute to obtain a flexible printed circuit board.

(3)耐熱性
上記(1)で得られたフィルムを水平に設置し、あらかじめ溶融した約3mm直径の260℃のはんだのかたまりを、フィルム表面から高さ5cmのところから垂直に落とし、はんだ落ち部位を目視で観察し、以下の判断基準で耐熱性を判断した。
○:フィルムに変形が認められなかった。
×:フィルムに変形が認められた。
(3) Heat resistance The film obtained in (1) above is placed horizontally, and a piece of 260 ° C solder with a diameter of about 3 mm that has been previously melted is dropped vertically from a height of 5 cm from the surface of the film. The site was visually observed and the heat resistance was judged according to the following criteria.
○: No deformation was observed in the film.
X: Deformation was observed in the film.

(4)難燃性
上記(1)で得られたフィルムを用い、Underwriters LaboratoriesのUL−94フィルム規格に準じたフィルム形状(筒状)及び炎に調節し、各3枚につき、接炎時間を2秒間、1回実施し、以下の判断基準にて判定した。
○:滴下せず、3枚とも10秒以内に自己消火したもの。
△:1度だけ滴下し自己消火し、残りの2枚は滴下せず、自己消火したもの。
×:燃え続けながら、激しく滴下したものが少なくとも1枚以上あったもの。
(4) Flame retardance Using the film obtained in (1) above, adjusting the film shape (cylindrical shape) and flame according to the UL-94 film standard of Underwriters Laboratories, the flame contact time for each three sheets The test was carried out once for 2 seconds and judged according to the following criteria.
○: No dripping, all 3 sheets self-extinguished within 10 seconds.
Δ: Dropped only once and self-extinguished, the other two sheets were not dripped and self-extinguished.
X: At least one piece dripped vigorously while continuing to burn.

(5)耐屈曲性
上記(1)で得られたフィルムを直径5mmに丸め、1日放置し、フィルムにクラックがあるか否か以下の判定基準にて、判断した。
○:フィルムの流動方向、流動方向に直角方向、ともにクラックがない。
×:フィルムの流動方向、流動方向に直角方向、少なくともどちらかにクラックが認められた場合。
(6)誘電率
上記(1)で得られたフィルムを用い、JIS−K6911規格試験法に準拠し、22℃、60%相対湿度の雰囲気にて、precision LCR meter HP4284A(アジレント・テクノロジー(株)製)装置及び測定用電極 SE-70(安藤電気(株)製)を用いて、周波数が1MHzにおける、誘電率を測定した。
(5) Flexibility The film obtained in the above (1) was rolled to a diameter of 5 mm and allowed to stand for 1 day, and whether or not the film had cracks was judged according to the following criteria.
○: No crack in both the film flow direction and the direction perpendicular to the flow direction.
X: When a crack is observed in at least one of the flow direction of the film and the direction perpendicular to the flow direction.
(6) Dielectric constant Precision LCR meter HP4284A (Agilent Technology Co., Ltd.) in an atmosphere of 22 ° C. and 60% relative humidity in accordance with JIS-K6911 standard test method using the film obtained in (1) above. The dielectric constant at a frequency of 1 MHz was measured using a device) and an electrode for measurement SE-70 (manufactured by Ando Electric Co., Ltd.).

(7)耐吸湿性
上記(2)で得られたフレキシブルプリント基板回路を用い、サイズ100×50mm角に切り取り、恒温恒湿槽(タバイエスペック(株)製、PL−3FP)を用い、85℃、95%相対湿度の加温加湿環境下に、120時間曝した後、以下の式に従って、重量増加率(Δw)を求めた。各2個の回路の平均値をとった。
重量増加率(Δw)(%)=(w1−w0)/w0×100
(w1:加温加湿後の回路重量(g)、w0:加温加湿前に、100℃、2時間熱風乾燥機中にて乾燥し、デシケーター中にて室温まで冷却したフィルム重量(g))
重量増加率(Δw)の値が小さい方が、耐吸湿性に優れることを意味する。
(7) Moisture absorption resistance Using the flexible printed circuit board obtained in (2) above, cut into a size of 100 × 50 mm square, and using a constant temperature and humidity chamber (PL-3FP, manufactured by Tabai Espec Co., Ltd.), 85 ° C. After being exposed to a warm and humid environment with 95% relative humidity for 120 hours, the weight increase rate (Δw) was determined according to the following formula. The average value of each two circuits was taken.
Weight increase rate (Δw) (%) = (w1−w0) / w0 × 100
(W1: circuit weight after heating / humidification (g), w0: film weight (g) dried in a hot air dryer at 100 ° C. for 2 hours and then cooled to room temperature in a desiccator before heating / humidification)
A smaller weight increase rate (Δw) means better moisture absorption resistance.

[実施例1]
ポリフェニレンエーテル(PPE−1)と液晶ポリエステル(LCP−1)と酸化亜鉛(ZnO、銀嶺−A、東邦亜鉛(株)製)を、表1に示す割合(重量部)で、トップフィード側バレル温度のみ250℃、それ以外のバレル温度とダイヘッド温度は全て310℃に設定したベントポート付き二軸押出機(ZSK−25;WERNER&PFLEIDERER社製)を用いて溶融混練し、ペレットとして得た。このペレットを用い、上記(1)に示した方法にて成形し、平均厚み48μmのフィルムを得た。上に示した方法に従って、フレキシブルプリント基板回路を作製し、フィルム及びフレキシブルプリント基板回路の評価を実施した。その結果を表1に示した。
[Example 1]
Top feed side barrel temperature of polyphenylene ether (PPE-1), liquid crystal polyester (LCP-1) and zinc oxide (ZnO, Ginbao-A, manufactured by Toho Zinc Co., Ltd.) in the proportions (parts by weight) shown in Table 1. The mixture was melt-kneaded using a twin-screw extruder with a vent port (ZSK-25; manufactured by WERNER & PFLEDERER) at a temperature of only 250 ° C., and the other barrel temperatures and die head temperatures all set at 310 ° C. to obtain pellets. Using this pellet, it was molded by the method shown in (1) above to obtain a film having an average thickness of 48 μm. According to the method shown above, the flexible printed circuit board was produced and the film and the flexible printed circuit board were evaluated. The results are shown in Table 1.

[実施例2]
ポリフェニレンエーテル(PPE−1)とハイインパクトポリスチレン(A&M(株)製、H9405、表中「HIPS」と略すことがある。)とエラストマー1(旭化成(株)製、タフテック(登録商標)H1051、表中「エラストマー1」と略すことがある。)とエラストマー2(旭化成(株)製、タフテック(登録商標)H1081、表中「エラストマー2」と略すことがある。)を表1に示す割合に配合すること以外は、実施例1と同様に実施し、ペレットを得た後、フィルム成形を実施した。得られたフィルムの平均厚みは、50μmであった。さらに上に示した方法に従って、フレキシブルプリント基板回路を作製し、フィルム及びフレキシブルプリント基板回路の評価を実施した。その結果を表1に示した。
[Example 2]
Polyphenylene ether (PPE-1) and high impact polystyrene (A & M Co., Ltd., H9405, sometimes abbreviated as “HIPS”) and elastomer 1 (Asahi Kasei Co., Ltd., Tuftec (registered trademark) H1051, Table "Elastomer 1" may be abbreviated as "Elastomer 1" and Elastomer 2 (Asahi Kasei Co., Ltd., Tuftec (registered trademark) H1081, may be abbreviated as "Elastomer 2" in the table). Except doing, it carried out similarly to Example 1, and after forming a pellet, film shaping was implemented. The average thickness of the obtained film was 50 μm. Furthermore, according to the method shown above, the flexible printed circuit board was produced and the film and the flexible printed circuit board were evaluated. The results are shown in Table 1.

[実施例3]
(D)成分として、リン酸エステル化合物(大八化学工業(株)製、CR−741)を用い、表1に示す割合に配合したこと以外は、実施例1と同様に実施し、ペレットを得た後、フィルム成形を実施した。得られたフィルムの平均厚みは、51μmであった。さらに上に示した方法に従って、フレキシブルプリント基板回路を作製し、フィルム及びフレキシブルプリント基板回路の評価を実施した。その結果を表1に示した。
[Example 3]
(D) As a component, a phosphoric acid ester compound (made by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd., CR-741) was used, and it was carried out in the same manner as in Example 1 except that it was blended in the proportions shown in Table 1. After being obtained, film forming was performed. The average thickness of the obtained film was 51 μm. Furthermore, according to the method shown above, the flexible printed circuit board was produced and the film and the flexible printed circuit board were evaluated. The results are shown in Table 1.

[比較例1]
ポリフェニレンエーテル(PPE−1)とハイインパクトポリスチレン(A&M(株)製、H9405、表中「HIPS」と略すことがある。)とポリスチレン(A&M(株)製、685、表中「GP」と略すことがある。)を表1に示す割合に配合すること以外は、実施例1と同様に実施し、ペレットを得た後、フィルム成形を実施した。得られたフィルムの平均厚みは、49μmであった。さらに上に示した方法に従って、フレキシブルプリント基板回路を作製し、フィルム及びフレキシブルプリント基板回路の評価を実施した。その結果を表1に示した。
[Comparative Example 1]
Polyphenylene ether (PPE-1) and high impact polystyrene (A & M Co., Ltd., H9405, sometimes abbreviated as “HIPS”) and polystyrene (A & M Co., Ltd., 685, abbreviated as “GP” in the table) Except that it is blended in the proportions shown in Table 1, and the same procedure as in Example 1 was carried out to obtain pellets, followed by film forming. The average thickness of the obtained film was 49 μm. Furthermore, according to the method shown above, the flexible printed circuit board was produced and the film and the flexible printed circuit board were evaluated. The results are shown in Table 1.

[比較例2]
厚さ50μmのポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製:カプトン(登録商標)200H)を用いて、上に示した方法に従って、フレキシブルプリント基板回路を作製し、フィルム及びフレキシブルプリント基板回路の評価を実施した。その結果を表1に示した。
[Comparative Example 2]
Using a polyimide film having a thickness of 50 μm (manufactured by Toray DuPont Co., Ltd .: Kapton (registered trademark) 200H), a flexible printed circuit board was produced according to the method described above, and the film and the flexible printed circuit board were evaluated. . The results are shown in Table 1.

Figure 0004671388
Figure 0004671388

以上のことから、本発明によるポリフェニレンエーテル系樹脂を主成分とする樹脂組成を有するフィルムが、耐熱性、難燃性、耐屈曲性、電気特性、耐吸湿性に優れる、フレキシブルプリント基板用フィルムを与え、かつ得られたフレキシブルプリント基板回路が耐吸湿性に優れ、従って吸水による誘電損失などの少ない回路が得られることがわかる。   From the above, the film having a resin composition mainly composed of the polyphenylene ether resin according to the present invention is excellent in heat resistance, flame retardancy, bending resistance, electrical properties, and moisture absorption resistance. It can be seen that the obtained flexible printed circuit board is excellent in moisture absorption resistance, and therefore a circuit with less dielectric loss due to water absorption can be obtained.

本発明は、耐熱性、難燃性、耐屈曲性、電気特性、耐吸湿性に優れ、かつ安価であるため、高密度実装のフレキシブルプリント基板に好適である。   The present invention is excellent in heat resistance, flame retardancy, flex resistance, electrical properties, moisture absorption resistance and is inexpensive, and is therefore suitable for a flexible printed circuit board with high density mounting.

Claims (8)

(A)ポリフェニレンエ−テル系樹脂を85重量%以上含有する樹脂組成を有する熱可塑性樹脂からなるフレキシブルプリント基板用フィルム。 (A) A film for a flexible printed circuit board comprising a thermoplastic resin having a resin composition containing 85% by weight or more of a polyphenylene ether resin. (A)ポリフェニレンエ−テル系樹脂85〜99.5重量部と、(B)液晶ポリエステル0.5〜15重量部からなる樹脂組成を有する熱可塑性樹脂からなるフレキシブルプリント基板用フィルム。 (A) A film for a flexible printed circuit board comprising a thermoplastic resin having a resin composition comprising 85 to 99.5 parts by weight of a polyphenylene ether resin and 0.5 to 15 parts by weight of (B) a liquid crystal polyester. (A)成分と(B)成分の合計100重量部に対して、(C)I価、II価、III価またはIV価の金属元素を含有する化合物0.1〜10重量部を含有する樹脂組成を有する請求項2に記載のフレキシブルプリント基板用フィルム。   A resin containing 0.1 to 10 parts by weight of a compound containing (C) an I-valent, II-valent, III-valent or IV-valent metal element with respect to a total of 100 parts by weight of the component (A) and the component (B) The film for flexible printed circuit boards of Claim 2 which has a composition. (C)I価、II価、III価またはIV価の金属元素が、Zn元素及び/またはMg元素であることを特徴とする請求項3に記載のフレキシブルプリント基板用フィルム。   4. The flexible printed circuit board film according to claim 3, wherein the metal element of (C) I, II, III, or IV is Zn element and / or Mg element. (A)成分と(B)成分の合計100重量部に対して、(D)難燃剤0.1〜20重量部を含有する樹脂組成を有する請求項2〜4のいずれかに記載のフレキシブルプリント基板用フィルム。   The flexible print according to any one of claims 2 to 4, which has a resin composition containing 0.1 to 20 parts by weight of a flame retardant (D) with respect to 100 parts by weight of the total of the component (A) and the component (B). Film for substrates. (D)難燃剤がリン酸エステル化合物および/またはホスファゼン化合物であることを特徴とする請求項5記載のフレキシブルプリント基板用フィルム。   6. The flexible printed circuit board film according to claim 5, wherein the flame retardant is a phosphate ester compound and / or a phosphazene compound. 平均厚みが5〜100μmである請求項1〜のいずれかに記載のフレキシブルプリント基板用フィルム。 The film for flexible printed circuit boards according to any one of claims 1 to 6 , having an average thickness of 5 to 100 µm. 請求項1〜のいずれかに記載のフレキシブルプリント基板用フィルムからなるフレキシブルプリント基板回路。 Flexible printed board circuit consisting of a flexible printed circuit board film according to any one of claims 1-7.
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