JP2010046914A - Laminate and method of manufacturing the same - Google Patents

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Hiroshi Kamo
弘 加茂
Daisuke Matsuide
大祐 松出
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Asahi Kasei Chemicals Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate suitable for printed wiring substrate, and excellent in low water absorption properties, soldering heat resistance after moisture absorption, soldering heat resistance, electric characteristics, coefficient of linear expansion, property of having no air bubble, peeling strength to copper foil, and presentable appearance. <P>SOLUTION: The laminate is composed of (A) a thermoplastic resin composition containing not less than 80 mass% of polyphenylene ether and (B) a fibrous glass material. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、低吸水性、電気特性、低線膨張係数、銅箔ピール強度、外観に優れた、熱可塑性樹脂組成物とガラス繊維織物との積層体に関する。特に、電気特性と低線膨張係数と銅箔ピール強度に優れた、熱可塑性ポリフェニレンエーテルを含有する樹脂組成物とガラス繊維織物との積層体に関する。   The present invention relates to a laminate of a thermoplastic resin composition and a glass fiber fabric excellent in low water absorption, electrical characteristics, low linear expansion coefficient, copper foil peel strength, and appearance. In particular, the present invention relates to a laminate of a resin composition containing a thermoplastic polyphenylene ether and a glass fiber fabric excellent in electrical characteristics, a low linear expansion coefficient, and a copper foil peel strength.

近年、電子機器の小型化、薄型化、軽量化、高機能化が進展する中で電子機器を構成す
る各種電子部品の小型化や薄型化等と共に、これら電子部品が実装されるプリント配線基
板に関しても高密度実装を可能とする様々な技術開発が盛んである。従ってプリント配線基板等の電子材料用フイルムに求められる特性は従来より高度なものとなり、従来のエポキシ樹脂積層板では、電気特性、耐熱性、寸法安定性(低線膨張係数)、低吸水性に関する要求特性を満足させるのは困難になってきている。
この問題を解決する新しいプリント配線基板材料の候補として電気特性、耐熱性や低吸水性、難燃性に優れたポリフェニレンエーテルが挙げられる。
In recent years, as electronic devices have become smaller, thinner, lighter, and more advanced, various electronic components that make up electronic devices have become smaller and thinner, and printed circuit boards on which these electronic components are mounted In addition, various technological developments that enable high-density mounting are also active. Therefore, the characteristics required for films for electronic materials such as printed wiring boards are higher than before, and conventional epoxy resin laminates are related to electrical characteristics, heat resistance, dimensional stability (low linear expansion coefficient), and low water absorption. It has become difficult to satisfy the required characteristics.
A candidate for a new printed wiring board material that solves this problem is polyphenylene ether excellent in electrical characteristics, heat resistance, low water absorption, and flame retardancy.

これまで、ポリフェニレンエーテルを硬化樹脂の一成分として、積層板に適用する検討が多くなされてきた。たとえば、ポリフェニレンエーテルとトリアリルイソシアヌレートとエポキシ樹脂とアリルグリシジルエーテルからなる組成物を溶剤に溶解し、ガラス繊維織物に含浸させ、加熱により、熱硬化型の組成物をえる技術(特許文献1)や、ポリフェニレンエーテルとトリアリルイソシアヌレートとアリルアルコールからなる組成物を溶剤に溶解し、ガラス繊維織物に含浸させ、加熱により、熱硬化型の組成物をえる技術(特許文献2)が提案されてきた。しかし、これらはいずれも熱硬化樹脂となり、製品をリサイクルする、という観点において、不適であった。また、多くの付加的成分を含有するため、電気特性や吸水性など、十分にポリフェニレンエーテル本来の特性を生かしたプリント配線板用の積層板とは言えない。   So far, many studies have been made on applying polyphenylene ether as a component of a cured resin to a laminate. For example, a technique in which a composition comprising polyphenylene ether, triallyl isocyanurate, epoxy resin and allyl glycidyl ether is dissolved in a solvent, impregnated into a glass fiber fabric, and heated to obtain a thermosetting composition (Patent Document 1) In addition, a technique (Patent Document 2) has been proposed in which a composition comprising polyphenylene ether, triallyl isocyanurate, and allyl alcohol is dissolved in a solvent, impregnated into a glass fiber fabric, and a thermosetting composition is obtained by heating. It was. However, these are all unsuitable from the viewpoint of becoming a thermosetting resin and recycling the product. Moreover, since it contains many additional components, it cannot be said that it is a laminated board for printed wiring boards that sufficiently utilizes the original characteristics of polyphenylene ether, such as electrical characteristics and water absorption.

また、ガラス繊維織物と積層する材料として、熱硬化性樹脂の使用とともに、熱可塑性樹脂の使用も併せて提案されていたが、ポリフェニレンエーテルの比率についての示唆も、具体的開示もなく、やはりポリフェニレンエーテル本来の特性を十分に生かしたプリント配線板用の積層板とは言えない。(特許文献3)
また、ガラス繊維織物と積層する材料として、熱可塑性樹脂として、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド(PEI)、液晶ポリマー(LCP)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリフェニレンエーテル(PPE)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、シンジオタクチック構造を有するスチレン系樹脂が提案されているが、やはり、ポリフェニレンエーテルについての、具体的な含有比率の示唆もなく、具体的な開示もない。吸水率についても十分とはいえない。(特許文献4)
液晶ポリマー(LCP)も、耐熱、難燃性、電気特性に優れる樹脂であるが、高価で、異方性が大きい欠点があった。また異方性を緩和するために、フィルムを成形する際、種々の工夫がなされるが、いずれも、樹脂製フィルムを得るためにコストアップにつながるものであった。
In addition, the use of a thermosetting resin as well as the use of a thermoplastic resin as a material to be laminated with a glass fiber fabric has been proposed. However, there is no suggestion about the proportion of polyphenylene ether, and there is no specific disclosure. It cannot be said that it is a laminated board for printed wiring boards that fully utilizes the inherent properties of ether. (Patent Document 3)
In addition, as a material laminated with glass fiber fabric, as a thermoplastic resin, polyether ether ketone (PEEK), polyether imide (PEI), liquid crystal polymer (LCP), polyether sulfone (PES), polyphenylene ether (PPE) Polystyrene naphthalate (PEN) and a styrene resin having a syndiotactic structure have been proposed, but there is no suggestion of a specific content ratio and no specific disclosure of polyphenylene ether. The water absorption rate is not sufficient. (Patent Document 4)
Liquid crystal polymer (LCP) is also a resin excellent in heat resistance, flame retardancy, and electrical properties, but has a drawback of being expensive and having large anisotropy. In order to alleviate the anisotropy, various measures are taken when forming the film, but all of them lead to an increase in cost in order to obtain a resin film.

一般的に、ポリフェニレンエーテル自体は、銅箔との密着力が十分とはいえない。したがって、接着剤を用いたり、銅箔表面を粗くするなどの検討がなされているが、接着剤を用いれば、電気特性(低誘電率、低誘電正接)の低下を招く。一方、銅箔の表面が粗くなると、高周波になるとともに、電気信号が導体を通過する際、損失や誤作動の原因を招くもととなる。したがって、接着剤を用いず、また銅箔表面粗度が小さい状態での、ポリフェニレンエーテルと銅箔との高い密着力を付与する技術が待望されていた。
特開平6−32875号公報 特開平6−206955号公報 特開平11−158771号公報 特開2008−141008号公報
Generally, polyphenylene ether itself cannot be said to have sufficient adhesion with copper foil. Therefore, studies have been made on using an adhesive or roughening the surface of the copper foil. However, using an adhesive causes a decrease in electrical characteristics (low dielectric constant, low dielectric loss tangent). On the other hand, when the surface of the copper foil becomes rough, the frequency becomes high, and when an electric signal passes through the conductor, it causes a loss and a malfunction. Therefore, there has been a demand for a technique that gives high adhesion between polyphenylene ether and copper foil without using an adhesive and having a low copper foil surface roughness.
JP-A-6-32875 JP-A-6-206955 Japanese Patent Laid-Open No. 11-158771 JP 2008-141008 A

本発明の課題は、プリント配線基板に好適であり、上述した技術では達成し得なかった、低吸水、吸湿後はんだ耐熱、はんだ耐熱、電気特性、線膨張係数、気泡レス、銅箔とのピール強度、外観に優れた、積層体を提供することである。   The object of the present invention is suitable for a printed wiring board, and has not been able to be achieved by the above-described technique, low water absorption, solder heat resistance after moisture absorption, solder heat resistance, electrical characteristics, coefficient of linear expansion, no bubble, and peel with copper foil It is to provide a laminate having excellent strength and appearance.

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、特定のポリフェニレンエーテルを特定量樹脂組成物に含有することにより、低吸水、吸湿後はんだ耐熱、はんだ耐熱、電気特性、線膨張係数、気泡レス、銅箔とのピール強度、外観に優れた積層体が得られることを見いだし、本発明に到達した。
次に、本発明の理解を容易にするために、本発明の基本的特徴及び好ましい諸態様を列挙する。
(1)(A)ポリフェニレンエーテルを80質量%以上含有する熱可塑性樹脂組成物と(B)ガラス繊維織物からなる積層体。
(2)積層体中のポリフェニレンエーテルが、フェノール性水酸基をフェニレンエーテルユニットの100個に対して0.9個以上含有する上記1に記載の積層体。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have included a specific amount of polyphenylene ether in a specific amount of resin composition, so that low water absorption, moisture absorption after moisture absorption, solder heat resistance, electrical characteristics, wire The inventors have found that a laminate having excellent expansion coefficient, no bubbles, peel strength with copper foil, and appearance can be obtained, and the present invention has been achieved.
Next, in order to facilitate understanding of the present invention, basic features and preferred embodiments of the present invention will be listed.
(1) A laminate comprising (A) a thermoplastic resin composition containing 80% by mass or more of polyphenylene ether and (B) a glass fiber fabric.
(2) The laminate according to 1 above, wherein the polyphenylene ether in the laminate contains 0.9 or more phenolic hydroxyl groups per 100 phenylene ether units.

(3)(C)(A)以外の熱可塑性樹脂が、芳香族ビニル化合物重合体、芳香族ビニル化合物共重合体、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアミド6、ポリアミド66、ポリアミド66/6、芳香族環含有ポリアミド、脂肪族環含有ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォンから選ばれる1種以上であり、樹脂組成物が(A)と(C)の合計100質量部に対し、(C)を20質量部以下含有する、上記1または2のいずれかに記載の積層体。
(4)(C)成分が液晶ポリマー及び/または芳香族ビニル−マレイミド系共重合体である、上記3に記載の積層体。
(5)樹脂組成物が、(A)と(C)の合計100質量部に対し、(D)Zn元素及び/またはMg元素を含有する化合物を3質量部以下含有する、上記1〜4のいずれかに記載の積層体。
(3) (C) A thermoplastic resin other than (A) is an aromatic vinyl compound polymer, an aromatic vinyl compound copolymer, polypropylene, polyethylene, polyamide 6, polyamide 66, polyamide 66/6, containing an aromatic ring It is at least one selected from polyamide, aliphatic ring-containing polyamide, polyphenylene sulfide, liquid crystal polymer, polyether ether ketone, polyarylate, polyether sulfone, polysulfone, and the resin composition is the sum of (A) and (C) The laminated body in any one of said 1 or 2 which contains 20 mass parts or less of (C) with respect to 100 mass parts.
(4) The laminate according to 3 above, wherein the component (C) is a liquid crystal polymer and / or an aromatic vinyl-maleimide copolymer.
(5) The resin composition according to the above 1-4, wherein the resin composition contains 3 parts by mass or less of a compound containing (D) Zn element and / or Mg element with respect to a total of 100 parts by mass of (A) and (C). The laminated body in any one.

(6)樹脂組成物が、(A)と(C)の合計100質量部に対し、(E)ホスフィン酸塩1〜10質量部含有する、上記1〜5のいずれかに記載の積層体。
(7)銅がさらに張り合わされた、上記1〜6のいずれかに記載の積層体。
(8)ガラス繊維織物が2層以上からなる上記1〜7のいずれかに記載の多層積層体。
(9)熱可塑性樹脂組成物製フィルムとガラス繊維織物を、240℃以上340℃以下の温度にて、かつ1MPa〜40MPaの圧力にて、熱プレス成形する、上記1〜8に記載の積層体の製造方法。
(10)30kPa以下の真空状態にて熱プレス成形する、上記9に記載の製造方法。
(11)熱可塑性樹脂組成物を予め、良溶媒に溶解し、溶液をガラス繊維織物に含浸させた後、加熱及び/または減圧により、溶媒を留去する、上記1〜6に記載の積層体の製造方法。
(6) The laminate according to any one of (1) to (5) above, wherein the resin composition contains 1 to 10 parts by mass of (E) phosphinic acid salt with respect to 100 parts by mass in total of (A) and (C).
(7) The laminate according to any one of the above 1 to 6, wherein copper is further bonded.
(8) The multilayer laminate according to any one of 1 to 7 above, wherein the glass fiber fabric is composed of two or more layers.
(9) The laminate according to any one of 1 to 8 above, wherein the thermoplastic resin composition film and the glass fiber fabric are hot press molded at a temperature of 240 ° C. or higher and 340 ° C. or lower and at a pressure of 1 MPa to 40 MPa. Manufacturing method.
(10) The manufacturing method according to 9 above, wherein hot press molding is performed in a vacuum state of 30 kPa or less.
(11) The laminate according to any one of 1 to 6 above, wherein the thermoplastic resin composition is dissolved in a good solvent in advance and the glass fiber fabric is impregnated with the solution, and then the solvent is distilled off by heating and / or decompression. Manufacturing method.

(12)上記11で得られた積層体と、さらに銅箔と張り合わせるために、240℃以上340℃以下の温度にて、かつ1MPa〜40MPaの圧力にて、熱プレス成形する積層体の製造方法。
(13)ロールトウロールにより連続成形する、上記9〜12に記載の製造方法。
(14)上記1〜8のいずれかに記載の積層体を用いる、電気回路基板。
(15)上記1〜8のいずれかに記載の積層体を用いる、層間絶縁膜。
(16)上記1〜8のいずれかに記載の積層体を用いる、フレキシブル回路基板。
(17)上記1〜8のいずれかに記載の積層体を用いる、リジッド回路基板。
(18)上記1〜8のいずれかに記載の積層体を用いる、ビルドアップ用多層回路基板。
(12) Manufacture of a laminate to be hot press-molded at a temperature of 240 ° C. or higher and 340 ° C. or lower and a pressure of 1 MPa to 40 MPa in order to bond the laminate obtained in 11 above to a copper foil. Method.
(13) The production method according to the above 9 to 12, wherein continuous forming is performed with a roll tow roll.
(14) An electric circuit board using the laminate according to any one of 1 to 8 above.
(15) An interlayer insulating film using the laminate according to any one of 1 to 8 above.
(16) A flexible circuit board using the laminate according to any one of 1 to 8 above.
(17) A rigid circuit board using the laminate according to any one of 1 to 8 above.
(18) A multilayer circuit board for build-up using the laminate according to any one of 1 to 8 above.

プリント配線基板に好適で、低吸水、吸湿後はんだ耐熱、はんだ耐熱、電気特性、線膨張係数、気泡レス、銅箔とのピール強度、外観に優れた、積層体を提供することができる。   It is suitable for a printed wiring board, and can provide a laminate having low water absorption, solder heat resistance after moisture absorption, solder heat resistance, electrical characteristics, linear expansion coefficient, no bubble, peel strength with copper foil, and excellent appearance.

次に本発明で使用することのできる各成分について詳しく述べる。
(A)成分のポリフェニレンエーテルとは、式(1)の構造単位からなる、ホモ重合体及び/または共重合体である。
Next, each component that can be used in the present invention will be described in detail.
The polyphenylene ether of component (A) is a homopolymer and / or copolymer composed of the structural unit of the formula (1).

Figure 2010046914
Figure 2010046914

〔式中、Oは酸素原子、Rは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、第一級もしくは第二級の低級アルキル、フェニル、ハロアルキル、アミノアルキル、炭化水素オキシ、又はハロ炭化水素オキシ(但し、少なくとも2個の炭素原子がハロゲン原子と酸素原子を隔てている)を表わす。〕 [Wherein O is an oxygen atom, R is independently hydrogen, halogen, primary or secondary lower alkyl, phenyl, haloalkyl, aminoalkyl, hydrocarbonoxy, or halohydrocarbonoxy (provided that At least two carbon atoms separating the halogen atom and the oxygen atom). ]

本発明のポリフェニレンエーテルの具体的な例としては、例えば、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2−メチル−6−フェニル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2,6−ジクロロ−1,4−フェニレンエーテル)等が挙げられ、さらに2,6−ジメチルフェノールと他のフェノール類との共重合体(例えば、特公昭52−17880号公報に記載されてあるような2,3,6−トリメチルフェノールとの共重合体や2−メチル−6−ブチルフェノールとの共重合体)のごときポリフェニレンエーテル共重合体も挙げられる。ポリフェニレンエーテルとして2,6−ジメチルフェノールと2,3,6−トリメチルフェノールとの共重合体を使用する場合の各単量体ユニットの比率は、ポリフェニレンエーテル共重合体全量を100質量%としたときに、60〜90質量%の2,6−ジメチルフェノールと、10〜40質量%の2,3,6−トリメチルフェノールからなる共重合体が好ましい。2,3,6−トリメチルフェノールの割合が耐熱性の観点から10質量%以上であり、重合度の観点から40質量%以下である。より好ましくは、60〜85質量%の2,6−ジメチルフェノールと、15〜40質量%の2,3,6−トリメチルフェノールからなる共重合体がより好ましく、70〜85質量%の2,6−ジメチルフェノールと、15〜30質量%の2,3,6−トリメチルフェノールからなる共重合体がさらに好ましい。   Specific examples of the polyphenylene ether of the present invention include, for example, poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether), poly (2-methyl-6-ethyl-1,4-phenylene ether), poly (2-methyl-6-phenyl-1,4-phenylene ether), poly (2,6-dichloro-1,4-phenylene ether) and the like, and 2,6-dimethylphenol and other phenols (For example, a copolymer with 2,3,6-trimethylphenol or a copolymer with 2-methyl-6-butylphenol as described in JP-B-52-17880) Polyphenylene ether copolymers may also be mentioned. When using a copolymer of 2,6-dimethylphenol and 2,3,6-trimethylphenol as polyphenylene ether, the ratio of each monomer unit is based on the total amount of polyphenylene ether copolymer being 100% by mass. Further, a copolymer composed of 60 to 90% by mass of 2,6-dimethylphenol and 10 to 40% by mass of 2,3,6-trimethylphenol is preferable. The ratio of 2,3,6-trimethylphenol is 10% by mass or more from the viewpoint of heat resistance, and 40% by mass or less from the viewpoint of the degree of polymerization. More preferably, a copolymer comprising 60 to 85% by mass of 2,6-dimethylphenol and 15 to 40% by mass of 2,3,6-trimethylphenol is more preferable, and 70 to 85% by mass of 2,6 More preferred is a copolymer comprising dimethylphenol and 15 to 30% by mass of 2,3,6-trimethylphenol.

これらの中でも特に好ましいポリフェニレンエーテルとしては、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)、2,6−ジメチルフェノールと2,3,6−トリメチルフェノールとの共重合体、またはこれらの混合物である。
本発明で使用することのできるポリフェニレンエーテルの還元粘度(ηsp/c:0.5g/dl、クロロホルム溶液、30℃測定)は、0.15〜0.70dl/gの範囲であることが好ましく、さらに好ましくは0.20〜0.60dl/gの範囲、より好ましくは0.40〜0.55dl/gの範囲である。
本発明においては、2種以上の還元粘度の異なるポリフェニレンエーテルをブレンドしたものであっても構わない。例えば、還元粘度0.45dl/g以下のポリフェニレンエーテルと還元粘度0.50dl/g以上のポリフェニレンエーテルの混合物、還元粘度0.40dl/g以下の低分子量ポリフェニレンエーテルと還元粘度0.50dl/g以上のポリフェニレンエーテルの混合物等が挙げられるが、もちろん、これらに限定されることはない。
Among these, particularly preferred polyphenylene ethers include poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether), a copolymer of 2,6-dimethylphenol and 2,3,6-trimethylphenol, or these It is a mixture.
The reduced viscosity (η sp / c : 0.5 g / dl, chloroform solution, measured at 30 ° C.) of the polyphenylene ether that can be used in the present invention is preferably in the range of 0.15 to 0.70 dl / g. More preferably, it is in the range of 0.20 to 0.60 dl / g, more preferably in the range of 0.40 to 0.55 dl / g.
In the present invention, two or more polyphenylene ethers having different reduced viscosities may be blended. For example, a mixture of a polyphenylene ether having a reduced viscosity of 0.45 dl / g or less and a polyphenylene ether having a reduced viscosity of 0.50 dl / g or more, a low molecular weight polyphenylene ether having a reduced viscosity of 0.40 dl / g or less, and a reduced viscosity of 0.50 dl / g or more. A mixture of polyphenylene ethers, etc., of course, is, of course, not limited to these.

熱可塑性樹脂組成物中のポリフェニレンエーテルが、フェノール性水酸基をフェニレンエーテルユニットの100個に対して0.9個以上含有することが好ましい。この値が、大きければ大きいほど、銅箔とのピール強度が優れる。この観点から、この値は、0.90個以上が好ましく、さらに1.10個以上が好ましく、とくにより好ましくは、1.70個以上が好ましい。
このフェノール性水酸基は、EHUD SH CHORI等の方法(ジャーナル・オブ・アプライド・ポリマーズ・サイエンス;アプライド・ポリマー・シンポジウム、34、103〜117頁、(1978)に記載)に従って定量される。すなわち、測定試料として、1)組成物の原料である生のポリフェニレンエーテルの場合は、パウダーの状態のまま、2)熱可塑性樹脂組成物が、押出時に得られたストランドあるいはペレット、3)溶融成形されたフィルム、4)ガラス繊維との積層体、5)銅箔と積層して得られた積層体の場合は、銅箔をエッチング液にてエッチング後、1)はそのまま、以下の秤量(W(mg))に供し、2)〜5)の場合は、試料をまず30℃のクロロホルムに溶解し、不溶分を取り除き、溶液を大量のメタノールに注入する(再沈殿)ことにより、粉末を得、乾燥させる。ついで、塩化メチレンに加温しながら溶解させ、冷凍庫内(−5℃)に一晩静置することにより、析出物を得、これをろ過し、析出物を冷塩化メチレンにて洗浄した後、メタノールで洗浄し、140℃にて1時間真空乾燥することによりポリフェニレンエーテルを得る。このポリフェニレンエーテルを正確に秤量し(W(mg))、25mlの塩化メチレンに溶解し、10重量%濃度のテトラエチルアンモニウムヒドロキサイドのエタノール溶液を20μlを加え、UV分光光度計(日立(株)社製、U−3210)を用いて、318nmの吸光度(Abs)を測定し、次の式に基づいて算出できる。
The polyphenylene ether in the thermoplastic resin composition preferably contains 0.9 or more phenolic hydroxyl groups per 100 phenylene ether units. The greater this value, the better the peel strength with the copper foil. In this respect, the value is preferably 0.90 or more, more preferably 1.10 or more, and particularly preferably 1.70 or more.
This phenolic hydroxyl group is quantified according to a method such as EHUD SH CHORI (Journal of Applied Polymers Science; Applied Polymer Symposium, 34, pages 103 to 117, (1978)). That is, as a measurement sample, 1) In the case of raw polyphenylene ether which is a raw material of the composition, 2) The thermoplastic resin composition is a strand or pellet obtained at the time of extrusion, 3) Melt molding 4) Laminated body with glass fiber, 5) In the case of a laminated body obtained by laminating with copper foil, after etching the copper foil with an etching solution, 1) as it is, the following weighing (W In the case of 2) to 5), the sample is first dissolved in chloroform at 30 ° C., the insoluble matter is removed, and the solution is poured into a large amount of methanol (reprecipitation) to obtain a powder. ,dry. Next, the sample was dissolved in methylene chloride while heating and left standing overnight in a freezer (−5 ° C.) to obtain a precipitate, which was filtered and washed with cold methylene chloride. The polyphenylene ether is obtained by washing with methanol and vacuum drying at 140 ° C. for 1 hour. This polyphenylene ether was accurately weighed (W (mg)), dissolved in 25 ml of methylene chloride, added with 20 μl of 10 wt% ethanol solution of tetraethylammonium hydroxide, and UV spectrophotometer (Hitachi Co., Ltd.). The absorbance (Abs) at 318 nm is measured using U-3210), and can be calculated based on the following equation.

n(OH)=63.9×(Abs)/(W)
(ただし、n(OH):フェニレンエーテルユニットの100個に対してのフェノール性水酸基の個数)
n (OH) = 63.9 × (Abs) / (W)
(However, n (OH): Number of phenolic hydroxyl groups per 100 phenylene ether units)

ポリフェニレンエーテルの製造方法は公知の方法で得られるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、フェノール性化合物を直接酸化重合する方法、フェノール性化合物を超臨界での炭酸ガスを溶媒として用い酸化重合する方法、フェノール性化合物を良溶媒、及び/または貧溶媒からなる混合溶媒中で酸化重合する方法等により得られる。混合溶媒中で酸化重合する方法においては、良溶媒と貧溶媒の比率を選ぶことによって、重合終結時も反応溶媒中にポリフェニレンエーテルが溶解した状態の溶液重合にもなるし、貧溶媒の比率を大きくすることで反応の進行とともに重合体が反応溶媒中に溶解しきれなくなり粒子として析出する沈殿析出重合にもなる。ここでいう良溶媒とは、従来既知の方法で得られるポリ(2,6−ジメチルフェニレン)エーテルを溶解できる溶媒であり、貧溶媒とは従来既知の方法で得られるポリ(2,6−ジメチルフェニレン)エーテルを全く溶解しないか、ほとんど溶解しない溶媒である。   The method for producing polyphenylene ether is not particularly limited as long as it can be obtained by a known method. For example, a method in which a phenolic compound is directly oxidatively polymerized, and a phenolic compound is used as a solvent using supercritical carbon dioxide. It can be obtained by a method of oxidative polymerization, a method of oxidative polymerization of a phenolic compound in a mixed solvent composed of a good solvent and / or a poor solvent. In the method of oxidative polymerization in a mixed solvent, by selecting the ratio of a good solvent and a poor solvent, solution polymerization in a state in which polyphenylene ether is dissolved in the reaction solvent can be achieved even at the end of polymerization, and the ratio of the poor solvent can be reduced. Increasing the size also leads to precipitation precipitation polymerization in which the polymer cannot be completely dissolved in the reaction solvent as the reaction proceeds and precipitates as particles. The good solvent here is a solvent that can dissolve poly (2,6-dimethylphenylene) ether obtained by a conventionally known method, and the poor solvent is a poly (2,6-dimethyl) obtained by a conventionally known method. (Phenylene) ether is a solvent that does not dissolve at all or hardly dissolves.

また、本発明で使用できるポリフェニレンエーテルは、全部又は一部が官能化されたポリフェニレンエーテルであっても構わない。
ここでいう官能化されたポリフェニレンエーテルとは、分子構造内に少なくとも1個の炭素−炭素二重結合または、三重結合及び少なくとも1個のカルボン酸基、酸無水物基、アミノ基、水酸基、又はグリシジル基を有する、少なくとも1種の官能化化合物、又はエポキシ樹脂で官能化されたポリフェニレンエーテルを指す。
該官能化されたポリフェニレンエーテルの製法としては、(1)ラジカル開始剤の存在下、非存在下で100℃以上、ポリフェニレンエーテルのガラス転移温度未満の範囲の温度でポリフェニレンエーテルを溶融させることなく官能化化合物と反応させる方法、(2)ラジカル開始剤の存在下、非存在下でポリフェニレンエーテルのガラス転移温度以上360℃以下の範囲の温度で官能化化合物と溶融混練し反応させる方法、(3)ラジカル開始剤の存在下、非存在下でポリフェニレンエーテルのガラス転移温度未満の温度で、ポリフェニレンエーテルと官能化化合物を溶液中で反応させる方法等が挙げられ、これらいずれの方法でも構わない。
Further, the polyphenylene ether that can be used in the present invention may be a polyphenylene ether functionalized in whole or in part.
The functionalized polyphenylene ether as used herein means at least one carbon-carbon double bond or triple bond and at least one carboxylic acid group, acid anhydride group, amino group, hydroxyl group in the molecular structure, or It refers to at least one functionalized compound having a glycidyl group, or a polyphenylene ether functionalized with an epoxy resin.
The method for producing the functionalized polyphenylene ether is as follows: (1) in the presence or absence of a radical initiator, at a temperature in the range of 100 ° C. or higher and lower than the glass transition temperature of the polyphenylene ether without melting the polyphenylene ether. A method of reacting with a functionalized compound, (2) a method of reacting by melting and kneading with a functionalized compound at a temperature in the range of the glass transition temperature of polyphenylene ether to 360 ° C. in the presence or absence of a radical initiator, (3) Examples include a method of reacting polyphenylene ether and a functionalized compound in a solution at a temperature lower than the glass transition temperature of polyphenylene ether in the presence or absence of a radical initiator, and any of these methods may be used.

次に分子構造内に少なくとも1個の炭素−炭素二重結合または、三重結合及び少なくとも1個のカルボン酸基、酸無水物基、アミノ基、水酸基、又はグリシジル基を有する少なくとも1種の官能化化合物について具体的に説明する。
分子内に炭素−炭素二重結合とカルボン酸基、酸無水物基を同時に有する官能化化合物としては、マレイン酸、フマル酸、クロロマレイン酸、シス−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸及びこれらの酸無水物などが挙げられる。特にフマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸が良好で、フマル酸、無水マレイン酸が特に好ましい。
また、これら不飽和ジカルボン酸のカルボキシル基の、1個または2個のカルボキシル基がエステルになっているものも使用可能である。
Next, at least one functionalization having at least one carbon-carbon double bond or triple bond and at least one carboxylic acid group, acid anhydride group, amino group, hydroxyl group, or glycidyl group in the molecular structure The compound will be specifically described.
Examples of functionalized compounds having a carbon-carbon double bond, a carboxylic acid group, and an acid anhydride group in the molecule include maleic acid, fumaric acid, chloromaleic acid, cis-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, and These acid anhydrides are mentioned. Fumaric acid, maleic acid, and maleic anhydride are particularly preferable, and fumaric acid and maleic anhydride are particularly preferable.
In addition, those in which one or two of the carboxyl groups of the unsaturated dicarboxylic acid are esters can be used.

分子内に炭素−炭素二重結合とグリシジル基を同時に有する官能化化合物としては、アリルグリシジルエーテル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタアクリレート、エポキシ化天然油脂等が挙げられる。
これらの中でグリシジルアクリレート、グリシジルメタアクリレートが特に好ましい。
分子内に炭素−炭素二重結合と水酸基を同時に有する官能化化合物としては、アリルアルコール、4−ペンテン−1−オール、1,4−ペンタジエン−3−オールなどの一般式C2n−3OH(nは正の整数)の不飽和アルコール、一般式C2n−5OH、C2n−7OH(nは正の整数)等の不飽和アルコール等が挙げられる。
Examples of the functionalized compound having a carbon-carbon double bond and a glycidyl group in the molecule include allyl glycidyl ether, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and epoxidized natural oil.
Among these, glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate are particularly preferable.
Examples of the functionalized compound having both a carbon-carbon double bond and a hydroxyl group in the molecule include general formulas C n H 2n-3 such as allyl alcohol, 4-penten-1-ol, and 1,4-pentadien-3-ol. Examples thereof include unsaturated alcohols of OH (n is a positive integer), general alcohols such as C n H 2n-5 OH, C n H 2n-7 OH (n is a positive integer), and the like.

エポキシ樹脂としては、ブタンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、1,3−ジグリシジルヒダントレイン、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン等が挙げられ、中でも、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。
上述した官能化化合物は、それぞれ単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
As the epoxy resin, butanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, triglycidyl isocyanurate, 1,3-diglycidyl hydantrain, bisphenol A type epoxy resin, Examples include cresol novolac type epoxy resins, ethylene glycol diglycidyl ether, diglycidyl aniline, and the like. Among them, bisphenol A type epoxy resins and cresol novolac type epoxy resins are preferable.
The functionalized compounds described above may be used alone or in combination of two or more.

官能化されたポリフェニレンエーテルを製造する際の官能化化合物の添加量は、ポリフェニレンエーテル100質量部に対して0.1〜30質量部が好ましい。
ラジカル開始剤を用いて官能化されたポリフェニレンエーテルを製造する際の好ましいラジカル開始剤の量は、ポリフェニレンエーテル100質量部に対して0.001〜1質量部である。
また、官能化されたポリフェニレンエーテル中の官能化化合物の付加率は、0.01〜30質量%が好ましい。より好ましくは0.1〜20質量%である。さらにより好ましくは、0.1〜10質量%である。
該官能化されたポリフェニレンエーテル中には、未反応の官能化化合物及び/または、官能化化合物の重合体が残存していても構わない。
更に、ポリフェニレンエーテルに添加することが可能な公知の添加剤等もポリフェニレンエーテル100質量部に対して10質量部未満の量で添加しても構わない。
電気特性と吸水率の観点から、樹脂組成物中の(A)の含有量は、80質量%以上、好ましくは85質量%以上、より好ましくは90質量%以上である。
The addition amount of the functionalized compound in producing the functionalized polyphenylene ether is preferably 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyphenylene ether.
A preferable amount of the radical initiator when producing the functionalized polyphenylene ether using the radical initiator is 0.001 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the polyphenylene ether.
The addition rate of the functionalized compound in the functionalized polyphenylene ether is preferably 0.01 to 30% by mass. More preferably, it is 0.1-20 mass%. Even more preferably, it is 0.1 to 10% by mass.
In the functionalized polyphenylene ether, an unreacted functional compound and / or a polymer of the functional compound may remain.
Furthermore, you may add the well-known additive etc. which can be added to polyphenylene ether in the quantity of less than 10 mass parts with respect to 100 mass parts of polyphenylene ether.
From the viewpoint of electrical characteristics and water absorption, the content of (A) in the resin composition is 80% by mass or more, preferably 85% by mass or more, and more preferably 90% by mass or more.

(B)ガラス繊維織物とは、Eガラス、Cガラス、Dガラス、Sガラス等のいずれのガラス繊維織物でも良い。また、ガラス繊維織物としては、織り密度は10〜200本/25mm、好ましくは15〜100本/25mmであり、質量は5〜400g/m、好ましくは8〜300g/mであり、織り方は平織り、朱子織り、綾織り、ななこ織り等が使用できる。また、たて糸とよこ糸の双方または一方がテクスチャード加工を施されたガラス糸で製織されたガラス繊維織物であっても良い。また、製織に必要な集束剤が付着している段階のガラス繊維織物や集束剤を除去した段階のガラス繊維織物、あるいは公知の表面処理法でシランカップリング剤などが既に処理されている段階のガラス繊維織物のいずれでも良い。また、柱状流、高周波振動法による水流で開繊、扁平化等の物理加工を施したガラス繊維織物であっても良い。 (B) The glass fiber fabric may be any glass fiber fabric such as E glass, C glass, D glass, and S glass. The glass fiber fabric has a weaving density of 10 to 200/25 mm, preferably 15 to 100/25 mm, and a mass of 5 to 400 g / m 2 , preferably 8 to 300 g / m 2. Plain weave, satin weave, twill weave, Nanako weave, etc. can be used. Further, a glass fiber fabric in which both or one of the warp and the weft is woven with a textured glass yarn may be used. In addition, a glass fiber woven fabric at a stage where a sizing agent necessary for weaving is attached, a glass fiber woven fabric at a stage where the sizing agent is removed, or a silane coupling agent already treated by a known surface treatment method. Any of glass fiber fabrics may be used. Further, it may be a glass fiber fabric subjected to physical processing such as opening, flattening, etc. by columnar flow or water flow by a high frequency vibration method.

ガラス繊維織物の厚みは特に制限はないが、好ましい厚みとしては、0.005mm〜0.5mmであり、より好ましくは0.007mm〜0.3mmであり、更に好ましくは0.008mm〜0.2mmであり、特に好ましくは0.008mm〜0.15mmである。
このガラス繊維織物は、熱可塑性樹脂の本来の大きな線膨張係数を小さくするのに、効果的である。さらには、強度とこしが付与できる。特に、樹脂製フィルムが薄い場合、ガラス繊維織物による補強効果は、強度と線膨張係数の観点から必須である。
Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a glass fiber fabric, As preferable thickness, it is 0.005 mm-0.5 mm, More preferably, it is 0.007 mm-0.3 mm, More preferably, it is 0.008 mm-0.2 mm. And particularly preferably from 0.008 mm to 0.15 mm.
This glass fiber fabric is effective in reducing the inherent large linear expansion coefficient of the thermoplastic resin. Furthermore, strength and strain can be imparted. In particular, when the resin film is thin, the reinforcing effect by the glass fiber fabric is essential from the viewpoint of strength and linear expansion coefficient.

(C)成分は、(A)成分以外の熱可塑性樹脂であり、芳香族ビニル化合物重合体、芳香族ビニル化合物共重合体、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアミド6、ポリアミド66、ポリアミド66/6、芳香環含有ポリアミド、脂肪族環含有ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォンから選ばれる少なくとも1種以上である。より好ましくは、芳香族ビニル化合物共重合体、芳香環含有ポリアミド、脂肪族環含有ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォンから選ばれる少なくとも1種以上である。さらに好ましくは、芳香族ビニル化合物共重合体、芳香環含有ポリアミド、脂肪族環含有ポリアミド、液晶ポリマーから選ばれる少なくとも1種以上である。   Component (C) is a thermoplastic resin other than component (A), and is an aromatic vinyl compound polymer, aromatic vinyl compound copolymer, polypropylene, polyethylene, polyamide 6, polyamide 66, polyamide 66/6, aromatic ring. It is at least one selected from the group containing polyamide, aliphatic ring-containing polyamide, polyphenylene sulfide, liquid crystal polymer, polyether ether ketone, polyarylate, polyether sulfone, and polysulfone. More preferably, at least one selected from an aromatic vinyl compound copolymer, an aromatic ring-containing polyamide, an aliphatic ring-containing polyamide, polyphenylene sulfide, a liquid crystal polymer, polyether ether ketone, polyarylate, polyether sulfone, and polysulfone. It is. More preferably, it is at least one selected from an aromatic vinyl compound copolymer, an aromatic ring-containing polyamide, an aliphatic ring-containing polyamide, and a liquid crystal polymer.

ここで、芳香族ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−tert−ブチルスチレン、ジフェニルエチレン等のうちから1種又は2種以上を選択でき、中でもスチレンが好ましい。また、芳香族ビニル化合物重合体の具体例としては、アタクティックポリスチレン、シンジオタクティックポリスチレン、ハイインパクトポリスチレンなどが挙げられる。
芳香族ビニル化合物共重合体としては、例えば、上述したような芳香族ビニル化合物と共重合可能な化合物を共重合して得られる共重合体である。共重合可能な化合物としては、不飽和ジカルボン酸イミド誘導体、不飽和ジカルボン酸無水物、その他ビニル化合物等が挙げられる。
Here, as an aromatic vinyl compound, 1 type (s) or 2 or more types can be selected from styrene, (alpha) -methylstyrene, vinyltoluene, p-tert-butylstyrene, diphenylethylene etc., for example, Styrene is preferable. Specific examples of the aromatic vinyl compound polymer include atactic polystyrene, syndiotactic polystyrene, and high impact polystyrene.
The aromatic vinyl compound copolymer is, for example, a copolymer obtained by copolymerizing a compound copolymerizable with the aromatic vinyl compound as described above. Examples of the copolymerizable compound include unsaturated dicarboxylic acid imide derivatives, unsaturated dicarboxylic acid anhydrides, and other vinyl compounds.

不飽和ジカルボン酸イミド誘導体の具体例としては、マレイミド、N−メチルマレイミド、N−ブチルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等のN−アルキルマレイミド、及びN−アリールマレイミド(アリール基としては、例えばフェニル、クロルフェニル、メチルフェニル、メトキシフェニル、トリブロモフェニル等が挙げられる)等のマレイミド誘導体が挙げられ、これらの中で特にN−フェニルマレイミドが好ましい。また、これらの誘導体は2種以上混合して用いることもできる。
不飽和ジカルボン酸無水物の具体例としては、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、アコニット酸等の無水物が挙げられ、これらの中では特に無水マレイン酸が好ましい。
Specific examples of the unsaturated dicarboxylic acid imide derivative include N-alkylmaleimide such as maleimide, N-methylmaleimide, N-butylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, and N-arylmaleimide (the aryl group includes, for example, phenyl, chloro And maleimide derivatives such as phenyl, methylphenyl, methoxyphenyl, and tribromophenyl). Among these, N-phenylmaleimide is particularly preferable. Moreover, these derivatives can also be used in mixture of 2 or more types.
Specific examples of the unsaturated dicarboxylic acid anhydride include anhydrides such as maleic acid, itaconic acid, citraconic acid, and aconitic acid. Among these, maleic anhydride is particularly preferable.

その他ビニル化合物の具体例としては、ブタジエン、アクリロニトリル、メタクリロニリル等のシアン化ビニル化合物、メチルアクリル酸エステル、エチルアクリル酸エステル等のアクリル酸エステル化合物、メチルメタクリル酸、エチルメタクリル酸エステル等のメタクリル酸エステル化合物、アクリル酸、メタクリル酸等のビニルカルボン酸化合物、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド等の化合物が挙げられ、これらの中では特にアクリロニトリルが好ましい。
芳香族ビニル化合物共重合体の好ましい例としては、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、芳香族ビニル−マレイミド系共重合体等が挙げられ、耐熱性の観点から芳香族ビニル−マレイミド系共重合体であり、(1)芳香族ビニル化合物、不飽和ジカルボン酸イミド誘導体および必要に応じてその他共重合可能なビニル化合物からなる混合物を共重合させる方法、(2)芳香族ビニル化合物、不飽和ジカルボン酸無水物及び必要に応じてその他共重合可能なビニル化合物からなる混合物を共重合させた後、アンモニア及び/又は第一級アミンを反応させて酸無水物基をイミド基に変換させる方法によって得ることができる。尚、(1)の製法においては、その他共重合可能なビニル化合物の例として不飽和ジカルボン酸無水物も含まれ、(2)の製法においては、イミド基へ変換されずに酸無水物基が残ることも問題はなく、結果、酸無水物基を共重合体中へ導入することも可能である。
Specific examples of other vinyl compounds include vinyl cyanide compounds such as butadiene, acrylonitrile and methacrylonyl, acrylic acid ester compounds such as methyl acrylate and ethyl acrylate, and methacrylate esters such as methyl methacrylic acid and ethyl methacrylic acid ester. Compounds, vinyl carboxylic acid compounds such as acrylic acid and methacrylic acid, and compounds such as acrylic acid amide and methacrylic acid amide are exemplified, and among these, acrylonitrile is particularly preferable.
Preferable examples of the aromatic vinyl compound copolymer include acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, aromatic vinyl-maleimide copolymer, and the like, from the viewpoint of heat resistance. A vinyl-maleimide copolymer, (1) a method of copolymerizing a mixture of an aromatic vinyl compound, an unsaturated dicarboxylic imide derivative, and other copolymerizable vinyl compounds as required, (2) aromatic After copolymerizing a mixture of a vinyl compound, an unsaturated dicarboxylic acid anhydride and, if necessary, another copolymerizable vinyl compound, ammonia and / or a primary amine is reacted to convert the acid anhydride group into an imide group. It can obtain by the method of converting to. In the production method (1), unsaturated dicarboxylic acid anhydrides are also included as examples of other copolymerizable vinyl compounds. In the production method (2), acid anhydride groups are not converted to imide groups. There is no problem in remaining, and as a result, an acid anhydride group can be introduced into the copolymer.

(2)の製法で用いるアンモニアや第一級アミンは無水または水溶液のいずれの状態であってもよく、第一級アミンの例としては、メチルアミン、エチルアミン、ブチルアミン、シクロヘキシルアミン等のアルキルアミン、アニリン、トルイジン、クロルアニリン、メトキシアニリン、トリブロモアニリン等の芳香族アミンが挙げられ、これらの中で特にアニリンが好ましい。
これら芳香族ビニル化合物共重合体の重合方法としては、公知の重合方法を用いることができ、(1)の製法の場合は、懸濁重合、乳化重合、溶液重合、塊状重合が好ましく、(2)の製法の場合は、塊状−懸濁重合、溶液重合、塊状重合が好ましい。
Ammonia and primary amine used in the production method (2) may be either anhydrous or in an aqueous solution. Examples of primary amines include alkylamines such as methylamine, ethylamine, butylamine, and cyclohexylamine, Aromatic amines such as aniline, toluidine, chloraniline, methoxyaniline and tribromoaniline are exemplified, and among these, aniline is particularly preferable.
As a method for polymerizing these aromatic vinyl compound copolymers, a known polymerization method can be used. In the case of the production method (1), suspension polymerization, emulsion polymerization, solution polymerization, and bulk polymerization are preferable. ) Is preferably bulk-suspension polymerization, solution polymerization, or bulk polymerization.

これら芳香族ビニル−マレイミド系共重合体としては、スチレン/N−フェニルマレイミド共重合体、スチレン/N−フェニルマレイミド/無水マレイン酸共重合体、スチレン/N−フェニルマレイミド/アクリロニトリル共重合体が好適に使用できる。
芳香族ビニル−マレイミド系共重合体は、芳香族ビニル化合物30〜70質量%、不飽和ジカルボン酸イミド誘導体30〜70質量%及びその他共重合可能なビニル化合物0〜20質量%からなる共重合体であることが好ましく、より好ましくは芳香族ビニル化合物40〜69.99質量%、不飽和ジカルボン酸イミド誘導体30〜59.99質量%及びその他共重合可能なビニル化合物0.01〜15質量%であり、更に好ましくは、芳香族ビニル化合物40〜69.9質量%、不飽和ジカルボン酸イミド誘導体30〜59.9質量%及びその他共重合可能なビニル化合物0.1〜15質量%である。芳香族ビニル化合物の割合が30質量%未満であると、ポリフェニレンエーテルとの相溶性が悪くなり、引張伸度の低下を招き、不飽和ジカルボン酸イミド誘導体の割合が30質量%未満であると、耐熱性が低下する。また、その他共重合可能なビニル化合物の割合が20質量%を超えると、耐熱性が低下したり、熱安定性が悪くなる。
As these aromatic vinyl-maleimide copolymers, styrene / N-phenylmaleimide copolymers, styrene / N-phenylmaleimide / maleic anhydride copolymers, and styrene / N-phenylmaleimide / acrylonitrile copolymers are suitable. Can be used for
The aromatic vinyl-maleimide copolymer is a copolymer comprising 30 to 70% by mass of an aromatic vinyl compound, 30 to 70% by mass of an unsaturated dicarboxylic imide derivative and 0 to 20% by mass of a copolymerizable vinyl compound. More preferably, the aromatic vinyl compound is 40 to 69.99 mass%, the unsaturated dicarboxylic imide derivative is 30 to 59.99 mass%, and the other copolymerizable vinyl compound is 0.01 to 15 mass%. And more preferably 40 to 69.9% by mass of an aromatic vinyl compound, 30 to 59.9% by mass of an unsaturated dicarboxylic imide derivative, and 0.1 to 15% by mass of a copolymerizable vinyl compound. When the ratio of the aromatic vinyl compound is less than 30% by mass, the compatibility with the polyphenylene ether is deteriorated, resulting in a decrease in tensile elongation. When the ratio of the unsaturated dicarboxylic imide derivative is less than 30% by mass, Heat resistance decreases. Moreover, when the ratio of the other copolymerizable vinyl compound exceeds 20% by mass, the heat resistance is lowered or the thermal stability is deteriorated.

芳香族ビニル化合物共重合体は、重量平均分子量70,000〜250,000であることが好ましい。ここでいう重量平均分子量は、ポリスチレンを標準試料として換算した分子量であり、テトラヒドロフランを溶媒として、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定により算出できる。重量平均分子量は、引張伸度の観点から70,000以上であり、流動性の観点から250,000以下である。より好ましくは、100,000〜250,000、さらに好ましくは100,000〜200,000である。また、これら共重合体は、1種の芳香族ビニル化合物共重合体でもよく、重量平均分子量が異なる2種以上の芳香族ビニル化合物共重合体を組み合わせた混合物で、その混合物の重量平均分子量が70,000〜250,000にあるものであってもよい。   The aromatic vinyl compound copolymer preferably has a weight average molecular weight of 70,000 to 250,000. The weight average molecular weight here is a molecular weight converted with polystyrene as a standard sample, and can be calculated by gel permeation chromatography (GPC) measurement using tetrahydrofuran as a solvent. The weight average molecular weight is 70,000 or more from the viewpoint of tensile elongation, and 250,000 or less from the viewpoint of fluidity. More preferably, it is 100,000-250,000, More preferably, it is 100,000-200,000. Further, these copolymers may be one kind of aromatic vinyl compound copolymer, which is a mixture of two or more kinds of aromatic vinyl compound copolymers having different weight average molecular weights, and the weight average molecular weight of the mixture is It may be in the range of 70,000 to 250,000.

液晶ポリマーとは、液晶ポリエステルのことで、サーモトロピック液晶ポリマーと呼ばれるポリエステルで、公知のものが使用できる。例えば、p−ヒドロキシ安息香酸およびポリエチレンテレフタレートを主構成単位とするサーモトロピック液晶ポリエステル、p−ヒドロキシ安息香酸および2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸を主構成単位とするサーモトロピック液晶ポリエステル、p−ヒドロキシ安息香酸および4,4′−ジヒドロキシビフェニルならびにテレフタル酸を主構成単位とするサーモトロピック液晶ポリエステルなどが挙げられ、特に制限はない。本発明で使用される液晶ポリエステルとしては、下記構造単位(イ)および/または(ロ)、並びに必要に応じて下記構造単位(ハ)および/または(ニ)からなるものが好ましい。   The liquid crystal polymer is a liquid crystal polyester, which is a polyester called a thermotropic liquid crystal polymer, and known ones can be used. For example, a thermotropic liquid crystal polyester mainly composed of p-hydroxybenzoic acid and polyethylene terephthalate, a thermotropic liquid crystal polyester mainly composed of p-hydroxybenzoic acid and 2-hydroxy-6-naphthoic acid, p-hydroxybenzoic acid Examples thereof include thermotropic liquid crystal polyesters mainly composed of acid, 4,4'-dihydroxybiphenyl and terephthalic acid, and are not particularly limited. The liquid crystalline polyester used in the present invention is preferably composed of the following structural units (a) and / or (b) and, if necessary, the following structural units (c) and / or (d).

Figure 2010046914
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ここで、構造単位(イ)および(ロ)はそれぞれ、p−ヒドロキシ安息香酸から生成したポリエステルの構造単位と、2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸から生成した構造単位である。構造単位(イ)および(ロ)を使用することで、優れた耐熱性、流動性や剛性などの機械的特性のバランスに優れた本発明の熱可塑性樹脂組成物を得ることができる。上記構造単位(ハ)および(ニ)中のXは、下記(式2)よりそれぞれ独立に1種あるいは2種以上選択することができる。   Here, the structural units (A) and (B) are respectively a structural unit of a polyester generated from p-hydroxybenzoic acid and a structural unit generated from 2-hydroxy-6-naphthoic acid. By using the structural units (a) and (b), it is possible to obtain the thermoplastic resin composition of the present invention having an excellent balance of mechanical properties such as excellent heat resistance, fluidity and rigidity. X in the structural units (c) and (d) can be independently selected from the following (Formula 2), or one or more of them can be selected.

Figure 2010046914
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構造式(ハ)において好ましいのは、エチレングリコール、ハイドロキノン、4,4′−ジヒドロキシビフェニル、2,6−ジヒドロキシナフタレンおよびビスフェノールAのそれぞれから生成した構造単位であり、さらに好ましいのは、エチレングリコール、4,4′−ジヒドロキシビフェニルおよびハイドロキノンのそれぞれから生成した構造単位であり、特に好ましいのは、エチレングリコール、4,4′−ジヒドロキシビフェニルのそれぞれから生成した構造単位である。   In the structural formula (c), preferred are structural units formed from ethylene glycol, hydroquinone, 4,4′-dihydroxybiphenyl, 2,6-dihydroxynaphthalene and bisphenol A, and more preferred are ethylene glycol, Structural units formed from 4,4'-dihydroxybiphenyl and hydroquinone, and particularly preferred are structural units formed from ethylene glycol and 4,4'-dihydroxybiphenyl.

構造式(ニ)において好ましいのは、テレフタル酸、イソフタル酸および2,6−ジカルボキシナフタレンのそれぞれから生成した構造単位であり、さらに好ましいのは、テレフタル酸およびイソフタル酸のそれぞれから生成した構造単位である。
構造式(ハ)および構造式(ニ)は、それぞれ上記に挙げた構造単位を少なくとも1種あるいは2種以上を併用することができる。具体的には、2種以上併用する場合、構造式(ハ)においては、1)エチレングリコールから生成した構造単位/ハイドロキノンから生成した構造単位、2)エチレングリコールから生成した構造単位/4,4′−ジヒドロキシビフェニルから生成した構造単位、3)ハイドロキノンから生成した構造単位/4,4′−ジヒドロキシビフェニルから生成した構造単位、などを挙げることができる。
また、構造式(ニ)においては、1)テレフタル酸から生成した構造単位/イソフタル酸から生成した構造単位、2)テレフタル酸から生成した構造単位/2,6−ジカルボキシナフタレンから生成した構造単位、などを挙げることができる。液晶ポリエステル成分中の構造単位(イ)、(ロ)、(ハ)および(ニ)の使用割合は特に限定されない。ただし、構造単位(ハ)と(ニ)は基本的にほぼ等モル量となる。
In the structural formula (d), preferred are structural units formed from each of terephthalic acid, isophthalic acid and 2,6-dicarboxynaphthalene, and more preferred are structural units formed from each of terephthalic acid and isophthalic acid. It is.
In the structural formula (c) and the structural formula (d), at least one or two or more of the structural units listed above can be used in combination. Specifically, when two or more kinds are used in combination, in the structural formula (c), 1) a structural unit generated from ethylene glycol / a structural unit generated from hydroquinone, 2) a structural unit generated from ethylene glycol / 4,4 Examples include structural units formed from '-dihydroxybiphenyl, 3) structural units formed from hydroquinone / 4, structural units formed from 4,4'-dihydroxybiphenyl, and the like.
In the structural formula (d), 1) a structural unit generated from terephthalic acid / a structural unit generated from isophthalic acid, 2) a structural unit generated from terephthalic acid / 2, a structural unit generated from 2,6-dicarboxynaphthalene , Etc. The proportion of the structural units (A), (B), (C) and (D) used in the liquid crystal polyester component is not particularly limited. However, the structural units (c) and (d) are basically in equimolar amounts.

また、構造単位(ハ)および(ニ)からなる下記構造単位(ホ)を、液晶ポリエステル成分中の構造単位として使用することもできる。具体的には、1)エチレングリコールとテレフタル酸から生成した構造単位、2)ハイドロキノンとテレフタル酸から生成した構造単位、3)4,4′−ジヒドロキシビフェニルとテレフタル酸から生成した構造単位、4)4,4′−ジヒドロキシビフェニルとイソフタル酸から生成した構造単位、5)ビスフェノールAとテレフタル酸から生成した構造単位、などを挙げることができる。   Further, the following structural unit (e) composed of the structural units (c) and (d) can also be used as the structural unit in the liquid crystal polyester component. Specifically, 1) a structural unit produced from ethylene glycol and terephthalic acid, 2) a structural unit produced from hydroquinone and terephthalic acid, 3) a structural unit produced from 4,4'-dihydroxybiphenyl and terephthalic acid, 4) And structural units formed from 4,4'-dihydroxybiphenyl and isophthalic acid, and 5) structural units formed from bisphenol A and terephthalic acid.

Figure 2010046914
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本発明の液晶ポリエステル成分には、必要に応じて本発明の特徴と効果を損なわない程度の少量の範囲で、他の芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシカルボン酸から生成する構造単位を導入することができる。
本発明の樹脂組成物としては、(A)ポリフェニレンエーテル単独であってもよいし、(A)と(C)との組成物であってもよい。
(A)ポリフェニレンエーテル単独の場合には、溶融加工性が不十分なことから、良溶媒に溶解し、溶液をガラス繊維織物に含浸させた後、加熱及び/または減圧により、溶媒を留去、乾燥により、積層体を得ることが好ましい。
The liquid crystalline polyester component of the present invention includes structural units formed from other aromatic dicarboxylic acids, aromatic diols, and aromatic hydroxycarboxylic acids within a small range that does not impair the features and effects of the present invention as necessary. Can be introduced.
The resin composition of the present invention may be (A) polyphenylene ether alone or a composition of (A) and (C).
(A) In the case of polyphenylene ether alone, since melt processability is insufficient, after dissolving in a good solvent and impregnating the solution into a glass fiber fabric, the solvent is distilled off by heating and / or decompression, It is preferable to obtain a laminate by drying.

(A)と(C)成分との組成物の場合は、上述したような、良溶媒を用いた含浸方法も選択できるが、必ずしも全ての樹脂成分が溶剤への溶解度が高いわけではなく、むしろ(C)成分により、ポリフェニレンエーテルの溶融加工性が改良されることから、押出し成形機により、フィルムを製膜し、得られたフィルムと(B)ガラス繊維織物を熱プレスにより、積層することが好ましい。この際、(F)銅箔も同時に、熱プレスにより、積層することができる。
本発明の樹脂組成物製フィルムの溶融製膜性の観点と得られるフィルムの膜厚均一性の観点から、(C)は、液晶ポリマー及び/または芳香族ビニル−マレイミド系共重合体が好ましい。
In the case of the composition of the components (A) and (C), the above-described impregnation method using a good solvent can be selected, but not all resin components have high solubility in the solvent, rather Since the melt processability of polyphenylene ether is improved by component (C), a film is formed by an extrusion molding machine, and the obtained film and (B) glass fiber fabric can be laminated by hot pressing. preferable. At this time, the copper foil (F) can be laminated simultaneously by hot pressing.
From the viewpoint of the melt film-forming property of the resin composition film of the present invention and the film thickness uniformity of the film obtained, (C) is preferably a liquid crystal polymer and / or an aromatic vinyl-maleimide copolymer.

(A)と(C)成分の好ましい含有比率は、(A)と(C)の合計100質量部に対して、(A)ポリフェニレンエーテル80質量部以上であり、(C)成分は、20質量部以下である。
ピール強度の観点から、(C)成分の含有量は、20質量部以下、好ましくは15質量部以下であり、より好ましくは10質量部以下である。
A preferred content ratio of the components (A) and (C) is 80 parts by mass or more of (A) polyphenylene ether with respect to a total of 100 parts by mass of (A) and (C), and the component (C) is 20 parts by mass. Or less.
From the viewpoint of peel strength, the content of the component (C) is 20 parts by mass or less, preferably 15 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or less.

(D)Zn元素及び/またはMg元素を含有する化合物は、金属を含有する無機化合物または有機化合物である。本発明の(D)成分は、本質的にZn元素及び/またはMg元素を主たる構成成分とする化合物である。(D)成分として、上記金属元素の酸化物、水酸化物、脂肪族カルボン酸塩、酢酸塩が好ましい。好ましい酸化物の例としては、ZnO、MgOが挙げられる。好ましい水酸化物の例としては、Zn(OH)2、Mg(OH)2などが挙げられる。好ましい脂肪族カルボン酸塩の例としては、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムがあげられる。好ましい酢酸塩の例としては、酢酸亜鉛、酢酸マグネシウムが挙げられる。
これらの(D)成分は、本来混和性の低い(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂と(C)成分である液晶ポリエステルを部分相容化させる効果があり、得られたフィルムの強度が高くなる傾向にある。特にこの部分相容化の観点から、ZnO、Mg(OH)2があげられる。
(D) The compound containing Zn element and / or Mg element is an inorganic compound or organic compound containing metal. The component (D) of the present invention is a compound essentially comprising a Zn element and / or a Mg element as a main component. As the component (D), oxides, hydroxides, aliphatic carboxylates and acetates of the above metal elements are preferable. Examples of preferable oxides include ZnO and MgO. Examples of preferable hydroxides include Zn (OH) 2 and Mg (OH) 2. Examples of preferred aliphatic carboxylates include zinc stearate and magnesium stearate. Examples of preferred acetates include zinc acetate and magnesium acetate.
These components (D) have the effect of partially compatibilizing the inherently low miscibility (A) polyphenylene ether resin and the liquid crystal polyester (C), and tend to increase the strength of the resulting film. is there. In particular, from the viewpoint of partial compatibilization, ZnO and Mg (OH) 2 can be mentioned.

この(D)成分は、混和性の観点から、0.01質量部以上、好ましくは、0.1部以上、より好ましくは、0.5部以上である。また、電気特性の観点から、3質量部以下が好ましく、より好ましくは、2質量部以下である。
(E)ホスフィン酸塩としては、下記式(3)で表されるホスフィン酸塩及び/又は下記式(4)で表されるジホスフィン酸塩、またはこれらの縮合物の中から選ばれる少なくとも1種のホスフィン酸塩類が好ましい。
This component (D) is 0.01 parts by mass or more, preferably 0.1 parts or more, more preferably 0.5 parts or more from the viewpoint of miscibility. Moreover, from a viewpoint of an electrical property, 3 mass parts or less are preferable, More preferably, it is 2 mass parts or less.
(E) As the phosphinic acid salt, at least one selected from phosphinic acid salts represented by the following formula (3) and / or diphosphinic acid salts represented by the following formula (4), or condensates thereof: The phosphinates are preferred.

Figure 2010046914
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Figure 2010046914
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(式中、R及びRは、同一か又は異なり、直鎖状もしくは分岐状のC〜C−アルキル及び/又はアリールもしくはフェニルであり、Rは、直鎖状もしくは分岐状のC〜C10−アルキレン、C〜C10−アリーレン、C〜C10−アルキルアリーレン又はC〜C10−アリールアルキレンであり、Mはカルシウム(イオン)、マグネシウム(イオン)、アルミニウム(イオン)、亜鉛(イオン)、ビスマス(イオン)、マンガン(イオン)、ナトリウム(イオン)、カリウム(イオン)及びプロトン化された窒素塩基から選ばれる1種以上であり、mは2又は3であり、nは1〜3であり、xは1又は2である。) Wherein R 1 and R 2 are the same or different and are linear or branched C 1 -C 6 -alkyl and / or aryl or phenyl, and R 3 is linear or branched C 1 -C 10 -alkylene, C 6 -C 10 -arylene, C 6 -C 10 -alkylarylene or C 6 -C 10 -arylalkylene, M is calcium (ion), magnesium (ion), aluminum ( Ion), zinc (ion), bismuth (ion), manganese (ion), sodium (ion), potassium (ion), and protonated nitrogen base, and m is 2 or 3 , N is 1 to 3, and x is 1 or 2.)

ホスフィン酸塩は、本発明の効果を損ねない範囲であれば、如何なる組成で混合されていても構わないが、難燃性の観点から、上記(3)で表されるホスフィン酸塩を90質量%以上、さらに好ましくは95質量%以上、最も好ましくは98質量%以上含んでいる事が好ましい。
本発明において、好ましく使用可能なホスフィン酸の具体例としては、ジメチルホスフィン酸、エチルメチルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、メチル−n−プロピルホスフィン酸、メタンジ(メチルホスフィン酸)、ベンゼン−1,4−(ジメチルホスフィン酸)、メチルフェニルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸およびこれらの混合物等が挙げられる。
また好ましく使用可能な金属成分としてはカルシウムイオン、マグネシウムイオン、アルミニウムイオン、亜鉛イオン、ビスマスイオン、マンガンイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン)及び/又はプロトン化された窒素塩基から選ばれる1種以上であり、より好ましくは、カルシウムイオン、マグネシウムイオン、アルミニウムイオン、亜鉛イオンから選ばれる1種以上である。
The phosphinic acid salt may be mixed in any composition as long as the effect of the present invention is not impaired. From the viewpoint of flame retardancy, the phosphinic acid salt represented by the above (3) is added in an amount of 90 mass. % Or more, more preferably 95% by mass or more, and most preferably 98% by mass or more.
Specific examples of phosphinic acid that can be preferably used in the present invention include dimethylphosphinic acid, ethylmethylphosphinic acid, diethylphosphinic acid, methyl-n-propylphosphinic acid, methandi (methylphosphinic acid), benzene-1,4- (Dimethylphosphinic acid), methylphenylphosphinic acid, diphenylphosphinic acid, and mixtures thereof.
The metal component that can be preferably used is at least one selected from calcium ions, magnesium ions, aluminum ions, zinc ions, bismuth ions, manganese ions, sodium ions, potassium ions) and / or protonated nitrogen bases. More preferably, it is at least one selected from calcium ions, magnesium ions, aluminum ions, and zinc ions.

ホスフィン酸塩類の好ましく使用可能な具体例としては、ジメチルホスフィン酸カルシウム、ジメチルホスフィン酸マグネシウム、ジメチルホスフィン酸アルミニウム、ジメチルホスフィン酸亜鉛、エチルメチルホスフィン酸カルシウム、エチルメチルホスフィン酸マグネシウム、エチルメチルホスフィン酸アルミニウム、エチルメチルホスフィン酸亜鉛、ジエチルホスフィン酸カルシウム、ジエチルホスフィン酸マグネシウム、ジエチルホスフィン酸アルミニウム、ジエチルホスフィン酸亜鉛、メチル−n−プロピルホスフィン酸カルシウム、メチル−n−プロピルホスフィン酸マグネシウム、メチル−n−プロピルホスフィン酸アルミニウム、メチル−n−プロピルホスフィン酸亜鉛、メタンジ(メチルホスフィン酸)カルシウム、メタンジ(メチルホスフィン酸)マグネシウム、メタンジ(メチルホスフィン酸)アルミニウム、メタンジ(メチルホスフィン酸)亜鉛、ベンゼン−1,4−(ジメチルホスフィン酸)カルシウム、ベンゼン−1,4−(ジメチルホスフィン酸)マグネシウム、ベンゼン−1,4−(ジメチルホスフィン酸)アルミニウム、ベンゼン−1,4−(ジメチルホスフィン酸)亜鉛、メチルフェニルホスフィン酸カルシウム、メチルフェニルホスフィン酸マグネシウム、メチルフェニルホスフィン酸アルミニウム、メチルフェニルホスフィン酸亜鉛、ジフェニルホスフィン酸カルシウム、ジフェニルホスフィン酸マグネシウム、ジフェニルホスフィン酸アルミニウム、ジフェニルホスフィン酸亜鉛が挙げられる。   Specific examples of phosphinates that can be preferably used include calcium dimethylphosphinate, magnesium dimethylphosphinate, aluminum dimethylphosphinate, zinc dimethylphosphinate, calcium ethylmethylphosphinate, magnesium ethylmethylphosphinate, aluminum ethylmethylphosphinate , Zinc ethylmethylphosphinate, calcium diethylphosphinate, magnesium diethylphosphinate, aluminum diethylphosphinate, zinc diethylphosphinate, calcium methyl-n-propylphosphinate, magnesium methyl-n-propylphosphinate, methyl-n-propyl Aluminum phosphinate, zinc methyl-n-propylphosphinate, calcium methanedi (methylphosphinate), meta Di (methylphosphinic acid) magnesium, methanedi (methylphosphinic acid) aluminum, methanedi (methylphosphinic acid) zinc, benzene-1,4- (dimethylphosphinic acid) calcium, benzene-1,4- (dimethylphosphinic acid) magnesium, Benzene-1,4- (dimethylphosphinic acid) aluminum, benzene-1,4- (dimethylphosphinic acid) zinc, calcium methylphenylphosphinate, magnesium methylphenylphosphinate, aluminum methylphenylphosphinate, zinc methylphenylphosphinate, Examples include calcium diphenylphosphinate, magnesium diphenylphosphinate, aluminum diphenylphosphinate, and zinc diphenylphosphinate.

特に難燃性の観点からジメチルホスフィン酸カルシウム、ジメチルホスフィン酸アルミニウム、ジメチルホスフィン酸亜鉛、エチルメチルホスフィン酸カルシウム、エチルメチルホスフィン酸アルミニウム、エチルメチルホスフィン酸亜鉛、ジエチルホスフィン酸カルシウム、ジエチルホスフィン酸アルミニウム、ジエチルホスフィン酸亜鉛が好ましい。中でもジエチルホスフィン酸アルミニウムが特に好ましい。
(E)ホスフィン酸塩の含有量は、難燃性の観点から、1質量部以上、好ましくは2質量部以上、より好ましくは3質量部以上である。吸水率の観点から、10質量部以下、好ましくは8質量部以下、より好ましくは6質量部以下である。
Particularly from the viewpoint of flame retardancy, calcium dimethylphosphinate, aluminum dimethylphosphinate, zinc dimethylphosphinate, calcium ethylmethylphosphinate, aluminum ethylmethylphosphinate, zinc ethylmethylphosphinate, calcium diethylphosphinate, aluminum diethylphosphinate, Zinc diethylphosphinate is preferred. Of these, aluminum diethylphosphinate is particularly preferable.
(E) Content of a phosphinate is 1 mass part or more from a flame-retardant viewpoint, Preferably it is 2 mass parts or more, More preferably, it is 3 mass parts or more. From the viewpoint of water absorption, it is 10 parts by mass or less, preferably 8 parts by mass or less, more preferably 6 parts by mass or less.

本発明の積層体は、導体として、銅が貼り合わされていてもよい。銅箔を積層してもよいし、公知の手法により、樹脂表面を表面処理した後、銅メッキしてもよい。
銅箔としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられる。銅箔の厚みは5〜35μmが好ましい。また、銅箔のラミネート面及びその反対面は必要に応じて、粗化処理、防錆処理、コブ付け処理、易接着処理等が施されていても構わない。
本発明の積層体は、ポリフェニレンエーテルの含有率が高いため、低誘電率、低誘電正接などの電気特性に優れる。また吸湿しにくいことから、吸湿による物性の変化が小さい。加えて、樹脂のガラス転移温度(210〜240℃)が高いため、広範囲の温度領域における電気特性に代表される物性が安定している。さらにポリフェニレンエーテルの誘電率および誘電正接は、周波数依存性が小さいため、高周波の基板用途にも、安定した電気特性を有する。
In the laminate of the present invention, copper may be bonded as a conductor. A copper foil may be laminated, or the surface of the resin may be surface-treated by a known method and then copper-plated.
Examples of the copper foil include rolled copper foil and electrolytic copper foil. The thickness of the copper foil is preferably 5 to 35 μm. Further, the laminated surface of the copper foil and the opposite surface thereof may be subjected to roughening treatment, rust prevention treatment, bumping treatment, easy adhesion treatment, and the like, if necessary.
Since the laminate of the present invention has a high polyphenylene ether content, it has excellent electrical properties such as low dielectric constant and low dielectric loss tangent. In addition, since it is difficult to absorb moisture, changes in physical properties due to moisture absorption are small. In addition, since the glass transition temperature (210 to 240 ° C.) of the resin is high, physical properties represented by electrical characteristics in a wide temperature range are stable. Furthermore, since the dielectric constant and dielectric loss tangent of polyphenylene ether have low frequency dependence, they have stable electrical characteristics for high-frequency substrate applications.

積層体は、樹脂/ガラス繊維織物/樹脂の単層構造でもよいが、樹脂/ガラス繊維織物/樹脂/ガラス繊維織物/……/ガラス繊維織物/樹脂のように、多層構造でもよい。また導体パターンを有する回路用積層体としては、銅/樹脂/ガラス繊維織物/樹脂/銅の単層構造や、銅/樹脂/ガラス繊維織物/樹脂/ガラス繊維織物/……/ガラス繊維織物/樹脂/銅の多層構造、さらに高密度実装用積層体として、銅/樹脂/銅/樹脂/ガラス繊維織物/樹脂/銅/樹脂/ガラス繊維織物/……/ガラス繊維織物/樹脂/銅の構造をとっていてもよい。
本発明では、上記の成分の他に、本発明の特徴および効果を損なわない範囲で必要に応じて無機充填剤を添加することができる。強度付与剤として、金属繊維、チタン酸カリウム、炭素繊維、炭化ケイ素、セラミック、窒化ケイ素、マイカ、ネフェリンシナイト、タルク、ウオラストナイト、スラグ繊維、フェライト、ガラスビーズ、ガラスパウダー、ガラスバルーン、石英、石英ガラス、溶融シリカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、などの無機化合物があげられる。これら無機系の充填剤の形状は限定されるものではなく、繊維状、板状、球状などが任意に選択できる。
The laminate may have a single layer structure of resin / glass fiber fabric / resin, but may have a multilayer structure such as resin / glass fiber fabric / resin / glass fiber fabric /... / Glass fiber fabric / resin. In addition, as a laminate for a circuit having a conductor pattern, a single layer structure of copper / resin / glass fiber fabric / resin / copper, or copper / resin / glass fiber fabric / resin / glass fiber fabric /.../ glass fiber fabric / Multi-layer structure of resin / copper, and laminated structure for high-density mounting, copper / resin / copper / resin / glass fiber fabric / resin / copper / resin / glass fiber fabric /.../ glass fiber fabric / resin / copper structure You may have taken.
In the present invention, in addition to the above-described components, an inorganic filler can be added as necessary within the range not impairing the characteristics and effects of the present invention. Strengthening agents include metal fiber, potassium titanate, carbon fiber, silicon carbide, ceramic, silicon nitride, mica, nepheline cinnite, talc, wollastonite, slag fiber, ferrite, glass beads, glass powder, glass balloon, quartz And inorganic compounds such as quartz glass, fused silica, titanium oxide, and calcium carbonate. The shape of these inorganic fillers is not limited, and a fibrous shape, a plate shape, a spherical shape, and the like can be arbitrarily selected.

また、これらの無機系の充填剤は、2種類以上併用することも可能である。また、必要に応じて、シラン系、チタン系などのカップリング剤で予備処理して使用することができる。
さらに上記の成分の他に、本発明の特徴および効果を損なわない範囲で必要に応じて他の附加的成分、例えば、酸化防止剤、難燃剤(有機リン酸エステル系化合物、フォスファゼン系化合物、環状窒素化合物、シリコーン、籠状シルセスキオキサンまたはその部分開裂構造体、シリカ)、エラストマー(エチレン/プロピレン共重合体、エチレン/1−ブテン共重合体、エチレン/プロピレン/非共役ジエン共重合体、エチレン/アクリル酸エチル共重合体、エチレン/メタクリル酸グリシジル共重合体、エチレン/酢酸ビニル/メタクリル酸グリシジル共重合体およびエチレン/プロピレン−g−無水マレイン酸共重合体、ABSなどのオレフィン系共重合体、ポリエステルポリエーテルエラストマー、ポリエステルポリエステルエラストマー、ビニル芳香族化合物−共役ジエン化合物ブロック共重合体、ビニル芳香族化合物−共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素添加物)、可塑剤(パラフィンオイル、低分子量ポリエチレン、エポキシ化大豆油、ポリエチレングリコール、脂肪酸エステル類等)、難燃助剤、耐候(光)性改良剤、各種着色剤を添加してもかまわない。
These inorganic fillers can be used in combination of two or more. Further, if necessary, it can be used after pretreatment with a coupling agent such as silane or titanium.
Further, in addition to the above-described components, other additional components as necessary, for example, antioxidants, flame retardants (organic phosphate ester compounds, phosphazene compounds, cyclic compounds, as long as the characteristics and effects of the present invention are not impaired. Nitrogen compounds, silicones, caged silsesquioxanes or partially cleaved structures thereof, silica), elastomers (ethylene / propylene copolymers, ethylene / 1-butene copolymers, ethylene / propylene / nonconjugated diene copolymers, Olefin copolymer such as ethylene / ethyl acrylate copolymer, ethylene / glycidyl methacrylate copolymer, ethylene / vinyl acetate / glycidyl methacrylate copolymer, ethylene / propylene-g-maleic anhydride copolymer, ABS Coalescence, polyester polyether elastomer, polyester polyester elast -Vinyl aromatic compound-conjugated diene compound block copolymer, hydrogenated vinyl aromatic compound-conjugated diene compound block copolymer), plasticizer (paraffin oil, low molecular weight polyethylene, epoxidized soybean oil, polyethylene glycol) , Fatty acid esters, etc.), flame retardant aids, weather resistance (light) improvers, and various colorants may be added.

本発明の積層体の製造方法としては、熱可塑性樹脂製フィルムとガラス繊維織物を、層状になるように、セットし、熱プレスにより成形できる。バッチのプレスでもよいし、ロールトウロールの連続プレス成形でもよい。連続成形の場合は、ダブルのスチールベルトなど、プレス圧力を制御できる装置で成形することが好ましい。バッチでの熱プレスは、公知の積層板を製造する装置を選ぶことができる。単段式、多段式であってもよいし、常圧熱プレス機、真空熱プレス機であってもかまわない。
熱プレス成形する際の温度は、240℃以上340℃以下が好ましい。プレス温度が低いと、樹脂の流動性が不十分になり、ガラス繊維織物への樹脂の流れ込みが不足し、気泡が発生してしまう。気泡の観点から、好ましくは240℃以上、より好ましくは245℃以上であり、さらにより好ましくは、250℃以上である。プレス温度が高すぎると、樹脂の劣化が始まり、強度不足の原因になる。従って樹脂の劣化の観点から、好ましくは340℃以下、より好ましくは320℃以下、さらにより好ましくは、300℃以下である。
As a manufacturing method of the laminated body of this invention, a thermoplastic resin film and glass fiber fabric can be set so that it may become layered, and it can shape | mold by hot press. It may be a batch press or a roll-to-roll continuous press molding. In the case of continuous forming, it is preferable to form with a device capable of controlling the pressing pressure, such as a double steel belt. For batch hot pressing, a known apparatus for producing a laminate can be selected. A single-stage type, a multi-stage type, an atmospheric pressure hot press machine, or a vacuum hot press machine may be used.
The temperature during hot press molding is preferably 240 ° C or higher and 340 ° C or lower. When the pressing temperature is low, the resin fluidity becomes insufficient, the resin does not flow into the glass fiber fabric, and bubbles are generated. From the viewpoint of bubbles, it is preferably 240 ° C. or higher, more preferably 245 ° C. or higher, and even more preferably 250 ° C. or higher. If the pressing temperature is too high, the resin begins to deteriorate, which causes insufficient strength. Therefore, from the viewpoint of resin deterioration, it is preferably 340 ° C. or lower, more preferably 320 ° C. or lower, and even more preferably 300 ° C. or lower.

プレス圧力は、1MPa〜40MPaが好ましい。気泡をなくす観点から、好ましくは1MPa以上であり、より好ましくは2MPaであり、さらにより好ましくは4MPaである。ガラス繊維織物の開繊を抑制する観点から、好ましくは40MPa以下であり、より好ましくは30MPaであり、さらにより好ましくは15MPaである。
熱プレス成形する際の雰囲気は、常圧でも、減圧でもかまわない。空気下、不活性ガス下でもかまわない。樹脂の劣化の観点から、不活性ガス雰囲気にて熱プレスすることが好ましい。気泡を効率よくなくす観点から、減圧雰囲気にて熱プレス成形することが好ましく、30kPa以下が好ましく、より好ましくは、15kPaであり、さらにより好ましくは、5kPa以下である。
The pressing pressure is preferably 1 MPa to 40 MPa. From the viewpoint of eliminating bubbles, it is preferably 1 MPa or more, more preferably 2 MPa, and even more preferably 4 MPa. From the viewpoint of suppressing the opening of the glass fiber fabric, it is preferably 40 MPa or less, more preferably 30 MPa, and even more preferably 15 MPa.
The atmosphere during hot press molding may be normal pressure or reduced pressure. It may be under air or inert gas. From the viewpoint of deterioration of the resin, it is preferable to hot press in an inert gas atmosphere. From the viewpoint of efficiently eliminating bubbles, it is preferable to perform hot press molding in a reduced pressure atmosphere, preferably 30 kPa or less, more preferably 15 kPa, and even more preferably 5 kPa or less.

本発明の熱可塑性樹脂製フィルムは、従来より公知の種々の方法、例えば、射出成形、押出成形、中空成形により成形することができる。特に生産性の観点から押出成形が好ましい。
そして、樹脂組成物ペレットを押出シート成形機に投入して、成形して得ることもできるし、本発明の原料各成分を押出シート成形機に直接投入し、溶融混練とシート成形を同時に実施して得ることもできる。スクリューは、単軸でも2軸タイプであってもかまわない。溶融混練とシート成形を同時に実施する場合は、混練効果の観点から、2軸のスクリューが好ましい。
The thermoplastic resin film of the present invention can be formed by various conventionally known methods such as injection molding, extrusion molding, and hollow molding. Extrusion molding is particularly preferred from the viewpoint of productivity.
Then, the resin composition pellets can be put into an extrusion sheet molding machine and molded, or each component of the raw material of the present invention can be directly fed into the extrusion sheet molding machine to carry out melt kneading and sheet molding at the same time. Can also be obtained. The screw may be a single shaft or a biaxial type. In the case where the melt kneading and the sheet forming are performed simultaneously, a biaxial screw is preferable from the viewpoint of the kneading effect.

本発明の熱可塑性樹脂製シートは、押出しチューブラー法、場合によってはインフレーション法とも呼ばれる方法にて製造することができる。円筒から出てきたパリソンがすぐに冷却してしまわないように、50〜290℃の温度範囲の中から適宜選択して、パリソンの温度制御することがシート厚みを均一にする上で極めて重要である。
一方、本発明のポリフェニレンエ−テル系樹脂製シートは、Tダイ押出成形によって製造することができる。この場合、無延伸のまま用いてもよいし、1軸延伸してもよいし、2軸延伸することによっても得られる。シートの強度を高めたい場合は、延伸することにより達成することができる。ギアポンプやスクリーンチェンジャーは適宜目的に応じて使用してもよい。
The thermoplastic resin sheet of the present invention can be produced by an extrusion tubular method, and sometimes a method called an inflation method. It is extremely important to make the sheet thickness uniform by appropriately selecting from the temperature range of 50 to 290 ° C so that the parison coming out of the cylinder does not cool down immediately. is there.
On the other hand, the polyphenylene ether resin sheet of the present invention can be produced by T-die extrusion. In this case, it may be used without stretching, may be uniaxially stretched, or may be obtained by biaxially stretching. When it is desired to increase the strength of the sheet, it can be achieved by stretching. You may use a gear pump and a screen changer suitably according to the objective.

ポリフェニレンエーテルを主成分とする樹脂組成物の場合、フィルム成形時のメヤニが発生しやく、メヤニ抑制のためには、真空ベントを設けることが効果的である。さらに原料フィード口やベント口周辺に窒素などに代表される不活性ガスを吹き込むことも効果がある。
本発明で使用される熱可塑性樹脂製フィルムの厚みは、特に制限はないが、0.005〜1.0mmが好ましい。より好ましくは0.010〜0.5mmが好ましく、0.010〜0.3mmが好ましく、特により好ましくは、0.01〜0.1mmである。
電気特性と線膨張係数のバランスの観点から、使用されるフィルムの厚みとガラス繊維織物の厚みを適宜選択できる。
In the case of a resin composition containing polyphenylene ether as a main component, it is easy to generate a scum at the time of film formation, and it is effective to provide a vacuum vent in order to suppress the scum. It is also effective to blow an inert gas typified by nitrogen or the like around the feed port and the vent port.
The thickness of the thermoplastic resin film used in the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.005 to 1.0 mm. More preferably, it is 0.010-0.5 mm, 0.010-0.3 mm is preferable, More preferably, it is 0.01-0.1 mm.
From the viewpoint of the balance between the electrical characteristics and the linear expansion coefficient, the thickness of the film used and the thickness of the glass fiber fabric can be appropriately selected.

ガラス繊維織物と本発明の熱可塑性樹脂製フィルムからなる積層体は、単層構造でも多層構造でもよい。それらの厚みについては特に制限はないが、単層構造の積層体の好ましい厚みは、0.005〜2.5mmであり、より好ましくは0.010〜1.5mmであり、更に好ましくは0.020〜0.8mmであり、特に好ましくは0.020〜0.5mmである。多層構造の積層体の好ましい厚みは、0.010〜10mmであり、より好ましくは0.030〜5.0mmであり、更に好ましくは0.050〜2.0mmであり、特に好ましくは0.080〜1.0mmである。
(A)ポリフェニレンエーテル単独の場合には、溶融加工性が不十分なことから、良溶媒に溶解し、溶液をガラス繊維織物に含浸させた後、加熱及び/または減圧により、溶媒を留去、乾燥により、積層体を得ることが好ましい。
The laminate comprising the glass fiber fabric and the thermoplastic resin film of the present invention may have a single layer structure or a multilayer structure. Although there is no restriction | limiting in particular about those thickness, The preferable thickness of the laminated body of a single layer structure is 0.005-2.5 mm, More preferably, it is 0.010-1.5 mm, More preferably, it is 0.00. It is 020-0.8 mm, Most preferably, it is 0.020-0.5 mm. A preferable thickness of the multilayer structure is 0.010 to 10 mm, more preferably 0.030 to 5.0 mm, still more preferably 0.050 to 2.0 mm, and particularly preferably 0.080. -1.0 mm.
(A) In the case of polyphenylene ether alone, since melt processability is insufficient, after dissolving in a good solvent and impregnating the solution into a glass fiber fabric, the solvent is distilled off by heating and / or decompression, It is preferable to obtain a laminate by drying.

これらの方法により得られた積層体に銅に代表される導体層をさらに積層する場合、メッキ法でもよいし、銅箔をプレス成形したり、接着剤を介してラミネートすることができる。ただし、電気特性を悪化させないためには、接着剤層の量を抑制することが好ましく、さらには使用しないことが好ましい。また銅箔とのピール強度の観点から、熱プレスによる方法が好ましい。
この熱プレス成形する場合においても、前述した条件と同様、240℃以上340℃以下が好ましい。気泡の観点から、好ましくは240℃以上、より好ましくは245℃以上であり、さらにより好ましくは、250℃以上である。樹脂の劣化の観点から、好ましくは340℃以下、より好ましくは320℃以下、さらにより好ましくは、300℃以下である。
When a conductor layer typified by copper is further laminated on the laminate obtained by these methods, a plating method may be used, or a copper foil may be press-molded or laminated via an adhesive. However, in order not to deteriorate the electrical characteristics, it is preferable to suppress the amount of the adhesive layer, and it is preferable not to use it. Moreover, the method by a hot press is preferable from a viewpoint of peel strength with copper foil.
Also in the case of this hot press molding, 240 degreeC or more and 340 degrees C or less are preferable similarly to the conditions mentioned above. From the viewpoint of bubbles, it is preferably 240 ° C. or higher, more preferably 245 ° C. or higher, and even more preferably 250 ° C. or higher. From the viewpoint of deterioration of the resin, it is preferably 340 ° C. or lower, more preferably 320 ° C. or lower, and even more preferably 300 ° C. or lower.

プレス圧力は、1MPa〜40MPaが好ましい。気泡をなくす観点から、好ましくは1MPa以上であり、より好ましくは2MPaであり、さらにより好ましくは4MPaである。ガラス繊維織物の開繊を抑制する観点から、好ましくは40MPa以下であり、より好ましくは30MPaであり、さらにより好ましくは15MPaである。
銅箔と樹脂間のピール強度を向上させる観点では、前述したように、熱可塑性樹脂組成物中のポリフェニレンエーテルが、フェノール性水酸基をフェニレンエーテルユニットの100個に対して0.9個以上含有することが好ましい。この水酸基の数は重合時に制御することもできる。ポリフェニレンエーテルの場合、よく知られているキノンカップリングと呼ばれる再分配反応により、増加させることもできる。また、重合後のパウダーを溶融混練などの加熱により、増加させることもできる。これは、ポリフェニレンエーテル主鎖中で、フリース転移反応により、主鎖にフェノール性水酸基が増加することによるものと考えられる。
The pressing pressure is preferably 1 MPa to 40 MPa. From the viewpoint of eliminating bubbles, it is preferably 1 MPa or more, more preferably 2 MPa, and even more preferably 4 MPa. From the viewpoint of suppressing the opening of the glass fiber fabric, it is preferably 40 MPa or less, more preferably 30 MPa, and even more preferably 15 MPa.
From the viewpoint of improving the peel strength between the copper foil and the resin, as described above, the polyphenylene ether in the thermoplastic resin composition contains 0.9 or more phenolic hydroxyl groups per 100 phenylene ether units. It is preferable. The number of hydroxyl groups can also be controlled during polymerization. In the case of polyphenylene ether, it can be increased by a well-known redistribution reaction called quinone coupling. In addition, the powder after polymerization can be increased by heating such as melt kneading. This is considered to be due to an increase in phenolic hydroxyl groups in the main chain due to the Fries transition reaction in the polyphenylene ether main chain.

こうして得られた積層体は、低吸水性に優れ、誘電率、誘電正接に代表される電気特性に優れ、さらに低線膨張係数化でき、耐熱性、銅箔ピール強度、外観、屈曲性に優れ、またノンハロゲン材料にできる。従って、焼却時、有毒ガスを発生させないため、環境に優しい。さらに、樹脂成分は熱可塑性樹脂であるため、金属部と分離しやすく、リサイクル可能であるため、環境適合性の高い積層体である。さらに電気特性としては、広い温度範囲、広い周波数範囲、高湿環境下において安定した特性を示す特徴がある。
従って以上の特性が要求される用途に、本発明の積層体が好適に用いられる。
例えば、電気回路基板、プリント基板材料、フレキシブル回路基板、リジッド回路基板、ビルドアップ用多層回路基板、層間絶縁膜などがあげられる。また低誘電材料であることから、衛星放送、自動車レーダー、無線LAN、光モジュール高周波部品、アンテナ、基地局用アンプ、各種高速伝送装置、テスター衛星通信用装置、高周波ケーブルなどの用途に好適である。
The laminate thus obtained has excellent low water absorption, excellent electrical characteristics such as dielectric constant and dielectric loss tangent, can further reduce the linear expansion coefficient, and is excellent in heat resistance, copper foil peel strength, appearance, and flexibility. In addition, non-halogen materials can be used. Therefore, it is environmentally friendly because it does not generate toxic gases during incineration. Furthermore, since the resin component is a thermoplastic resin, it is easily separated from the metal part and can be recycled, so that it is a highly environmentally friendly laminate. Further, the electrical characteristics are characterized by stable characteristics in a wide temperature range, wide frequency range, and high humidity environment.
Therefore, the laminate of the present invention is suitably used for applications requiring the above characteristics.
For example, an electric circuit board, a printed board material, a flexible circuit board, a rigid circuit board, a build-up multilayer circuit board, an interlayer insulating film, and the like can be given. The low dielectric material is suitable for applications such as satellite broadcasting, automotive radar, wireless LAN, optical module high-frequency components, antennas, base station amplifiers, various high-speed transmission devices, tester satellite communication devices, and high-frequency cables. .

以下、本発明を実施例及び比較例により、更に詳細に説明するが、本発明はこの実施例に示されたものに限定されるものではない。
(使用した原料)
(A)ポリフェニレンエーテル(以下、PPEと略記)
各PPEを、後述する製造例に従って、調整した。
(PPE−1):(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)パウダー
還元粘度:0.52dl/g、(0.5g/dl、クロロホルム溶液、30℃測定)
n(OH)=0.78
(ただし、n(OH):フェニレンエーテルユニットの100個に対してのフェノール性水酸基の個数。以下同様)
ガラス転移温度:215℃(DSC法、昇温速度20℃/分)
(PPE−2):(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)パウダー
還元粘度:0.54dl/g、(0.5g/dl、クロロホルム溶液、30℃測定)
n(OH)=0.32
(PPE−3):(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)パウダー
還元粘度:0.41dl/g、(0.5g/dl、クロロホルム溶液、30℃測定)n(OH)=1.12
(PPE−4):(2,6−ジメチルフェノール/2,3,6−トリメチルフェノール共重合体)パウダー
共重合比:2,6−ジメチルフェノール/2,3,6−トリメチルフェノール=76/24(質量比)
還元粘度:0.50dl/g、(0.5g/dl、クロロホルム溶液、30℃測定)
n(OH)=0.49
ガラス転位温度:230℃(DSC法、昇温速度20℃/分)
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, this invention is not limited to what was shown by this Example.
(Raw materials used)
(A) Polyphenylene ether (hereinafter abbreviated as PPE)
Each PPE was adjusted according to the production example described below.
(PPE-1): (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether) powder Reduced viscosity: 0.52 dl / g, (0.5 g / dl, chloroform solution, 30 ° C. measurement)
n (OH) = 0.78
(However, n (OH): Number of phenolic hydroxyl groups per 100 phenylene ether units. The same applies hereinafter.)
Glass transition temperature: 215 ° C. (DSC method, heating rate 20 ° C./min)
(PPE-2): (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether) powder reduced viscosity: 0.54 dl / g, (0.5 g / dl, chloroform solution, measured at 30 ° C.)
n (OH) = 0.32.
(PPE-3): (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether) powder reduced viscosity: 0.41 dl / g, (0.5 g / dl, chloroform solution, measured at 30 ° C.) n (OH) = 1 .12
(PPE-4): (2,6-dimethylphenol / 2,3,6-trimethylphenol copolymer) Powder copolymerization ratio: 2,6-dimethylphenol / 2,3,6-trimethylphenol = 76/24 (Mass ratio)
Reduced viscosity: 0.50 dl / g, (0.5 g / dl, chloroform solution, measured at 30 ° C.)
n (OH) = 0.49
Glass transition temperature: 230 ° C. (DSC method, heating rate 20 ° C./min)

[製造例1](PPE−1の合成)
(1)重合体調整
反応器底部に酸素ガス導入管、攪拌タービン翼及びバッフル、反応器上部のベントガスラインに凝縮のための還流冷却器を備えた10Lのジャケット付き反応器に、トルエンを2052g、メタノールを178g、触媒成分として酸化第一銅を0.6g、酸として臭化水素水(47%水溶液)を2.8g、ジ−t−ブチルエチレンジアミンを2.3g、ブチルジメチルアミンを26.5g、ジ−n−ブチルアミンを4.2g充填した。次いで、反応容器気相部に窒素を10NL/minの流量で導入したのち、酸素をガス導入管より1NL/minの流量で導入する一方、1330gのトルエンに溶解された2,6−ジメチルフェノール400gを40分間(モノマー追添所要時間)にわたって反応器内へ送り込んだ。反応温度は、40℃を保つように、ジャケットに熱媒を通して調整した。
[Production Example 1] (Synthesis of PPE-1)
(1) Polymer preparation A 10 L jacketed reactor equipped with an oxygen gas introduction pipe, a stirring turbine blade and baffle at the bottom of the reactor, and a reflux condenser for condensation in the vent gas line at the top of the reactor, 2052 g of toluene, 178 g of methanol, 0.6 g of cuprous oxide as a catalyst component, 2.8 g of hydrogen bromide (47% aqueous solution) as an acid, 2.3 g of di-t-butylethylenediamine, and 26.5 g of butyldimethylamine , 4.2 g of di-n-butylamine was charged. Next, after introducing nitrogen into the reaction vessel gas phase at a flow rate of 10 NL / min, oxygen is introduced from the gas introduction pipe at a flow rate of 1 NL / min, while 400 g of 2,6-dimethylphenol dissolved in 1330 g of toluene. Was fed into the reactor over 40 minutes (time required for monomer addition). The reaction temperature was adjusted by passing a heating medium through the jacket so as to maintain 40 ° C.

(2)触媒不活性化
モノマー添加開始時から66分後(重合停止時間)に、酸素を窒素に切り換え、かつ38%EDTA・3Na水溶液20gと水380gを添加することによって重合を停止させた。
(3)キノンカップリング反応
こうして得られたテトラメチルジフェノキノン(TMDQ)含有反応混合物を窒素下において70℃で180分間加熱した。(キノンカップリング反応)この時点において、反応混合物はもはやTMDQに特有の色を示さなかった。この溶液を50℃に冷却し、液−液遠心分離機によって銅塩および一部のアミンを含む水層を除去した。遠心分離後の反応混合物に約10倍容量のメタノールを添加して重合体を沈殿させた。かかる重合体を炉別し、メタノールで洗い、それから80℃の熱風乾燥機で乾燥した。
(2) Catalyst deactivation 66 minutes after the start of monomer addition (polymerization stop time), the polymerization was stopped by switching oxygen to nitrogen and adding 20 g of 38% EDTA · 3Na aqueous solution and 380 g of water.
(3) Quinone coupling reaction The tetramethyldiphenoquinone (TMDQ) -containing reaction mixture thus obtained was heated at 70 ° C. for 180 minutes under nitrogen. (Quinone Coupling Reaction) At this point, the reaction mixture no longer showed a color characteristic of TMDQ. The solution was cooled to 50 ° C., and the aqueous layer containing the copper salt and some amine was removed by a liquid-liquid centrifuge. About 10 times volume of methanol was added to the reaction mixture after centrifugation to precipitate a polymer. Such a polymer was furnace separated, washed with methanol, and then dried in a hot air dryer at 80 ° C.

[製造例2](PPE−2の合成)
(1)重合体調整は、製造例1と同様に実施した。
(2)触媒不活性化プロセスにおいて、モノマー添加開始時から61分後(重合停止時間)に、酸素を窒素に切り換え、かつ38%EDTA・3Na水溶液20gと水380gを添加することによって重合を停止させた。次にキノンカップリングを実施せずに、ヒドロキノンを9g反応混合物に加え、系内に存在するテトラメチルジフェノキノン(TMDQ)を還元処理した。この溶液を50℃に加熱し、液−液遠心分離機によって銅塩および一部のアミンを含む水層を除去した。遠心分離後の反応混合物に約10倍容量のメタノールを添加して重合体を沈殿させた。かかる重合体を炉別し、メタノールで洗い、それから80℃の熱風乾燥機で乾燥した。
[Production Example 2] (Synthesis of PPE-2)
(1) Polymer adjustment was carried out in the same manner as in Production Example 1.
(2) In the catalyst deactivation process, after 61 minutes from the start of monomer addition (polymerization stop time), the oxygen was switched to nitrogen, and the polymerization was stopped by adding 20 g of 38% EDTA · 3Na aqueous solution and 380 g of water. I let you. Next, without performing quinone coupling, 9 g of hydroquinone was added to the reaction mixture, and tetramethyldiphenoquinone (TMDQ) present in the system was reduced. This solution was heated to 50 ° C., and the aqueous layer containing the copper salt and some amine was removed by a liquid-liquid centrifuge. About 10 times volume of methanol was added to the reaction mixture after centrifugation to precipitate a polymer. Such a polymer was furnace separated, washed with methanol, and then dried in a hot air dryer at 80 ° C.

[製造例3](PPE−3の合成)
(2)触媒不活性化プロセスにおいて、モノマー添加開始時から、52分後(重合停止時間)酸素を窒素に切り換えたこと以外は、製造例1と同様に実施して、PPE−3を得た。
[Production Example 3] (Synthesis of PPE-3)
(2) In the catalyst deactivation process, PPE-3 was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that the oxygen was switched to nitrogen after 52 minutes (polymerization stop time) from the start of monomer addition. .

[製造例4](PPE−4の合成)
反応器底部に酸素ガス導入管、撹拌タービン翼及びバッフル、反応器上部のベントガスラインに凝縮のための還流冷却器を備えた10Lのジャケット付き重合槽に500ml/分の流量で窒素ガスを吹き込みながら、1.099gの塩化第二銅2水和物、4.705gの35%塩酸、41.971gのN,N,N’,N’−テトラメチルプロパンジアミン、31.658gのジ−n−ブチルアミン、1264gのn−ブタノール、544gのメタノール、3792gのキシレン、121.6gの2,6−ジメチルフェノール、38.4gの2,3,6−トリメチルフェノールを入れ、均一溶液となり、かつ反応器の内温が40℃になるまで撹拌した。
また、貯蔵槽に窒素ガス導入管、撹拌タービン翼及びバッフル、貯蔵槽上部のベントガスラインに還流冷却器を備えた5Lの貯蔵槽に、200ml/分の流量で窒素ガスを吹き込みながら、720gのメタノール、1094.4gの2,6−ジメチルフェノール、345.6gの2,3,6−トリメチルフェノールを入れ、均一溶液となるまで撹拌し、混合溶液を調合した。
[Production Example 4] (Synthesis of PPE-4)
While blowing nitrogen gas at a flow rate of 500 ml / min into a 10 L jacketed polymerization tank equipped with an oxygen gas introduction tube, a stirring turbine blade and baffle at the bottom of the reactor, and a reflux condenser for condensation at the vent gas line at the top of the reactor 1.099 g cupric chloride dihydrate, 4.705 g 35% hydrochloric acid, 41.971 g N, N, N ′, N′-tetramethylpropanediamine, 31.658 g di-n-butylamine 1264 g of n-butanol, 544 g of methanol, 3792 g of xylene, 121.6 g of 2,6-dimethylphenol and 38.4 g of 2,3,6-trimethylphenol were added to form a homogeneous solution, and the inside of the reactor Stir until the temperature is 40 ° C.
In addition, 720 g of methanol was blown into the 5 L storage tank equipped with a nitrogen gas introduction pipe, a stirring turbine blade and baffle in the storage tank, and a reflux condenser in the vent gas line at the top of the storage tank at a flow rate of 200 ml / min. 1094.4 g of 2,6-dimethylphenol and 345.6 g of 2,3,6-trimethylphenol were added and stirred until a homogeneous solution was prepared to prepare a mixed solution.

次いで、激しく撹拌した重合槽へ、重合槽へ1000ml/分の速度で酸素ガスをガス導入管より導入を始めると同時に、貯蔵槽から送液ポンプを用い、上記貯蔵槽内の混合溶液を21.6g/分の速度で逐次添加した。310分通気し、反応器の内温が40℃になるようコントロールした。なお、酸素ガスを供給開始140分後ポリフェニレンエーテルが析出しスラリー状の形態を示し、スラリー形態を示しはじめる前に混合溶液の添加は終了した。重合終結時の重合液の形態は沈殿析出重合である。
酸素含有ガスの通気をやめ、重合混合物にエチレンジアミン四酢酸3カリウム塩(同仁化学研究所製試薬)の50%水溶液を11.5g添加し60分間重合混合物を撹拌し、次いでハイドロキノン(和光純薬社製試薬)を少量ずつ添加し、スラリー状のポリフェニレンエーテルが白色となるまで撹拌を続けた。
反応器の内温は40℃になるようコントロールした。
Next, oxygen gas is started to be introduced into the polymerization tank through the gas introduction pipe at a rate of 1000 ml / min into the vigorously stirred polymerization tank, and at the same time, the mixed solution in the storage tank is 21. Sequential additions were made at a rate of 6 g / min. Aeration was performed for 310 minutes, and the internal temperature of the reactor was controlled to 40 ° C. In addition, 140 minutes after starting supply of oxygen gas, polyphenylene ether was precipitated to show a slurry form, and the addition of the mixed solution was completed before starting to show the slurry form. The form of the polymerization solution at the end of the polymerization is precipitation polymerization.
Stop the ventilation of the oxygen-containing gas, add 11.5 g of 50% aqueous solution of ethylenediaminetetraacetic acid tripotassium salt (a reagent manufactured by Dojindo Laboratories) to the polymerization mixture, stir the polymerization mixture for 60 minutes, and then hydroquinone (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) And the stirring was continued until the slurry polyphenylene ether became white.
The internal temperature of the reactor was controlled to 40 ° C.

その後、濾過して濾残の湿潤ポリフェニレンエーテルをメタノール6400gともに10L洗浄槽に入れ分散させ、30分間撹拌した後再度ろ過し、湿潤ポリフェニレンエーテルを得た。洗浄槽の内温は40℃になるようコントロールした。これを3回繰り返し、次いで140℃で150分真空乾燥し乾燥ポリフェニレンエーテル(PPE−4)を得た。
(B)(GC−1)ガラス繊維織物(旭化成エレクトロニクス社製 1000/AS750、厚み10μm)
(C)液晶ポリエステル(LCP)
Thereafter, the wet polyphenylene ether remaining after filtration was placed in a 10 L washing tank and dispersed together with 6400 g of methanol, stirred for 30 minutes, and then filtered again to obtain wet polyphenylene ether. The internal temperature of the washing tank was controlled to 40 ° C. This was repeated three times, and then vacuum-dried at 140 ° C. for 150 minutes to obtain dry polyphenylene ether (PPE-4).
(B) (GC-1) Glass fiber fabric (Asahi Kasei Electronics 1000 / AS750, thickness 10 μm)
(C) Liquid crystalline polyester (LCP)

[製造例5](LCPの合成)
窒素雰囲気下において、p−ヒドロキシ安息香酸、2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸、無水酢酸を仕込み、加熱溶融し、重縮合することにより、以下の理論構造式を有する液晶ポリエステル(LCP)を得た。なお、組成の成分比はモル比を表す。
[Production Example 5] (Synthesis of LCP)
Under a nitrogen atmosphere, p-hydroxybenzoic acid, 2-hydroxy-6-naphthoic acid, and acetic anhydride were charged, heated, melted, and polycondensed to obtain a liquid crystal polyester (LCP) having the following theoretical structural formula. . In addition, the component ratio of a composition represents molar ratio.

Figure 2010046914
Figure 2010046914

(C)(PMI)スチレン−Nフェニルマレイミド共重合体(MS−NA、電気化学工業社製)
(D)(ZnO)酸化亜鉛(銀嶺A(登録商標)、東邦亜鉛社製)
(E)(P−1)ホスフィン酸塩(Exolit OP930(登録商標)、クラリアントジャパン社製)
(付加的成分)(N−1)ポリエチレンイミン(エポミンSP−018(登録商標)、日本触媒社製)
(C) (PMI) Styrene-N phenylmaleimide copolymer (MS-NA, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
(D) (ZnO) zinc oxide (Ginbae A (registered trademark), manufactured by Toho Zinc Co., Ltd.)
(E) (P-1) Phosphinate (Exolit OP930 (registered trademark), manufactured by Clariant Japan)
(Additional component) (N-1) Polyethyleneimine (Epomin SP-018 (registered trademark), manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)

(評価方法)
以下に、評価方法について述べる。
<ポリフェニレンエーテルのフェノール性水酸基数測定>
(1) 試料がPPE−1〜4についてのパウダーあるいは押出による溶融混練後のペレットの場合
試料をそのまま、下記の秤量(W(mg))に供した。
(2) 試料が積層体の場合
試料をエッチング処理し、銅箔を除去し、水洗、乾燥した後、試料をまず30℃のクロロホルムに溶解し、不溶分を取り除き、溶液を大量のメタノールに注入する(再沈殿)ことにより、粉末を得、乾燥させる。ついで、塩化メチレンに加温しながら溶解させ、冷凍庫内(−5℃)に一晩静置することにより、析出物を得、これをろ過し、析出物を冷塩化メチレンにて洗浄した後、メタノールで洗浄し、140℃にて1時間真空乾燥することによりポリフェニレンエーテルを得る。このポリフェニレンエーテルを正確に秤量し(W(mg))、25mlの塩化メチレンに溶解し、10重量%濃度のテトラエチルアンモニウムヒドロキサイドのエタノール溶液を20μlを加え、UV分光光度計(日立(株)社製、U−3210)を用いて、318nmの吸光度(Abs)を測定し、次の式に基づいて算出できる。
n(OH)=63.9×(Abs)/(W)
(ただし、n(OH):フェニレンエーテルユニットの100個に対してのフェノール性水酸基の個数)
(Evaluation methods)
The evaluation method is described below.
<Measurement of the number of phenolic hydroxyl groups in polyphenylene ether>
(1) In the case where the sample was a powder of PPE-1 to PPE-1 or a pellet after melt-kneading by extrusion, the sample was subjected to the following weighing (W (mg)) as it was.
(2) When the sample is a laminate After etching the sample, removing the copper foil, washing with water and drying, the sample is first dissolved in chloroform at 30 ° C., the insoluble matter is removed, and the solution is poured into a large amount of methanol. By performing (reprecipitation), powder is obtained and dried. Next, the sample was dissolved in methylene chloride while heating and left standing overnight in a freezer (−5 ° C.) to obtain a precipitate, which was filtered and washed with cold methylene chloride. The polyphenylene ether is obtained by washing with methanol and vacuum drying at 140 ° C. for 1 hour. This polyphenylene ether was accurately weighed (W (mg)), dissolved in 25 ml of methylene chloride, added with 20 μl of 10 wt% ethanol solution of tetraethylammonium hydroxide, and UV spectrophotometer (Hitachi Co., Ltd.). The absorbance (Abs) at 318 nm is measured using U-3210), and can be calculated based on the following equation.
n (OH) = 63.9 × (Abs) / (W)
(However, n (OH): Number of phenolic hydroxyl groups per 100 phenylene ether units)

<吸水率>
実施例、比較例で得られた積層体の両面の銅箔をエッチング液でエッチングし、水洗、風乾し、40mm×40mmに切断し、飽和蒸気121℃、2気圧条件下で吸湿させた後、吸水率を測定した。
<吸湿後はんだ耐熱>
上記吸水率測定で実施した、吸湿後のサンプルを260℃の溶融はんだに1分間浮かべて、生じる欠点により、判断した。
○:全く外観の変化が認められなかった。
△:表面にふくれが認められた。
<吸湿後はんだ耐熱>
実施例、比較例で得られた銅箔付きの積層体を260℃の溶融はんだに1時間浮かべて、生じる欠点により、判断した。
○:全く外観の変化が認められなかった。
×:表面のふくれや銅箔のはがれが認められた。
<Water absorption rate>
The copper foils on both sides of the laminates obtained in Examples and Comparative Examples were etched with an etching solution, washed with water, air-dried, cut into 40 mm × 40 mm, and saturated moisture 121 ° C. after absorbing moisture under 2 atm. The water absorption was measured.
<Solder heat resistance after moisture absorption>
The sample after moisture absorption, which was carried out by the above water absorption measurement, was floated on a molten solder at 260 ° C. for 1 minute, and was judged by the defects produced.
○: No change in appearance was observed.
Δ: blistering was observed on the surface.
<Solder heat resistance after moisture absorption>
The laminates with copper foils obtained in the examples and comparative examples were floated on molten solder at 260 ° C. for 1 hour, and were judged by the resulting defects.
○: No change in appearance was observed.
X: Swelling on the surface and peeling of the copper foil were observed.

<電気特性(誘電率、誘電正接)>
(1MHzの場合)自動平衡ブリッジ法
実施例、比較例で得られた積層体の両面の銅箔をエッチング液でエッチングし、水洗、風乾し、40mm×40mmに切断し、JIS−K6911に準拠して、precision LCR meter HP−4285A(アジレント・テクノロジー(株)製)の装置を用いて、室温にて測定した。結果を表1と表2に示した。
なお、比較例3については、銅箔との積層をしないため、フィルムそのまま、測定に供した。
(1GHzの場合)円筒空胴共振器法
実施例、比較例で得られた積層体の両面の銅箔をエッチング液でエッチングし、水洗、風乾し、80mm×130mmに切断し、vector network analyzer HP8510C(アジレント・テクノロジー(株)製)、synthesized sweeper HP83651A(アジレント・テクノロジー(株)製)、test set HP8517B(アジレント・テクノロジー(株)製)装置を用い、共振器として、内径φ229mm、高さ40mmの円筒を用いて、室温にて測定した。結果を表2に示した。
(10GHzの場合)円筒空胴共振器法
サンプルサイズを65mm×80mmにしたことと、共振器として、内径φ42mm、高さ30mmの円筒を用いたこと以外は、上記1GHzの場合と同様に、測定した。結果を表2に示した。
<Electrical properties (dielectric constant, dielectric loss tangent)>
(In the case of 1 MHz) Automatic equilibrium bridge method The copper foils on both sides of the laminates obtained in the examples and comparative examples are etched with an etching solution, washed with water, air-dried, cut into 40 mm x 40 mm, and in accordance with JIS-K6911. Then, the measurement was performed at room temperature using a precision LCR meter HP-4285A (manufactured by Agilent Technologies). The results are shown in Tables 1 and 2.
In addition, about the comparative example 3, in order not to laminate | stack with copper foil, it used for the measurement as it was the film.
(Case of 1 GHz) Cylindrical cavity resonator method The copper foils on both sides of the laminates obtained in the examples and comparative examples were etched with an etchant, washed with water, air-dried, cut into 80 mm × 130 mm, and a vector network analyzer HP8510C. (Agilent Technology Co., Ltd.), synthesized swipeper HP83651A (Agilent Technology Co., Ltd.), test set HP8517B (Agilent Technology Co., Ltd.), using a device with an inner diameter of 229 mm and a height of 40 mm Measurement was performed at room temperature using a cylinder. The results are shown in Table 2.
(Case of 10 GHz) Cylindrical cavity resonator method Same as in the case of 1 GHz except that the sample size is 65 mm x 80 mm and a cylinder with an inner diameter of φ42 mm and a height of 30 mm is used as the resonator. did. The results are shown in Table 2.

<線膨張係数>
実施例、比較例で得られた積層体の両面の銅箔をエッチング液でエッチングし、水洗、風乾し、積層体のMDとTDについて、各々長手方向に、10mm×5mmに切断し、JIS−K7197に準拠して、熱機械分析装置(TMA、エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)製TMA/SS6100型)を用い、30−190℃の温度範囲にて、5℃/分の昇温速度にて、引張荷重29.4[mN]、空気中にて測定した。
<気泡>
実施例、比較例で得られた積層体の両面の銅箔をエッチング液でエッチングし、水洗、風乾し、基板サイズ約10mm×10mmに切断した後、樹脂包埋し断面を研磨した後、SEM(走査型電子顕微鏡)にて観察した。ガラス繊維織物のタテ糸、ヨコ糸、それぞれ10個の糸東を観察し、空隙の発見できた糸束数の割合を算出し、以下にて気泡の有無を判定した。
○:0%
△:0%を超え、30%以下
×:30%を超えたもの。
空隙(気泡)のないものが好ましい。
<Linear expansion coefficient>
The copper foils on both sides of the laminates obtained in Examples and Comparative Examples were etched with an etching solution, washed with water and air-dried, and each of MD and TD of the laminate was cut into 10 mm × 5 mm in the longitudinal direction, and JIS- In accordance with K7197, using a thermomechanical analyzer (TMA, TMA / SS6100 type manufactured by SII NanoTechnology Co., Ltd.), in a temperature range of 30-190 ° C., at a heating rate of 5 ° C./min. The tensile load was 29.4 [mN] and measured in air.
<Bubble>
The copper foils on both sides of the laminates obtained in Examples and Comparative Examples were etched with an etching solution, washed with water, air-dried, cut into a substrate size of about 10 mm × 10 mm, embedded in a resin, polished on a cross section, and then subjected to SEM. Observation was performed with a scanning electron microscope. Ten warps and wefts of glass fiber fabric were observed, and the ratio of the number of yarn bundles in which voids were found was calculated, and the presence or absence of bubbles was determined below.
○: 0%
Δ: Over 0%, 30% or less x: Over 30%.
Those without voids (bubbles) are preferred.

<ピール強度>
実施例、比較例で得られた積層体を用い、幅10mmにサンプルを切り出しTPC−TM−650規格2.4.9に従って、90度ピール剥離試験を実施し、銅箔との密着力を評価した。値が高いほど、密着力に優れる。
<外観>
実施例、比較例で得られた積層体の両面の銅箔をエッチング液でエッチングし、水洗、風乾し、基板の外観を目視にて、以下の判定基準にて判断した。
○:着色がなく、表面外観が均一で、気泡やゲルや毛羽立ちなどがない。
△:着色はないが、若干ゲルが観察される。
×:劣化由来の着色があるか、ゲルが多く観察される。
<Peel strength>
Using the laminates obtained in Examples and Comparative Examples, a sample was cut out to a width of 10 mm, a 90-degree peel peel test was performed according to TPC-TM-650 standard 2.4.9, and the adhesion to copper foil was evaluated. did. The higher the value, the better the adhesion.
<Appearance>
The copper foils on both sides of the laminates obtained in the examples and comparative examples were etched with an etching solution, washed with water and air-dried, and the appearance of the substrate was visually determined based on the following criteria.
○: There is no coloring, the surface appearance is uniform, and there are no bubbles, gels, or fluffing.
(Triangle | delta): Although there is no coloring, a gel is observed a little.
X: There is a color derived from deterioration or many gels are observed.

[実施例1、実施例2]
ポリフェニレンエーテルパウダー(PPE−1もしくはPPE−2)を50℃のトルエンに8重量%の濃度にて溶解させたポリマー溶液を容器に準備し、(B)ガラス織物繊維(GC−1)をロールからフィードしながら、ポリマー溶液を含浸させ、ロールトウロールにて、防爆タイプの加熱炉の中を通過させ、溶媒を留去し、乾燥する、という操作を2回繰り返し、ガラス繊維織物が芯層となるポリフェニレンエーテルの積層体(ア)を得た。厚みは30μmであった。
[Example 1 and Example 2]
A polymer solution prepared by dissolving polyphenylene ether powder (PPE-1 or PPE-2) in toluene at 50 ° C. at a concentration of 8% by weight is prepared in a container, and (B) the glass woven fiber (GC-1) is removed from the roll. While feeding, the polymer solution was impregnated, passed through an explosion-proof heating furnace with a roll toe roll, the solvent was distilled off, and the operation was repeated twice. A polyphenylene ether laminate (a) was obtained. The thickness was 30 μm.

これを290mm×200mm(MD×TD)サイズに切り出し、以下の構成にて真空熱プレスを実施した。すなわち、<1>ステンレス板、<2>クッション材(ステンレス製メッシュ材、ナスロン(登録商標)日本精線社製、1mm厚み)、<3>銅箔(電解銅箔SF F2−WS、古河サーキットフォイル社製、12μm厚み)(保護用)、<4>ポリイミドフィルム(50μm厚み、アピカル(登録商標、カネカ社製)×6枚(クッション用)、<5>銅箔(電解銅箔SF F2−WS、古河サーキットフォイル社製、12μm厚み)(光沢面を<4>側、粗面を<6>側)(積層体張り合わせ用)、<6>上記ポリフェニレンエーテル積層体(ア)、<7><5>と同一、<8><4>と同一、<9><3>と同一、<10><2>と同一、<11><1>と同一、の構成にして真空プレス機(北川精機 KVHCII−PRESS)を用いて、真空度4kPa、10MPaの圧力条件にて、昇温速度4℃/分、260℃設定到達後、30分間保持、熱プレス成形を行った。冷却時間は、約30分であった。得られた積層体を上記の評価項目に従って評価を実施し、結果を表1に示した。   This was cut out to a size of 290 mm × 200 mm (MD × TD), and vacuum hot press was performed with the following configuration. That is, <1> stainless steel plate, <2> cushion material (stainless steel mesh material, Naslon (registered trademark) manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd., 1 mm thickness), <3> copper foil (electrolytic copper foil SF F2-WS, Furukawa Circuit) Foil, 12 μm thickness (for protection), <4> polyimide film (50 μm thickness, Apical (registered trademark, manufactured by Kaneka) × 6 sheets (for cushion), <5> copper foil (electrolytic copper foil SF F2- WS, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd., 12 μm thick) (glossy surface <4> side, rough surface <6> side) (for laminate lamination), <6> Polyphenylene ether laminate (A), <7> Same as <5>, <8> <4>, <9> <3>, <10> <2>, <11> <1> Using Kitagawa Seiki KVHCII-PRESS), the temperature was raised under a pressure of 4 kPa and 10 MPa. After reaching the setting of 4 ° C./min and 260 ° C., holding was performed for 30 minutes and hot press molding was performed, and the cooling time was about 30 minutes. The results are shown in Table 1.

[実施例3]
押出機上流側から1番目のバレルに上流側供給口を有し、L/D(押出機のシリンダーの長さ/押出機のシリンダー径)=48(バレル数:12)の二軸押出機[ZSK−26MC:コペリオン社製]を用いて、上流側供給口からダイまでを290℃に設定し、スクリュー回転数300rpm、吐出量8kg/hで、ポリフェニレンエーテル(PPE−2)を、上流側供給口より原料を供給し、溶融混練して熱可塑性樹脂組成物ペレットを作製した。尚、このとき10番目のバレルに設置した真空ベントより、揮発分を除去した。
なお、得られたペレットのポリフェニレンエーテルのフェノール性水酸基濃度は、0.98(個/100ユニット)
得られたペレットを実施例2のポリフェニレンエーテル(PPE−2)パウダーの代わりに用いたこと以外は、実施例2と同様に、トルエン溶液に溶解して、ガラス繊維織物に含浸することにより、積層体を得、その後同様に銅箔との積層体を真空熱プレスにて得た。評価結果を表1に示した。
実施例2と実施例3の比較から、原料が同じPPE−2を用いても、熱履歴を制御することにより、ポリフェニレンエーテルのフェノール性水酸基濃度が異なり、銅箔ピール強度に違いがあることがわかる。
[Example 3]
A twin-screw extruder having an upstream supply port in the first barrel from the upstream side of the extruder and having L / D (extruder cylinder length / extruder cylinder diameter) = 48 (number of barrels: 12) [ ZSK-26MC: manufactured by Coperion Co., Ltd.], the upstream feed port to the die is set at 290 ° C., the screw rotation speed is 300 rpm, the discharge rate is 8 kg / h, and polyphenylene ether (PPE-2) is supplied upstream. The raw material was supplied from the mouth and melt-kneaded to produce thermoplastic resin composition pellets. At this time, volatile components were removed from a vacuum vent installed in the 10th barrel.
In addition, the phenolic hydroxyl group concentration of the polyphenylene ether of the obtained pellet was 0.98 (pieces / 100 units).
The obtained pellet was dissolved in a toluene solution and impregnated into a glass fiber fabric, except that it was used in place of the polyphenylene ether (PPE-2) powder of Example 2. After that, a laminate with a copper foil was similarly obtained by vacuum hot pressing. The evaluation results are shown in Table 1.
From the comparison between Example 2 and Example 3, even when PPE-2 is used as the raw material, the phenolic hydroxyl group concentration of polyphenylene ether is different by controlling the thermal history, and there is a difference in copper foil peel strength. Recognize.

[実施例4〜7、実施例11、比較例1]
押出機による溶融混練時、原料を表1に示した割合にしたことと、吐出量を12kg/hにしたこと以外は、実施例3と同様に、熱可塑性樹脂組成物のペレットを得た。
(1)Tダイ押出成形
得られたペレットを、ホッパー口に窒素を吹き込みながら、シリンダー温度300℃、ギアポンプを備え、スクリーンメッシュ200を備え、Tダイ幅300mm、Tダイ温度300℃に設定したスクリュー径26mmのベント付き2軸押出機(TEM26SS、東芝機械社製)を用い、第一金属ロール150℃、吐出量4kg/hr、回転数120rpm、引き取り速度25m/分にて、フィルム成形を実施した。得られたフィルム厚みは、13μmであった。
こうして得られたフィルム(イ)を、実施例1の<6>(積層体(ア))の代わりに、(イ)/(GC−1)/(イ)と3枚重ねたこと以外は、実施例1と同様に真空熱プレスを実施して、銅貼りの積層体を得た。
得られた積層体を実施例1と同様に、評価して、結果を表1に示した。
なお、実施例4については、1MHzに加え、1GHz、10GHzにおける電気特性の測定結果を表2に示した。広い周波数領域において、誘電率、誘電正接が安定していることがわかる。
[Examples 4 to 7, Example 11, Comparative Example 1]
The pellets of the thermoplastic resin composition were obtained in the same manner as in Example 3 except that the raw materials were changed to the ratios shown in Table 1 and the discharge rate was 12 kg / h during melt kneading with an extruder.
(1) T-die extrusion molding Screws obtained by blowing nitrogen into the hopper port, cylinder temperature 300 ° C, gear pump, screen mesh 200, T-die width 300mm, T-die temperature 300 ° C Using a bent twin screw extruder (TEM26SS, manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) with a diameter of 26 mm, the film was formed at a first metal roll of 150 ° C., a discharge rate of 4 kg / hr, a rotation speed of 120 rpm, and a take-off speed of 25 m / min. . The obtained film thickness was 13 μm.
The film (I) thus obtained was replaced with (I) / (GC-1) / (I) instead of <6> (Laminate (A)) of Example 1, A vacuum hot press was performed in the same manner as in Example 1 to obtain a copper-clad laminate.
The obtained laminate was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.
For Example 4, the measurement results of electrical characteristics at 1 GHz and 10 GHz in addition to 1 MHz are shown in Table 2. It can be seen that the dielectric constant and dielectric loss tangent are stable in a wide frequency range.

[実施例8]
実施例4の<6>((イ)/(GC−1)/(イ))の代わりに、(イ)/(GC−1)/(イ)/(イ)/(GC−1)/(イ)/(イ)/(GC−1)/(イ)/(イ)/(GC−1)/(イ)とガラス繊維織物を4層にして、重ねたこと以外は、実施例1と同様に真空熱プレスを実施して、銅貼りの積層体を得た。
得られた積層体を実施例1と同様に、評価して、結果を表1に示した。
[Example 8]
Instead of <6> ((I) / (GC-1) / (I)) in Example 4, (I) / (GC-1) / (I) / (I) / (GC-1) / Example 1 except that (b) / (b) / (GC-1) / (b) / (b) / (GC-1) / (b) and glass fiber woven fabric were made into four layers and stacked. In the same manner as above, vacuum hot pressing was performed to obtain a copper-clad laminate.
The obtained laminate was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

[実施例9]
実施例4の熱プレスの温度(260℃)を230℃としたこと以外は、実施例4と同様に、評価し、その結果を表1に示した。
プレス温度が低いと、空隙(気泡)が発生してしまい、吸湿後はんだ耐熱にも劣ることがわかる。
[Example 9]
Evaluation was conducted in the same manner as in Example 4 except that the temperature (260 ° C.) of the hot press in Example 4 was 230 ° C., and the results are shown in Table 1.
It can be seen that when the press temperature is low, voids (bubbles) are generated and the solder heat resistance is poor after moisture absorption.

[実施例10]
実施例4の熱プレスの温度(260℃)を350℃としたこと以外は、実施例4と同様に、評価し、その結果を表1に示した。
プレス温度が高すぎると、空隙(気泡)はなくなるが、外観や吸湿後はんだ耐熱にも劣ることがわかる。
[Example 10]
Evaluation was conducted in the same manner as in Example 4 except that the temperature (260 ° C.) of the hot press in Example 4 was set to 350 ° C., and the results are shown in Table 1.
When the press temperature is too high, voids (bubbles) disappear, but it is understood that the appearance and solder heat resistance after moisture absorption are poor.

[比較例2]
下記組成のワニスにガラスクロス(GC−1)を浸漬し、125℃のオーブン内で10分間乾燥、樹脂をBステ−ジ化させた。
(ワニス組成)
エピコートE157S70B75 30.0重量%
(高耐熱ノボラックエポキシ樹脂 油化シェルエポキシ社製)
エピコートE5050T60 30.0重量%
(高臭素難燃エポキシ樹脂 油化シェルエポキシ社製)
エピコート828 4.0重量%
(ビスフェノールA型エポキシ樹脂 油化シェルエポキシ社製)
エピキュアYLH129B70 29.0重量
(高耐熱フェノールノボラック樹脂 油化シェルエポキシ社製)
2E4MZ 0.1重量%
メチルセロゾルブ 6.9重量%
────────────────────────────────────
計 100重量%
[Comparative Example 2]
A glass cloth (GC-1) was immersed in a varnish having the following composition and dried in an oven at 125 ° C. for 10 minutes to form a B-staged resin.
(Varnish composition)
Epicoat E157S70B75 30.0% by weight
(High heat-resistant novolac epoxy resin, oil-coated shell epoxy)
Epicoat E5050T60 30.0% by weight
(High Bromine Flame Retardant Epoxy Resin Yuka Shell Epoxy)
Epicoat 828 4.0% by weight
(Bisphenol A type epoxy resin made by Yuka Shell Epoxy)
EpiCure YLH129B70 29.0 weight (High heat resistance phenol novolac resin, Yuka Shell Epoxy)
2E4MZ 0.1% by weight
Methyl cellosolve 6.9% by weight
────────────────────────────────────
100% by weight

こうして得られた積層板(ウ)のRDA法によるガラス転移温度は、200℃であった。
この積層体(ウ)を、実施例1の<6>(積層体(ア))の代わりに用いたことと、熱プレス温度を220℃にして、加圧時間を60分間、プレス圧力を5MPaとしたこと以外は、実施例1と同様に実施し、その評価結果を表1に示した。
以上のことから、本発明の実施例は、これら比較例2の吸水率、電気特性、線膨張係数、ピール強度、と比較して、積層板として優れていることがわかる。
The glass transition temperature by the RDA method of the laminated board (c) thus obtained was 200 ° C.
This laminate (c) was used in place of <6> (laminate (a)) of Example 1, the hot press temperature was 220 ° C., the pressurization time was 60 minutes, and the press pressure was 5 MPa. Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1, and the evaluation results are shown in Table 1.
From the above, it can be seen that the examples of the present invention are superior as laminates in comparison with the water absorption, electrical characteristics, linear expansion coefficient, and peel strength of Comparative Example 2.

[比較例3]
実施例4で得られたフィルム(イ)を、<6>(積層体(イ)/(GC−1)/(イ))の代わりに、ガラス繊維織物を用いないで、そのまま<6>((イ)×2枚)としたこと以外は、実施例4と同様に真空熱プレスを実施して、銅貼りの積層体を得た。評価結果を表1に示した。電気特性には優れるが、線膨張係数が非常に大きく、配線基板材には不適であることがわかる。
吸水後はんだ耐熱の結果は、ふくれなどはなかったが、取り出し冷却後、大きな反りが認められた。
ピール強度は、銅箔との密着力は良好であるため、フィルムの方が、破断してしまった。
[Comparative Example 3]
Instead of <6> (laminate (I) / (GC-1) / (I)), the film (I) obtained in Example 4 was used as it was without using a glass fiber fabric. Except for (a) x 2), vacuum hot pressing was performed in the same manner as in Example 4 to obtain a copper-clad laminate. The evaluation results are shown in Table 1. Although it is excellent in electrical characteristics, it can be seen that the coefficient of linear expansion is very large and is not suitable for a wiring board material.
As a result of solder heat resistance after water absorption, there was no blistering, but a large warp was observed after taking out and cooling.
The peel strength of the film was broken because the adhesive strength with the copper foil was good.

Figure 2010046914
Figure 2010046914

Figure 2010046914
Figure 2010046914

本発明の積層体は、低吸水性、電気特性、低線膨張係数、銅箔ピール強度、外観に優れた、熱可塑性樹脂組成物とガラス繊維織物との積層体であり、加えてPPEは、耐熱性、難燃性にも優れる素材であるため、プリント配線板材料、特に高周波向けの配線材用途、ノンハロゲン向け配線材料要求など、広く電子・電子部品などの幅広い分野に使用することができる。   The laminate of the present invention is a laminate of a thermoplastic resin composition and a glass fiber fabric excellent in low water absorption, electrical properties, low linear expansion coefficient, copper foil peel strength, and appearance. Since it is a material excellent in heat resistance and flame retardancy, it can be widely used in a wide range of fields such as electronic and electronic parts such as printed wiring board materials, especially for high frequency wiring materials, and non-halogen wiring material requirements.

Claims (18)

(A)ポリフェニレンエーテルを80質量%以上含有する熱可塑性樹脂組成物と(B)ガラス繊維織物からなる積層体。   (A) A laminate comprising a thermoplastic resin composition containing 80% by mass or more of polyphenylene ether and (B) a glass fiber fabric. 積層体中のポリフェニレンエーテルが、フェノール性水酸基をフェニレンエーテルユニットの100個に対して0.90個以上含有する請求項1に記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the polyphenylene ether in the laminate contains 0.90 or more phenolic hydroxyl groups per 100 phenylene ether units. (C)(A)以外の熱可塑性樹脂が、芳香族ビニル化合物重合体、芳香族ビニル化合物共重合体、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアミド6、ポリアミド66、ポリアミド66/6、芳香族環含有ポリアミド、脂肪族環含有ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォンから選ばれる1種以上であり、樹脂組成物が(A)と(C)の合計100質量部に対し、(C)を20質量部以下含有する、請求項1または2のいずれかに記載の積層体。   (C) A thermoplastic resin other than (A) is an aromatic vinyl compound polymer, an aromatic vinyl compound copolymer, polypropylene, polyethylene, polyamide 6, polyamide 66, polyamide 66/6, aromatic ring-containing polyamide, fat Group ring-containing polyamide, polyphenylene sulfide, liquid crystal polymer, polyether ether ketone, polyarylate, polyether sulfone, and polysulfone, and the resin composition has a total of 100 parts by mass of (A) and (C) On the other hand, the laminated body in any one of Claim 1 or 2 which contains 20 mass parts or less of (C). (C)成分が液晶ポリマー及び/または芳香族ビニル−マレイミド系共重合体である、請求項3に記載の積層体。   The laminate according to claim 3, wherein the component (C) is a liquid crystal polymer and / or an aromatic vinyl-maleimide copolymer. 樹脂組成物が、(A)と(C)の合計100質量部に対し、(D)Zn元素及び/またはMg元素を含有する化合物を3質量部以下含有する、請求項1〜4のいずれかに記載の積層体。   The resin composition contains 3 parts by mass or less of a compound containing (D) Zn element and / or Mg element with respect to 100 parts by mass in total of (A) and (C). The laminated body as described in. 樹脂組成物が、(A)と(C)の合計100質量部に対し、(E)ホスフィン酸塩1〜10質量部含有する、請求項1〜5のいずれかに記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein the resin composition contains 1 to 10 parts by mass of (E) phosphinate with respect to 100 parts by mass of the total of (A) and (C). 銅箔がさらに張り合わされた、請求項1〜6のいずれかに記載の積層体。   The laminated body in any one of Claims 1-6 with which copper foil was further bonded together. ガラス繊維織物が2層以上からなる請求項1〜7のいずれかに記載の多層積層体。   The multilayer laminate according to any one of claims 1 to 7, wherein the glass fiber fabric comprises two or more layers. 熱可塑性樹脂組成物製フィルムとガラス繊維織物を、240℃以上340℃以下の温度にて、かつ1MPa〜40MPaの圧力にて、熱プレス成形する、請求項1〜8に記載の積層体の製造方法。   The production of the laminate according to claim 1, wherein the thermoplastic resin composition film and the glass fiber fabric are hot press molded at a temperature of 240 ° C. or higher and 340 ° C. or lower and at a pressure of 1 MPa to 40 MPa. Method. 30kPa以下の真空状態にて熱プレス成形する、請求項9に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 9, wherein hot press molding is performed in a vacuum state of 30 kPa or less. 熱可塑性樹脂組成物を予め、良溶媒に溶解し、溶液をガラス繊維織物に含浸させた後、加熱及び/または減圧により、溶媒を留去する、請求項1〜6に記載の積層体の製造方法。   The thermoplastic resin composition is preliminarily dissolved in a good solvent, the solution is impregnated into a glass fiber fabric, and then the solvent is distilled off by heating and / or decompression. Method. 請求項11で得られた積層体と、さらに銅箔と張り合わせるために、240℃以上340℃以下の温度にて、かつ1MPa〜40MPaの圧力にて、熱プレス成形する積層体の製造方法。   The manufacturing method of the laminated body which carries out hot press molding at the temperature of 240 degreeC or more and 340 degrees C or less, and the pressure of 1 Mpa-40 Mpa in order to stick together with the laminated body obtained in Claim 11. ロールトウロールにより連続成形する、請求項9〜12に記載の製造方法。   The production method according to claim 9, wherein the continuous forming is performed by a roll toe roll. 請求項1〜8のいずれかに記載の積層体を用いる、電気回路基板。   The electric circuit board using the laminated body in any one of Claims 1-8. 請求項1〜8のいずれかに記載の積層体を用いる、層間絶縁膜。   The interlayer insulation film using the laminated body in any one of Claims 1-8. 請求項1〜8のいずれかに記載の積層体を用いる、フレキシブル回路基板。   The flexible circuit board using the laminated body in any one of Claims 1-8. 請求項1〜8のいずれかに記載の積層体を用いる、リジッド回路基板。   The rigid circuit board using the laminated body in any one of Claims 1-8. 請求項1〜8のいずれかに記載の積層体を用いる、ビルドアップ用多層回路基板。   A multilayer circuit board for buildup using the laminate according to any one of claims 1 to 8.
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