JP3909852B2 - Release film for printed circuit board manufacturing - Google Patents
Release film for printed circuit board manufacturing Download PDFInfo
- Publication number
- JP3909852B2 JP3909852B2 JP2004121112A JP2004121112A JP3909852B2 JP 3909852 B2 JP3909852 B2 JP 3909852B2 JP 2004121112 A JP2004121112 A JP 2004121112A JP 2004121112 A JP2004121112 A JP 2004121112A JP 3909852 B2 JP3909852 B2 JP 3909852B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- printed circuit
- circuit board
- release film
- film
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 49
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 93
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims description 70
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 63
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 48
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 claims description 31
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 30
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims description 25
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 24
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 claims description 23
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 23
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 18
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 18
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 16
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 12
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 9
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 8
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 6
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 3
- 239000002352 surface water Substances 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 179
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 18
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 16
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 16
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 14
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 13
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 13
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 12
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 12
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 11
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 10
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 9
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 9
- NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 2,6-Dimethylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1O NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 6
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 6
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 6
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 5
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- QQOMQLYQAXGHSU-UHFFFAOYSA-N 2,3,6-Trimethylphenol Chemical compound CC1=CC=C(C)C(O)=C1C QQOMQLYQAXGHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GVLZQVREHWQBJN-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethyl-7-oxabicyclo[2.2.1]hepta-1,3,5-triene Chemical compound CC1=C(O2)C(C)=CC2=C1 GVLZQVREHWQBJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAUQJMHLAFIZDU-UHFFFAOYSA-N 6-Hydroxy-2-naphthoic acid Chemical compound C1=C(O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 KAUQJMHLAFIZDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004974 Thermotropic liquid crystal Substances 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012787 coverlay film Substances 0.000 description 4
- 238000009820 dry lamination Methods 0.000 description 4
- 229920005669 high impact polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 239000004797 high-impact polystyrene Substances 0.000 description 4
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 4
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 3
- 229940057995 liquid paraffin Drugs 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920013636 polyphenyl ether polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100389815 Caenorhabditis elegans eva-1 gene Proteins 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- 229920002633 Kraton (polymer) Polymers 0.000 description 2
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920010524 Syndiotactic polystyrene Polymers 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- CEGOLXSVJUTHNZ-UHFFFAOYSA-K aluminium tristearate Chemical compound [Al+3].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CEGOLXSVJUTHNZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229940063655 aluminum stearate Drugs 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N ethyl ethylene Natural products CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L magnesium stearate Chemical compound [Mg+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical group CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GVYNKEKVVRYKHY-UHFFFAOYSA-N (3-amino-5-trimethoxysilylpentyl)urea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(N)CCNC(N)=O GVYNKEKVVRYKHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPGZBHOFTGSDNP-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical group CO[Si](OC)(OC)CCC(N)C1=CC=CC=C1 OPGZBHOFTGSDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUNNUNBSGQSGDY-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-6-methylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC(C)=C1O KUNNUNBSGQSGDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBVTYKYFWSUNFZ-UHFFFAOYSA-N 2-dimethoxysilylethanethiol Chemical group CO[SiH](CCS)OC VBVTYKYFWSUNFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVNPFNZTPMWRAX-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethanethiol Chemical group CCO[Si](CCS)(OCC)OCC DVNPFNZTPMWRAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOSLJXKHQKRRFN-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethanethiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCS LOSLJXKHQKRRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRXOKDOOUFYKLX-UHFFFAOYSA-N 3,5-dichloro-7-oxabicyclo[2.2.1]hepta-1(6),2,4-triene Chemical compound ClC1=C(O2)C(Cl)=CC2=C1 GRXOKDOOUFYKLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZQJSDJLHIHJRJ-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(ethyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)CCCS UZQJSDJLHIHJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBNRBJNIYVXSQV-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCS MBNRBJNIYVXSQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXRLIZRDCCQKDZ-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-5-methyl-7-oxabicyclo[2.2.1]hepta-1,3,5-triene Chemical compound CC1=C(O2)C(CC)=CC2=C1 KXRLIZRDCCQKDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C=O FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNTRMVRTACZZIO-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN=C=O NNTRMVRTACZZIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropylurea Chemical group CO[Si](OC)(OC)CCCNC(N)=O LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGWOAPBVIGCNOV-UHFFFAOYSA-N 5-ethenyldec-5-ene Chemical compound CCCCC=C(C=C)CCCC UGWOAPBVIGCNOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBLQAYJAKWKR-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-3-phenyl-7-oxabicyclo[2.2.1]hepta-1,3,5-triene Chemical compound O1C=2C(C)=CC1=CC=2C1=CC=CC=C1 NGNBLQAYJAKWKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- VXWOQARWNCWEDU-UHFFFAOYSA-N N(C(=O)N)CCCC(C)O[Si](OCC)(OCC)C Chemical compound N(C(=O)N)CCCC(C)O[Si](OCC)(OCC)C VXWOQARWNCWEDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOQLPVXRDQIOHL-UHFFFAOYSA-N N(C(=O)N)CCCCO[Si](OC)(OC)C Chemical compound N(C(=O)N)CCCCO[Si](OC)(OC)C ZOQLPVXRDQIOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XDEOZZDFNYGLHY-UHFFFAOYSA-K antimony(3+);octadecanoate Chemical compound [Sb+3].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XDEOZZDFNYGLHY-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- GWOWVOYJLHSRJJ-UHFFFAOYSA-L cadmium stearate Chemical compound [Cd+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O GWOWVOYJLHSRJJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- UQLDLKMNUJERMK-UHFFFAOYSA-L di(octadecanoyloxy)lead Chemical compound [Pb+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O UQLDLKMNUJERMK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- OOISEBIWKZXNII-UHFFFAOYSA-N diethoxy-ethyl-(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)CCCN=C=O OOISEBIWKZXNII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOWSUOKIHAQPCR-UHFFFAOYSA-N diethoxy-ethyl-[1-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethoxy]silane Chemical compound C1C(C(C)O[Si](CC)(OCC)OCC)CCC2OC21 MOWSUOKIHAQPCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJTGYJODGVUOGO-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](C)(OCC)OCC UJTGYJODGVUOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYZXIJYWXFEAFG-UHFFFAOYSA-N ethyl-(3-isocyanatopropyl)-dimethoxysilane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCCN=C=O WYZXIJYWXFEAFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000012757 flame retardant agent Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N imidazolidin-2-one Chemical compound O=C1NCCN1 YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004573 interface analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019359 magnesium stearate Nutrition 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- GNARHXWTMJZNTP-UHFFFAOYSA-N methoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[SiH2]CCCOCC1CO1 GNARHXWTMJZNTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBNXYLDLGARYKQ-UHFFFAOYSA-N methoxy-dimethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(C)CCCOCC1CO1 FBNXYLDLGARYKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-diol Chemical compound C1=C(O)C=CC2=CC(O)=CC=C21 MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMWUYEFBFUCSAK-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);octadecanoate Chemical compound [Ni+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O JMWUYEFBFUCSAK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JFOJYGMDZRCSPA-UHFFFAOYSA-J octadecanoate;tin(4+) Chemical compound [Sn+4].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O JFOJYGMDZRCSPA-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCCIMQKMMBVWHO-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid;titanium Chemical compound [Ti].CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O MCCIMQKMMBVWHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 238000005453 pelletization Methods 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 235000012424 soybean oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000003549 soybean oil Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- DDBUVUBWJVIGFH-UHFFFAOYSA-N trichloro(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCCN=C=O DDBUVUBWJVIGFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 229940089401 xylon Drugs 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
Description
本発明は、プリント基板、特にフレキシブルプリント基板製造時に使われる離型フィルムに関する。更に詳しくは、ポリフェニレンエーテル系樹脂組成を有し、離型性・耐汚染性・耐吸湿性に優れ、かつプリント基板製品にしわを与えにくく、離型フィルム自身にもしわがつきにくい離型フィルムに関する。 The present invention relates to a release film used in manufacturing a printed circuit board, particularly a flexible printed circuit board. More specifically, the present invention relates to a release film having a polyphenylene ether-based resin composition, excellent in releasability, stain resistance, and moisture absorption resistance, hardly causing wrinkles on a printed circuit board product, and hardly causing wrinkles on the release film itself. .
プリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板、多層プリント配線基板等の製造工程において、プリプレグ又は耐熱フィルムを介して銅張積層板又は銅箔を熱プレスする際に離型フィルムが使用されている。また、フレキシブルプリント基板の製造工程において、電気回路を形成したフレキシブルプリント基板本体に、熱硬化型接着剤によってカバーレイフィルムを熱プレス接着する際に、カバーレイフィルムとプレス熱板とが接着するのを防止したり、単層あるいは多層のプリント基板を同時に複数製造する際に、プリント基板同士が接着するのを防止したり、プリント基板製品を保護することを目的に、離型フィルムを挿入する方法が広く行われている。 In a manufacturing process of a printed wiring board, a flexible printed wiring board, a multilayer printed wiring board, etc., a release film is used when a copper-clad laminate or a copper foil is hot-pressed through a prepreg or a heat-resistant film. In addition, in the manufacturing process of a flexible printed circuit board, when the cover lay film is hot-press bonded with a thermosetting adhesive to the flexible printed circuit board body on which the electric circuit is formed, the cover lay film and the press hot plate are bonded. Method of inserting a release film for the purpose of preventing adhesion of printed circuit boards or protecting printed circuit board products when simultaneously manufacturing a plurality of single or multilayer printed circuit boards Is widely practiced.
従来、離型フィルムとしては、ポリメチルペンテンフィルム、シリコーン塗布ポリエステルフィルム、フッ素系フィルム、シンジオタクチックポリスチレンフィルム、脂環式ポリオレフィンフィルム、ポリアミドフィルムおよびポリエーテル芳香族ケトン樹脂フィルムなどが提案されていた。(例えば特許文献1〜4)
しかしながら、上記提案されている離型フィルムでは、カバーレイフィルム等との離型性、熱収縮によるしわまたは耐熱性などの点において十分であるとは言えないものであった。
さらに、近年、環境問題や安全性に対する社会的要請の高まりから、これらの離型フィルムに対して、熱プレス成形に耐える耐熱性、プリント配線基板(PIやエポキシ樹脂、エポキシ接着剤や銅箔等も含む。)や熱プレス板に対する離型といった機能に加えて、耐吸湿性、剛性、耐汚染性も求められてきている。
Conventionally, as a release film, a polymethylpentene film, a silicone-coated polyester film, a fluorine-based film, a syndiotactic polystyrene film, an alicyclic polyolefin film, a polyamide film, and a polyether aromatic ketone resin film have been proposed. . (For example, Patent Documents 1 to 4)
However, the proposed release film cannot be said to be sufficient in terms of releasability from a coverlay film or the like, wrinkles due to heat shrinkage or heat resistance.
Furthermore, in recent years, due to increasing environmental demands and social demands for safety, these release films have heat resistance that can withstand hot press molding, printed wiring boards (PI, epoxy resin, epoxy adhesive, copper foil, etc.) In addition to functions such as mold release from a hot press plate, moisture absorption resistance, rigidity, and contamination resistance have been demanded.
本発明の課題は、離型性・耐汚染性・耐吸湿性に優れ、かつ熱収縮の小さい(即ちプリント基板製品にしわを与えにくく、かつ離型フィルム自身にもしわがつきにくい)離型フィルムを提供することである。 The object of the present invention is to provide a release film that is excellent in releasability, stain resistance, and moisture absorption resistance and has a small thermal shrinkage (that is, it is difficult to wrinkle printed circuit board products and the release film itself does not wrinkle). Is to provide.
本発明者らは上記課題を達成する技術を鋭意検討した結果、ポリフェニレンエーテル系樹脂を主成分とする樹脂組成を有するフィルムが、上記特性に優れ、プリント基板の製造時に用いられる離型フィルムとして適していることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、
1.(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂50〜99.5重量部と(B)液晶ポリエステル0.5〜50重量部を含有する樹脂層(P)からなるプリント基板製造用離型フィルム、
2.(A)成分と(B)成分の合計100重量部に対して、(C)I価、II価、III価またはIV価の金属元素を含有する化合物0.1〜10重量部を含有する樹脂層(P)からなる上記1に記載のプリント基板製造用離型フィルム、
3.(C)I価、II価、III価またはIV価の金属元素が、Zn元素及び/またはMg元素である樹脂層(P)からなる上記2に記載のプリント基板製造用離型フィルム、
4.(A)成分と(B)成分の合計100重量部に対して、(D)シラン化合物0.1〜5重量部を含有する樹脂層(P)からなる上記1〜3のいずれかに記載のプリント基板製造用離型フィルム、
5.(D)シラン化合物が、アミノ基を有するシラン化合物である樹脂層(P)からなる上記4に記載のプリント基板製造用離型フィルム、
6.(A)成分と(B)成分の合計100重量部に対して、(E)炭化水素系ワックス0.1〜4重量部を含有する樹脂層(P)からなる上記1〜5のいずれかに記載のプリント基板製造用離型フィルム、
7.上記1〜6のいずれかに記載の樹脂層(P)からなる、単層構造を有するプリント基板製造用離型フィルム、
8.上記1〜6のいずれかに記載の樹脂層(P)と、(F)エラストマーを含有する層(Q)からなる多層構造を有するプリント基板製造用離型フィルム、
9.(F)エラストマーが、(F1)芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物のブロック共重合体の部分水添ポリマーである上記8に記載のプリント基板製造用離型フィルム、
10.(F1)成分が芳香族ビニル化合物結合量が5重量%〜65重量%であるブロック共重合体の部分水添ポリマーである上記9に記載のプリント基板製造用離型フィルム、
11.(F)エラストマーが、(F2)エチレンとビニルエステル化合物との共重合体である上記8に記載のプリント基板製造用離型フィルム、
12.押出しチューブラー法により成形して得られる上記1〜11のいずれかに記載のプリント基板製造用離型フィルム、
13.Tダイ押出し法により成形して得られる上記1〜11のいずれかに記載のプリント基板製造用離型フィルム、
14.最外表層のフィルム表面と水滴との接触角が80°以上である上記1〜13のいずれかに記載のプリント基板製造用離型フィルム、および
15.プリント基板がフレキシブルプリント基板である上記1〜14のいずれかに記載のプリント基板製造用離型フィルム
を提供するものである。
As a result of intensive studies on the technology for achieving the above-mentioned problems, the present inventors have found that a film having a resin composition mainly composed of a polyphenylene ether resin is excellent in the above characteristics and suitable as a release film used in the production of a printed circuit board. As a result, the present invention has been completed.
That is, the present invention
1. (A) A release film for producing a printed circuit board comprising a resin layer (P) containing 50 to 99.5 parts by weight of a polyphenylene ether resin and (B) 0.5 to 50 parts by weight of a liquid crystal polyester,
2. A resin containing 0.1 to 10 parts by weight of a compound containing (C) an I-valent, II-valent, III-valent or IV-valent metal element with respect to a total of 100 parts by weight of the component (A) and the component (B) 2. A release film for producing a printed circuit board according to 1 above, comprising a layer (P),
3. (C) The release film for producing a printed circuit board according to 2 above, wherein the I-valent, II-valent, III-valent, or IV-valent metal element is a resin layer (P) in which the element is Zn and / or Mg.
4). (A) The total amount of 100 parts by weight of the component and the (B) component, wherein (D) the resin layer (P) containing 0.1 to 5 parts by weight of the silane compound is used. Release film for printed circuit board production,
5. (D) The release film for producing a printed circuit board according to 4 above, wherein the silane compound comprises a resin layer (P) which is a silane compound having an amino group,
6). Any one of the above 1 to 5 comprising the resin layer (P) containing 0.1 to 4 parts by weight of a hydrocarbon wax (E) with respect to 100 parts by weight of the total of the component (A) and the component (B) Release film for manufacturing printed circuit board according to the description,
7). A release film for producing a printed circuit board having a single layer structure, comprising the resin layer (P) according to any one of 1 to 6 above,
8). A release film for producing a printed circuit board having a multilayer structure comprising the resin layer (P) according to any one of 1 to 6 above and (F) a layer (Q) containing an elastomer,
9. (F) The release film for producing a printed circuit board according to 8 above, wherein the elastomer is a partially hydrogenated polymer of a block copolymer of (F1) an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound,
10. (F1) The release film for producing a printed circuit board according to 9 above, wherein the component is a partially hydrogenated polymer of a block copolymer having an aromatic vinyl compound bond amount of 5 wt% to 65 wt%,
11. (F) The release film for producing a printed circuit board according to 8 above, wherein the elastomer is a copolymer of (F2) ethylene and a vinyl ester compound,
12 A release film for producing a printed circuit board according to any one of the above 1 to 11 , obtained by molding by an extruded tubular method,
13. A release film for producing a printed circuit board according to any one of 1 to 11, obtained by molding by a T-die extrusion method,
14 14. The release film for producing a printed circuit board according to any one of 1 to 13 above, wherein the contact angle between the film surface of the outermost surface layer and water droplets is 80 ° or more, and The release film for producing a printed circuit board according to any one of the above 1 to 14, wherein the printed circuit board is a flexible printed circuit board.
本発明により、離型性・耐汚染性・耐吸湿性に優れ、かつ熱収縮の小さい離型フィルムを提供することが可能となった。 According to the present invention, it has become possible to provide a release film that is excellent in releasability, stain resistance, and moisture absorption resistance and that has low thermal shrinkage.
以下、本発明について具体的に説明する。
本発明の(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂とは、(式1)の繰り返し単位構造からなり、還元粘度(0.5g/dl、クロロホルム溶液、30℃測定)が、0.15〜1.0dl/gの範囲にあるホモ重合体及び/または共重合体である。さらに好ましい還元粘度は、0.20〜0.70dl/gの範囲、最も好ましくは0.40〜0.60の範囲である。
Hereinafter, the present invention will be specifically described.
The (A) polyphenylene ether resin of the present invention has a repeating unit structure of (Formula 1), and has a reduced viscosity (0.5 g / dl, chloroform solution, measured at 30 ° C.) of 0.15 to 1.0 dl / A homopolymer and / or copolymer in the range of g. A more preferred reduced viscosity is in the range of 0.20 to 0.70 dl / g, most preferably in the range of 0.40 to 0.60.
(R1、R4は、それぞれ独立して、水素、第一級もしくは第二級の低級アルキル、フェニル、アミノアルキル、炭化水素オキシを表わす。R2、R3は、それぞれ独立して、水素、第一級もしくは第二級の低級アルキル、フェニルを表す) (R 1 and R 4 each independently represent hydrogen, primary or secondary lower alkyl, phenyl, aminoalkyl, hydrocarbon oxy. R 2 and R 3 each independently represent hydrogen Represents primary or secondary lower alkyl or phenyl)
このポリフェニレンエーテル系樹脂の具体的な例としては、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2−メチル−6−フェニル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2,6−ジクロロ−1,4−フェニレンエーテル)等が挙げられ、さらに、2,6−ジメチルフェノールと他のフェノール類(例えば、2,3,6−トリメチルフェノールや2−メチル−6−ブチルフェノール)との共重合体のようなポリフェニレンエーテル共重合体も挙げられる。中でもポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)、2,6−ジメチルフェノールと2,3,6−トリメチルフェノールとの共重合体が好ましく、さらにポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)が好ましい。 Specific examples of the polyphenylene ether resin include poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether), poly (2-methyl-6-ethyl-1,4-phenylene ether), and poly (2 -Methyl-6-phenyl-1,4-phenylene ether), poly (2,6-dichloro-1,4-phenylene ether) and the like, and 2,6-dimethylphenol and other phenols (for example, Polyphenylene ether copolymers such as 2,3,6-trimethylphenol and 2-methyl-6-butylphenol). Of these, poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether) and a copolymer of 2,6-dimethylphenol and 2,3,6-trimethylphenol are preferable, and poly (2,6-dimethyl-1 , 4-phenylene ether).
(A)ポリフェニレンエーテルの製造方法の例として、米国特許第3306874号明細書記載の第一銅塩とアミンのコンプレックスを触媒として用い、2,6−キシレノールを酸化重合する方法がある。米国特許第3306875号、同第3257357号および同第3257358号の明細書、特公昭52−17880号および特開昭50−51197号および同63−152628号の各公報等に記載された方法も(A)ポリフェニレンエーテルの製造方法として好ましい。
(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂は、重合行程後のパウダーのまま用いてもよいし、押出機などを用いて、窒素ガス雰囲気下あるいは非窒素ガス雰囲気下、脱揮下あるいは非脱揮下にて溶融混練することでペレット化して用いてもよい。
(A) As an example of the production method of polyphenylene ether, there is a method of oxidative polymerization of 2,6-xylenol using a complex of cuprous salt and amine described in US Pat. No. 3,306,874 as a catalyst. The methods described in U.S. Pat. Nos. 3,306,875, 3,257,357 and 3,257,358, Japanese Patent Publication Nos. 52-17880, and JP-A-50-51197 and 63-152628 are also available ( A) It is preferable as a method for producing polyphenylene ether.
(A) The polyphenylene ether-based resin may be used as a powder after the polymerization process, or using an extruder or the like, under a nitrogen gas atmosphere or a non-nitrogen gas atmosphere, under devolatilization or under non-devolatilization You may use it by pelletizing by melt-kneading.
(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂は、種々のジエノフィル化合物により官能化されたポリフェニレンエーテルも含まれる。種々のジエノフィル化合物には、例えば無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸、フェニルマレイミド、イタコン酸、アクリル酸、メタクリル酸、メチルアリレート、メチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、ステアリルアクリレート、スチレンなどの化合物が挙げられる。さらにこれらジエノフィル化合物により官能化する方法としては、ラジカル発生剤存在下あるいは非存在下で押出機などを用い、脱揮下あるいは非脱揮下にて溶融状態で官能化してもよい。あるいはラジカル発生剤存在下あるいは非存在下で、非溶融状態、すなわち室温以上、かつ融点以下の温度範囲にて官能化してもよい。この際、ポリフェニレンエーテルの融点は、示差熱走査型熱量計(DSC)の測定において、20℃/分で昇温するときに得られる温度−熱流量グラフで観測されるピークのピークトップ温度で定義され、ピークトップ温度が複数ある場合にはその内の最高の温度で定義される。 The (A) polyphenylene ether resin also includes polyphenylene ether functionalized with various dienophile compounds. Examples of various dienophile compounds include maleic anhydride, maleic acid, fumaric acid, phenylmaleimide, itaconic acid, acrylic acid, methacrylic acid, methyl allylate, methyl methacrylate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, stearyl acrylate, styrene, and the like. Can be mentioned. Furthermore, as a method of functionalizing with these dienophile compounds, the functionalization may be performed in a molten state under devolatilization or non-devolatilization using an extruder or the like in the presence or absence of a radical generator. Alternatively, the functionalization may be performed in a non-molten state, that is, in a temperature range from room temperature to the melting point in the presence or absence of a radical generator. At this time, the melting point of the polyphenylene ether is defined by the peak top temperature of the peak observed in the temperature-heat flow graph obtained when the temperature is increased at 20 ° C./min in the differential thermal scanning calorimeter (DSC) measurement. If there are a plurality of peak top temperatures, it is defined as the highest temperature among them.
(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂には、ポリフェニレンエーテル樹脂単独又はポリフェニレンエーテル樹脂と芳香族ビニル系重合体との混合物であり、さらに他の樹脂が混合されたものも含まれる。芳香族ビニル系重合体とは、例えば、アタクティックポリスチレン、ハイインパクトポリスチレン、シンジオタクティックポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体などが挙げられる。ポリフェニレンエーテル樹脂と芳香族ビニル系重合体との混合物を用いる場合は、ポリフェニレンエーテル樹脂と芳香族ビニル系重合体との合計量に対して、ポリフェニレンエーテル樹脂が60wt%以上、好ましくは70wt%以上、さらに好ましくは80wt%以上である。 (A) The polyphenylene ether resin includes a polyphenylene ether resin alone or a mixture of a polyphenylene ether resin and an aromatic vinyl polymer, and further includes a mixture of other resins. Examples of the aromatic vinyl polymer include atactic polystyrene, high impact polystyrene, syndiotactic polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer, and the like. When a mixture of a polyphenylene ether resin and an aromatic vinyl polymer is used, the polyphenylene ether resin is 60 wt% or more, preferably 70 wt% or more, based on the total amount of the polyphenylene ether resin and the aromatic vinyl polymer. More preferably, it is 80 wt% or more.
本発明の(B)液晶ポリエステルはサーモトロピック液晶ポリマーと呼ばれるポリエステルで、公知のものを使用できる。例えば、p−ヒドロキシ安息香酸およびポリエチレンテレフタレートを主構成単位とするサーモトロピック液晶ポリエステル、p−ヒドロキシ安息香酸および2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸を主構成単位とするサーモトロピック液晶ポリエステル、p−ヒドロキシ安息香酸および4,4′−ジヒドロキシビフェニルならびにテレフタル酸を主構成単位とするサーモトロピック液晶ポリエステルなどが挙げられ、特に制限はない。(B)液晶ポリエステルとしては、下記構造単位(イ)、(ロ)、および必要に応じて(ハ)および/または(ニ)からなるものが好ましく用いられる。 The (B) liquid crystal polyester of the present invention is a polyester called a thermotropic liquid crystal polymer, and known ones can be used. For example, a thermotropic liquid crystal polyester mainly composed of p-hydroxybenzoic acid and polyethylene terephthalate, a thermotropic liquid crystal polyester mainly composed of p-hydroxybenzoic acid and 2-hydroxy-6-naphthoic acid, p-hydroxybenzoic acid Examples thereof include thermotropic liquid crystal polyesters mainly composed of acid, 4,4'-dihydroxybiphenyl and terephthalic acid, and are not particularly limited. (B) As liquid crystalline polyester, what consists of following structural unit (a), (b), and (c) and / or (d) as needed is used preferably.
ここで、構造単位(イ)、(ロ)はそれぞれ、p−ヒドロキシ安息香酸から生成したポリエステルの構造単位と、2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸から生成した構造単位である。構造単位(イ)、(ロ)を使用することで、優れた耐熱性、流動性や剛性などの機械的特性のバランスに優れた本発明の熱可塑性樹脂組成物を得ることができる。上記構造単位(ハ)、(ニ)中のXは、下記(式2)よりそれぞれ任意に1種あるいは2種以上選択することができる。 Here, the structural units (A) and (B) are respectively a structural unit of a polyester generated from p-hydroxybenzoic acid and a structural unit generated from 2-hydroxy-6-naphthoic acid. By using the structural units (a) and (b), it is possible to obtain the thermoplastic resin composition of the present invention having an excellent balance of mechanical properties such as excellent heat resistance, fluidity and rigidity. X in the structural units (c) and (d) can be arbitrarily selected from the following (Formula 2), respectively.
構造式(ハ)において好ましいのは、エチレングリコール、ハイドロキノン、4,4′−ジヒドロキシビフェニル、2,6−ジヒドロキシナフタレン、ビスフェノールAそれぞれから生成した構造単位であり、さらに好ましいのは、エチレングリコール、4,4′−ジヒドロキシビフェニル、ハイドロキノンであり、特に好ましいのは、エチレングリコール、4,4′−ジヒドロキシビフェニルである。構造式(ニ)において好ましいのは、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ジカルボキシナフタレンそれぞれから生成した構造単位であり、さらに好ましいのは、テレフタル酸、イソフタル酸である。
構造式(ハ)および構造式(ニ)は、上記に挙げた構造単位を少なくとも1種あるいは2種以上を併用することができる。具体的には、2種以上併用する場合、構造式(ハ)においては、1)エチレングリコールから生成した構造単位/ハイドロキノンから生成した構造単位、2)エチレングリコールから生成した構造単位/4,4′−ジヒドロキシビフェニルから生成した構造単位、3)ハイドロキノンから生成した構造単位/4,4′−ジヒドロキシビフェニルから生成した構造単位、などを挙げることができる。
In the structural formula (c), preferred are structural units formed from ethylene glycol, hydroquinone, 4,4′-dihydroxybiphenyl, 2,6-dihydroxynaphthalene, and bisphenol A, and more preferred are ethylene glycol, 4 4,4'-dihydroxybiphenyl and hydroquinone, and particularly preferred are ethylene glycol and 4,4'-dihydroxybiphenyl. In the structural formula (d), preferred are structural units formed from terephthalic acid, isophthalic acid, and 2,6-dicarboxynaphthalene, and more preferred are terephthalic acid and isophthalic acid.
In the structural formula (c) and the structural formula (d), at least one or two or more of the structural units listed above can be used in combination. Specifically, when two or more kinds are used in combination, in the structural formula (c), 1) a structural unit generated from ethylene glycol / a structural unit generated from hydroquinone, 2) a structural unit generated from ethylene glycol / 4,4 Examples include structural units formed from '-dihydroxybiphenyl, 3) structural units formed from hydroquinone / 4, structural units formed from 4,4'-dihydroxybiphenyl, and the like.
また、構造式(ニ)においては、1)テレフタル酸から生成した構造単位/イソフタル酸から生成した構造単位、2)テレフタル酸から生成した構造単位/2,6−ジカルボキシナフタレンから生成した構造単位、などを挙げることができる。ここでテレフタル酸量は2成分中、好ましくは40wt%以上、さらに好ましくは60wt%以上、特に好ましくは80wt%以上である。テレフタル酸量を2成分中40wt%以上とすることで、比較的に流動性、耐熱性が良好な樹脂組成物となる。液晶ポリエステル(B)成分中の構造単位(イ)、(ロ)、(ハ)、(ニ)の使用割合は特に限定されない。ただし、構造単位(ハ)と(ニ)は基本的にほぼ等モル量となる。 In the structural formula (d), 1) a structural unit generated from terephthalic acid / a structural unit generated from isophthalic acid, 2) a structural unit generated from terephthalic acid / 2, a structural unit generated from 2,6-dicarboxynaphthalene , Etc. Here, the amount of terephthalic acid is preferably 40 wt% or more, more preferably 60 wt% or more, and particularly preferably 80 wt% or more in the two components. By setting the amount of terephthalic acid to 40 wt% or more of the two components, a resin composition having relatively good fluidity and heat resistance can be obtained. The proportion of the structural units (A), (B), (C), and (D) in the liquid crystal polyester (B) component is not particularly limited. However, the structural units (c) and (d) are basically in equimolar amounts.
また、構造単位(ハ)、(ニ)からなる構造単位(ホ)を、(B)成分中の構造単位として使用することもできる。具体的には、1)エチレングリコールとテレフタル酸から生成した構造単位、2)ハイドロキノンとテレフタル酸から生成した構造単位、3)4,4′−ジヒドロキシビフェニルとテレフタル酸から生成した構造単位、4)4,4′−ジヒドロキシビフェニルとイソフタル酸から生成した構造単位、5)ビスフェノールAとテレフタル酸から生成した構造単位、などを挙げることができる。 Moreover, the structural unit (e) consisting of the structural units (c) and (d) can also be used as the structural unit in the component (B). Specifically, 1) a structural unit produced from ethylene glycol and terephthalic acid, 2) a structural unit produced from hydroquinone and terephthalic acid, 3) a structural unit produced from 4,4'-dihydroxybiphenyl and terephthalic acid, 4) And structural units formed from 4,4'-dihydroxybiphenyl and isophthalic acid, and 5) structural units formed from bisphenol A and terephthalic acid.
(B)液晶ポリエステル成分には、必要に応じて本発明の特徴と効果を損なわない程度の少量の範囲で、他の芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシカルボン酸から生成する構造単位を導入することができる。(B)成分の溶融時での液晶状態を示し始める温度(以下、液晶開始温度という)は、好ましくは150〜350℃、さらに好ましくは180〜320℃である。液晶開始温度をこの範囲にすることは、得られる樹脂製シート中に黒色異物が少なくなり、好ましい。 (B) The liquid crystalline polyester component is a structural unit formed from another aromatic dicarboxylic acid, aromatic diol, or aromatic hydroxycarboxylic acid within a small range that does not impair the features and effects of the present invention as necessary. Can be introduced. The temperature at which the liquid crystal state at the time of melting of the component (B) (hereinafter referred to as liquid crystal start temperature) is preferably 150 to 350 ° C, more preferably 180 to 320 ° C. Setting the liquid crystal start temperature within this range is preferable because less black foreign matter is present in the resulting resin sheet.
本発明の(C)I価、II価、III価またはIV価の金属元素を含有する化合物は、金属を含有する無機化合物または有機化合物である。(C)成分は、本質的に金属元素を主たる構成成分とする化合物である。(C)成分におけるI価、II価、III価またはIV価をとりうる金属元素の具体例として、Li、Na、K、Zn、Cd、Sn、Cu、Ni、Pd、Co、Fe、Ru、Mn、Pb、Mg、Ca、Sr、Ba、Al、Ti、Ge、Sbが挙げられる。中でもZn、Mg、Ti、Pb、Cd、Sn、Sb、Ni、Al、Ge元素が好ましく、さらにはZn、Mg、Ti元素が好ましい。樹脂層(P)中の(A)成分と(B)成分の剥離がなく、フィルムの靱性を大きく向上させる観点から、I価、II価、III価またはIV価の金属元素がZn元素および/またはMg元素であることが特に好ましい。 The (C) compound containing an I-valent, II-valent, III-valent or IV-valent metal element of the present invention is an inorganic compound or organic compound containing a metal. The component (C) is a compound essentially containing a metal element as a main constituent component. Specific examples of metal elements that can take I, II, III, or IV in the component (C) include Li, Na, K, Zn, Cd, Sn, Cu, Ni, Pd, Co, Fe, Ru, Examples include Mn, Pb, Mg, Ca, Sr, Ba, Al, Ti, Ge, and Sb. Of these, Zn, Mg, Ti, Pb, Cd, Sn, Sb, Ni, Al, and Ge elements are preferable, and Zn, Mg, and Ti elements are more preferable. From the standpoint that the (A) component and the (B) component in the resin layer (P) are not separated and the toughness of the film is greatly improved, the metal element of I, II, III, or IV is Zn and Or it is especially preferable that it is Mg element.
(C)I価、II価、III価またはIV価の金属元素を含有する化合物の具体例として、上記金属元素の酸化物、水酸化物、アルコキサイド塩、脂肪族カルボン酸塩、酢酸塩が望ましい。さらに、好ましい酸化物の例としては、ZnO、MgO、TiO4、TiO2、PbO、CdO、SnO、SbO、Sb2O3、NiO、Al2O3、GeOなどが挙げられる。また、好ましい水酸化物の例としては、Zn(OH)2、Mg(OH)2、Ti(OH)4、Ti(OH)2、Pb(OH)2、Cd(OH)2、Sn(OH)2、Sb(OH)2、Sb(OH)3、Ni(OH)2、Al(OH)3、Ge(OH)2などが挙げられる。また好ましいアルコキサイド塩の例としては、Ti(OiPr)4、Ti(OnBu)4などが挙げられる。また好ましい脂肪族カルボン酸塩の例としては、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸チタニウム、ステアリン酸鉛、ステアリン酸カドニウム、ステアリン酸すず、ステアリン酸アンチモン、ステアリン酸ニッケル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸ゲルマニウムなどが挙げられる。中でも特に好ましい具体例は、ZnO、Mg(OH)2、Ti(OiPr)4、Ti(OnBu)4、酢酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニウム、が挙げられる。さらに(A)成分と(B)成分との間の層剥離の無さの観点から、ZnO、Mg(OH)2が好ましい。またこれらの(C)成分は、本発明の効果を損なわない範囲で、不純物を含んでいてもよい。 (C) As specific examples of the compound containing a metal element of I, II, III, or IV, oxides, hydroxides, alkoxide salts, aliphatic carboxylates, and acetates of the above metal elements are desirable. . Furthermore, examples of preferable oxides include ZnO, MgO, TiO 4 , TiO 2 , PbO, CdO, SnO, SbO, Sb 2 O 3 , NiO, Al 2 O 3 , and GeO. Examples of preferred hydroxides include Zn (OH) 2 , Mg (OH) 2 , Ti (OH) 4 , Ti (OH) 2 , Pb (OH) 2 , Cd (OH) 2 , Sn (OH ) 2 , Sb (OH) 2 , Sb (OH) 3 , Ni (OH) 2 , Al (OH) 3 , Ge (OH) 2 and the like. Examples of preferred alkoxide salts include Ti (O i Pr) 4 and Ti (O n Bu) 4 . Examples of preferred aliphatic carboxylates include zinc stearate, magnesium stearate, titanium stearate, lead stearate, cadmium stearate, tin stearate, antimony stearate, nickel stearate, aluminum stearate, stearic acid. Examples include germanium. Among these, particularly preferred specific examples include ZnO, Mg (OH) 2 , Ti (O i Pr) 4 , Ti (O n Bu) 4 , zinc acetate, zinc stearate, and aluminum stearate. Furthermore, ZnO and Mg (OH) 2 are preferable from the viewpoint of no delamination between the component (A) and the component (B). Moreover, these (C) components may contain the impurity in the range which does not impair the effect of this invention.
本発明の(D)シラン化合物とは、官能基含有シラン化合物のことであり、アミノ基、ウレイド基、エポキシ基、イソシアネート基、及びメルカプト基からなる群より選ばれる少なくとも一種の官能基を含有するシラン化合物である。官能基含有シラン化合物は、通常、これらの官能基のうちのいずれか1個を分子中に含有するものであればよいが、場合によっては、これらの官能基の2種以上を分子中に含有するものであっても良い。また、本発明で使用するシラン化合物は、通常、前記のような官能基を分子中に含有するアルコキシシランである。官能基含有シラン化合物の具体例としては、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、などのアミノ基を含有するシラン化合物;γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルメチルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルメチルトリエトキシシラン、γ−(2−ウレイドエチル)アミノプロピルトリメトキシシランなどのウレイド基を含有するシラン化合物;γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジメチルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシランなどのエポキシ基を含有するシラン化合物;γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルメチルジメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルエチルジメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルエチルジエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリクロロシランなどのイソシアネート基を含有するシラン化合物;γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルエチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、β−メルカプトエチルトリメトキシシラン、β−メルカプトエチルトリエトキシシラン、β−メルカプトエチルジメトキシシランなどのメルカプト基を含有するシラン化合物;等が挙げられる。 The (D) silane compound of the present invention is a functional group-containing silane compound and contains at least one functional group selected from the group consisting of an amino group, a ureido group, an epoxy group, an isocyanate group, and a mercapto group. Silane compound. The functional group-containing silane compound usually only needs to contain any one of these functional groups in the molecule, but in some cases, two or more of these functional groups are contained in the molecule. It may be what you do. Moreover, the silane compound used in the present invention is usually an alkoxysilane containing a functional group as described above in the molecule. Specific examples of the functional group-containing silane compound include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxy. Silane compounds containing amino groups such as silane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltrimethoxysilane, γ Silane compounds containing a ureido group such as ureidopropylmethyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, γ-ureidopropylmethyltriethoxysilane, γ- (2-ureidoethyl) aminopropyltrimethoxysilane; Glycidoxypropyl Methoxysilane, γ-glycidoxypropyldimethylmethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β -Silane compounds containing an epoxy group such as (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane; γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropylmethyldimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, γ-isocyanate Isocyanes such as propylmethyldiethoxysilane, γ-isocyanatopropylethyldimethoxysilane, γ-isocyanatopropylethyldiethoxysilane, and γ-isocyanatopropyltrichlorosilane A silane compound containing a radical group; γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropylethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, β-mercaptoethyltrimethoxysilane, silane compounds containing mercapto groups such as β-mercaptoethyltriethoxysilane and β-mercaptoethyldimethoxysilane;
さらに、フィルムの靱性の観点と、(A)成分と(B)成分との間の層剥離の無さの観点から、アミノ基を有するシラン化合物が好ましい。すなわち、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、が好ましい。
本発明の(E)炭化水素系ワックスとは、実質的には炭素と水素からなり、実質的には、飽和のオリゴマーあるいはポリマーあるいはそれらの混合物である。場合により、酸化されていてもよく、カルボキシル基や水酸基やカルボニル基を有していてもよい。そして、(E)炭化水素系ワックスは、大きく流動パラフィンとポリエチレンワックスに分けられる。ここで、流動パラフィンとは、常温で液体であり、主に、パラフィン炭化水素とアルキルナフテン炭化水素の混合物である。ミネラルオイルと呼ばれることもある。15℃における比重が0.8494以下のものも、15℃における比重が0.8494を超えるものも含む。例えば、代表的なものでは、エクソンモービル有限会社製のクリストールN352(登録商標)、プライモールN542(登録商標)などが好適に用いることができる。
Furthermore, the silane compound which has an amino group from a viewpoint of the toughness of a film and the viewpoint of the absence of delamination between (A) component and (B) component is preferable. That is, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) ) -Γ-aminopropylmethyldimethoxysilane.
The (E) hydrocarbon wax of the present invention is substantially composed of carbon and hydrogen, and is substantially a saturated oligomer or polymer or a mixture thereof. Depending on the case, it may be oxidized and may have a carboxyl group, a hydroxyl group, or a carbonyl group. And (E) hydrocarbon wax is roughly divided into liquid paraffin and polyethylene wax. Here, the liquid paraffin is a liquid at room temperature, and is mainly a mixture of paraffin hydrocarbons and alkylnaphthene hydrocarbons. Sometimes called mineral oil. A specific gravity at 15 ° C. of 0.8494 or less and a specific gravity at 15 ° C. exceeding 0.8494 are included. For example, as a typical example, Cristol N352 (registered trademark), Prime Mall N542 (registered trademark) manufactured by ExxonMobil Co., Ltd. can be suitably used.
ここで、ポリエチレンワックスとは、粘度平均分子量が900〜30,000のもので、常温で固体である次の4タイプのものを用いることができる。すなわち、1)エチレンを主成分としたモノマーをラジカル重合触媒により高温高圧下にて重合する方法、あるいはチーグラー触媒により低圧で重合する方法により得られるもの、2)一般成形用ポリエチレンを熱分解により低分子量化する方法により得られるもの、3)一般成型用ポリエチレンを製造する際に、副生する低分子量ポリエチレンを分離精製して得られるもの、4)一般成形用ポリエチレンを酸化する方法により得られるもの(エマルションワックスと呼ばれることがある)が挙げられる。中でも密度が0.92〜0.98(g/cm3)のものが好適である。また離型性の観点から、粘度平均分子量900〜10,000のものが好ましく、さらに1,000〜4,000のものが好ましい。また、酸化されたタイプのものも本発明の樹脂組成物との親和性の観点から、用いることもできる。その場合、離型性の観点からJIS K5902の測定により得られる酸価(KOH mg/g)は、20以下が好ましく、より好ましくは5以下である。例えば、代表的なものでは、三井化学(株)製の三井ハイワックス(登録商標)が好適に用いられる。 Here, the polyethylene wax has a viscosity average molecular weight of 900 to 30,000, and the following four types that are solid at room temperature can be used. That is, 1) those obtained by polymerizing monomers mainly composed of ethylene at high temperature and high pressure with a radical polymerization catalyst, or by polymerizing at low pressure with a Ziegler catalyst. What can be obtained by the method of molecular weight 3) What can be obtained by separating and purifying by-product low molecular weight polyethylene when producing polyethylene for general molding 4) What can be obtained by the method for oxidizing polyethylene for general molding (Sometimes called an emulsion wax). Among them, those having a density of 0.92 to 0.98 (g / cm 3 ) are preferable. From the viewpoint of releasability, those having a viscosity average molecular weight of 900 to 10,000 are preferred, and those having 1,000 to 4,000 are more preferred. An oxidized type can also be used from the viewpoint of affinity with the resin composition of the present invention. In that case, from the viewpoint of releasability, the acid value (KOH mg / g) obtained by the measurement of JIS K5902 is preferably 20 or less, more preferably 5 or less. For example, as a typical example, Mitsui High Wax (registered trademark) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. is preferably used.
本発明におけるフィルムの樹脂組成は、(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂を50重量%以上含有するものである。フィルムの耐熱性、離型性、熱収縮率、耐吸湿性の観点から、この含有量は、60重量%以上が好ましく、さらには70重量%以上が好ましく、特には80重量%以上が好ましい。
本発明における(B)液晶ポリエステルの配合量は、(A)成分と(B)成分の合計100重量部に対して、0.5〜50重量部で、好ましくは1〜40重量部で、さらに好ましくは2〜30重量部である。液晶ポリマーの異方性、フィルムの厚みむらの観点から、この配合量は50重量部以下であることが好ましい。離型性と流動性の観点から、この配合量は0.5重量部以上が好ましい。またフレキシブルプリント基板のベースフィルムであるポリイミドフィルムとの離型性や剛性(フィルム取り扱いに関する作業性)の観点から、(B)液晶ポリエステルが上記配合量にあることが好ましい。
The resin composition of the film in this invention contains (A) polyphenylene ether-type resin 50weight% or more. From the viewpoint of heat resistance, releasability, heat shrinkage, and moisture absorption resistance of the film, the content is preferably 60% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 80% by weight or more.
The blending amount of the (B) liquid crystal polyester in the present invention is 0.5 to 50 parts by weight, preferably 1 to 40 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of the component (A) and the component (B). Preferably it is 2-30 weight part. From the viewpoint of anisotropy of the liquid crystal polymer and uneven thickness of the film, the blending amount is preferably 50 parts by weight or less. From the viewpoint of releasability and fluidity, the amount is preferably 0.5 parts by weight or more. Moreover, it is preferable that (B) liquid crystalline polyester exists in the said compounding quantity from a viewpoint of mold release property and rigidity (workability regarding film handling) with the polyimide film which is a base film of a flexible printed circuit board.
本発明における(C)成分の配合量は、フィルム中の(A)成分と(B)成分の層剥離と比重と耐熱性の観点から、(A)と(B)の合計100重量部に対して、0.1〜10重量部含有することが好ましく、さらに0.2〜5重量部が好ましく、特にさらには0.4〜3重量部が好ましい。
本発明における(D)成分の配合量は、フィルム中の(A)成分と(B)成分の層剥離と安定生産の観点から、(A)と(B)の合計100重量部に対して、0.1〜5重量部含有することが好ましく、さらに0.15〜3重量部が好ましく、特にさらには0.2〜1重量部が好ましい。
The blending amount of the component (C) in the present invention is based on 100 parts by weight of the total of (A) and (B) from the viewpoint of delamination, specific gravity and heat resistance of the component (A) and component (B) in the film. The content is preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 0.2 to 5 parts by weight, and particularly preferably 0.4 to 3 parts by weight.
The blending amount of the component (D) in the present invention is based on 100 parts by weight of the total of (A) and (B) from the viewpoint of delamination and stable production of the component (A) and the component (B) in the film. The content is preferably 0.1 to 5 parts by weight, more preferably 0.15 to 3 parts by weight, and particularly preferably 0.2 to 1 part by weight.
本発明における(E)炭化水素系ワックスの配合量は、離型性とブリードアウトの観点から、(A)成分と(B)成分の合計100重量部に対して、0.1〜4重量部が好ましく、さらに0.3〜3重量部が好ましく、特にさらには0.5〜2重量部が好ましい。
本発明では、上記の成分の他に、本発明の特徴および効果を損なわない範囲で必要に応じて他の附加的成分、例えば、酸化防止剤、難燃剤、エラストマー(エチレン/プロピレン共重合体、エチレン/1−ブテン共重合体、エチレン/プロピレン/非共役ジエン共重合体、エチレン/アクリル酸エチル共重合体、エチレン/メタクリル酸グリシジル共重合体、エチレン/酢酸ビニル/メタクリル酸グリシジル共重合体およびエチレン/プロピレン−g−無水マレイン酸共重合体、ABSなどのオレフィン系共重合体、ポリエステルポリエーテルエラストマー、ポリエステルポリエステルエラストマー、ビニル芳香族化合物−共役ジエン化合物ブロック共重合体、ビニル芳香族化合物−共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素添加物)、可塑剤(エポキシ化大豆油、ポリエチレングリコール、脂肪酸エステル類等)、難燃助剤、耐候(光)性改良剤、各種着色剤等を添加してもかまわない。
The blending amount of the (E) hydrocarbon wax in the present invention is 0.1 to 4 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the component (A) and the component (B) from the viewpoint of releasability and bleeding out. Is preferably 0.3 to 3 parts by weight, and more preferably 0.5 to 2 parts by weight.
In the present invention, in addition to the above-described components, other additional components as necessary, for example, an antioxidant, a flame retardant, an elastomer (ethylene / propylene copolymer, Ethylene / 1-butene copolymer, ethylene / propylene / non-conjugated diene copolymer, ethylene / ethyl acrylate copolymer, ethylene / glycidyl methacrylate copolymer, ethylene / vinyl acetate / glycidyl methacrylate copolymer and Ethylene / propylene-g-maleic anhydride copolymer, olefin copolymer such as ABS, polyester polyether elastomer, polyester polyester elastomer, vinyl aromatic compound-conjugated diene compound block copolymer, vinyl aromatic compound-conjugated Hydrogenated diene compound block copolymer), plastic (Epoxidized soybean oil, polyethylene glycol, fatty acid esters), flame retardant agents, weathering (light) resistance improvers, may be added various colorants, and the like.
本発明のプリント基板製造用離型フィルムとしては、上記の樹脂組成を有する樹脂層(P)からなる単層構造を有するフィルムであってもよいし、樹脂層(P)と他の樹脂層からなる多層構造を有するフィルムであってもかまわない。
特にフレキシブルプリント基板製造時に使われる離型フィルムにおいては、ポリイミドフィルムと銅箔の段差に追随して密着し、熱プレスの加圧時の衝撃力を緩和するクッション性(以下、追随性と略記する)の観点から、多層構造を有するフィルムであることがより好ましい。
多層構造を有するプリント基板製造用離型フィルムとしては、樹脂層(P)と(F)エラストマーを含有する層(Q)からなる多層構造を有するプリント基板製造用離型フィルムであることが好ましい。特に、樹脂層(P)を最外層とし、中間に(F)エラストマーを含有する層(Q)をはさみこんだ構造が好ましい。(P)/(Q)/(P)という3層構造や、(P)層と(Q)層の間にさらなる接着層を挿入し、5層構造とすることもできる。ただし、フィルム厚みの観点と簡素化の観点から3層構造が好ましい。
The release film for producing a printed circuit board of the present invention may be a film having a single layer structure composed of the resin layer (P) having the above resin composition, or from the resin layer (P) and other resin layers. A film having a multilayer structure may be used.
In particular, in a release film used in the production of a flexible printed circuit board, a cushioning property (hereinafter abbreviated as “following property”) that closely adheres to a step between a polyimide film and a copper foil and relaxes an impact force during pressurization of a hot press. ), A film having a multilayer structure is more preferable.
The release film for producing a printed circuit board having a multilayer structure is preferably a release film for producing a printed circuit board having a multilayer structure comprising a resin layer (P) and a layer (Q) containing an elastomer (F). In particular, a structure in which the resin layer (P) is the outermost layer and the layer (Q) containing the elastomer (F) in the middle is sandwiched is preferable. A three-layer structure of (P) / (Q) / (P), or a five-layer structure can be formed by inserting an additional adhesive layer between the (P) layer and the (Q) layer. However, a three-layer structure is preferable from the viewpoints of film thickness and simplification.
(F)成分のエラストマーとしては、芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物ブロック共重合体、芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物のブロック共重合体の部分水添ポリマー、エチレンとビニルエステル化合物の共重合体、エチレン/プロピレン共重合体、エチレン/1−ブテン共重合体、エチレン/プロピレン/非共役ジエン共重合体、エチレン/プロピレン−g−無水マレイン酸共重合体、ABSなどのオレフィン系共重合体、ポリエステルポリエーテルエラストマー、ポリエステルポリエステルエラストマーなどが挙げられる。
特に(F)成分において、追随性と多層フィルム間の密着力の観点から、(F1)芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物のブロック共重合体の部分水添ポリマーと(F2)エチレンとビニルエステル化合物の共重合体が好ましい。
As the elastomer of component (F), aromatic vinyl compound-conjugated diene compound block copolymer, partially hydrogenated polymer of block copolymer of aromatic vinyl compound and conjugated diene compound, copolymer of ethylene and vinyl ester compound Olefin copolymers such as ethylene / propylene copolymer, ethylene / 1-butene copolymer, ethylene / propylene / non-conjugated diene copolymer, ethylene / propylene-g-maleic anhydride copolymer, ABS, A polyester polyether elastomer, a polyester polyester elastomer, etc. are mentioned.
In particular, in the component (F), from the viewpoint of followability and adhesion between multilayer films, (F1) a partially hydrogenated polymer of a block copolymer of an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound, and (F2) ethylene and a vinyl ester compound These copolymers are preferred.
(F1)芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物のブロック共重合体の部分水添ポリマーを以下、説明する。まず、ここで芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物のブロック共重合体とは、芳香族ビニル化合物を主体とする重合体ブロックセグメントと、共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロックセグメントとから成るブロック共重合体である。芳香族ビニル化合物の具体例としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−tert−ブチルスチレン、ジビニルベンゼン、p−メチルスチレン、1,1−ジフェニルスチレン、等の中から選ばれた少なくとも1種以上が選択でき、中でもスチレンが好ましい。そして、共役ジエン化合物の具体例としては、ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、ピペリレン、3−ブチル−1,3−オクタジエン、フェニル−1,3−ブタジエン等の中から選ばれた少なくとも1種以上が選択でき、中でもブタジエン、イソプレン、およびこれらの組み合わせが好ましい。 (F1) A partially hydrogenated polymer of a block copolymer of an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound will be described below. First, here, a block copolymer of an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound is a block copolymer comprising a polymer block segment mainly composed of an aromatic vinyl compound and a polymer block segment mainly composed of a conjugated diene compound. It is a polymer. Specific examples of the aromatic vinyl compound include at least selected from styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, p-tert-butylstyrene, divinylbenzene, p-methylstyrene, 1,1-diphenylstyrene, and the like. One or more types can be selected, and styrene is particularly preferable. Specific examples of the conjugated diene compound include butadiene, isoprene, 1,3-pentadiene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, piperylene, 3-butyl-1,3-octadiene, phenyl-1,3. -At least 1 sort (s) chosen from butadiene etc. can be selected, and a butadiene, isoprene, and these combination are especially preferable.
ここで(F1)成分のポリマーは、耐熱性、耐熱劣化特性の観点から部分水添されていることが好ましい。さらにその水素添加率は5〜100%のものが好ましい。さらに熱安定性の観点から水素添加率が50%以上のものがより好ましい。この部分水添ブロック共重合体に係わる構造上の特徴は、特開昭61−34049号公報に詳細に記載された要件を満たしたものであれば1種または2種以上を併用できる。この代表的な例としては、旭化成ケミカルズ(株)製のTUFTEC(登録商標)、クレイトンポリマージャパン(株)製のKRATON(登録商標)、JSR(株)製のDYNARON、クラレ(株)製のSEPTON(登録商標)、HYBRAR(登録商標)が挙げられる。 Here, the polymer of the component (F1) is preferably partially hydrogenated from the viewpoint of heat resistance and heat deterioration characteristics. Further, the hydrogenation rate is preferably 5 to 100%. Further, from the viewpoint of thermal stability, those having a hydrogenation rate of 50% or more are more preferable. As the structural characteristics of the partially hydrogenated block copolymer, one or more kinds can be used in combination as long as the requirements described in detail in JP-A-61-34049 are satisfied. Typical examples include TUFTEC (registered trademark) manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation, KRATON (registered trademark) manufactured by Kraton Polymer Japan Co., Ltd., DYNARON manufactured by JSR Corporation, and SEPTON manufactured by Kuraray Co., Ltd. (Registered trademark) and HYBRAR (registered trademark).
特に離型フィルム特性として、耐熱性と追随性と(P)層と(Q)層の密着力の観点から、(F1)成分における芳香族ビニル化合物結合量が5重量%〜65重量%であることが好ましく、さらには10重量%〜60重量%、さらに特には30重量%〜50重量%が好ましい。
(F2)エチレンとビニルエステル化合物の共重合体において、ビニルエステル化合物とは、エステル基またはカルボキシル基を含有するビニルモノマーを指す。例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸などが挙げられる。
In particular, as a release film characteristic, from the viewpoint of heat resistance, followability, and adhesion between the (P) layer and the (Q) layer, the aromatic vinyl compound bond amount in the component (F1) is 5 wt% to 65 wt%. It is preferably 10% to 60% by weight, more preferably 30% to 50% by weight.
(F2) In the copolymer of ethylene and a vinyl ester compound, the vinyl ester compound refers to a vinyl monomer containing an ester group or a carboxyl group. Examples thereof include vinyl acetate, vinyl propionate, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid and the like.
本発明の離型フィルムの厚みは、単層フィルムで用いる場合、3〜100μmである。コスト、取り扱い性の観点から、さらに10〜100μmが好ましく、特に30〜60μmが好ましい。多層フィルムで用いる場合、トータルの厚みは、50〜300μmであり、追随性、作業性の観点から、70〜250μmが好ましく、さらにより好ましくは100〜200μmである。多層構造の場合、トータルの厚みに対して、中間層(Q)の厚みが占める割合は50%以上が好ましく、より好ましくは60%以上、さらにより好ましくは70%以上である。
本発明の樹脂組成物は種々の方法で製造することができる。例えば、単軸押出機、二軸押出機、ロール、ニーダー、ブラベンダープラストグラフ、バンバリーミキサー等による加熱溶融混練方法が挙げられるが、中でも二軸押出機を用いた溶融混練方法が最も好ましい。この際の溶融混練温度は特に限定されるものではないが、通常150〜350℃の中から任意に選ぶことができる。
The thickness of the release film of the present invention is 3 to 100 μm when used as a single layer film. From the viewpoint of cost and handleability, 10 to 100 μm is more preferable, and 30 to 60 μm is particularly preferable. When used in a multilayer film, the total thickness is 50 to 300 μm, preferably 70 to 250 μm, and more preferably 100 to 200 μm from the viewpoint of followability and workability. In the case of a multilayer structure, the ratio of the thickness of the intermediate layer (Q) to the total thickness is preferably 50% or more, more preferably 60% or more, and even more preferably 70% or more.
The resin composition of the present invention can be produced by various methods. For example, a heat melt kneading method using a single screw extruder, a twin screw extruder, a roll, a kneader, a Brabender plastograph, a Banbury mixer or the like can be mentioned. Among them, a melt kneading method using a twin screw extruder is most preferable. Although the melt kneading temperature in this case is not particularly limited, it can usually be arbitrarily selected from 150 to 350 ° C.
本発明のプリント基板製造用離型フィルムは、上記で得られた樹脂組成物を原料とし押出フィルム成形により得ることもできるし、本発明の樹脂組成由来の原料成分を押出フィルム成形機に直接投入し、ブレンドとフィルム成形を同時に実施して得ることもできる。
本発明のプリント基板製造用離型フィルムは、押出しチューブラー法、場合によってはインフレーション法とも呼ばれる方法にて製造することができる。円筒から出てきたパリソンがすぐに冷却してしまわないように、50〜290℃の温度範囲の中から適宜選択して、パリソンの温度を制御することがシート厚みを均一にし、樹脂組成物の各成分の層剥離のないシートを作成する上で極めて重要である。(P)層由来の樹脂と(Q)層由来の樹脂成分を多層ラミネーション化することにより多層構造のフィルムを得ることができる。
The release film for manufacturing a printed circuit board of the present invention can be obtained by extrusion film molding using the resin composition obtained above as a raw material, or the raw material components derived from the resin composition of the present invention are directly fed into an extrusion film molding machine. However, blending and film forming can be carried out simultaneously.
The release film for producing a printed circuit board of the present invention can be produced by an extrusion tubular method, and in some cases a method called an inflation method. In order to prevent the parison coming out of the cylinder from cooling immediately, the temperature of the parison is appropriately selected from the temperature range of 50 to 290 ° C., and controlling the temperature of the parison makes the sheet thickness uniform. It is extremely important in preparing a sheet without delamination of each component. A film having a multilayer structure can be obtained by multilayer lamination of the resin derived from the (P) layer and the resin component derived from the (Q) layer.
一方、本発明のプリント基板製造用離型フィルムは、Tダイ押出成形によって製造することができる。この場合、無延伸のまま用いてもよいし、1軸延伸してもよいし、2軸延伸することによっても得られる。シートの強度、剛性を高めたい場合は、延伸することが効果的である。(P)層由来の樹脂と(Q)層由来の樹脂成分を多層ラミネーション化する方法として、ドライラミネーション、共押出ラミネーションする方法が挙げられる。ドライラミネーションの場合、いったん(P)層の単層フィルムを製造しておいて、Tダイ近傍の上下からこの単層フィルムをフィードしながら、(Q)層由来の樹脂である(F)エラストマーをTダイから押出し、ロールでラミネーションすることができる。この方法は(P)層と(Q)層の樹脂の粘度が大きく異なる場合に特に有効である。一方、共押出ラミネーションの場合、多層ダイスを用いて(P)層由来の樹脂成分と(Q)層由来の樹脂成分を押出機を用いて、ラミネーションすることができる。一段で多層化でき、経済的である。 On the other hand, the release film for producing a printed circuit board of the present invention can be produced by T-die extrusion. In this case, it may be used without stretching, may be uniaxially stretched, or may be obtained by biaxially stretching. Stretching is effective for increasing the strength and rigidity of the sheet. Examples of the method of multi-layer lamination of the resin derived from the (P) layer and the resin component derived from the (Q) layer include dry lamination and coextrusion lamination. In the case of dry lamination, a single layer film of (P) layer is manufactured once, and this single layer film is fed from the top and bottom in the vicinity of the T die, while (F) elastomer, which is a resin derived from (Q) layer, is used. It can be extruded from a T-die and laminated with a roll. This method is particularly effective when the viscosities of the (P) layer and (Q) layer resins are greatly different. On the other hand, in the case of coextrusion lamination, the resin component derived from the (P) layer and the resin component derived from the (Q) layer can be laminated using a multilayer die using an extruder. It can be multi-layered in a single stage and is economical.
本発明のプリント基板製造用離型フィルムは、最外表層のフィルム表面と水滴との接触角が80°以上であることが好ましい。離型性と耐吸湿性の観点から、80°以上、好ましくは85°以上、より好ましくは90°以上である。ここで、フィルム表面と水滴との接触角の測定は、常温(23℃)雰囲気にて、例えば協和界面科学(株)製の固液界面解析装置DropMaster(登録商標)を用いて実施できる。
本発明のプリント基板製造用離型フィルムにおけるプリント基板は、エポキシ樹脂に代表されるリジッドタイプのプリント基板及びポリイミドに代表されるフレキシブルプリント基板を含む。最近、特にフレキシブルプリント基板では、携帯電話やハードディスクドライブ(HDD)など、アウトガスやコンタミネーションの要求スペックがかなり高度になってきており、本発明の離型フィルムは、耐汚染性に優れる観点からも、フレキシブルプリント基板により好適である。
In the release film for producing a printed circuit board of the present invention, the contact angle between the film surface of the outermost surface layer and water droplets is preferably 80 ° or more. From the viewpoint of releasability and moisture absorption resistance, it is 80 ° or more, preferably 85 ° or more, more preferably 90 ° or more. Here, the measurement of the contact angle between the film surface and water droplets can be performed in a normal temperature (23 ° C.) atmosphere using, for example, a solid-liquid interface analysis device DropMaster (registered trademark) manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.
The printed circuit board in the release film for producing a printed circuit board of the present invention includes a rigid type printed circuit board represented by an epoxy resin and a flexible printed circuit board represented by polyimide. Recently, especially in a flexible printed circuit board, the required specifications for outgas and contamination such as a mobile phone and a hard disk drive (HDD) have become considerably high, and the release film of the present invention is also from the viewpoint of excellent stain resistance. A flexible printed circuit board is more preferable.
こうして得られた本発明のプリント基板製造用離型フィルムは、離型性・耐汚染性・耐吸湿性に優れ、かつ熱収縮が小さく、プリント基板製品にしわを与えにくく、かつ離型フィルム自身にもしわがつきにくいものである。更に追随性、接着剤のはみ出し性、多層フィルム間の密着力、フィルム間のスリップ性に優れ、プリント基板、特にフレキシブルプリント基板製造に適した離型フィルムである。 The release film for producing a printed circuit board of the present invention thus obtained is excellent in releasability, stain resistance and moisture absorption resistance, has a small thermal shrinkage, hardly wrinkles the printed circuit board product, and the release film itself. It is also difficult to wrinkle. Furthermore, it is excellent in followability, adhesive extruding property, adhesion between multilayer films, and slip property between films, and is a release film suitable for production of printed circuit boards, particularly flexible printed circuit boards.
本発明を以下、実施例に基づいて説明する。但し本発明はその主旨を越えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
製造例1:ポリフェニレンエーテル(PPE−1)の製造例
2,6−ジメチルフェノールを酸化重合して得た還元粘度0.42のパウダー状のポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)である。
製造例2:液晶ポリエステル(LCP−1)の製造例
窒素雰囲気下において、p−ヒドロキシ安息香酸、2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸、無水酢酸を仕込み、加熱溶融し、重縮合することにより、以下の理論構造式を有する液晶ポリエステル(LCP−1)を得た。なお、組成の成分比はモル比を表す。
The present invention will be described below based on examples. However, the present invention is not limited to the following examples as long as the gist thereof is not exceeded.
Production Example 1: Production Example of Polyphenylene Ether (PPE-1) Powdery poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether having a reduced viscosity of 0.42 obtained by oxidative polymerization of 2,6-dimethylphenol ).
Production Example 2: Production Example of Liquid Crystalline Polyester (LCP-1) In a nitrogen atmosphere, p-hydroxybenzoic acid, 2-hydroxy-6-naphthoic acid, acetic anhydride was charged, heated, melted, and polycondensed to produce the following. A liquid crystal polyester (LCP-1) having the following theoretical structural formula was obtained. In addition, the component ratio of a composition represents molar ratio.
製造例3:液晶ポリエステル(LCP−2)の製造例
窒素雰囲気下において、p−ヒドロキシ安息香酸、2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸、ハイドロキノン、イソフタル酸、無水酢酸を仕込み、加熱溶融し、重縮合することにより、以下の理論構造式を有する液晶ポリエステルを得た。なお組成の成分比はモル比を表す。
Production Example 3: Production Example of Liquid Crystalline Polyester (LCP-2) In a nitrogen atmosphere, p-hydroxybenzoic acid, 2-hydroxy-6-naphthoic acid, hydroquinone, isophthalic acid, and acetic anhydride are charged, heated, melted, and polycondensed. As a result, a liquid crystal polyester having the following theoretical structural formula was obtained. In addition, the component ratio of a composition represents molar ratio.
各樹脂組成物のフィルム成形と物性評価を、以下の方法に従って実施した。
(1)インフレーション成形
得られたペレットを、シリンダー温度290℃、円筒状ダイス温度290℃に設定したスクリュー径50mmの押出機を用い、チューブラー法により、押出シート成形を実施した。ブローする空気の圧力は厚みが50μmになるように設定した。多層フィルムの場合、ブローする空気の圧力を調整し、ピンチローラーで融着しながら、厚みが(P)層が30μm、(Q)層が150μm、(P)層が30μmの3層フィルム構造になるように作成した。
Film formation and physical property evaluation of each resin composition were performed according to the following methods.
(1) Inflation Molding The obtained pellets were molded by extrusion using a tubular method using an extruder with a screw diameter of 50 mm set at a cylinder temperature of 290 ° C. and a cylindrical die temperature of 290 ° C. The pressure of the air to blow was set so that thickness might be set to 50 micrometers. In the case of a multilayer film, the pressure of air to be blown is adjusted and fused with a pinch roller to form a three-layer film structure with a thickness of (P) layer of 30 μm, (Q) layer of 150 μm, and (P) layer of 30 μm. Created to be.
(2)Tダイ押出成形
得られたペレットを、シリンダー温度300℃、Tダイ温度300℃に設定したスクリュー径65mmのベント付き単軸押出機を用い、吐出量60kg/hr、Tダイスリットの厚み0.15mm、ダイスリットの幅650mm、圧延ローラ表面温度130℃、厚みが50μmになるように、引き取り速度を制御し、押出フィルム成形を実施した。多層構造のフィルムを得る場合、3層式の押出機を用い、フィードブロック型の3層Tダイを用い、トータルの吐出量が60kg/hr、ダイスリットの幅650mm、圧延ローラ表面温度130℃、フィルム厚みが(P)層が30μm、(Q)層が150μm、(P)層が30μmの3層フィルム構造になるように、引き取り速度を制御し、押出フィルム成形を実施した。
(2) T-die extrusion molding The pellet obtained was discharged at a rate of 60 kg / hr and the thickness of the T-die slit using a vented single screw extruder with a screw diameter of 65 mm set at a cylinder temperature of 300 ° C and a T-die temperature of 300 ° C. Extrusion film molding was carried out by controlling the take-up speed so that the thickness was 0.15 mm, the die slit width was 650 mm, the rolling roller surface temperature was 130 ° C., and the thickness was 50 μm. When obtaining a multilayer film, a three-layer extruder is used, a feed block type three-layer T die is used, the total discharge amount is 60 kg / hr, the die slit width is 650 mm, the rolling roller surface temperature is 130 ° C., Extrusion film molding was carried out by controlling the take-up speed so that the film thickness was a three-layer film structure in which the (P) layer was 30 μm, the (Q) layer was 150 μm, and the (P) layer was 30 μm.
(3)フィルム厚み
フィルム巾を500mm、長さ方向を200mmのサイズに裁断する。巾方向に5ヶ所、上辺と下辺の計10カ所測定し、さらにもう一枚同様の測定を実施し、合計20ヶ所の厚みを測定して、平均値をとった。
(4)接触角
協和界面科学(株)製の固液界面解析装置DropMaster500(登録商標)を用いて、上記(1)と(2)で得られたフィルムをステージに固定し、フィルム上に、蒸留水1滴(2μL)をフィルム上に滴下し、その接触角を測定し、10点測定し、その平均値をとった。雰囲気は常温(23℃)にて実施した。
(3) Film thickness The film width is cut into a size of 500 mm and the length direction is cut into 200 mm. A total of 10 points were measured in the width direction, a total of 10 points on the upper side and the lower side, and the same measurement was carried out on another sheet. The thickness was measured at a total of 20 points to obtain an average value.
(4) Contact angle Using the solid-liquid interface analyzer DropMaster500 (registered trademark) manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., the film obtained in (1) and (2) above is fixed on the stage, One drop (2 μL) of distilled water was dropped on the film, the contact angle was measured, 10 points were measured, and the average value was taken. The atmosphere was normal temperature (23 degreeC).
(5)離型性
厚さ25μmのポリイミドフィルム(デュポン社製:カプトン100H(登録商標))をベースフィルムとし、厚さ20μmのエポキシ系接着剤を介し、厚さ35μm、幅50μmの銅箔が接着された銅張り積層板(ア)を得た。次に厚さ25μmのポリイミドフィルム(デュポン社製:カプトン100H(登録商標))上に、流動開始温度80℃のエポキシ系接着剤を厚さ20μmで塗布してカバーレイフィルム(イ)を得た。上記(1)か(2)で得られた厚さ50μmの単層フィルムを離型フィルム(ウ)とした。(イ)のエポキシ系接着剤層が(ア)の銅箔側に接するように、(ウ)、(ア)、(イ)、(ウ)の順にフィルムを重ね、190℃、50kgf/cm2、1分間、熱プレスを実施し、フレキシブルプリント基板を得た。この熱プレスの後、離型フィルム(ウ)とポリイミドフィルム(ア、イ)を引き剥がす際、以下の判断基準に従って、離型性を判断した。
基板表面との離型を「対FPC」、(ア)と(イ)部のランド部(電極用穴)から露出した接着剤及び銅箔との離型性を「対接着剤・銅箔」とした。
○:全く抵抗なく、剥がれる。
△:剥がす際、少し抵抗がある。
×:接着して、容易にはがれない。
はがした後(×の場合は、強引にはがした)、離型フィルムの破れの有無を確認した。
(5) Releasability A 25 μm thick polyimide film (DuPont: Kapton 100H (registered trademark)) is used as a base film, and a 20 μm thick epoxy adhesive is used to form a 35 μm thick and 50 μm wide copper foil. A bonded copper-clad laminate (A) was obtained. Next, an epoxy adhesive having a flow start temperature of 80 ° C. was applied at a thickness of 20 μm on a polyimide film having a thickness of 25 μm (manufactured by DuPont: Kapton 100H (registered trademark)) to obtain a coverlay film (A). . The single-layer film having a thickness of 50 μm obtained in the above (1) or (2) was used as a release film (c). The films are stacked in the order of (C), (A), (B), and (C) so that the epoxy adhesive layer of (A) is in contact with the copper foil side of (A), and 190 ° C., 50 kgf / cm 2. Hot pressing was performed for 1 minute to obtain a flexible printed circuit board. After the heat press, when the release film (c) and the polyimide film (a, i) were peeled off, the releasability was determined according to the following criteria.
Release from the substrate surface is “to FPC”, and (a) and (b) are exposed from the land part (electrode hole) and the release from the copper foil is “to adhesive / copper foil” It was.
○: It peels without any resistance.
Δ: There is a little resistance when peeling.
X: Adhered and not easily peeled off.
After peeling (in the case of x, it was peeled off forcibly), it was confirmed whether or not the release film was torn.
(6)熱収縮率
上記(1)と(2)で得られた離型フィルムを、MDとTDに各片が平行になるように、150mm×150mmの大きさにカットし、190℃に設定したオーブン中に5分間セットし、取り出して放冷する。MD、TD各々加熱前後の寸法を測定し、以下の式に従って求めた。
熱収縮率(%)=(加熱前の辺の長さ−加熱後の辺の長さ)/(加熱前の辺の長さ)×100
ここで、MDとはインフレーション押出成形機、あるいはTダイ押出成形機のダイスから樹脂が流動する方向であり、TDはMDに対し直角方向を指す。
(6) Heat shrinkage rate The release film obtained in the above (1) and (2) was cut into a size of 150 mm × 150 mm so that each piece was parallel to MD and TD, and set to 190 ° C. Set in the oven for 5 minutes, remove and cool. The dimension before and after heating was measured for each of MD and TD, and determined according to the following formula.
Thermal contraction rate (%) = (length of side before heating−length of side after heating) / (length of side before heating) × 100
Here, MD is the direction in which the resin flows from the die of an inflation extrusion molding machine or a T-die extrusion molding machine, and TD indicates a direction perpendicular to MD.
(7)FPC(フレキシブルプリント基板)のしわ
厚さ12.5μm×150×250mmのポリイミドフィルム(デュポン社製:カプトン50H(登録商標))を用いたこと以外は、上記(3)と同様にプレス試験を実施し、得られたFPCを取り出し、FPCのしわの有無を確認した。
(8)ブリードアウト1
厚さ125μmのポリイミドフィルム(デュポン社製:カプトン500H(登録商標))を上記(1)か(2)で得られた離型フィルムではさみこみ、190℃、30kgf/cm2、5分間の条件で熱プレスする。そして、離型フィルムを取り除いた後、離型フィルムと接触していたポリイミドフィルム表面上に水性マジック(ペン先太さ約1.5mm)で線を書き、5分間放置後、その水性マジックインキのはじき具合を目視にて観察し、以下の判断基準にて、ブリードアウト性を判断した。
○:マジックインキをはじいていない状態。
×:マジックインキをはじいた状態。
(7) FPC (flexible printed circuit board) wrinkle Press in the same manner as in (3) above except that a polyimide film (DuPont: Kapton 50H (registered trademark)) with a thickness of 12.5 μm × 150 × 250 mm was used. The test was carried out, the obtained FPC was taken out, and the presence or absence of wrinkles of the FPC was confirmed.
(8) Bleed out 1
A 125 μm-thick polyimide film (manufactured by DuPont: Kapton 500H (registered trademark)) was sandwiched between the release films obtained in the above (1) or (2), and the condition was 190 ° C., 30 kgf / cm 2 , for 5 minutes. Hot press. Then, after removing the release film, a line is written on the polyimide film surface that has been in contact with the release film with water-based magic (pen tip thickness: about 1.5 mm) and left for 5 minutes. The repellency was visually observed, and the bleeding out property was judged according to the following criteria.
○: Magic ink is not repelled.
X: The state where the magic ink was repelled.
(9)ブリードアウト2
厚さ125μmのポリイミドフィルム(デュポン社製:カプトン500H(登録商標))に、厚さ20μmのエポキシ系接着剤をバーコートし、50℃、2時間キュアし、接着剤被覆ポリイミドフィルムを作成した。このフィルムの接着剤被覆面に、上記(1)か(2)で得られた離型フィルムを重ね、190℃、30kgf/cm2、5分間の条件で熱プレスした。その後、離型フィルムをはがし、ポリイミドの接着剤被覆表面側の接触角を上記(4)の方法に従って測定した。一方、ブランクとして上記の接着剤被覆ポリイミドフィルムについて圧力をかけずに、190℃、5分間キュアした後、冷却後、その表面上の接触角を測定したところ、58°であった。よって、ブランクの接触角(58°)と比較し、その差が大きくなるほど、ポリイミド側に何らかのブリードアウトがあると判断した。
(9) Bleed out 2
A polyimide film having a thickness of 125 μm (manufactured by DuPont: Kapton 500H (registered trademark)) was bar-coated with an epoxy adhesive having a thickness of 20 μm and cured at 50 ° C. for 2 hours to prepare an adhesive-coated polyimide film. The release film obtained in (1) or (2) above was overlaid on the adhesive-coated surface of this film, and hot-pressed at 190 ° C. and 30 kgf / cm 2 for 5 minutes. Then, the release film was peeled off, and the contact angle on the adhesive-coated surface side of polyimide was measured according to the method (4) above. On the other hand, the adhesive-coated polyimide film as a blank was cured at 190 ° C. for 5 minutes without applying pressure, and after cooling, the contact angle on the surface was measured to be 58 °. Therefore, compared with the contact angle (58 °) of the blank, it was determined that there was some bleed out on the polyimide side as the difference increased.
(10)耐吸湿性
上記(1)か(2)で得られたフィルムをサイズ100×190mm角に切り取り、恒温恒湿槽(タバイエスペック(株)製、PL−3FP)を用い、85℃、95%相対湿度の加温加湿環境下に、48時間曝した後、以下の式に従って、重量増加率(Δw)を求めた。各2枚フィルムの平均値をとった。
重量増加率(Δw)(%)=(w1−w0)/w0×100
(w1:加温加湿後のフィルム重量(g)、w0:加温加湿前に、100℃、2時間熱風乾燥機中にて乾燥し、デシケーター中にて室温まで冷却したフィルム重量(g))
重量増加率(Δw)の値が小さい方が、耐吸湿性に優れることを意味する。
(10) Hygroscopic resistance The film obtained in the above (1) or (2) is cut into a size of 100 × 190 mm square, and a constant temperature and humidity chamber (PL-3FP manufactured by Tabai Espec Co., Ltd.) is used. After exposure to a warm and humid environment of 95% relative humidity for 48 hours, the weight increase rate (Δw) was determined according to the following formula. The average value of each two films was taken.
Weight increase rate (Δw) (%) = (w 1 −w 0 ) / w 0 × 100
(W 1 : film weight (g) after warming and humidification, w 0 : weight of film after drying in a hot air dryer at 100 ° C. for 2 hours and then cooling to room temperature in a desiccator (g ))
A smaller weight increase rate (Δw) means better moisture absorption resistance.
(11)耐熱性
得られたペレットを、シリンダー温度320/330/320/310℃、射速85%、金型温度90℃に設定した射出成形機[IS−80EPN:東芝機械(株)社製]を用いて成形を行った。ただし、比較例1と比較例2については、シリンダー設定温度を全て280℃にて実施した。厚み3.2mm×長さ127mm×幅12.7mmのASTMタンザク試験片に成形した。得られた成形片を用いて、ASTM D648に準拠し、1.82MPa荷重下での荷重たわみ温度を測定した。
(12)剛性
上記(11)と同じ試験片を用い、オートグラフ(AG−5000、島津製作所(株)社製)を用い、ASTM D790に準拠し、23℃の温度雰囲気にて、曲げ弾性率、曲げ強度を測定した。
(11) Heat resistance An injection molding machine [IS-80EPN: manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.] in which the obtained pellets were set to a cylinder temperature of 320/330/320/310 ° C, a firing speed of 85%, and a mold temperature of 90 ° C. ] Was used to form. However, for Comparative Example 1 and Comparative Example 2, the cylinder set temperature was all set at 280 ° C. It was molded into an ASTM tanzania test piece having a thickness of 3.2 mm, a length of 127 mm, and a width of 12.7 mm. Using the obtained molded piece, the deflection temperature under a load of 1.82 MPa was measured according to ASTM D648.
(12) Rigidity Using the same test piece as in (11) above, using an autograph (AG-5000, manufactured by Shimadzu Corporation), in accordance with ASTM D790, in a temperature atmosphere of 23 ° C., flexural modulus The bending strength was measured.
[実施例1]
ポリフェニレンエーテル(PPE−1)と液晶ポリエステル(LCP−1)と酸化亜鉛(ZnO、銀嶺−A、東邦亜鉛(株)製)を、表1に示す割合(重量部)で、トップフィード側バレル温度のみ250℃、それ以外のバレル温度とダイヘッド温度は全て310℃に設定したベントポート付き二軸押出機(ZSK−25;WERNER&PFLEIDERER社製)を用いて溶融混練し、ペレットとして得た。このペレットを用い、上記(2)に示したTダイ押出成形により、平均厚み51μmのフィルムを得た。上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表1に示した。荷重たわみ温度は、184℃であった。曲げ弾性率は、2,670MPaであった。
[Example 1]
Top feed side barrel temperature of polyphenylene ether (PPE-1), liquid crystal polyester (LCP-1) and zinc oxide (ZnO, Ginbao-A, manufactured by Toho Zinc Co., Ltd.) in the proportions (parts by weight) shown in Table 1. The mixture was melt-kneaded using a twin-screw extruder equipped with a vent port (ZSK-25; manufactured by WERNER & PFLIDEER) having a barrel temperature and a die head temperature all set at 310 ° C. Using this pellet, a film having an average thickness of 51 μm was obtained by T-die extrusion shown in (2) above. The film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 1. The deflection temperature under load was 184 ° C. The flexural modulus was 2,670 MPa.
[実施例2]
(A)成分として、ポリスチレン(GP、PSジャパン(株)製、G9305)を用い、各成分を表1に示す割合(重量部)で配合したこと以外は、実施例1と同様に実施して、ペレットを得た。上記(2)に示したTダイ押出成形により、平均厚み50μmのフィルムを得た。上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表1に示した。荷重たわみ温度は、167℃であった。曲げ弾性率は、2,740MPaであった。
[Example 2]
(A) As a component, it carries out similarly to Example 1 except having mix | blended each component by the ratio (weight part) shown in Table 1 using polystyrene (GP, PS Japan Co., Ltd. product, G9305). A pellet was obtained. A film having an average thickness of 50 μm was obtained by T-die extrusion shown in (2) above. The film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 1. The deflection temperature under load was 167 ° C. The flexural modulus was 2,740 MPa.
[実施例3]
(B)成分として、LCP−2を用い、(E)成分として流動パラフィン(ワックス1、エクソンモービル有限会社製、クリストールN352、常温で無色液体)を用い、各成分を表1に示す割合(重量部)で配合したこと以外は、実施例2と同様に実施して、ペレットを得た。上記(2)に示したTダイ押出成形により、平均厚み49μmのフィルムを得た。上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表1に示した。荷重たわみ温度は、168℃であった。曲げ弾性率は、2,750MPaであった。
[Example 3]
As component (B), LCP-2 was used, and as liquid component (E), liquid paraffin (Wax 1, manufactured by ExxonMobil Co., Ltd., Christol N352, colorless liquid at room temperature) was used. A pellet was obtained in the same manner as in Example 2 except that it was blended in (part by weight). A film having an average thickness of 49 μm was obtained by T-die extrusion shown in (2) above. The film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 1. The deflection temperature under load was 168 ° C. The flexural modulus was 2,750 MPa.
[実施例4]
(A)成分として、ハイインパクトポリスチレン(HIPS、PSジャパン(株)製、H9405)を用い、ワックス1の代わりにポリエチレンワックス(ワックス2、三井化学(株)製、三井ハイワックス(登録商標)、405MP、常温で白色固体)を用い、各成分を表1に示す割合(重量部)で配合したこと以外は、実施例3と同様に実施して、ペレットを得た。上記(2)に示したTダイ押出成形により、平均厚み50μmのフィルムを得た。上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表1に示した。荷重たわみ温度は、163℃であった。曲げ弾性率は、2,820MPaであった。
[Example 4]
(A) As a component, high impact polystyrene (HIPS, manufactured by PS Japan Co., Ltd., H9405) was used, and instead of wax 1, polyethylene wax (wax 2, manufactured by Mitsui Chemicals, Mitsui High Wax (registered trademark)), 405MP, white solid at room temperature), and the same procedure as in Example 3 was carried out except that each component was blended in the proportions (parts by weight) shown in Table 1 to obtain pellets. A film having an average thickness of 50 μm was obtained by T-die extrusion shown in (2) above. The film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 1. The deflection temperature under load was 163 ° C. The flexural modulus was 2,820 MPa.
[実施例5]
酸化亜鉛の代わりに、(C)成分として、水酸化マグネシウム(Mg(OH)2、特級、和光純薬(株)製)を用い、他の成分についても表1に示す割合に配合すること以外は、実施例3と同様に実施して、ペレットを得た。上記(2)に示したTダイ押出成形により、平均厚み52μmのフィルムを得た。上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表1に示した。荷重たわみ温度は、158℃であった。曲げ弾性率は、2,600MPaであった。
[Example 5]
Instead of zinc oxide, magnesium hydroxide (Mg (OH) 2 , special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is used as the component (C), and other components are blended in the proportions shown in Table 1. Was carried out in the same manner as in Example 3 to obtain pellets. A film having an average thickness of 52 μm was obtained by T-die extrusion as shown in (2) above. The film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 1. The deflection temperature under load was 158 ° C. The bending elastic modulus was 2,600 MPa.
[実施例6]
(A)〜(E)成分以外のその他の成分として、芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物のブロック共重合体の部分水添ポリマー(SEBS1、旭化成ケミカルズ(株)製、タフテックH1272(登録商標))(SEBS2、旭化成ケミカルズ(株)製、タフテックH1041(登録商標))を用い、他の成分についても表1に示す割合に配合すること以外は、実施例5と同様に実施して、ペレットを得た。上記(1)に示したインフレーション成形により、平均厚み60μmのフィルムを得た。上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表1に示した。荷重たわみ温度は、150℃であった。曲げ弾性率は、2,300MPaであった。
[Example 6]
As other components other than the components (A) to (E), a partially hydrogenated polymer of a block copolymer of an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound (SEBS1, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation, Tuftec H1272 (registered trademark)) (SEBS2, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., Tuftec H1041 (registered trademark)), except that the other components are blended in the proportions shown in Table 1 to obtain pellets. It was. A film having an average thickness of 60 μm was obtained by the inflation molding shown in (1) above. The film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 1. The deflection temperature under load was 150 ° C. The flexural modulus was 2,300 MPa.
[実施例7]
(C)成分の代わりに(D)成分として、アミノ基を含有するシラン化合物(シラン1、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、KBM−602、信越化学工業(株)製)を用い、他の成分についても表1に示す割合に配合すること以外は、実施例6と同様に実施して、ペレットを得た。上記(1)に示したインフレーション成形により、平均厚み40μmのフィルムを得た。上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表1に示した。荷重たわみ温度は、176℃であった。曲げ弾性率は、2,740MPaであった。
[Example 7]
As a component (D) instead of component (C), an amino group-containing silane compound (silane 1, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, KBM-602, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ), And other components were blended in the proportions shown in Table 1 to obtain pellets in the same manner as in Example 6. A film having an average thickness of 40 μm was obtained by the inflation molding shown in (1) above. The film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 1. The deflection temperature under load was 176 ° C. The flexural modulus was 2,740 MPa.
[参考例1]
PPEを含む樹脂組成物として、ポリフェニレンエーテルとポリスチレン系樹脂とのアロイである高耐熱変性PPE樹脂(変性PPE、旭化成ケミカルズ(株)製、ザイロンX9102(登録商標))を用いて、上記(1)に示したインフレーション成形により、平均厚み40μmのフィルムを得た。上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表1に示した。荷重たわみ温度は、159℃であった。曲げ弾性率は、2,360MPaであった。
[ Reference Example 1 ]
As a resin composition containing PPE, a high heat-resistant modified PPE resin (modified PPE, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., Zylon X9102 (registered trademark)), which is an alloy of polyphenylene ether and polystyrene resin, is used (1) A film having an average thickness of 40 μm was obtained by the inflation molding shown in FIG. The film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 1. The deflection temperature under load was 159 ° C. The bending elastic modulus was 2,360 MPa.
[参考例2]
(A)成分、他の成分について表1に示す割合に配合すること以外は、実施例1と同様に実施して、ペレットを得た。上記(1)に示したインフレーション成形により、平均厚み50μmのフィルムを得た。上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表1に示した。荷重たわみ温度は、143℃であった。曲げ弾性率は、2,100MPaであった。
[ Reference Example 2 ]
(A) About the component and other components, except having mix | blended in the ratio shown in Table 1, it implemented similarly to Example 1 and obtained the pellet. A film having an average thickness of 50 μm was obtained by the inflation molding shown in (1) above. The film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 1. The deflection temperature under load was 143 ° C. The flexural modulus was 2,100 MPa.
[比較例1]
ペレットとして、ポリ4−メチル−1−ペンテン系樹脂(PMP、RT18、TPX(登録商標)、三井化学(株)製)を用い、(1)に示したインフレーション成形により、平均厚み51μmのフィルムを得た。上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表1に示した。荷重たわみ温度は、100℃であった。曲げ弾性率は、1,280MPaであった。
[Comparative Example 1]
Using a poly-4-methyl-1-pentene resin (PMP, RT18, TPX (registered trademark), manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) as a pellet, a film having an average thickness of 51 μm was formed by the inflation molding shown in (1). Obtained. The film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 1. The deflection temperature under load was 100 ° C. The flexural modulus was 1,280 MPa.
[比較例2]
ペレットとして、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET、NEH2050、ユニチカ(株)製)を用い、(2)に示したTダイ押出成形により、平均厚み50μmのフィルムを得た。上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表1に示した。荷重たわみ温度は、75℃であった。曲げ弾性率は、2,420MPaであった。
[Comparative Example 2]
A polyethylene terephthalate resin (PET, NEH2050, manufactured by Unitika Ltd.) was used as a pellet, and a film having an average thickness of 50 μm was obtained by T-die extrusion shown in (2). The film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 1. The deflection temperature under load was 75 ° C. The flexural modulus was 2,420 MPa.
[比較例3]
(A)〜(C)成分を表1に示す割合に配合したこと以外は、実施例1と同様に実施して、ペレットを得た。上記(2)に示したTダイ押出成形により、平均厚み50μmのフィルムを得た。上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表1に示した。荷重たわみ温度は、172℃であった。曲げ弾性率は、5,100MPaであった。
[Comparative Example 3]
A pellet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the components (A) to (C) were blended in the proportions shown in Table 1. A film having an average thickness of 50 μm was obtained by T-die extrusion shown in (2) above. The film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 1. The deflection temperature under load was 172 ° C. The bending elastic modulus was 5,100 MPa.
[実施例8]
(A)、(B)、(C)、(E)成分を表1に示す割合に配合したこと以外は、実施例1と同様に実施して、ペレットを得た。上記(2)に示したTダイ押出成形により、平均厚み52μmのフィルムを得た。上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表1に示した。荷重たわみ温度は、151℃であった。曲げ弾性率は、2,400MPaであった。
[Example 8 ]
A pellet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the components (A), (B), (C), and (E) were blended in the proportions shown in Table 1. A film having an average thickness of 52 μm was obtained by T-die extrusion as shown in (2) above. The film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 1. The deflection temperature under load was 151 ° C. The flexural modulus was 2,400 MPa.
以上のことから、本発明のポリフェニレンエーテル系樹脂を50重量%以上含有する樹脂層(P)からなるフィルムが、離型性に優れ、熱収縮が小さく、プリント基板製品にしわを与えにくく、かつ離型フィルム自身にもしわがつきにくく、またブリードアウトがないため、耐汚染性に優れ、かつ耐吸湿性に優れ、フレキシブルプリント基板製造に適した離型フィルムであることがわかる。
次に第2の発明である、多層構造を有するプリント基板製造用離型フィルムについて説明する。
From the above, the film comprising the resin layer (P) containing 50% by weight or more of the polyphenylene ether resin of the present invention is excellent in releasability, small in heat shrinkage, hardly wrinkled on the printed circuit board product, and Since the release film itself is not easily wrinkled and has no bleed-out, it can be seen that the release film is excellent in stain resistance and moisture absorption resistance, and is suitable for manufacturing a flexible printed circuit board.
Next, a release film for producing a printed board having a multilayer structure, which is a second invention, will be described.
(13)追随性
フィルムを、深さ30μmの溝を掘った真鍮板に乗せ、熱プレスを用い、180℃、30kg/cm2、3分間の条件で加圧し、溝への食い込みを目視観察し、以下の判断基準にて追随性を判断した。
○:溝の転写性が非常に良好。
×:溝の転写性が悪いか、あるいは、溝部周辺でしわがよってしまう。
(13) Followability The film is placed on a brass plate with a groove of 30 μm depth, pressed using a hot press under the conditions of 180 ° C., 30 kg / cm 2 for 3 minutes, and the bite into the groove is visually observed. The following was judged based on the following criteria.
○: The groove transferability is very good.
X: The transferability of the groove is poor or wrinkles occur around the groove.
(14)接着剤のはみ出し
上記(5)の離型性の評価の際、直径1.5mmのランド(電極用穴)に対して、プレス後、接着剤が内側にはみ出した量を、光学顕微鏡にて観察して、以下の基準にもとづいて、接着剤のはみ出し性を評価した。
○:接着剤のはみ出す量が0.08mm以下の場合。
△:接着剤のはみ出す量が0.08mmを超え、0.15mm以下の場合。
×:接着剤のはみ出す量が0.15mmを超えた場合。
(15)P−Q層間接着力
○:P層とQ層のフィルムがはがれない。
×:P層とQ層が容易にはがれてしまう、あるいはまったく密着しない。
(14) Adhesive protrusion In the evaluation of releasability in (5) above, the amount of adhesive protruding inside after pressing against a land (hole for electrode) having a diameter of 1.5 mm was measured with an optical microscope. And the protruding property of the adhesive was evaluated based on the following criteria.
◯: When the amount of adhesive protruding is 0.08 mm or less.
(Triangle | delta): When the amount which the adhesive protrudes exceeds 0.08 mm and is 0.15 mm or less.
X: When the amount of adhesive protruding exceeds 0.15 mm.
(15) P-Q interlayer adhesive strength ○: P layer and Q layer films are not peeled off.
X: P layer and Q layer easily peel off or do not adhere at all.
(16)スリップ性
多層フィルムを2枚重ね、プレス機で、室温、5kg/cm2、15秒間の条件にて、加圧した後、上層フィルムのみを滑らせ、下層フィルムとのスリップ性を以下の判断基準にて判断した。3回実施した。
○:3回とも、下層フィルムにくっつくことなく、上層フィルムのみ容易に滑らせることができた。
×:少なくとも1回以上、下層フィルムにくっついて、上層フィルムのみを滑らせることができなかった。
(16) Slip property After stacking two multilayer films and pressing them with a press machine at room temperature, 5 kg / cm 2 and 15 seconds, only the upper layer film is slid, and the slip property with the lower layer film is as follows. Judgment criteria were used. Conducted 3 times.
○: In all three times, only the upper film could be easily slid without sticking to the lower film.
X: It stuck to the lower film at least once or more, and only the upper film could not be slid.
製造例4:樹脂層(P)の製造例1(P−i)
実施例1で得たペレットをそのまま用いた。
製造例5:樹脂層(P)の製造例2(P−ii)
実施例2で得たペレットをそのまま用いた。
製造例6:樹脂層(P)の製造例3(P−iii、P−iv、P−v)
表2に示す割合に配合したこと以外は実施例1と同様に実施して、ペレットを得た。
製造例7:樹脂層(P)の製造例4(P−vi)
旭化成ケミカルズ(株)製、ザイロンX9102(登録商標)を用いた。
Production Example 4: Production Example 1 (P-i) of Resin Layer (P)
The pellet obtained in Example 1 was used as it was.
Production Example 5: Production Example 2 (P-ii) of Resin Layer (P)
The pellet obtained in Example 2 was used as it was.
Production Example 6: Production Example 3 of the resin layer (P) (P-iii, P-iv, Pv)
Pellets were obtained in the same manner as in Example 1 except that the proportions shown in Table 2 were blended.
Production Example 7: Production Example 4 (P-vi) of Resin Layer (P)
Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd. Xylon X9102 (registered trademark) was used.
製造例8:樹脂層(P)の製造例5(P−vii)
無水マレイン酸(特級、和光純薬(株)製)2部、PPE−1を80部、ハイインパクトポリスチレン(H9405、PSジャパン(株)製)15部、ポリスチレン(685、PSジャパン(株)製)5部、配合し、製造例4と同様に実施して、無水マレイン酸で官能化されたポリフェニレンエーテル系樹脂組成物を得た。
製造例9:芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物のブロック共重合体の部分水添ポリマー(SEBS−i)の製造例
ポリスチレン−水素添加されたポリブタジエン−ポリスチレンの構造を有し、結合スチレン量35%、数平均分子量62,000、分子量分布1.05、水素添加前のポリブタジエンの1,2−ビニル結合量が38%、ポリブタジエン部の水素添加率が99.9%のブロック共重合体の部分水添ポリマーを合成した。
Production Example 8: Production Example 5 (P-vii) of Resin Layer (P)
2 parts of maleic anhydride (special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 80 parts of PPE-1, 15 parts of high impact polystyrene (H9405, manufactured by PS Japan), polystyrene (685, manufactured by PS Japan) ) 5 parts was blended and carried out in the same manner as in Production Example 4 to obtain a polyphenylene ether-based resin composition functionalized with maleic anhydride.
Production Example 9: Production Example of Partially Hydrogenated Polymer (SEBS-i) of Block Copolymer of Aromatic Vinyl Compound and Conjugated Diene Compound Polystyrene-hydrogenated polybutadiene-polystyrene structure having a bound styrene content of 35% Partial water of a block copolymer having a number average molecular weight of 62,000, a molecular weight distribution of 1.05, a 1,2-vinyl bond amount of the polybutadiene before hydrogenation of 38%, and a hydrogenation rate of the polybutadiene part of 99.9% An additive polymer was synthesized.
製造例10:芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物のブロック共重合体の部分水添ポリマー(SEBS−ii)の製造例
ポリスチレン−水素添加されたポリブタジエン−ポリスチレンの構造を有し、結合スチレン量60%、数平均分子量89,000、分子量分布1.08、水素添加前のポリブタジエンの1,2−ビニル結合量が38%、ポリブタジエン部の水素添加率が99.8%のブロック共重合体の部分水添ポリマーを合成した。
Production Example 10: Production Example of Partially Hydrogenated Polymer (SEBS-ii) of Block Copolymer of Aromatic Vinyl Compound and Conjugated Diene Compound Polystyrene-hydrogenated polybutadiene-polystyrene structure, bound styrene content 60% Partial water of the block copolymer having a number average molecular weight of 89,000, a molecular weight distribution of 1.08, a 1,2-vinyl bond content of the polybutadiene before hydrogenation of 38%, and a hydrogenation rate of the polybutadiene part of 99.8% An additive polymer was synthesized.
製造例11:芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物のブロック共重合体の部分水添ポリマー(SEBS−iii)の製造例
特開昭63−99257号公報に記載の方法により、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンを用い、ポリスチレン−水素添加されたポリブタジエン−ポリスチレンの構造を有し、結合スチレン量8%、数平均分子量51,000、分子量分布1.04、ポリブタジエンの1,2−ビニル結合量が38%、である末端にアミノ基を有するブロック共重合体を得、さらに水素添加により、ポリブタジエン部の水素添加率が99.8%のブロック共重合体の部分水添ポリマーを合成した。
Production Example 11 Production Example of Partially Hydrogenated Polymer (SEBS-iii) of Block Copolymer of Aromatic Vinyl Compound and Conjugated Diene Compound According to the method described in JP-A-63-99257, 1,3-dimethyl- It has a structure of polystyrene-hydrogenated polybutadiene-polystyrene using 2-imidazolidinone, 8% bonded styrene, number average molecular weight 51,000, molecular weight distribution 1.04, 1,2-vinyl bond of polybutadiene A block copolymer having an amino group at the end, the amount of which was 38%, was obtained, and a hydrogenated hydrogenation rate of the polybutadiene portion was synthesized as a block copolymer partially hydrogenated polymer by 99.8%.
製造例12:芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物のブロック共重合体の部分水添ポリマー(SEBS−iv)の製造例
ポリスチレン−水素添加されたポリブタジエン−ポリスチレンの構造を有し、結合スチレン量3%、数平均分子量52,000、分子量分布1.05、水素添加前のポリブタジエンの1,2−ビニル結合量が38%、ポリブタジエン部の水素添加率が99.9%のブロック共重合体の部分水添ポリマーを合成した。
製造例13:芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物のブロック共重合体の部分水添ポリマー(SEBS−v)の製造例
ポリスチレン−水素添加されたポリブタジエン−ポリスチレンの構造を有し、結合スチレン量70%、数平均分子量82,000、分子量分布1.05、水素添加前のポリブタジエンの1,2−ビニル結合量が38%、ポリブタジエン部の水素添加率が99.9%のブロック共重合体の部分水添ポリマーを合成した。
Production Example 12: Production Example of Partially Hydrogenated Polymer (SEBS-iv) of Block Copolymer of Aromatic Vinyl Compound and Conjugated Diene Compound Polystyrene-hydrogenated polybutadiene-polystyrene structure with 3% bound styrene content Partial water of a block copolymer having a number average molecular weight of 52,000, a molecular weight distribution of 1.05, a 1,2-vinyl bond amount of polybutadiene before hydrogenation of 38%, and a hydrogenation rate of polybutadiene part of 99.9% An additive polymer was synthesized.
Production Example 13: Production Example of Partially Hydrogenated Polymer (SEBS-v) of Block Copolymer of Aromatic Vinyl Compound and Conjugated Diene Compound Polystyrene-hydrogenated polybutadiene-polystyrene structure having a bound styrene content of 70% Partial water of block copolymer having a number average molecular weight of 82,000, molecular weight distribution of 1.05, 1,2-vinyl bond content of polybutadiene before hydrogenation is 38%, and hydrogenation rate of polybutadiene part is 99.9% An additive polymer was synthesized.
[実施例11]
(P)層としてP−iを用い、(Q)層としてSEBS−iを用い、上記(2)で示したTダイによる押出成形方法により多層フィルムを得た。これを離型フィルムとして用い、上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表3に示した。
[Example 11]
Using P-i as the (P) layer and SEBS-i as the (Q) layer, a multilayer film was obtained by the extrusion molding method using the T-die shown in (2) above. Using this as a release film, the film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 3.
[実施例12]
(P)層としてP−iiを用いたこと以外は、実施例11と同様に多層フィルムを得、上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表3に示した。
[Example 12]
A multilayer film was obtained in the same manner as in Example 11 except that P-ii was used as the (P) layer, and the film was evaluated according to the method described above. The results are shown in Table 3.
[実施例13]
(P)層としてP−iiiを用い、上記(1)で示したインフレーションによる押出成形方法により多層フイルムを得たこと以外は実施例11と同様に、フィルムの評価を実施し、その結果を表3に示した。
[Example 13]
The film was evaluated in the same manner as in Example 11 except that P-iii was used as the (P) layer, and a multilayer film was obtained by the extrusion molding method by inflation shown in (1) above. It was shown in 3.
[実施例14]
(P)層としてP−ivを用いたこと以外は、実施例11と同様に多層フィルムを得、上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表3に示した。
[Example 14]
(P) Except having used P-iv as a layer, the multilayer film was obtained similarly to Example 11 and the film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 3.
[実施例15]
(P)層としてP−vを用いたこと以外は、実施例11と同様に多層フィルムを得、上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表3に示した。
[Example 15]
(P) Except having used Pv as a layer, the multilayer film was obtained similarly to Example 11 and the film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 3.
[実施例16]
(Q)層としてSEBS−iiを用いること以外は、実施例11と同様に多層フィルムを得、上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表3に示した。
[Example 16]
A multilayer film was obtained in the same manner as in Example 11 except that SEBS-ii was used as the (Q) layer, and the film was evaluated according to the method described above. The results are shown in Table 3.
[実施例17]
(P)層としてP−viを用いたこと、(Q)層としてSEBS−iiを用いること以外は、実施例11と同様に多層フィルムを得、上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表3に示した。
[Example 17]
A multilayer film was obtained in the same manner as in Example 11 except that P-vi was used as the (P) layer and SEBS-ii was used as the (Q) layer, and the film was evaluated according to the method shown above. did. The results are shown in Table 3.
[実施例18]
(P)層としてP−viiを用いたこと、(Q)層としてSEBS−iiiを用いること以外は、実施例11と同様に多層フィルムを得、上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表3に示した。
[Example 18]
A multilayer film was obtained in the same manner as in Example 11 except that P-vii was used as the (P) layer and SEBS-iii was used as the (Q) layer, and the film was evaluated according to the method shown above. did. The results are shown in Table 3.
[実施例19]
(Q)層として、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA−1、旭化成ケミカルズ(株)製、サンテックEF0925(登録商標)、VAコンテント9重量%、MFR=2.5g/10min)を用い、上記(2)のTダイ法で得たP−iの単層フィルムをTダイの上下から各々フィードし、EVA−1樹脂をTダイから溶融状態にて流し、165℃に設定した第1ロールでドライラミネートすることにより、多層構造のフィルムを得た。P/Q/Pの層の厚みは、30/150/30μmであった。
[Example 19]
As the (Q) layer, an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA-1, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation, Suntec EF0925 (registered trademark), VA content 9% by weight, MFR = 2.5 g / 10 min) was used. With the first roll set at 165 ° C., each of the P-i monolayer films obtained by the T-die method of (2) was fed from above and below the T-die, and EVA-1 resin was poured from the T-die in a molten state. A film having a multilayer structure was obtained by dry lamination. The thickness of the P / Q / P layer was 30/150/30 μm.
[実施例20]
(P)層としてP−ivを用いること以外は、実施例19と同様にドライラミネーション法にて多層構造のフィルムを得た。P/Q/Pの層の厚みは、25/150/25μmであった。
[Example 20]
A film having a multilayer structure was obtained by the dry lamination method in the same manner as in Example 19 except that P-iv was used as the (P) layer. The thickness of the P / Q / P layer was 25/150/25 μm.
[実施例21]
(Q)層としてSEBS−ivを用いたこと以外は、実施例11と同様に実施した。P−Qの層間密着力は×であった。容易に剥がれてしまった。
[Example 21]
(Q) The same procedure as in Example 11 was performed except that SEBS-iv was used as the layer. The interlayer adhesion of PQ was x. It peeled off easily.
[実施例22]
(Q)層としてSEBS−vを用いたこと以外は、実施例11と同様に実施した。追随性が×であった。接着剤のはみ出し性は△であった。
[Example 22]
(Q) The same procedure as in Example 11 was performed except that SEBS-v was used as the layer. Followability was x. The protruding property of the adhesive was Δ.
[比較例4]
(P)層として、ポリ4−メチル−1−ペンテン系樹脂(PMP、RT18、TPX(登録商標)、三井化学(株)製)を用い、(1)に示したインフレーション成形を実施したこと以外は、実施例11と同様に多層フィルムを得、これを離型フィルムとして用い、上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表3に示した。P−Q層間がうまく密着しなかったため、追随性とスリップ性が評価できなかった。
[Comparative Example 4]
(P) A poly-4-methyl-1-pentene resin (PMP, RT18, TPX (registered trademark), manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was used as the layer, and the inflation molding shown in (1) was performed. Obtained the multilayer film similarly to Example 11, and used this as a release film, and evaluated the film according to the method shown above. The results are shown in Table 3. Since the PQ layer did not adhere well, the followability and slip property could not be evaluated.
[比較例5]
(P)層として、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET、NEH2050、ユニチカ(株)製)を用いたこと以外は、実施例11と同様に多層フィルムを得、これを離型フィルムとして用い、上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表3に示した。P−Q層間がうまく密着しなかったため、追随性とスリップ性が評価できなかった。
[Comparative Example 5]
As the (P) layer, a multilayer film was obtained in the same manner as in Example 11 except that polyethylene terephthalate resin (PET, NEH2050, manufactured by Unitika Ltd.) was used, and this was used as a release film. The film was evaluated according to the method. The results are shown in Table 3. Since the PQ layer did not adhere well, the followability and slip property could not be evaluated.
[比較例6]
(P)層として、ポリ4−メチル−1−ペンテン系樹脂(PMP、RT18、TPX(登録商標)、三井化学(株)製)を用い、(Q)層なしの単層の離型フィルムとして、上に示した方法に従って、フィルムの評価を実施した。その結果を表3に示した。
[Comparative Example 6]
As the (P) layer, a poly-4-methyl-1-pentene resin (PMP, RT18, TPX (registered trademark), manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is used as a single layer release film without the (Q) layer. The film was evaluated according to the method shown above. The results are shown in Table 3.
以上のことから、本発明による(A)ポリフェニレンエーテル系樹脂を含有する(P)層と(F)エラストマーを含有する(Q)層の多層構造のフィルムが、離型性に優れ、追随性、接着剤のはみ出し性、多層フィルム間の密着力、フィルム間のスリップ性に優れ、プリント基板、特にフレキシブルプリント基板製造に適していることがわかる。 From the above, the multilayer film of the (P) layer containing the (A) polyphenylene ether resin and the (F) layer containing the (F) elastomer according to the present invention is excellent in releasability, followability, It can be seen that the adhesive has excellent protrusion properties, adhesion between multilayer films, and slip properties between films, and is suitable for production of printed circuit boards, particularly flexible printed circuit boards.
本発明の離型フィルムは、離型性・耐汚染性・耐吸湿性に優れ、かつ熱収縮が小さく、プリント基板製品にしわを与えにくく、かつ離型フィルム自身にもしわがつきにくい離型フィルムであり、プリント基板、特にフレキシブルプリント基板製造に適した離型フィルムである。 The release film of the present invention is excellent in releasability, stain resistance and moisture absorption resistance, has a small thermal shrinkage, does not wrinkle printed circuit board products, and does not wrinkle the release film itself. It is a release film suitable for manufacturing printed circuit boards, particularly flexible printed circuit boards.
Claims (15)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004121112A JP3909852B2 (en) | 2003-04-18 | 2004-04-16 | Release film for printed circuit board manufacturing |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003113843 | 2003-04-18 | ||
JP2003118842 | 2003-04-23 | ||
JP2004121112A JP3909852B2 (en) | 2003-04-18 | 2004-04-16 | Release film for printed circuit board manufacturing |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004339491A JP2004339491A (en) | 2004-12-02 |
JP3909852B2 true JP3909852B2 (en) | 2007-04-25 |
Family
ID=39295691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004121112A Expired - Lifetime JP3909852B2 (en) | 2003-04-18 | 2004-04-16 | Release film for printed circuit board manufacturing |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3909852B2 (en) |
TW (1) | TWI289582B (en) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4750039B2 (en) * | 2004-10-14 | 2011-08-17 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | Resin composition |
JP4845233B2 (en) * | 2004-12-21 | 2011-12-28 | 三菱樹脂株式会社 | Release film for printed circuit board manufacturing |
JP2007145016A (en) * | 2005-11-02 | 2007-06-14 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Film made of polyphenylene ether resin and its production method |
JP5121550B2 (en) * | 2007-04-23 | 2013-01-16 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | Resin composition |
JP2010245380A (en) * | 2009-04-08 | 2010-10-28 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Film for solar cell back sheet, and solar cell back sheet and solar cell module using the same |
JP6467800B2 (en) * | 2014-07-30 | 2019-02-13 | 住友ベークライト株式会社 | Release film |
JP7306228B2 (en) * | 2019-11-08 | 2023-07-11 | 三菱ケミカル株式会社 | Laminated film, Laminated film for flexible printed circuit board process |
JPWO2022186044A1 (en) | 2021-03-02 | 2022-09-09 |
-
2004
- 2004-04-16 TW TW93110773A patent/TWI289582B/en active
- 2004-04-16 JP JP2004121112A patent/JP3909852B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004339491A (en) | 2004-12-02 |
TW200422349A (en) | 2004-11-01 |
TWI289582B (en) | 2007-11-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8124694B2 (en) | Mold releasing film for printed circuit board production | |
JP4750039B2 (en) | Resin composition | |
JP6026025B2 (en) | Flame retardant resin film and solar cell backsheet using the same | |
JP3909852B2 (en) | Release film for printed circuit board manufacturing | |
JP5317385B2 (en) | Film | |
CN101754589A (en) | Demolding film | |
JP5005161B2 (en) | Polyphenylene ether resin sheet | |
JP4758757B2 (en) | Extruded film forming method | |
JP5005412B2 (en) | Extruded sheet of polymer alloy | |
JP4804165B2 (en) | Manufacturing method of resin sheet | |
JP4286726B2 (en) | TAB spacer tape made of polyphenylene ether resin | |
JP4518383B2 (en) | TAB lead tape made of polyphenylene ether resin | |
JP4618685B2 (en) | Resin composition | |
JP4854095B2 (en) | TAB lead tape made of polyphenylene ether resin | |
JP4901028B2 (en) | Resin composition with excellent impact resistance | |
JP2007145016A (en) | Film made of polyphenylene ether resin and its production method | |
US8916633B2 (en) | TAB leader tape made of polyphenylene ether-based resin | |
JP5004595B2 (en) | Polyphenylene ether resin tray and method for producing the same | |
TW202336132A (en) | Glass cloth impregnated with resin composition, and copper-clad laminate using glass cloth impregnated with resin composition, and printed substrate | |
JP2008266419A (en) | Mold release film for producing printed circuit board | |
JP2009249515A (en) | Polyphenylene ether resin film | |
JP2007246893A (en) | Thermoplastic resin composition | |
JP2004035743A (en) | Sheet |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060517 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20060517 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20060517 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20060601 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060615 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060825 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061013 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061114 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061120 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070119 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070122 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3909852 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100202 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100202 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110202 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110202 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120202 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120202 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130202 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140202 Year of fee payment: 7 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |