JP4659337B2 - 放射線撮像装置、その駆動方法及びその製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）及び光電変換素子を有する放射線撮像装置、その駆動方法及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、絶縁基板上にＴＦＴを作りこむＴＦＴマトリックスパネルの大判化や駆動速度の高速化が急速に進められている。ＴＦＴを用いた液晶パネルの製造技術は、可視光を電気信号に変換する光電変換素子を有するエリアセンサ（例えば、Ｘ線撮像装置）へと利用されており、表面にＸ線（放射線）から可視光線への変換層を配置することで放射線撮像装置としても活用されている。このようなパネルが放射線撮像装置として使用される場合、放射線撮像装置の中に、以下の３つの機能を備えた放射線モニタ基板を別に配置する必要がある。
（１）照射された放射線をモニタする。
（２）モニタした放射線量が設定値となったときに、放射線発生器に放射線照射を停止させる信号を送る。
（３）放射線の照射が終了したことをモニタし、放射線撮像装置を駆動させる信号を送り、画像を取り込む。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
このため、従来の放射線撮像装置は、大型で厚く重量も重いものとなっている。しかしながら、放射線撮像装置には、携帯して使用することができるような小型で薄型の装置の要求が高い。例えば、病院内に設置されたＸ線撮影用の放射線撮像装置を持ってベッドとベッドとの間を移動したり、人が手で持ったまま撮影したりするようなときに、放射線撮像装置が小型であることが要求される。また、病院では女性の看護師が撮影装置の準備をする場合があり、このような場合にも、更なる軽量化が求められている。
【０００４】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであって、小型かつ軽量で、容易に持ち運びすることができる放射線撮像装置、その駆動方法及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
第１の発明に係る放射線撮像装置は、基板と、前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する複数の第１の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に接続された複数のスイッチ素子とを備えた変換部と、前記変換部内に入射した放射線照射を検出するために前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する第２の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に設けられた第１の電極及び前記第２の半導体変換素子に設けられた第２の電極に接続されたバイアスラインと、を有することを特徴とする。
【０００６】
第２の発明に係る放射線撮像装置の駆動方法は、放射線源と、基板と、前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する複数の第１の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に接続された複数の薄膜トランジスタとを備えた変換部と、前記変換部内に入射した放射線の照射量を検出するために前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する第２の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に設けられた第１の電極及び前記第２の半導体変換素子に設けられた第２の電極に接続されたバイアスラインと、を有する放射線撮像装置を駆動する方法であって、前記第２の半導体変換素子を用いて前記変換部内に入射した放射線の照射量を検出するために、前記第２の電極にバイアスを印加する工程と、前記放射線源から放射線を前記変換部に向けて照射する工程と、前記照射量がある値に到達した時に、前記放射線源からの放射線の照射を停止させる工程と、前記第１の半導体変換素子に蓄積された電荷を読み出すために、前記薄膜トランジスタの制御電極に動作電圧を印加する工程と、前記第１の半導体変換素子及び前記第２の半導体変換素子内の残存電荷を除去するために、前記第１の半導体変換素子及び前記第２の半導体変換素子の半導体層に順方向バイアスを印加するか、又は前記半導体層の空乏化バイアスによる電界を小さくする工程と、を有することを特徴とする。
【０００７】
第３の発明に係る放射線撮像装置の製造方法は、基板と、前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する複数の第１の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に接続された複数の薄膜トランジスタとを備えた変換部と、前記変換部内に入射した放射線の照射量を検出するために前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する第２の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に設けられた第１の電極及び前記第２の半導体変換素子に設けられた第２の電極に接続されたバイアスラインと、を有する放射線撮像装置の製造方法であって、前記基板上に、同一の層から前記第１の半導体変換素子のセンサ電極、前記薄膜トランジスタの制御電極及び前記第２の半導体変換素子の電極を形成する工程と、前記基板の上方に、前記バイアスライン、並びに前記薄膜トランジスタのソース電極及びドレイン電極用の導電膜を形成する工程と、前記導電膜をパターニングすることにより、前記バイアスラインを形成する工程と、前記導電膜を更にパターニングすることにより、前記薄膜トランジスタのソース電極及びドレイン電極を形成する工程と、同一の層から前記第１の半導体変換素子に設けられた第１の電極及び前記第２の半導体変換素子に設けられた第２の電極を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【０００８】
これらの本発明においては、第２の半導体変換素子を介して検出された放射線量に基づいてＡＥＣ制御を行うことが可能である。このとき、第２の半導体変換素子が、第１の半導体変換素子と同一の基板上に形成されているので、第２の半導体変換素子による放射線の減衰は生じない。また、第１の電極及び第２の電極のいずれもがバイアスラインに接続されているので、後述のように、第２の半導体変換素子の電極用の配線の数を低減することが可能となり、第１の半導体変換素子の受光面積を大きく確保することが可能である。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態に係る放射線撮像装置、その駆動方法及びその製造方法について、添付の図面を参照して具体的に説明する。
【００１０】
（参考例）
先ず、参考例について説明する。この参考例は、本願発明者が本願発明に想到する過程で創作したものである。図１は、参考例に係る放射線撮像装置の回路構成を示す等価回路図である。図２は、参考例に係る放射線撮像装置の全体的な構成を示すレイアウト図である。図１には、画素エリアに４行４列（１６個）の画素が設けられている例を示すが、その数はこれに限定されるものではない。
【００１１】
本参考例においては、画素毎に、撮像用光電変換素子（第１の半導体変換素子）とスイッチング用薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）との組み合わせ、又は撮像用光電変換素子とスイッチング用ＴＦＴとＡＥＣ制御用のモニタ用光電変換素子（第２の半導体変換素子）との組み合わせが設けられている。具体的には、図１中の上から第ａ行、第ｂ列の画素には、１個の撮像用光電変換素子Ｍｂａと１個のスイッチング用薄膜トランジスタＴｂａとが設けられている（ａ、ｂ＝１、２、３、４）。更に、第３列で第３行及び第４行の画素には、夫々、１個のモニタ用光電変換素子ＭＡ３３、ＭＡ３４が設けられている。また、第３列で第１行及び第２行の画素には、夫々、モニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられている。
【００１２】
また、第ｂ列に配置された４個の撮像用光電変換素子は共通のバイアス線Ｖｓｂに接続されており、共通電極ドライバ回路部５６から一定バイアスが印加されている。第ａ行に配置された４個のスイッチング用ＴＦＴのゲート電極（制御電極）は、共通のゲート線Ｖｇａに接続されており、ゲートドライバ回路部５２によりゲートのＯＮ／ＯＦＦが制御される。更に、第ｂ列に配置された４個のスイッチング用ＴＦＴのソース電極又はドレイン電極は、共通の信号線Ｓｉｇｂに接続されている。信号線Ｓｉｇ１〜Ｓｉｇ４は、撮像用信号処理回路部５１に接続されている。なお、本明細書では、バイアス線が延びる方向に並ぶ画素の配列を列、それに直交する方向（ゲート線が延びる方向）に並ぶ画素の配列を行という。
【００１３】
モニタ用光電変換素子ＭＡ３３及びＭＡ３４はＴＦＴ型のセンサであり、その各ドレイン電極は電源５３に接続され、各ソース電極はモニタ用信号処理回路部５４に接続され、各ゲート電極（制御電極）はゲートドライバ回路部５５に接続されている。ＴＦＴ型のセンサでは、可視光線の入射により半導体層内に発生したエレクトロン及びホールをソース・ドレイン間の電界により読み取る。つまり、電源５３からドレイン電極に電圧を印加することによって、ソース・ドレイン間に電位を与えると、電極間の受光部に光が照射されて発生したエレクトロン及びホールがソース・ドレイン間の電位差により各電極に輸送される。この電荷をモニタ用信号処理回路部５４でリアルタイムに読み取ることで、光照射量を測定することができる。
【００１４】
図１に示すような構成の回路を、多数の画素を備えた放射線撮像装置に適用すると、例えば、図２に示すように、変換部（画素エリア）Ｔ内に、撮像用光電変換素子及びスイッチング用ＴＦＴが設けられた複数の画素が集合した領域Ｒ１、撮像用光電変換素子、スイッチング用ＴＦＴ及びモニタ用光電変換素子が設けられた複数の画素が集合した領域Ｒ２、並びに撮像用光電変換素子、スイッチング用ＴＦＴ及びモニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた複数の画素が集合した領域Ｒ３が存在することとなる。
【００１５】
次に、参考例における３種類の画素の平面構成及び断面構成について説明する。図３は、参考例に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子及びその引き回し配線のいずれもが設けられていない画素の平面構成を示すレイアウト図である。図４は、参考例に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。図５は、参考例に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。また、図６は、図３中のＩ−Ｉ線に沿った断面図である。なお、図３乃至図５では、半導体層をその下方に存在する制御電極等よりも内側に示しているが、これは、便宜上のものであり、この参考例では、図６に示すように、半導体層はその下方に存在する制御電極等よりも拡がって形成されている。このことは、他のレイアウト図においても同様である。
【００１６】
モニタ用光電変換素子及びその引き回し配線のいずれもが設けられていない画素には、図３及び図６に示すように、絶縁基板１０上に、撮像用光電変換素子１のセンサ電極１１及びスイッチング用ＴＦＴ３の制御電極（ゲート電極）１２並びにこれらを覆う第１の絶縁膜１３が形成されている。
【００１７】
第１の絶縁膜１３上には、センサ電極１１と整合するようにして半導体層（光電変換層）１４ａ及びオーミックコンタクト層（第１の電極）１５ａが順次積層されている。更に、オーミックコンタクト層１５ａ上に、共通電極バイアスライン１６が形成されている。この共通電極バイアスライン１６は、図１中のバイアス線Ｖｓ１〜Ｖｓ４に相当する。
【００１８】
第１の絶縁膜１３上には、更に、制御電極１２と整合するようにして半導体層１４ｂが形成され、この半導体層１４ｂ上の２箇所に、オーミックコンタクト層１５ｂが形成されている。一方のオーミックコンタクト層１５ｂは、センサ電極１１の上方まで拡がっている。そして、このセンサ電極１１の上方まで拡がったオーミックコンタクト層１５ｂ上にドレイン電極１７ｄが形成され、他方のオーミックコンタクト層１５ｂ上にソース電極１７ｓが形成されている。前記一方のオーミックコンタクト層１５ｂ、半導体層１４ｂ及び第１の絶縁膜１３には、スルーホール２７が形成されており、ドレイン電極１７ｄはセンサ電極１１と電気的に接続されている。
【００１９】
そして、これらを覆う第２の絶縁膜１８が形成されている。また、図示しないが、第２の絶縁膜１８上には、Ｘ線を可視光線に変換する蛍光体層が形成されている。
【００２０】
図３に示すように、ソース電極１７ｓは信号線１９に接続されており、制御電極１２はゲート配線２０に接続されている。信号線１９は、図１中のＳｉｇ１〜Ｓｉｇ４に相当し、ゲート配線２０は、図１中のゲート線Ｖｇ１〜Ｖｇ４に相当する。
【００２１】
このように構成された画素は、少なくとも領域Ｒ１に存在し、領域Ｒ２及びＲ３に存在していてもよい。
【００２２】
次に、モニタ用光電変換素子が設けられた画素の構成について説明する。この画素では、図４に示すように、絶縁基板１０上に、撮像用光電変換素子１のセンサ電極１１及びスイッチング用ＴＦＴ３の制御電極（ゲート電極）１２の他に、モニタ用光電変換素子２の制御電極２１が形成されており、第１の絶縁膜１３によりこれらの電極が覆われている。モニタ用光電変換素子２は、画素内で、ゲート配線２０が延びる方向において、撮像用光電変換素子１と隣り合うようにして配置されている。この画素と図３及び図６に示す画素とを比較すると、画素の外形及び面積は同一であり、図４に示す画素では、制御電極２１が形成されているために、センサ電極１１等が小さくなっている。撮像用光電変換素子１及びスイッチング用ＴＦＴ３の構成は、撮像用光電変換素子１が小さくなっていることを除いて、図３及び図６に示す画素と同様である。
【００２３】
モニタ用光電変換素子２では、第１の絶縁膜１３上に、制御電極２１と整合するようにして半導体層（光電変換層）１４ｃが形成され、この半導体層１４ｃ上の２箇所に、オーミックコンタクト層（第２の電極）１５ｃが形成されている。そして、２個のオーミックコンタクト層１５ｃ上に、夫々ドレイン電極２２ｄ、ソース電極２２ｓが形成されている。ドレイン電極２２ｄ、ソース電極２２ｓは、第２の絶縁膜１８に覆われている。
【００２４】
なお、図４に示すように、制御電極２１は、半導体層１４ｃよりも長く延びて形成されており、第１の絶縁膜１３の制御電極２１の両端部に整合する位置には、スルーホール２８が形成されている。そして、このスルーホール２８を介してゲート配線２０を跨ぎ、ゲート配線２０を挟んで隣り合う画素の制御電極２１同士を電気的に接続する上部配線２３が形成されている。
【００２５】
このように構成された画素は、領域Ｒ２に存在する。
【００２６】
また、図５には示さないが、第２の絶縁膜１８の上方には、Ｘ線を可視光線に変換する蛍光体層が形成されている。
【００２７】
モニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素には、図５に示すように、ドレイン電極２２ｄ用の配線２４、制御電極２１用の配線２５及びソース電極２２ｓ用の配線２６が形成されている。配線２４乃至２６は、共通電極バイアスライン１６と並行に延びており、ゲート配線２０が延びる方向において、画素内で、撮像用光電変換素子１と隣り合うようにして配置されている。この画素と図３及び図６に示す画素とを比較すると、画素の外形及び面積は同一であり、図５に示す画素では、配線２４乃至２６が形成されているために、センサ電極１１等が小さくなっている。撮像用光電変換素子１及びスイッチング用ＴＦＴ３の構成は、撮像用光電変換素子１が小さくなっていることを除いて、図３及び図６に示す画素と同様である。
【００２８】
このように構成された画素は、領域Ｒ３に存在する。
【００２９】
また、図６には示さないが、第２の絶縁膜１８の上方には、Ｘ線を可視光線に変換する蛍光体層が形成されている。
【００３０】
このように構成された参考例によれば、絶縁基板１０上にモニタ用光電変換素子２を撮像用光電変換素子１とは別に設けているため、放射線モニタ基板を別に配置する必要がなく、装置全体を小型化及び軽量化することが可能である。
【００３１】
しかし、この参考例では、図５に示すように、引き回し配線２４乃至２６が設けられた画素では、撮像用光電変換素子１の受光面積が、図３に示す画素と比較すると、極端に小さくなっている。従って、この参考例では、撮像用光電変換素子１の開口率が十分であるとはいえない。
【００３２】
そこで、本願発明者が更に鋭意検討を重ねた結果、ドレイン電極２２ｄを共通電極バイアスライン１６に接続し、ドレイン電極２２ｄの引き回し配線２４を不要とすることで、引き回し配線が設けられた画素内の撮像用光電変換素子１の受光面積（開口率）を上げ、特性を向上させることができることを見出した。以下、本発明の実施形態について説明する。
【００３３】
（第１の実施形態）
先ず、本発明の第１の実施形態について説明する。図７は、本発明の第１の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。図８は、第１の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。また、図９は、図７中のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。図１０は、変換部Ｔとその周辺の回路部との配置を示す模式図である。
【００３４】
第１の実施形態においては、ＴＦＴ型のモニタ用光電変換素子が設けられた画素では、図７に示すように、ドレイン電極２２ｄが共通電極バイアスライン１６に接続されている。
【００３５】
このように構成された画素は、参考例における領域Ｒ２のように、集合して配置されており、例えば、ドレイン電極２２ｄ、ソース電極２２ｓ、共通電極バイアスライン１６及び信号線１９がこれらの画素間で共有されている。
【００３６】
また、モニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素には、図８に示すように、制御電極２１用の配線２５及びソース電極２２ｓ用の配線２６が形成されているが、参考例とは異なり、ドレイン電極２２ｄ用の配線は形成されていない。これは、ドレイン電極２２ｄが共通電極バイアスライン１６に接続されているためである。配線２４、２５は、夫々変換部Ｔの最も外側に位置する画素まで隣り合う画素間で接続されており、ソース電極２２ｓ及び制御電極２１は、夫々パネル外部まで配線２４、２５により引き回されている。
【００３７】
また、モニタ用光電変換素子及びその引き回し配線のいずれもが設けられていない画素の構成は、図３及び図６に示す画素（参考例の画素）と同様である。
【００３８】
図７及び図９に示す画素と図３及び図６に示す画素と比較すると、画素の外形及び面積は同一であり、図７及び図９に示す画素では、モニタ用光電変換素子２が形成されているために、その分だけ撮像用光電変換素子１の受光面積（開口率）が小さくなっている。また、図８に示す画素と図３及び図６に示す画素と比較すると、画素の外形及び面積は同一であり、配線２５及び２６が形成されているために、その分だけ撮像用光電変換素子１の受光面積（開口率）が小さくなっている。
【００３９】
これらの画素は、例えば参考例と同様に、図２に示すようにして配置される。つまり、四角形の二次元に形成された変換部Ｔの中の４隅と中央付近に、モニタ用光電変換素子及び撮像用光電変換素子が対になって形成された複数の画素が設けられた領域Ｒ２が配置されている。本実施形態では、領域Ｒ２内の２０行×３列の画素に、モニタ用光電変換素子が設けられている。
【００４０】
次に、上述のように構成された第１の実施形態に係る放射線撮像装置を駆動する方法について説明する。
【００４１】
先ず、前述のように、共通電極バイアスライン１６に共通電極ドライバ回路部５６から電圧を印加し、モニタ用光電変換素子２のソース・ドレイン間に電位を与えておく。また、制御電極２１には、半導体層１４ｃの空乏化電圧を印加することにより、ダークカレントの防止とエレクトロン及びホールの収集効率を高めておく。
【００４２】
このような状態で、蛍光体層（図示せず）にＸ線が照射され、蛍光体層から可視光線が光電変換部に照射されると、モニタ用光電変換素子２により吸収された可視光線が電荷に変換され、ソース電極２２ｓを通じてモニタ用信号処理回路部５４へ輸送される。このため、この電荷量をＸ線照射量としてリアルタイムで測定することができる。
【００４３】
その後、モニタ用信号処理回路部５４で測定されたＸ線照射量が設定値に到達すると、Ｘ線発生器（放射線源）に信号を送り、Ｘ線の照射を停止させる。また、その直後に、ＴＦＴ３のゲート配線２０に順次ＴＦＴ３の動作電圧を印加することにより、撮像用光電変換素子１の容量に蓄積された電荷を信号線１９から読み取る。
【００４４】
その後、共通電極バイアスライン１６を通じて撮像用光電変換素子１の半導体層１４ａに順方向電圧を印加し、撮像用光電変換素子１内の絶縁膜１３と半導体層１４ａとの界面にＸ線照射量に対応して蓄積された電荷を全て除去するリフレッシュ動作を行う。
【００４５】
また、モニタ用光電変換素子２の制御電極２１には、共通電極バイアスライン１６に印加される電圧により半導体層１４ｃに順方向電圧が印加される電圧を印加しておく。このような電圧を制御電極２１に印加しておくことにより、共通電極バイアスライン１６に接続されたモニタ用光電変換素子２のドレイン電極２２ｄに、撮像用光電変換素子１のリフレッシュ動作用の電圧が印加されると同時に、モニタ用光電変換素子２内の半導体層１４ｃにも順方向電圧が印加され、モニタ用光電変換素子２のリフレッシュ動作も行われる。
【００４６】
なお、上記のリフレッシュ動作において、蓄積された全ての電荷を除去せずに、その一部のみを除去してもよい。また、共通電極バイアスライン１６に印加する電圧を、空乏化バイアスを小さくする電圧としてもよい。更に、このリフレッシュ動作時に、ソース電極２２ｓの電圧を制御して、より電荷を除去しやすい状態を作り出してもよい。
【００４７】
このような第１の実施形態によれば、参考例と比較すると、引き回し配線が設けられた画素について、参考例では、３本の引き回し配線２４乃至２６が設けられているが、第１の実施形態では、ドレイン電極用の引き回し配線２４が設けられておらず、２本の引き回し配線２５及び２６が設けられているのみである。従って、第１の実施形態によれば、この画素での撮像用光電変換素子１の受光面積（開口率）が大きくなっている。また、参考例では、ドレイン電極２２ｄに電圧を供給するための電源５３が必要とされるが、本実施形態では、ドレイン電極２２ｄには、共通電極ドライバ回路部５６から共通電極バイアスライン１６を介して電圧が供給されるため、電源が不要である。このため、回路の簡素化が可能である。
【００４８】
なお、ある画素に、撮像用光電変換画素１が設けられておらず、モニタ用光電変換素子２及びそれに隣接する画素内のモニタ用光電変換素子２用の引き回し配線のみが設けられていてもよい。この場合、撮像用光電変換画素１からのデータが減少するため、画像処理により、この減少分を補完する必要があるが、このような補完は従来の画像処理技術により対応することが可能である。
【００４９】
また、例えば領域Ｒ２内の２０行×１列の画素又は１行×３列の画素のように、領域Ｒ２内の１ライン内の画素のみに、モニタ用光電変換素子が設けられていてもよい。
【００５０】
次に、第１の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法について説明する。図１１（ａ）乃至（ｄ）及び図１２（ａ）乃至（ｃ）は、本発明の第１の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法を工程順に示す断面図である。
【００５１】
先ず、図１１（ａ）に示すように、絶縁基板１０上に、第１の金属層としてＡｌＮｄ膜３１を、例えばスパッタリングにより５００〜４０００Å成膜する。第１の金属層として、Ｍｏ膜又はＴａ膜を形成してもよく、また、複数の膜を順次成膜した積層膜を形成してもよい。次に、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜３２をマスクとして、ＡｌＮｄ膜３１をパターニングすることにより、センサ電極１１、制御電極１２及び２１並びにゲート配線２０を形成する。ＡｌＮｄ膜３１のエッチングは、例えば硝酸、リン酸及び酢酸を含有するエッチング液を使用したウェットプロセスにより行う。パターニング後、レジスト膜３２を除去する。
【００５２】
次いで、図１１（ｂ）に示すように、第１の絶縁膜１３を１５００〜４０００Å、半導体層３３を２０００〜１５０００Å、ＣＶＤ法により連続して成膜する。半導体層３３が、撮像用光電変換素子１の半導体層（光電変換層）１４ａ、ＴＦＴ３の半導体層１４ｂ、モニタ用光電変換素子２の半導体層（光電変換層）１４ｃになる。第１の絶縁膜１３としては、例えばＳｉＮ膜を用いる。
【００５３】
その後、フォトリソグラフィ法により、ＴＦＴ３の制御電極１２上が開口されたレジスト膜３４をマスクとして、半導体層３３を全てではなく一部の５００〜５０００Åだけエッチングする。この工程は、撮像用光電変換素子１及びモニタ用光電変換素子２で光吸収率を高めるために半導体層３３を２０００〜１５０００Åと厚く積層しているため、このままでは、ＴＦＴ３のソース・ドレイン間の直列抵抗が高くなるので、半導体層３３を薄膜化することでＴＦＴ３のオン抵抗を低減することを目的としている。この際、エッチングは、例えばドライエッチングにより行う。また、ドライエッチングとしては、半導体層３３のダメージを少なく、高い加工精度を得るために、プラズマエッチングが好ましいが、同様に半導体層３３のダメージが少ないケミカルドライエッチングでも良いし、低パワー（例えば０．１〜０．２Ｗ／ｃｍ2程度）、高圧力（例えば１０〜３０Ｐａ程度）で行う反応性イオンエッチングでも良い。パターニング後、レジスト膜３４を除去する。
【００５４】
次に、図１１（ｃ）に示すように、オーミックコンタクト層３５を１００〜１０００Å、ＣＶＤ法により成膜する。半導体層３３とオーミックコンタクト層３５との界面に酸化シリコンが介在している場合は、前処理としてフッ化水素酸（例えば０．１〜１０質量％程度）で処理をしてもよく、有機膜が介在している場合は、酸素プラズマを照射し除去してもよい。また、オーミックコンタクト層３５の成膜直前に、ＣＶＤ装置内で水素プラズマによる最終処理をしても良い。
【００５５】
次いで、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜３６をマスクとして、スルーホール２７を形成する。スルーホール２７はＴＦＴ３のドレイン電極１７ｄと撮像用光電変換素子１のセンサ電極１１とを電気的に接続しており、可視光線を受光部で吸収した際に発生した電荷は、受光部と容量結合しているセンサ電極１１からドレイン電極１７ｄを通じて読み取られる。
【００５６】
なお、後から成膜する金属膜のカバレッジを良くするため、エッチングとして、ケミカルドライエッチングを行い、ホール部の断面をテーパーエッチングすることが好ましい。金属膜のカバレッジを考慮する必要がない良い場合は、反応性イオンエッチングで加工精度を上げても良いし、プラズマエッチングで形成しても良い。パターニング後、レジスト膜３６を除去する。
【００５７】
次に、図１１（ｄ）に示すように、第２の金属層としてＡｌ膜３７を、例えばスパッタリングにより１０００〜１００００Å成膜する。第２の金属層として、Ｍｏ膜又はＴａ膜を形成してもよく、また、複数の膜を順次成膜した積層膜を形成してもよい。また、スルーホール２７の表面に酸化膜が形成されて、スルーホール２７との接続が悪い場合には、Ａｌ膜３７の成膜前に、逆スパッタリングにより酸化膜を除去するプロセスを入れると良い。
【００５８】
次いで、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜３８をマスクとして、Ａｌ膜３７をパターニングすることにより、共通電極バイアスライン１６を形成する。Ａｌ膜３７のエッチングは、例えば硝酸、リン酸及び酢酸を含有するエッチング液を使用したウェットプロセスにより行う。従って、Ａｌ膜３７はレジスト膜３８よりも若干内側に後退する。このパターニングの際に、ソース電極１７ｓ及び２２ｓ、ドレイン電極１７ｄ及び２２ｄ並びに信号線１９が形成される予定の領域のＡｌ膜３７は、本工程でエッチングされないようにレジスト膜３８でマスクしておく。パターニング後、レジスト膜３８を除去する。
【００５９】
その後、図１２（ａ）に示すように、フォトリソグラフィ法により、新たなレジスト膜３９をマスクとして、Ａｌ膜３７をパターニングすることにより、ソース電極１７ｓ及び２２ｓ、ドレイン電極１７ｄ及び２２ｄ並びに信号線１９を形成する。Ａｌ膜３７のエッチングは、例えば硝酸、リン酸及び酢酸を含有するエッチング液を使用したウェットプロセスにより行う。従って、Ａｌ膜３７はレジスト膜３８よりも若干内側に後退する。
【００６０】
この際に、既に形成されている共通電極バイアスライン１６は、本工程でエッチングされないようにレジスト膜３９でマスクしておく。また、次工程で行うドライエッチングの際に、撮像用光電変換素子１の開口領域内のオーミックコンタクト層３５が除去されないよう、共通電極バイアスライン１６だけでなく、撮像用光電変換素子１の開口領域全体をレジスト膜３９によりマスクしておく。
【００６１】
次に、図１２（ａ）に示すように、レジスト膜３９をマスクとして、ドライエッチングを行うことにより、ＴＦＴ３のギャップ部、即ち、ソース−ドレイン間のオーミックコンタクト層３５を除去することにより、オーミックコンタクト層１５ａ乃至１５ｃを形成する。
【００６２】
次いで、図１２（ｂ）に示すように、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜４０をマスクとして、半導体層３３やオーミックコンタクト層３５の不要な部分を除去することにより、撮像用光電変換素子１の開口領域を区画し、半導体層１４ａ乃至１４ｃを形成する。パターニング後、レジスト膜４０を除去する。
【００６３】
なお、第１の絶縁膜１３の不要な部分は、本実施形態では除去しないが、除去してもよい。第１の絶縁膜１３を除去せずに残存させる場合には、加工精度を確保するために、半導体層３３やオーミックコンタクト層３５の不要な部分を除去するためのエッチングは、半導体層３３と第１の絶縁膜１３を構成するＳｉＮ膜との選択比を確保しやすいプラズマエッチングで行うことが好ましい。
【００６４】
その後、図１２（ｃ）に示すように、第２の絶縁膜１８を保護膜として２０００〜１００００Å、ＣＶＤ法により成膜する。第２の絶縁膜１８としては、例えばＳｉＮ膜を形成することができる。このようにして、撮像用光電変換素子１、モニタ用光電変換素子２及びＴＦＴ３を形成することができる。
【００６５】
そして、蛍光体層（図示せず）を形成し、電気接続を確保するために、周辺部の保護膜を、フォトリソグラフィ法を用いてパターニング及びドライエッチングを行って除去することにより、放射線撮像装置を完成させることができる。
【００６６】
ここで、上述の第１の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法の説明では、オーミックコンタクト層を上部電極（第１の電極）としても機能させるため、オーミックコンタクト層を形成した後に第２の金属膜を形成しているが、オーミックコンタクト層の抵抗率が高い場合には、後述の第２の実施形態のように、第２の金属膜を形成する前に、ＩＴＯ（Indium-Tin-Oxide）等からなる透明電極膜をオーミックコンタクト層上に形成してもよい。この場合、第１及び第２の電極は、いずれもオーミックコンタクト層と透明電極膜との積層構造となる。このような透明電極膜を形成することにより、オーミックコンタクト層の膜厚を薄くしても問題が生ずることはなくなるため、オーミックコンタクト層の膜厚を薄膜化することが可能となり、これによって入射光量自体を増大させることができる。また、モニタ用光電変換素子２においても、ソース電極２２ｓ及びドレイン電極２２ｄに透明電極膜を使用すれば、入射光量を増大させることができるため、その感度が向上する。
【００６７】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。第１の実施形態では、モニタ用光電変換素子２がＴＦＴ型のセンサであるのに対し、第２の実施形態では、モニタ用光電変換素子２がＭＩＳ型のセンサである。ＭＩＳ型のセンサでは、可視光線の入射により半導体層内に発生したエレクトロン及びホールの影響により２個の電極間の電圧が変動するため、この電圧の変動を読み取るか、又はこの変動に基づく電流の変動を読み取る。図１３は、本発明の第２の実施形態に係る放射線撮像装置の全体的な構成を示すレイアウト図である。図１４は、第２の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。図１５は、第２の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。また、図１６は、図１４中のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図である。
【００６８】
第２の実施形態においては、第１の実施形態と同様に、変換部（画素エリア）Ｔ内に、領域Ｒ１、Ｒ２及びＲ３が設けられているが、図１３に示すように、これらの配置が第１の実施形態とは相違している。即ち、本実施形態においては、領域Ｒ３は、領域Ｒ２に対してゲート配線２０が延びる方向に配置されている。また、電源５３だけでなく、ゲートドライバ回路部５５も設けられていない。これは、モニタ用光電変換素子２がＭＩＳ型のセンサだからである。本実施形態では、領域Ｒ２内の３行×２０列の画素に、モニタ用光電変換素子が設けられている。
【００６９】
本実施形態において、撮像用光電変換素子１及びスイッチング用ＴＦＴ３の断面構成は、図１６に示すように、撮像用光電変換素子１において透明電極６２ａがオーミックコンタクト層１５ａと共通電極バイアスライン１６との間に形成されていることを除き、第１の実施形態におけるものと同様である。つまり、本実施形態では、上部電極（第１の電極）がオーミックコンタクト層と透明電極との積層構造となっている。そして、モニタ用光電変換素子及びその引き回し配線のいずれもが設けられていない画素の構成は、第１の実施形態と同様である。
【００７０】
一方、モニタ用光電変換素子が設けられた画素では、図１４に示すように、絶縁基板１０上に、撮像用光電変換素子１のセンサ電極１１及びスイッチング用ＴＦＴ３の制御電極（ゲート電極）１２の他に、モニタ用光電変換素子２の下部電極６１が形成されており、第１の絶縁膜１３によりこれらの電極が覆われている。本実施形態では、モニタ用光電変換素子２は、共通電極バイアスライン１６が延びる方向において、画素内で、撮像用光電変換素子１と隣り合うようにして配置されている。この画素とモニタ用光電変換素子及びその引き回し配線のいずれもが設けられていない画素（図３及び図６に示す画素）とを比較すると、画素の外形及び面積は同一であり、図１４に示す画素では、下部電極６１が形成されているために、センサ電極１１等が小さくなっている。
【００７１】
モニタ用光電変換素子２では、図１６に示すように、第１の絶縁膜１３上に、下部電極６１と整合するようにして半導体層（光電変換層）１４ｃが形成され、この半導体層１４ｃ上に、オーミックコンタクト層１５ｃ及び透明電極６２ｃが形成されている。オーミックコンタクト層１５ｃ及び透明電極６２ｃから、上部電極（第２の電極）が構成されている。そして、透明電極６２ｃ上に共通電極バイアスライン１６が形成されている。共通電極バイアスライン１６は、第２の絶縁膜１８に覆われている。
【００７２】
このように構成された画素は、領域Ｒ２に存在する。
【００７３】
モニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素には、図１５に示すように、下部電極６１用の配線６３が形成されている。配線６３は、ゲート配線２０と並行に延びており、共通電極バイアスライン１６が延びる方向において、画素内で、撮像用光電変換素子１と隣り合うようにして配置されている。この画素とモニタ用光電変換素子及びその引き回し配線のいずれもが設けられていない画素（図３及び図６に示す画素）とを比較すると、画素の外形及び面積は同一であり、図１５に示す画素では、配線６３が形成されているために、センサ電極１１等が小さくなっている。配線６３は、変換部Ｔの最も外側に位置する画素まで隣り合う画素間で接続されている。つまり、ゲート配線２０を共有する画素の配列を「行」としたとき、同一の行に配置されたモニタ用光電変換素子２の下部電極６１の全部又は一部が配線６３を介して互いに接続されている。そして、下部電極６１は、パネル外部まで配線６３により引き回されている。
【００７４】
このように構成された画素は、領域Ｒ３に存在する。
【００７５】
次に、上述のように構成された第２の実施形態に係る放射線撮像装置を駆動する方法について説明する。
【００７６】
先ず、共通電極バイアスライン１６に共通電極ドライバ回路部５６から半導体層１４ａ及び１４ｃの空乏化電圧を印加することにより、エレクトロン及びホールの収集効率を高めておく。
【００７７】
このような状態で、蛍光体層（図示せず）にＸ線が照射され、蛍光体層から可視光線が光電変換部に照射されると、モニタ用光電変換素子２により吸収された可視光線が電荷に変換され、この電荷に基づく下部電極２の電位変動又は電位変動に基づく電流値がモニタ用信号処理回路部５４へ輸送される。このため、この電位変動又は電流値をＸ線照射量としてリアルタイムで測定することができる。
【００７８】
その後、モニタ用信号処理回路部５４で測定されたＸ線照射量が設定値に到達すると、Ｘ線発生器（放射線源）に信号を送り、Ｘ線の照射を停止させる。また、その直後に、ＴＦＴ３のゲート配線２０に順次ＴＦＴ３の動作電圧を印加することにより、撮像用光電変換素子１の容量に蓄積された電荷を信号線１９から読み取る。
【００７９】
その後、共通電極バイアスライン１６を通じて撮像用光電変換素子１の半導体層１４ａに順方向電圧を印加し、撮像用光電変換素子１内の絶縁膜１３と半導体層１４ａとの界面にＸ線照射量に対応して蓄積された電荷を全て除去するリフレッシュ動作を行う。
【００８０】
また、モニタ用光電変換素子２の下部電極６１には、共通電極バイアスライン１６に印加される電圧により半導体層１４ｃに順方向電圧が印加される電圧を印加しておく。このような電圧を下部電極６１に印加しておくことにより、共通電極バイアスライン１６に接続されたモニタ用光電変換素子２の透明電極６２ｃに、撮像用光電変換素子１のリフレッシュ動作用の電圧が印加されると同時に、モニタ用光電変換素子２内の半導体層１４ｃにも順方向電圧が印加され、モニタ用光電変換素子２のリフレッシュ動作も行われる。
【００８１】
なお、上記のリフレッシュ動作において、蓄積された全ての電荷を除去せずに、その一部のみを除去してもよい。また、共通電極バイアスライン１６に印加する電圧を、空乏化バイアスを小さくする電圧としてもよい。更に、このリフレッシュ動作時に、下部電極６１の電圧を制御して、より電荷を除去しやすい状態を作り出してもよい。
【００８２】
ＭＩＳ型のセンサをモニタ用光電変換素子２として使用する場合には、モニタ用光電変換素子２を、ゲート配線２０が延びる方向において、画素内で、撮像用光電変換素子１と隣り合うようにして配置して、透明電極６２ｃを電源に、下部電極６１をモニタ用信号処理回路部５４に接続する構造が考えられる。しかし、この構造では、透明電極６２ｃ用の引き回し配線及び下部電極６１用の引き回し配線が必要となり、これらの配線が設けられた画素内の撮像用光電変換素子１の受光面積（開口率）が不足することもあり得る。
【００８３】
これに対し、上述のように構成された第２の実施形態によれば、引き回し配線が設けられた画素について、１本の引き回し配線６３が設けられているのみである。従って、この画素での撮像用光電変換素子１の受光面積（開口率）が大きくなっている。また、本実施形態では、上部電極６１ｃには、共通電極ドライバ回路部５６から共通電極バイアスライン１６を介して電圧が供給されるため、電源が不要である。このため、第１の実施形態と同様に、回路の簡素化が可能である。
【００８４】
なお、第１の実施形態と同様に、ある画素に、撮像用光電変換画素１が設けられておらず、モニタ用光電変換素子２及びそれに隣接する画素内のモニタ用光電変換素子２用の引き回し配線のみが設けられていてもよい。この場合、撮像用光電変換画素１からのデータが減少するため、画像処理により、この減少分を補完する必要があるが、このような補完は従来の画像処理技術により対応することが可能である。
【００８５】
また、例えば領域Ｒ２内の１行×２０列の画素又は３行×１列の画素のように、領域Ｒ２内の１ライン内の画素のみに、モニタ用光電変換素子が設けられていてもよい。
【００８６】
次に、第２の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法について説明する。図１７（ａ）乃至（ｄ）及び図１８（ａ）乃至（ｄ）は、本発明の第２の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法を工程順に示す断面図である。
【００８７】
先ず、図１７（ａ）に示すように、絶縁基板１０上に、第１の金属層としてＡｌＮｄ膜３１を、例えばスパッタリングにより５００〜４０００Å成膜する。第１の金属層として、Ｍｏ膜又はＴａ膜を形成してもよく、また、複数の膜を順次成膜した積層膜を形成してもよい。次に、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜３２をマスクとして、ＡｌＮｄ膜３１をパターニングすることにより、センサ電極１１、制御電極１２、ゲート配線２０及び下部電極６１を形成する。ＡｌＮｄ膜３１のエッチングは、例えば硝酸、リン酸及び酢酸を含有するエッチング液を使用したウェットプロセスにより行う。パターニング後、レジスト膜３２を除去する。
【００８８】
次いで、図１７（ｂ）に示すように、第１の絶縁膜１３を１５００〜４０００Å、半導体層３３を２０００〜１５０００Å、オーミックコンタクト層３５を１００〜１０００Å、ＣＶＤ法により連続して成膜する。半導体層３３が、撮像用光電変換素子１の半導体層（光電変換層）１４ａ、ＴＦＴ３の半導体層１４ｂ、モニタ用光電変換素子２の半導体層（光電変換層）１４ｃになる。第１の絶縁膜１３としては、例えばＳｉＮ膜を用いる。
【００８９】
その後、フォトリソグラフィ法により、ＴＦＴ３の制御電極１２上が開口されたレジスト膜３４をマスクとして、半導体層３３を全てではなく一部の５００〜５０００Åだけエッチングする。この工程は、撮像用光電変換素子１及びモニタ用光電変換素子２で光吸収率を高めるために半導体層３３を２０００〜１５０００Åと厚く積層しているため、このままでは、ＴＦＴ３のソース・ドレイン間の直列抵抗が高くなるので、半導体層３３を薄膜化することでＴＦＴ３のオン抵抗を低減することを目的としている。この際、エッチングは、例えばドライエッチングにより行う。また、ドライエッチングとしては、半導体層３３のダメージを少なく、高い加工精度を得るために、プラズマエッチングが好ましいが、同様に半導体層３３のダメージが少ないケミカルドライエッチングでも良いし、低パワー（例えば０．１〜０．２Ｗ／ｃｍ2程度）、高圧力（例えば１０〜３０Ｐａ程度）で行う反応性イオンエッチングでも良い。パターニング後、レジスト膜３４を除去する。
【００９０】
次に、図１７（ｃ）に示すように、オーミックコンタクト層３５を１００〜１０００Å、ＣＶＤ法により成膜する。半導体層３３とオーミックコンタクト層３５との界面に酸化シリコンが介在している場合は、前処理としてフッ化水素酸（例えば０．１〜１０質量％程度）で処理をしてもよく、有機膜が介在している場合は、酸素プラズマを照射し除去してもよい。また、オーミックコンタクト層３５の成膜直前に、ＣＶＤ装置内で水素プラズマによる最終処理をしても良い。
【００９１】
次いで、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜３６をマスクとして、スルーホール２７を形成する。スルーホール２７はＴＦＴ３のドレイン電極１７ｄと撮像用光電変換素子１のセンサ電極１１とを電気的に接続しており、可視光線を受光部で吸収した際に発生した電荷は、受光部と容量結合しているセンサ電極１１からドレイン電極１７ｄを通じて読み取られる。
【００９２】
なお、後から成膜する金属膜のカバレッジを良くするため、エッチングとして、ケミカルドライエッチングを行い、ホール部の断面をテーパーエッチングすることが好ましい。金属膜のカバレッジを考慮する必要がない良い場合は、反応性イオンエッチングで加工精度を上げても良いし、プラズマエッチングで形成しても良い。パターニング後、レジスト膜３６を除去する。
【００９３】
その後、図１７（ｄ）に示すように、透明電極膜であるＩＴＯ膜４１を、スパッタリングにより１００〜１０００Å成膜する。続いて、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜４２をマスクとして、ＩＴＯ膜４１をパターニングすることにより、透明電極６２ａ及び６２ｃを形成する。このときのエッチングには、例えばスルーホール部で露出しているＡｌＮｄ膜３１にダメージを与えない蓚酸のような有機酸系のエッチング液を用いることが好ましい。
【００９４】
なお、ＩＴＯ膜４１の形成からそのパターニングまでの工程は、オーミックコンタクト層１５ａ及び１５ｃが、例えばマイクロクリスタルのｎ+膜のように抵抗率が低い膜から構成されている場合には、オーミックコンタクト層１５ａ及び１５ｃが上部電極として機能するため、省略してもよい。
【００９５】
次に、図１８（ａ）に示すように、第２の金属層としてＡｌ膜３７を、例えばスパッタリングにより１０００〜１００００Å成膜する。第２の金属層として、Ｍｏ膜又はＴａ膜を形成してもよく、また、複数の膜を順次成膜した積層膜を形成してもよい。また、スルーホール２７の表面に酸化膜が形成されて、スルーホール２７との接続が悪い場合には、Ａｌ膜３７の成膜前に、逆スパッタリングにより酸化膜を除去するプロセスを入れると良い。
【００９６】
次いで、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜３８をマスクとして、Ａｌ膜３７をパターニングすることにより、共通電極バイアスライン１６を形成する。Ａｌ膜３７のエッチングは、例えば硝酸、リン酸及び酢酸を含有するエッチング液を使用したウェットプロセスにより行う。従って、Ａｌ膜３７はレジスト膜３８よりも若干内側に後退する。このパターニングの際に、ソース電極１７ｓ、ドレイン電極１７ｄ及び信号線１９が形成される予定の領域のＡｌ膜３７は、本工程でエッチングされないようにレジスト膜３８でマスクしておく。パターニング後、レジスト膜３８を除去する。
【００９７】
なお、このエッチングプロセスで、露出しているＩＴＯ膜４１からなる透明電極６２ａ及び６２ｃがダメージを受けないように、透明電極６２ａ及び６２ｃを予めアニールにより結晶化させておくことが好ましい。
【００９８】
また、共通電極バイアスライン１６をパターニングにより形成した後に、ＩＴＯ膜４１の形成及びそのパターニングを行うことによって、透明電極６２ａ及び６２ｃを形成しても構わない。但し、この場合には、共通電極バイアスライン１６を覆うようにして透明電極６２ａ及び６２ｃが形成されることになる。
【００９９】
その後、図１８（ｂ）に示すように、フォトリソグラフィ法により、新たなレジスト膜３９をマスクとして、Ａｌ膜３７をパターニングすることにより、ソース電極１７ｓ、ドレイン電極１７ｄ及び信号線１９を形成する。Ａｌ膜３７のエッチングは、例えば硝酸、リン酸及び酢酸を含有するエッチング液を使用したウェットプロセスにより行う。従って、Ａｌ膜３７はレジスト膜３８よりも若干内側に後退する。
【０１００】
この際に、既に形成されている共通電極バイアスライン１６は、本工程でエッチングされないようにレジスト膜３９でマスクしておく。また、次工程で行うドライエッチングの際に、撮像用光電変換素子１の開口領域内の透明電極６２ａ及びオーミックコンタクト層３５が除去されないよう、共通電極バイアスライン１６だけでなく、撮像用光電変換素子１の開口領域全体をレジスト膜３９によりマスクしておく。
【０１０１】
次に、図１８（ｂ）に示すように、レジスト膜３９をマスクとして、ドライエッチングを行うことにより、ＴＦＴ３のギャップ部、即ち、ソース−ドレイン間のオーミックコンタクト層３５を除去することにより、オーミックコンタクト層１５ａ乃至１５ｃを形成する。
【０１０２】
次いで、図１８（ｃ）に示すように、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜４０をマスクとして、半導体層３３やオーミックコンタクト層３５の不要な部分を除去することにより、撮像用光電変換素子１の開口領域を区画し、半導体層１４ａ乃至１４ｃを形成する。パターニング後、レジスト膜４０を除去する。
【０１０３】
なお、第１の絶縁膜１３の不要な部分は、本実施形態では除去しないが、除去してもよい。第１の絶縁膜１３を除去せずに残存させる場合には、加工精度を確保するために、半導体層３３やオーミックコンタクト層３５の不要な部分を除去するためのエッチングは、半導体層３３と第１の絶縁膜１３を構成するＳｉＮ膜との選択比を確保しやすいプラズマエッチングで行うことが好ましい。
【０１０４】
その後、図１８（ｄ）に示すように、第２の絶縁膜１８を保護膜として２０００〜１００００Å、ＣＶＤ法により成膜する。第２の絶縁膜１８としては、例えばＳｉＮ膜を形成することができる。このようにして、撮像用光電変換素子１、モニタ用光電変換素子２及びＴＦＴ３を形成することができる。
【０１０５】
そして、蛍光体層（図示せず）を形成し、電気接続を確保するために、周辺部の保護膜を、フォトリソグラフィ法を用いてパターニング及びドライエッチングを行って除去することにより、放射線撮像装置を完成させることができる。
【０１０６】
なお、本発明においては、モニタ用光電変換素子２（第２の半導体変換素子）の画素内の位置は特に限定されるものではなく、第１の実施形態のようなＴＦＴ型のセンサが第２の実施形態のように配置されていてもよく、第２の実施形態のようなＭＩＳ型のセンサが第１の実施形態のように配置されていてもよい。
【０１０７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、第２の半導体変換素子が、第１の半導体変換素子と同一の基板上に形成されているので、装置全体を小型化及び軽量化することができる。また、第２の半導体変換素子を介して検出された放射線量に基づいてＡＥＣ制御を行うことができ、このとき、第２の半導体変換素子による放射線の減衰が生じないため、良好な画質の撮像画像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】参考例に係る放射線撮像装置の回路構成を示す等価回路図である。
【図２】参考例に係る放射線撮像装置の全体的な構成を示すレイアウト図である。
【図３】参考例に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子及びその引き回し配線のいずれもが設けられていない画素の平面構成を示すレイアウト図である。
【図４】参考例に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。
【図５】参考例に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。
【図６】図３中のＩ−Ｉ線に沿った断面図である。
【図７】本発明の第１の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。
【図８】第１の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。
【図９】図７中のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。
【図１０】変換部Ｔとその周辺の回路部との配置を示す模式図である。
【図１１】本発明の第１の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法を工程順に示す断面図である。
【図１２】同じく、本発明の第１の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法を工程順に示す断面図であり、図１１に示す工程の次工程を示す断面図である。
【図１３】本発明の第２の実施形態に係る放射線撮像装置の全体的な構成を示すレイアウト図である。
【図１４】第２の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。
【図１５】第２の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。
【図１６】図１４中のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図である。
【図１７】本発明の第２の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法を示す断面図である。
【図１８】同じく、本発明の第２の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法を示す断面図であり、図１７に示す工程の次工程を示す断面図である。
【符号の説明】
１；撮像用光電変換素子（第１の半導体変換素子）
２；モニタ用光電変換素子（第２の半導体変換素子）
３；ＴＦＴ
５１；撮像用信号処理回路部
５２、５５；ゲートドライバ回路部
５３；電源
５４；モニタ用信号処理回路部
５６；共通電極ドライバ回路部
Ｒ１〜Ｒ３；領域
Ｔ；変換部
Ｍ１１〜Ｍ１４、Ｍ２１〜Ｍ２４、Ｍ３１〜Ｍ３４、Ｍ４１〜Ｍ４４；ＭＩＳ型光電変換素子
Ｐ１１〜Ｐ１４、Ｐ２１〜Ｐ２４、Ｐ３１〜Ｐ３４、Ｐ４１〜Ｐ４４；ＰＩＮ型光電変換素子
ＭＡ３３、ＭＡ３４；ＴＦＴ型センサ
Ｔ１１〜Ｔ１４、Ｔ２１〜Ｔ２４、Ｔ３１〜Ｔ３４、Ｔ４１〜Ｔ４４；スイッチング用ＴＦＴ
Ｖｓ１〜Ｖｓ４；バイアス線
Ｓｉｇ１〜Ｓｉｇ４；信号線
Ｖｇ１〜Ｖｇ４；ゲート線
【発明の属する技術分野】
本発明は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）及び光電変換素子を有する放射線撮像装置、その駆動方法及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、絶縁基板上にＴＦＴを作りこむＴＦＴマトリックスパネルの大判化や駆動速度の高速化が急速に進められている。ＴＦＴを用いた液晶パネルの製造技術は、可視光を電気信号に変換する光電変換素子を有するエリアセンサ（例えば、Ｘ線撮像装置）へと利用されており、表面にＸ線（放射線）から可視光線への変換層を配置することで放射線撮像装置としても活用されている。このようなパネルが放射線撮像装置として使用される場合、放射線撮像装置の中に、以下の３つの機能を備えた放射線モニタ基板を別に配置する必要がある。
（１）照射された放射線をモニタする。
（２）モニタした放射線量が設定値となったときに、放射線発生器に放射線照射を停止させる信号を送る。
（３）放射線の照射が終了したことをモニタし、放射線撮像装置を駆動させる信号を送り、画像を取り込む。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
このため、従来の放射線撮像装置は、大型で厚く重量も重いものとなっている。しかしながら、放射線撮像装置には、携帯して使用することができるような小型で薄型の装置の要求が高い。例えば、病院内に設置されたＸ線撮影用の放射線撮像装置を持ってベッドとベッドとの間を移動したり、人が手で持ったまま撮影したりするようなときに、放射線撮像装置が小型であることが要求される。また、病院では女性の看護師が撮影装置の準備をする場合があり、このような場合にも、更なる軽量化が求められている。
【０００４】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであって、小型かつ軽量で、容易に持ち運びすることができる放射線撮像装置、その駆動方法及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
第１の発明に係る放射線撮像装置は、基板と、前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する複数の第１の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に接続された複数のスイッチ素子とを備えた変換部と、前記変換部内に入射した放射線照射を検出するために前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する第２の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に設けられた第１の電極及び前記第２の半導体変換素子に設けられた第２の電極に接続されたバイアスラインと、を有することを特徴とする。
【０００６】
第２の発明に係る放射線撮像装置の駆動方法は、放射線源と、基板と、前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する複数の第１の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に接続された複数の薄膜トランジスタとを備えた変換部と、前記変換部内に入射した放射線の照射量を検出するために前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する第２の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に設けられた第１の電極及び前記第２の半導体変換素子に設けられた第２の電極に接続されたバイアスラインと、を有する放射線撮像装置を駆動する方法であって、前記第２の半導体変換素子を用いて前記変換部内に入射した放射線の照射量を検出するために、前記第２の電極にバイアスを印加する工程と、前記放射線源から放射線を前記変換部に向けて照射する工程と、前記照射量がある値に到達した時に、前記放射線源からの放射線の照射を停止させる工程と、前記第１の半導体変換素子に蓄積された電荷を読み出すために、前記薄膜トランジスタの制御電極に動作電圧を印加する工程と、前記第１の半導体変換素子及び前記第２の半導体変換素子内の残存電荷を除去するために、前記第１の半導体変換素子及び前記第２の半導体変換素子の半導体層に順方向バイアスを印加するか、又は前記半導体層の空乏化バイアスによる電界を小さくする工程と、を有することを特徴とする。
【０００７】
第３の発明に係る放射線撮像装置の製造方法は、基板と、前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する複数の第１の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に接続された複数の薄膜トランジスタとを備えた変換部と、前記変換部内に入射した放射線の照射量を検出するために前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する第２の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に設けられた第１の電極及び前記第２の半導体変換素子に設けられた第２の電極に接続されたバイアスラインと、を有する放射線撮像装置の製造方法であって、前記基板上に、同一の層から前記第１の半導体変換素子のセンサ電極、前記薄膜トランジスタの制御電極及び前記第２の半導体変換素子の電極を形成する工程と、前記基板の上方に、前記バイアスライン、並びに前記薄膜トランジスタのソース電極及びドレイン電極用の導電膜を形成する工程と、前記導電膜をパターニングすることにより、前記バイアスラインを形成する工程と、前記導電膜を更にパターニングすることにより、前記薄膜トランジスタのソース電極及びドレイン電極を形成する工程と、同一の層から前記第１の半導体変換素子に設けられた第１の電極及び前記第２の半導体変換素子に設けられた第２の電極を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【０００８】
これらの本発明においては、第２の半導体変換素子を介して検出された放射線量に基づいてＡＥＣ制御を行うことが可能である。このとき、第２の半導体変換素子が、第１の半導体変換素子と同一の基板上に形成されているので、第２の半導体変換素子による放射線の減衰は生じない。また、第１の電極及び第２の電極のいずれもがバイアスラインに接続されているので、後述のように、第２の半導体変換素子の電極用の配線の数を低減することが可能となり、第１の半導体変換素子の受光面積を大きく確保することが可能である。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態に係る放射線撮像装置、その駆動方法及びその製造方法について、添付の図面を参照して具体的に説明する。
【００１０】
（参考例）
先ず、参考例について説明する。この参考例は、本願発明者が本願発明に想到する過程で創作したものである。図１は、参考例に係る放射線撮像装置の回路構成を示す等価回路図である。図２は、参考例に係る放射線撮像装置の全体的な構成を示すレイアウト図である。図１には、画素エリアに４行４列（１６個）の画素が設けられている例を示すが、その数はこれに限定されるものではない。
【００１１】
本参考例においては、画素毎に、撮像用光電変換素子（第１の半導体変換素子）とスイッチング用薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）との組み合わせ、又は撮像用光電変換素子とスイッチング用ＴＦＴとＡＥＣ制御用のモニタ用光電変換素子（第２の半導体変換素子）との組み合わせが設けられている。具体的には、図１中の上から第ａ行、第ｂ列の画素には、１個の撮像用光電変換素子Ｍｂａと１個のスイッチング用薄膜トランジスタＴｂａとが設けられている（ａ、ｂ＝１、２、３、４）。更に、第３列で第３行及び第４行の画素には、夫々、１個のモニタ用光電変換素子ＭＡ３３、ＭＡ３４が設けられている。また、第３列で第１行及び第２行の画素には、夫々、モニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられている。
【００１２】
また、第ｂ列に配置された４個の撮像用光電変換素子は共通のバイアス線Ｖｓｂに接続されており、共通電極ドライバ回路部５６から一定バイアスが印加されている。第ａ行に配置された４個のスイッチング用ＴＦＴのゲート電極（制御電極）は、共通のゲート線Ｖｇａに接続されており、ゲートドライバ回路部５２によりゲートのＯＮ／ＯＦＦが制御される。更に、第ｂ列に配置された４個のスイッチング用ＴＦＴのソース電極又はドレイン電極は、共通の信号線Ｓｉｇｂに接続されている。信号線Ｓｉｇ１〜Ｓｉｇ４は、撮像用信号処理回路部５１に接続されている。なお、本明細書では、バイアス線が延びる方向に並ぶ画素の配列を列、それに直交する方向（ゲート線が延びる方向）に並ぶ画素の配列を行という。
【００１３】
モニタ用光電変換素子ＭＡ３３及びＭＡ３４はＴＦＴ型のセンサであり、その各ドレイン電極は電源５３に接続され、各ソース電極はモニタ用信号処理回路部５４に接続され、各ゲート電極（制御電極）はゲートドライバ回路部５５に接続されている。ＴＦＴ型のセンサでは、可視光線の入射により半導体層内に発生したエレクトロン及びホールをソース・ドレイン間の電界により読み取る。つまり、電源５３からドレイン電極に電圧を印加することによって、ソース・ドレイン間に電位を与えると、電極間の受光部に光が照射されて発生したエレクトロン及びホールがソース・ドレイン間の電位差により各電極に輸送される。この電荷をモニタ用信号処理回路部５４でリアルタイムに読み取ることで、光照射量を測定することができる。
【００１４】
図１に示すような構成の回路を、多数の画素を備えた放射線撮像装置に適用すると、例えば、図２に示すように、変換部（画素エリア）Ｔ内に、撮像用光電変換素子及びスイッチング用ＴＦＴが設けられた複数の画素が集合した領域Ｒ１、撮像用光電変換素子、スイッチング用ＴＦＴ及びモニタ用光電変換素子が設けられた複数の画素が集合した領域Ｒ２、並びに撮像用光電変換素子、スイッチング用ＴＦＴ及びモニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた複数の画素が集合した領域Ｒ３が存在することとなる。
【００１５】
次に、参考例における３種類の画素の平面構成及び断面構成について説明する。図３は、参考例に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子及びその引き回し配線のいずれもが設けられていない画素の平面構成を示すレイアウト図である。図４は、参考例に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。図５は、参考例に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。また、図６は、図３中のＩ−Ｉ線に沿った断面図である。なお、図３乃至図５では、半導体層をその下方に存在する制御電極等よりも内側に示しているが、これは、便宜上のものであり、この参考例では、図６に示すように、半導体層はその下方に存在する制御電極等よりも拡がって形成されている。このことは、他のレイアウト図においても同様である。
【００１６】
モニタ用光電変換素子及びその引き回し配線のいずれもが設けられていない画素には、図３及び図６に示すように、絶縁基板１０上に、撮像用光電変換素子１のセンサ電極１１及びスイッチング用ＴＦＴ３の制御電極（ゲート電極）１２並びにこれらを覆う第１の絶縁膜１３が形成されている。
【００１７】
第１の絶縁膜１３上には、センサ電極１１と整合するようにして半導体層（光電変換層）１４ａ及びオーミックコンタクト層（第１の電極）１５ａが順次積層されている。更に、オーミックコンタクト層１５ａ上に、共通電極バイアスライン１６が形成されている。この共通電極バイアスライン１６は、図１中のバイアス線Ｖｓ１〜Ｖｓ４に相当する。
【００１８】
第１の絶縁膜１３上には、更に、制御電極１２と整合するようにして半導体層１４ｂが形成され、この半導体層１４ｂ上の２箇所に、オーミックコンタクト層１５ｂが形成されている。一方のオーミックコンタクト層１５ｂは、センサ電極１１の上方まで拡がっている。そして、このセンサ電極１１の上方まで拡がったオーミックコンタクト層１５ｂ上にドレイン電極１７ｄが形成され、他方のオーミックコンタクト層１５ｂ上にソース電極１７ｓが形成されている。前記一方のオーミックコンタクト層１５ｂ、半導体層１４ｂ及び第１の絶縁膜１３には、スルーホール２７が形成されており、ドレイン電極１７ｄはセンサ電極１１と電気的に接続されている。
【００１９】
そして、これらを覆う第２の絶縁膜１８が形成されている。また、図示しないが、第２の絶縁膜１８上には、Ｘ線を可視光線に変換する蛍光体層が形成されている。
【００２０】
図３に示すように、ソース電極１７ｓは信号線１９に接続されており、制御電極１２はゲート配線２０に接続されている。信号線１９は、図１中のＳｉｇ１〜Ｓｉｇ４に相当し、ゲート配線２０は、図１中のゲート線Ｖｇ１〜Ｖｇ４に相当する。
【００２１】
このように構成された画素は、少なくとも領域Ｒ１に存在し、領域Ｒ２及びＲ３に存在していてもよい。
【００２２】
次に、モニタ用光電変換素子が設けられた画素の構成について説明する。この画素では、図４に示すように、絶縁基板１０上に、撮像用光電変換素子１のセンサ電極１１及びスイッチング用ＴＦＴ３の制御電極（ゲート電極）１２の他に、モニタ用光電変換素子２の制御電極２１が形成されており、第１の絶縁膜１３によりこれらの電極が覆われている。モニタ用光電変換素子２は、画素内で、ゲート配線２０が延びる方向において、撮像用光電変換素子１と隣り合うようにして配置されている。この画素と図３及び図６に示す画素とを比較すると、画素の外形及び面積は同一であり、図４に示す画素では、制御電極２１が形成されているために、センサ電極１１等が小さくなっている。撮像用光電変換素子１及びスイッチング用ＴＦＴ３の構成は、撮像用光電変換素子１が小さくなっていることを除いて、図３及び図６に示す画素と同様である。
【００２３】
モニタ用光電変換素子２では、第１の絶縁膜１３上に、制御電極２１と整合するようにして半導体層（光電変換層）１４ｃが形成され、この半導体層１４ｃ上の２箇所に、オーミックコンタクト層（第２の電極）１５ｃが形成されている。そして、２個のオーミックコンタクト層１５ｃ上に、夫々ドレイン電極２２ｄ、ソース電極２２ｓが形成されている。ドレイン電極２２ｄ、ソース電極２２ｓは、第２の絶縁膜１８に覆われている。
【００２４】
なお、図４に示すように、制御電極２１は、半導体層１４ｃよりも長く延びて形成されており、第１の絶縁膜１３の制御電極２１の両端部に整合する位置には、スルーホール２８が形成されている。そして、このスルーホール２８を介してゲート配線２０を跨ぎ、ゲート配線２０を挟んで隣り合う画素の制御電極２１同士を電気的に接続する上部配線２３が形成されている。
【００２５】
このように構成された画素は、領域Ｒ２に存在する。
【００２６】
また、図５には示さないが、第２の絶縁膜１８の上方には、Ｘ線を可視光線に変換する蛍光体層が形成されている。
【００２７】
モニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素には、図５に示すように、ドレイン電極２２ｄ用の配線２４、制御電極２１用の配線２５及びソース電極２２ｓ用の配線２６が形成されている。配線２４乃至２６は、共通電極バイアスライン１６と並行に延びており、ゲート配線２０が延びる方向において、画素内で、撮像用光電変換素子１と隣り合うようにして配置されている。この画素と図３及び図６に示す画素とを比較すると、画素の外形及び面積は同一であり、図５に示す画素では、配線２４乃至２６が形成されているために、センサ電極１１等が小さくなっている。撮像用光電変換素子１及びスイッチング用ＴＦＴ３の構成は、撮像用光電変換素子１が小さくなっていることを除いて、図３及び図６に示す画素と同様である。
【００２８】
このように構成された画素は、領域Ｒ３に存在する。
【００２９】
また、図６には示さないが、第２の絶縁膜１８の上方には、Ｘ線を可視光線に変換する蛍光体層が形成されている。
【００３０】
このように構成された参考例によれば、絶縁基板１０上にモニタ用光電変換素子２を撮像用光電変換素子１とは別に設けているため、放射線モニタ基板を別に配置する必要がなく、装置全体を小型化及び軽量化することが可能である。
【００３１】
しかし、この参考例では、図５に示すように、引き回し配線２４乃至２６が設けられた画素では、撮像用光電変換素子１の受光面積が、図３に示す画素と比較すると、極端に小さくなっている。従って、この参考例では、撮像用光電変換素子１の開口率が十分であるとはいえない。
【００３２】
そこで、本願発明者が更に鋭意検討を重ねた結果、ドレイン電極２２ｄを共通電極バイアスライン１６に接続し、ドレイン電極２２ｄの引き回し配線２４を不要とすることで、引き回し配線が設けられた画素内の撮像用光電変換素子１の受光面積（開口率）を上げ、特性を向上させることができることを見出した。以下、本発明の実施形態について説明する。
【００３３】
（第１の実施形態）
先ず、本発明の第１の実施形態について説明する。図７は、本発明の第１の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。図８は、第１の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。また、図９は、図７中のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。図１０は、変換部Ｔとその周辺の回路部との配置を示す模式図である。
【００３４】
第１の実施形態においては、ＴＦＴ型のモニタ用光電変換素子が設けられた画素では、図７に示すように、ドレイン電極２２ｄが共通電極バイアスライン１６に接続されている。
【００３５】
このように構成された画素は、参考例における領域Ｒ２のように、集合して配置されており、例えば、ドレイン電極２２ｄ、ソース電極２２ｓ、共通電極バイアスライン１６及び信号線１９がこれらの画素間で共有されている。
【００３６】
また、モニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素には、図８に示すように、制御電極２１用の配線２５及びソース電極２２ｓ用の配線２６が形成されているが、参考例とは異なり、ドレイン電極２２ｄ用の配線は形成されていない。これは、ドレイン電極２２ｄが共通電極バイアスライン１６に接続されているためである。配線２４、２５は、夫々変換部Ｔの最も外側に位置する画素まで隣り合う画素間で接続されており、ソース電極２２ｓ及び制御電極２１は、夫々パネル外部まで配線２４、２５により引き回されている。
【００３７】
また、モニタ用光電変換素子及びその引き回し配線のいずれもが設けられていない画素の構成は、図３及び図６に示す画素（参考例の画素）と同様である。
【００３８】
図７及び図９に示す画素と図３及び図６に示す画素と比較すると、画素の外形及び面積は同一であり、図７及び図９に示す画素では、モニタ用光電変換素子２が形成されているために、その分だけ撮像用光電変換素子１の受光面積（開口率）が小さくなっている。また、図８に示す画素と図３及び図６に示す画素と比較すると、画素の外形及び面積は同一であり、配線２５及び２６が形成されているために、その分だけ撮像用光電変換素子１の受光面積（開口率）が小さくなっている。
【００３９】
これらの画素は、例えば参考例と同様に、図２に示すようにして配置される。つまり、四角形の二次元に形成された変換部Ｔの中の４隅と中央付近に、モニタ用光電変換素子及び撮像用光電変換素子が対になって形成された複数の画素が設けられた領域Ｒ２が配置されている。本実施形態では、領域Ｒ２内の２０行×３列の画素に、モニタ用光電変換素子が設けられている。
【００４０】
次に、上述のように構成された第１の実施形態に係る放射線撮像装置を駆動する方法について説明する。
【００４１】
先ず、前述のように、共通電極バイアスライン１６に共通電極ドライバ回路部５６から電圧を印加し、モニタ用光電変換素子２のソース・ドレイン間に電位を与えておく。また、制御電極２１には、半導体層１４ｃの空乏化電圧を印加することにより、ダークカレントの防止とエレクトロン及びホールの収集効率を高めておく。
【００４２】
このような状態で、蛍光体層（図示せず）にＸ線が照射され、蛍光体層から可視光線が光電変換部に照射されると、モニタ用光電変換素子２により吸収された可視光線が電荷に変換され、ソース電極２２ｓを通じてモニタ用信号処理回路部５４へ輸送される。このため、この電荷量をＸ線照射量としてリアルタイムで測定することができる。
【００４３】
その後、モニタ用信号処理回路部５４で測定されたＸ線照射量が設定値に到達すると、Ｘ線発生器（放射線源）に信号を送り、Ｘ線の照射を停止させる。また、その直後に、ＴＦＴ３のゲート配線２０に順次ＴＦＴ３の動作電圧を印加することにより、撮像用光電変換素子１の容量に蓄積された電荷を信号線１９から読み取る。
【００４４】
その後、共通電極バイアスライン１６を通じて撮像用光電変換素子１の半導体層１４ａに順方向電圧を印加し、撮像用光電変換素子１内の絶縁膜１３と半導体層１４ａとの界面にＸ線照射量に対応して蓄積された電荷を全て除去するリフレッシュ動作を行う。
【００４５】
また、モニタ用光電変換素子２の制御電極２１には、共通電極バイアスライン１６に印加される電圧により半導体層１４ｃに順方向電圧が印加される電圧を印加しておく。このような電圧を制御電極２１に印加しておくことにより、共通電極バイアスライン１６に接続されたモニタ用光電変換素子２のドレイン電極２２ｄに、撮像用光電変換素子１のリフレッシュ動作用の電圧が印加されると同時に、モニタ用光電変換素子２内の半導体層１４ｃにも順方向電圧が印加され、モニタ用光電変換素子２のリフレッシュ動作も行われる。
【００４６】
なお、上記のリフレッシュ動作において、蓄積された全ての電荷を除去せずに、その一部のみを除去してもよい。また、共通電極バイアスライン１６に印加する電圧を、空乏化バイアスを小さくする電圧としてもよい。更に、このリフレッシュ動作時に、ソース電極２２ｓの電圧を制御して、より電荷を除去しやすい状態を作り出してもよい。
【００４７】
このような第１の実施形態によれば、参考例と比較すると、引き回し配線が設けられた画素について、参考例では、３本の引き回し配線２４乃至２６が設けられているが、第１の実施形態では、ドレイン電極用の引き回し配線２４が設けられておらず、２本の引き回し配線２５及び２６が設けられているのみである。従って、第１の実施形態によれば、この画素での撮像用光電変換素子１の受光面積（開口率）が大きくなっている。また、参考例では、ドレイン電極２２ｄに電圧を供給するための電源５３が必要とされるが、本実施形態では、ドレイン電極２２ｄには、共通電極ドライバ回路部５６から共通電極バイアスライン１６を介して電圧が供給されるため、電源が不要である。このため、回路の簡素化が可能である。
【００４８】
なお、ある画素に、撮像用光電変換画素１が設けられておらず、モニタ用光電変換素子２及びそれに隣接する画素内のモニタ用光電変換素子２用の引き回し配線のみが設けられていてもよい。この場合、撮像用光電変換画素１からのデータが減少するため、画像処理により、この減少分を補完する必要があるが、このような補完は従来の画像処理技術により対応することが可能である。
【００４９】
また、例えば領域Ｒ２内の２０行×１列の画素又は１行×３列の画素のように、領域Ｒ２内の１ライン内の画素のみに、モニタ用光電変換素子が設けられていてもよい。
【００５０】
次に、第１の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法について説明する。図１１（ａ）乃至（ｄ）及び図１２（ａ）乃至（ｃ）は、本発明の第１の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法を工程順に示す断面図である。
【００５１】
先ず、図１１（ａ）に示すように、絶縁基板１０上に、第１の金属層としてＡｌＮｄ膜３１を、例えばスパッタリングにより５００〜４０００Å成膜する。第１の金属層として、Ｍｏ膜又はＴａ膜を形成してもよく、また、複数の膜を順次成膜した積層膜を形成してもよい。次に、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜３２をマスクとして、ＡｌＮｄ膜３１をパターニングすることにより、センサ電極１１、制御電極１２及び２１並びにゲート配線２０を形成する。ＡｌＮｄ膜３１のエッチングは、例えば硝酸、リン酸及び酢酸を含有するエッチング液を使用したウェットプロセスにより行う。パターニング後、レジスト膜３２を除去する。
【００５２】
次いで、図１１（ｂ）に示すように、第１の絶縁膜１３を１５００〜４０００Å、半導体層３３を２０００〜１５０００Å、ＣＶＤ法により連続して成膜する。半導体層３３が、撮像用光電変換素子１の半導体層（光電変換層）１４ａ、ＴＦＴ３の半導体層１４ｂ、モニタ用光電変換素子２の半導体層（光電変換層）１４ｃになる。第１の絶縁膜１３としては、例えばＳｉＮ膜を用いる。
【００５３】
その後、フォトリソグラフィ法により、ＴＦＴ３の制御電極１２上が開口されたレジスト膜３４をマスクとして、半導体層３３を全てではなく一部の５００〜５０００Åだけエッチングする。この工程は、撮像用光電変換素子１及びモニタ用光電変換素子２で光吸収率を高めるために半導体層３３を２０００〜１５０００Åと厚く積層しているため、このままでは、ＴＦＴ３のソース・ドレイン間の直列抵抗が高くなるので、半導体層３３を薄膜化することでＴＦＴ３のオン抵抗を低減することを目的としている。この際、エッチングは、例えばドライエッチングにより行う。また、ドライエッチングとしては、半導体層３３のダメージを少なく、高い加工精度を得るために、プラズマエッチングが好ましいが、同様に半導体層３３のダメージが少ないケミカルドライエッチングでも良いし、低パワー（例えば０．１〜０．２Ｗ／ｃｍ2程度）、高圧力（例えば１０〜３０Ｐａ程度）で行う反応性イオンエッチングでも良い。パターニング後、レジスト膜３４を除去する。
【００５４】
次に、図１１（ｃ）に示すように、オーミックコンタクト層３５を１００〜１０００Å、ＣＶＤ法により成膜する。半導体層３３とオーミックコンタクト層３５との界面に酸化シリコンが介在している場合は、前処理としてフッ化水素酸（例えば０．１〜１０質量％程度）で処理をしてもよく、有機膜が介在している場合は、酸素プラズマを照射し除去してもよい。また、オーミックコンタクト層３５の成膜直前に、ＣＶＤ装置内で水素プラズマによる最終処理をしても良い。
【００５５】
次いで、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜３６をマスクとして、スルーホール２７を形成する。スルーホール２７はＴＦＴ３のドレイン電極１７ｄと撮像用光電変換素子１のセンサ電極１１とを電気的に接続しており、可視光線を受光部で吸収した際に発生した電荷は、受光部と容量結合しているセンサ電極１１からドレイン電極１７ｄを通じて読み取られる。
【００５６】
なお、後から成膜する金属膜のカバレッジを良くするため、エッチングとして、ケミカルドライエッチングを行い、ホール部の断面をテーパーエッチングすることが好ましい。金属膜のカバレッジを考慮する必要がない良い場合は、反応性イオンエッチングで加工精度を上げても良いし、プラズマエッチングで形成しても良い。パターニング後、レジスト膜３６を除去する。
【００５７】
次に、図１１（ｄ）に示すように、第２の金属層としてＡｌ膜３７を、例えばスパッタリングにより１０００〜１００００Å成膜する。第２の金属層として、Ｍｏ膜又はＴａ膜を形成してもよく、また、複数の膜を順次成膜した積層膜を形成してもよい。また、スルーホール２７の表面に酸化膜が形成されて、スルーホール２７との接続が悪い場合には、Ａｌ膜３７の成膜前に、逆スパッタリングにより酸化膜を除去するプロセスを入れると良い。
【００５８】
次いで、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜３８をマスクとして、Ａｌ膜３７をパターニングすることにより、共通電極バイアスライン１６を形成する。Ａｌ膜３７のエッチングは、例えば硝酸、リン酸及び酢酸を含有するエッチング液を使用したウェットプロセスにより行う。従って、Ａｌ膜３７はレジスト膜３８よりも若干内側に後退する。このパターニングの際に、ソース電極１７ｓ及び２２ｓ、ドレイン電極１７ｄ及び２２ｄ並びに信号線１９が形成される予定の領域のＡｌ膜３７は、本工程でエッチングされないようにレジスト膜３８でマスクしておく。パターニング後、レジスト膜３８を除去する。
【００５９】
その後、図１２（ａ）に示すように、フォトリソグラフィ法により、新たなレジスト膜３９をマスクとして、Ａｌ膜３７をパターニングすることにより、ソース電極１７ｓ及び２２ｓ、ドレイン電極１７ｄ及び２２ｄ並びに信号線１９を形成する。Ａｌ膜３７のエッチングは、例えば硝酸、リン酸及び酢酸を含有するエッチング液を使用したウェットプロセスにより行う。従って、Ａｌ膜３７はレジスト膜３８よりも若干内側に後退する。
【００６０】
この際に、既に形成されている共通電極バイアスライン１６は、本工程でエッチングされないようにレジスト膜３９でマスクしておく。また、次工程で行うドライエッチングの際に、撮像用光電変換素子１の開口領域内のオーミックコンタクト層３５が除去されないよう、共通電極バイアスライン１６だけでなく、撮像用光電変換素子１の開口領域全体をレジスト膜３９によりマスクしておく。
【００６１】
次に、図１２（ａ）に示すように、レジスト膜３９をマスクとして、ドライエッチングを行うことにより、ＴＦＴ３のギャップ部、即ち、ソース−ドレイン間のオーミックコンタクト層３５を除去することにより、オーミックコンタクト層１５ａ乃至１５ｃを形成する。
【００６２】
次いで、図１２（ｂ）に示すように、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜４０をマスクとして、半導体層３３やオーミックコンタクト層３５の不要な部分を除去することにより、撮像用光電変換素子１の開口領域を区画し、半導体層１４ａ乃至１４ｃを形成する。パターニング後、レジスト膜４０を除去する。
【００６３】
なお、第１の絶縁膜１３の不要な部分は、本実施形態では除去しないが、除去してもよい。第１の絶縁膜１３を除去せずに残存させる場合には、加工精度を確保するために、半導体層３３やオーミックコンタクト層３５の不要な部分を除去するためのエッチングは、半導体層３３と第１の絶縁膜１３を構成するＳｉＮ膜との選択比を確保しやすいプラズマエッチングで行うことが好ましい。
【００６４】
その後、図１２（ｃ）に示すように、第２の絶縁膜１８を保護膜として２０００〜１００００Å、ＣＶＤ法により成膜する。第２の絶縁膜１８としては、例えばＳｉＮ膜を形成することができる。このようにして、撮像用光電変換素子１、モニタ用光電変換素子２及びＴＦＴ３を形成することができる。
【００６５】
そして、蛍光体層（図示せず）を形成し、電気接続を確保するために、周辺部の保護膜を、フォトリソグラフィ法を用いてパターニング及びドライエッチングを行って除去することにより、放射線撮像装置を完成させることができる。
【００６６】
ここで、上述の第１の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法の説明では、オーミックコンタクト層を上部電極（第１の電極）としても機能させるため、オーミックコンタクト層を形成した後に第２の金属膜を形成しているが、オーミックコンタクト層の抵抗率が高い場合には、後述の第２の実施形態のように、第２の金属膜を形成する前に、ＩＴＯ（Indium-Tin-Oxide）等からなる透明電極膜をオーミックコンタクト層上に形成してもよい。この場合、第１及び第２の電極は、いずれもオーミックコンタクト層と透明電極膜との積層構造となる。このような透明電極膜を形成することにより、オーミックコンタクト層の膜厚を薄くしても問題が生ずることはなくなるため、オーミックコンタクト層の膜厚を薄膜化することが可能となり、これによって入射光量自体を増大させることができる。また、モニタ用光電変換素子２においても、ソース電極２２ｓ及びドレイン電極２２ｄに透明電極膜を使用すれば、入射光量を増大させることができるため、その感度が向上する。
【００６７】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。第１の実施形態では、モニタ用光電変換素子２がＴＦＴ型のセンサであるのに対し、第２の実施形態では、モニタ用光電変換素子２がＭＩＳ型のセンサである。ＭＩＳ型のセンサでは、可視光線の入射により半導体層内に発生したエレクトロン及びホールの影響により２個の電極間の電圧が変動するため、この電圧の変動を読み取るか、又はこの変動に基づく電流の変動を読み取る。図１３は、本発明の第２の実施形態に係る放射線撮像装置の全体的な構成を示すレイアウト図である。図１４は、第２の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。図１５は、第２の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。また、図１６は、図１４中のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図である。
【００６８】
第２の実施形態においては、第１の実施形態と同様に、変換部（画素エリア）Ｔ内に、領域Ｒ１、Ｒ２及びＲ３が設けられているが、図１３に示すように、これらの配置が第１の実施形態とは相違している。即ち、本実施形態においては、領域Ｒ３は、領域Ｒ２に対してゲート配線２０が延びる方向に配置されている。また、電源５３だけでなく、ゲートドライバ回路部５５も設けられていない。これは、モニタ用光電変換素子２がＭＩＳ型のセンサだからである。本実施形態では、領域Ｒ２内の３行×２０列の画素に、モニタ用光電変換素子が設けられている。
【００６９】
本実施形態において、撮像用光電変換素子１及びスイッチング用ＴＦＴ３の断面構成は、図１６に示すように、撮像用光電変換素子１において透明電極６２ａがオーミックコンタクト層１５ａと共通電極バイアスライン１６との間に形成されていることを除き、第１の実施形態におけるものと同様である。つまり、本実施形態では、上部電極（第１の電極）がオーミックコンタクト層と透明電極との積層構造となっている。そして、モニタ用光電変換素子及びその引き回し配線のいずれもが設けられていない画素の構成は、第１の実施形態と同様である。
【００７０】
一方、モニタ用光電変換素子が設けられた画素では、図１４に示すように、絶縁基板１０上に、撮像用光電変換素子１のセンサ電極１１及びスイッチング用ＴＦＴ３の制御電極（ゲート電極）１２の他に、モニタ用光電変換素子２の下部電極６１が形成されており、第１の絶縁膜１３によりこれらの電極が覆われている。本実施形態では、モニタ用光電変換素子２は、共通電極バイアスライン１６が延びる方向において、画素内で、撮像用光電変換素子１と隣り合うようにして配置されている。この画素とモニタ用光電変換素子及びその引き回し配線のいずれもが設けられていない画素（図３及び図６に示す画素）とを比較すると、画素の外形及び面積は同一であり、図１４に示す画素では、下部電極６１が形成されているために、センサ電極１１等が小さくなっている。
【００７１】
モニタ用光電変換素子２では、図１６に示すように、第１の絶縁膜１３上に、下部電極６１と整合するようにして半導体層（光電変換層）１４ｃが形成され、この半導体層１４ｃ上に、オーミックコンタクト層１５ｃ及び透明電極６２ｃが形成されている。オーミックコンタクト層１５ｃ及び透明電極６２ｃから、上部電極（第２の電極）が構成されている。そして、透明電極６２ｃ上に共通電極バイアスライン１６が形成されている。共通電極バイアスライン１６は、第２の絶縁膜１８に覆われている。
【００７２】
このように構成された画素は、領域Ｒ２に存在する。
【００７３】
モニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素には、図１５に示すように、下部電極６１用の配線６３が形成されている。配線６３は、ゲート配線２０と並行に延びており、共通電極バイアスライン１６が延びる方向において、画素内で、撮像用光電変換素子１と隣り合うようにして配置されている。この画素とモニタ用光電変換素子及びその引き回し配線のいずれもが設けられていない画素（図３及び図６に示す画素）とを比較すると、画素の外形及び面積は同一であり、図１５に示す画素では、配線６３が形成されているために、センサ電極１１等が小さくなっている。配線６３は、変換部Ｔの最も外側に位置する画素まで隣り合う画素間で接続されている。つまり、ゲート配線２０を共有する画素の配列を「行」としたとき、同一の行に配置されたモニタ用光電変換素子２の下部電極６１の全部又は一部が配線６３を介して互いに接続されている。そして、下部電極６１は、パネル外部まで配線６３により引き回されている。
【００７４】
このように構成された画素は、領域Ｒ３に存在する。
【００７５】
次に、上述のように構成された第２の実施形態に係る放射線撮像装置を駆動する方法について説明する。
【００７６】
先ず、共通電極バイアスライン１６に共通電極ドライバ回路部５６から半導体層１４ａ及び１４ｃの空乏化電圧を印加することにより、エレクトロン及びホールの収集効率を高めておく。
【００７７】
このような状態で、蛍光体層（図示せず）にＸ線が照射され、蛍光体層から可視光線が光電変換部に照射されると、モニタ用光電変換素子２により吸収された可視光線が電荷に変換され、この電荷に基づく下部電極２の電位変動又は電位変動に基づく電流値がモニタ用信号処理回路部５４へ輸送される。このため、この電位変動又は電流値をＸ線照射量としてリアルタイムで測定することができる。
【００７８】
その後、モニタ用信号処理回路部５４で測定されたＸ線照射量が設定値に到達すると、Ｘ線発生器（放射線源）に信号を送り、Ｘ線の照射を停止させる。また、その直後に、ＴＦＴ３のゲート配線２０に順次ＴＦＴ３の動作電圧を印加することにより、撮像用光電変換素子１の容量に蓄積された電荷を信号線１９から読み取る。
【００７９】
その後、共通電極バイアスライン１６を通じて撮像用光電変換素子１の半導体層１４ａに順方向電圧を印加し、撮像用光電変換素子１内の絶縁膜１３と半導体層１４ａとの界面にＸ線照射量に対応して蓄積された電荷を全て除去するリフレッシュ動作を行う。
【００８０】
また、モニタ用光電変換素子２の下部電極６１には、共通電極バイアスライン１６に印加される電圧により半導体層１４ｃに順方向電圧が印加される電圧を印加しておく。このような電圧を下部電極６１に印加しておくことにより、共通電極バイアスライン１６に接続されたモニタ用光電変換素子２の透明電極６２ｃに、撮像用光電変換素子１のリフレッシュ動作用の電圧が印加されると同時に、モニタ用光電変換素子２内の半導体層１４ｃにも順方向電圧が印加され、モニタ用光電変換素子２のリフレッシュ動作も行われる。
【００８１】
なお、上記のリフレッシュ動作において、蓄積された全ての電荷を除去せずに、その一部のみを除去してもよい。また、共通電極バイアスライン１６に印加する電圧を、空乏化バイアスを小さくする電圧としてもよい。更に、このリフレッシュ動作時に、下部電極６１の電圧を制御して、より電荷を除去しやすい状態を作り出してもよい。
【００８２】
ＭＩＳ型のセンサをモニタ用光電変換素子２として使用する場合には、モニタ用光電変換素子２を、ゲート配線２０が延びる方向において、画素内で、撮像用光電変換素子１と隣り合うようにして配置して、透明電極６２ｃを電源に、下部電極６１をモニタ用信号処理回路部５４に接続する構造が考えられる。しかし、この構造では、透明電極６２ｃ用の引き回し配線及び下部電極６１用の引き回し配線が必要となり、これらの配線が設けられた画素内の撮像用光電変換素子１の受光面積（開口率）が不足することもあり得る。
【００８３】
これに対し、上述のように構成された第２の実施形態によれば、引き回し配線が設けられた画素について、１本の引き回し配線６３が設けられているのみである。従って、この画素での撮像用光電変換素子１の受光面積（開口率）が大きくなっている。また、本実施形態では、上部電極６１ｃには、共通電極ドライバ回路部５６から共通電極バイアスライン１６を介して電圧が供給されるため、電源が不要である。このため、第１の実施形態と同様に、回路の簡素化が可能である。
【００８４】
なお、第１の実施形態と同様に、ある画素に、撮像用光電変換画素１が設けられておらず、モニタ用光電変換素子２及びそれに隣接する画素内のモニタ用光電変換素子２用の引き回し配線のみが設けられていてもよい。この場合、撮像用光電変換画素１からのデータが減少するため、画像処理により、この減少分を補完する必要があるが、このような補完は従来の画像処理技術により対応することが可能である。
【００８５】
また、例えば領域Ｒ２内の１行×２０列の画素又は３行×１列の画素のように、領域Ｒ２内の１ライン内の画素のみに、モニタ用光電変換素子が設けられていてもよい。
【００８６】
次に、第２の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法について説明する。図１７（ａ）乃至（ｄ）及び図１８（ａ）乃至（ｄ）は、本発明の第２の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法を工程順に示す断面図である。
【００８７】
先ず、図１７（ａ）に示すように、絶縁基板１０上に、第１の金属層としてＡｌＮｄ膜３１を、例えばスパッタリングにより５００〜４０００Å成膜する。第１の金属層として、Ｍｏ膜又はＴａ膜を形成してもよく、また、複数の膜を順次成膜した積層膜を形成してもよい。次に、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜３２をマスクとして、ＡｌＮｄ膜３１をパターニングすることにより、センサ電極１１、制御電極１２、ゲート配線２０及び下部電極６１を形成する。ＡｌＮｄ膜３１のエッチングは、例えば硝酸、リン酸及び酢酸を含有するエッチング液を使用したウェットプロセスにより行う。パターニング後、レジスト膜３２を除去する。
【００８８】
次いで、図１７（ｂ）に示すように、第１の絶縁膜１３を１５００〜４０００Å、半導体層３３を２０００〜１５０００Å、オーミックコンタクト層３５を１００〜１０００Å、ＣＶＤ法により連続して成膜する。半導体層３３が、撮像用光電変換素子１の半導体層（光電変換層）１４ａ、ＴＦＴ３の半導体層１４ｂ、モニタ用光電変換素子２の半導体層（光電変換層）１４ｃになる。第１の絶縁膜１３としては、例えばＳｉＮ膜を用いる。
【００８９】
その後、フォトリソグラフィ法により、ＴＦＴ３の制御電極１２上が開口されたレジスト膜３４をマスクとして、半導体層３３を全てではなく一部の５００〜５０００Åだけエッチングする。この工程は、撮像用光電変換素子１及びモニタ用光電変換素子２で光吸収率を高めるために半導体層３３を２０００〜１５０００Åと厚く積層しているため、このままでは、ＴＦＴ３のソース・ドレイン間の直列抵抗が高くなるので、半導体層３３を薄膜化することでＴＦＴ３のオン抵抗を低減することを目的としている。この際、エッチングは、例えばドライエッチングにより行う。また、ドライエッチングとしては、半導体層３３のダメージを少なく、高い加工精度を得るために、プラズマエッチングが好ましいが、同様に半導体層３３のダメージが少ないケミカルドライエッチングでも良いし、低パワー（例えば０．１〜０．２Ｗ／ｃｍ2程度）、高圧力（例えば１０〜３０Ｐａ程度）で行う反応性イオンエッチングでも良い。パターニング後、レジスト膜３４を除去する。
【００９０】
次に、図１７（ｃ）に示すように、オーミックコンタクト層３５を１００〜１０００Å、ＣＶＤ法により成膜する。半導体層３３とオーミックコンタクト層３５との界面に酸化シリコンが介在している場合は、前処理としてフッ化水素酸（例えば０．１〜１０質量％程度）で処理をしてもよく、有機膜が介在している場合は、酸素プラズマを照射し除去してもよい。また、オーミックコンタクト層３５の成膜直前に、ＣＶＤ装置内で水素プラズマによる最終処理をしても良い。
【００９１】
次いで、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜３６をマスクとして、スルーホール２７を形成する。スルーホール２７はＴＦＴ３のドレイン電極１７ｄと撮像用光電変換素子１のセンサ電極１１とを電気的に接続しており、可視光線を受光部で吸収した際に発生した電荷は、受光部と容量結合しているセンサ電極１１からドレイン電極１７ｄを通じて読み取られる。
【００９２】
なお、後から成膜する金属膜のカバレッジを良くするため、エッチングとして、ケミカルドライエッチングを行い、ホール部の断面をテーパーエッチングすることが好ましい。金属膜のカバレッジを考慮する必要がない良い場合は、反応性イオンエッチングで加工精度を上げても良いし、プラズマエッチングで形成しても良い。パターニング後、レジスト膜３６を除去する。
【００９３】
その後、図１７（ｄ）に示すように、透明電極膜であるＩＴＯ膜４１を、スパッタリングにより１００〜１０００Å成膜する。続いて、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜４２をマスクとして、ＩＴＯ膜４１をパターニングすることにより、透明電極６２ａ及び６２ｃを形成する。このときのエッチングには、例えばスルーホール部で露出しているＡｌＮｄ膜３１にダメージを与えない蓚酸のような有機酸系のエッチング液を用いることが好ましい。
【００９４】
なお、ＩＴＯ膜４１の形成からそのパターニングまでの工程は、オーミックコンタクト層１５ａ及び１５ｃが、例えばマイクロクリスタルのｎ+膜のように抵抗率が低い膜から構成されている場合には、オーミックコンタクト層１５ａ及び１５ｃが上部電極として機能するため、省略してもよい。
【００９５】
次に、図１８（ａ）に示すように、第２の金属層としてＡｌ膜３７を、例えばスパッタリングにより１０００〜１００００Å成膜する。第２の金属層として、Ｍｏ膜又はＴａ膜を形成してもよく、また、複数の膜を順次成膜した積層膜を形成してもよい。また、スルーホール２７の表面に酸化膜が形成されて、スルーホール２７との接続が悪い場合には、Ａｌ膜３７の成膜前に、逆スパッタリングにより酸化膜を除去するプロセスを入れると良い。
【００９６】
次いで、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜３８をマスクとして、Ａｌ膜３７をパターニングすることにより、共通電極バイアスライン１６を形成する。Ａｌ膜３７のエッチングは、例えば硝酸、リン酸及び酢酸を含有するエッチング液を使用したウェットプロセスにより行う。従って、Ａｌ膜３７はレジスト膜３８よりも若干内側に後退する。このパターニングの際に、ソース電極１７ｓ、ドレイン電極１７ｄ及び信号線１９が形成される予定の領域のＡｌ膜３７は、本工程でエッチングされないようにレジスト膜３８でマスクしておく。パターニング後、レジスト膜３８を除去する。
【００９７】
なお、このエッチングプロセスで、露出しているＩＴＯ膜４１からなる透明電極６２ａ及び６２ｃがダメージを受けないように、透明電極６２ａ及び６２ｃを予めアニールにより結晶化させておくことが好ましい。
【００９８】
また、共通電極バイアスライン１６をパターニングにより形成した後に、ＩＴＯ膜４１の形成及びそのパターニングを行うことによって、透明電極６２ａ及び６２ｃを形成しても構わない。但し、この場合には、共通電極バイアスライン１６を覆うようにして透明電極６２ａ及び６２ｃが形成されることになる。
【００９９】
その後、図１８（ｂ）に示すように、フォトリソグラフィ法により、新たなレジスト膜３９をマスクとして、Ａｌ膜３７をパターニングすることにより、ソース電極１７ｓ、ドレイン電極１７ｄ及び信号線１９を形成する。Ａｌ膜３７のエッチングは、例えば硝酸、リン酸及び酢酸を含有するエッチング液を使用したウェットプロセスにより行う。従って、Ａｌ膜３７はレジスト膜３８よりも若干内側に後退する。
【０１００】
この際に、既に形成されている共通電極バイアスライン１６は、本工程でエッチングされないようにレジスト膜３９でマスクしておく。また、次工程で行うドライエッチングの際に、撮像用光電変換素子１の開口領域内の透明電極６２ａ及びオーミックコンタクト層３５が除去されないよう、共通電極バイアスライン１６だけでなく、撮像用光電変換素子１の開口領域全体をレジスト膜３９によりマスクしておく。
【０１０１】
次に、図１８（ｂ）に示すように、レジスト膜３９をマスクとして、ドライエッチングを行うことにより、ＴＦＴ３のギャップ部、即ち、ソース−ドレイン間のオーミックコンタクト層３５を除去することにより、オーミックコンタクト層１５ａ乃至１５ｃを形成する。
【０１０２】
次いで、図１８（ｃ）に示すように、フォトリソグラフィ法により、レジスト膜４０をマスクとして、半導体層３３やオーミックコンタクト層３５の不要な部分を除去することにより、撮像用光電変換素子１の開口領域を区画し、半導体層１４ａ乃至１４ｃを形成する。パターニング後、レジスト膜４０を除去する。
【０１０３】
なお、第１の絶縁膜１３の不要な部分は、本実施形態では除去しないが、除去してもよい。第１の絶縁膜１３を除去せずに残存させる場合には、加工精度を確保するために、半導体層３３やオーミックコンタクト層３５の不要な部分を除去するためのエッチングは、半導体層３３と第１の絶縁膜１３を構成するＳｉＮ膜との選択比を確保しやすいプラズマエッチングで行うことが好ましい。
【０１０４】
その後、図１８（ｄ）に示すように、第２の絶縁膜１８を保護膜として２０００〜１００００Å、ＣＶＤ法により成膜する。第２の絶縁膜１８としては、例えばＳｉＮ膜を形成することができる。このようにして、撮像用光電変換素子１、モニタ用光電変換素子２及びＴＦＴ３を形成することができる。
【０１０５】
そして、蛍光体層（図示せず）を形成し、電気接続を確保するために、周辺部の保護膜を、フォトリソグラフィ法を用いてパターニング及びドライエッチングを行って除去することにより、放射線撮像装置を完成させることができる。
【０１０６】
なお、本発明においては、モニタ用光電変換素子２（第２の半導体変換素子）の画素内の位置は特に限定されるものではなく、第１の実施形態のようなＴＦＴ型のセンサが第２の実施形態のように配置されていてもよく、第２の実施形態のようなＭＩＳ型のセンサが第１の実施形態のように配置されていてもよい。
【０１０７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、第２の半導体変換素子が、第１の半導体変換素子と同一の基板上に形成されているので、装置全体を小型化及び軽量化することができる。また、第２の半導体変換素子を介して検出された放射線量に基づいてＡＥＣ制御を行うことができ、このとき、第２の半導体変換素子による放射線の減衰が生じないため、良好な画質の撮像画像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】参考例に係る放射線撮像装置の回路構成を示す等価回路図である。
【図２】参考例に係る放射線撮像装置の全体的な構成を示すレイアウト図である。
【図３】参考例に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子及びその引き回し配線のいずれもが設けられていない画素の平面構成を示すレイアウト図である。
【図４】参考例に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。
【図５】参考例に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。
【図６】図３中のＩ−Ｉ線に沿った断面図である。
【図７】本発明の第１の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。
【図８】第１の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。
【図９】図７中のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。
【図１０】変換部Ｔとその周辺の回路部との配置を示す模式図である。
【図１１】本発明の第１の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法を工程順に示す断面図である。
【図１２】同じく、本発明の第１の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法を工程順に示す断面図であり、図１１に示す工程の次工程を示す断面図である。
【図１３】本発明の第２の実施形態に係る放射線撮像装置の全体的な構成を示すレイアウト図である。
【図１４】第２の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。
【図１５】第２の実施形態に係る放射線撮像装置においてモニタ用光電変換素子用の引き回し配線が設けられた画素の平面構成を示すレイアウト図である。
【図１６】図１４中のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図である。
【図１７】本発明の第２の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法を示す断面図である。
【図１８】同じく、本発明の第２の実施形態に係る放射線撮像装置を製造する方法を示す断面図であり、図１７に示す工程の次工程を示す断面図である。
【符号の説明】
１；撮像用光電変換素子（第１の半導体変換素子）
２；モニタ用光電変換素子（第２の半導体変換素子）
３；ＴＦＴ
５１；撮像用信号処理回路部
５２、５５；ゲートドライバ回路部
５３；電源
５４；モニタ用信号処理回路部
５６；共通電極ドライバ回路部
Ｒ１〜Ｒ３；領域
Ｔ；変換部
Ｍ１１〜Ｍ１４、Ｍ２１〜Ｍ２４、Ｍ３１〜Ｍ３４、Ｍ４１〜Ｍ４４；ＭＩＳ型光電変換素子
Ｐ１１〜Ｐ１４、Ｐ２１〜Ｐ２４、Ｐ３１〜Ｐ３４、Ｐ４１〜Ｐ４４；ＰＩＮ型光電変換素子
ＭＡ３３、ＭＡ３４；ＴＦＴ型センサ
Ｔ１１〜Ｔ１４、Ｔ２１〜Ｔ２４、Ｔ３１〜Ｔ３４、Ｔ４１〜Ｔ４４；スイッチング用ＴＦＴ
Ｖｓ１〜Ｖｓ４；バイアス線
Ｓｉｇ１〜Ｓｉｇ４；信号線
Ｖｇ１〜Ｖｇ４；ゲート線
Claims (17)
- 基板と、
前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する複数の第１の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に接続された複数のスイッチ素子とを備えた変換部と、
前記変換部内に入射した放射線照射を検出するために前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する第２の半導体変換素子と、
前記第１の半導体変換素子に設けられた第１の電極及び前記第２の半導体変換素子に設けられた第２の電極に接続されたバイアスラインと、
を有することを特徴とする放射線撮像装置。 - 前記スイッチ素子は薄膜トランジスタであることを特徴とする請求項１に記載の放射線撮像装置。
- 前記第２の半導体変換素子は放射線の照射量を検出することを特徴とする請求項１又は２に記載の放射線撮像装置。
- 前記第１の半導体変換素子及び前記薄膜トランジスタは、前記基板上にマトリクス状に配設され、
前記第１の電極は、互いに並行に配設された複数本のバイアスラインのいずれか１本に接続されており、
前記第２の電極は、当該第２の半導体変換素子が隣接する第１の半導体変換素子の第１の電極が接続されたバイアスラインに接続されていることを特徴とする請求項２に記載の放射線撮像装置。 - 前記第１の半導体変換素子及び前記第２の半導体変換素子を含む第１の画素と、前記第１の半導体変換素子を含み、前記第２の半導体変換素子を含まない第２の画素と、が存在し、
前記第１の画素と前記第２の画素とでは、面積が実質的に等しく、
前記第１の画素内の前記第１の半導体変換素子の受光面積は、前記第２の画素内の前記第１の半導体変換素子の受光面積よりも小さいことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の放射線撮像装置。 - 前記第２の半導体変換素子は、前記変換部内に複数設けられており、
前記バイアスラインが延びる方向に並ぶ前記第１及び第２の画素の配列を列、それに直交する方向に並ぶ前記第１及び第２の画素の配列を行と定義したとき、前記複数の第２の半導体変換素子の少なくとも一部は、同一の行又は列を構成する複数の前記第２の画素内に設けられていることを特徴とする請求項５に記載の放射線撮像装置。 - 前記第２の半導体変換素子の構造は、前記第２の電極をソース電極及びドレイン電極の一方とする電界効果トランジスタの構造となっていることを特徴とする請求項５又は６に記載の放射線撮像装置。
- 前記ソース電極及びドレイン電極の他方及び制御電極からなる群から選択された少なくとも一方の電極は、複数個の前記第２の画素間で互いに接続されていることを特徴とする請求項７に記載の放射線撮像装置。
- 前記第２の半導体変換素子の構造は、前記第２の電極を備えたＭＩＳ型の構造となっていることを特徴とする請求項５又は６に記載の放射線撮像装置。
- 前記第２の半導体変換素子は、前記第２の電極との間で絶縁膜及び半導体膜を挟む電極を有し、この電極は、複数個の前記第２の画素間で互いに接続されていることを特徴とする請求項９に記載の放射線撮像装置。
- 前記第２の電極は、前記バイアスラインに接する透明電極膜を有することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の放射線撮像装置。
- 前記第２の電極がオーミックコンタクト層を有することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の放射線撮像装置。
- 前記第１の半導体変換素子の構造は、前記第１の電極を備えたＭＩＳ型の構造となっていることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の放射線撮像装置。
- 前記第１の電極は、前記バイアスラインに接する透明電極膜を有することを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の放射線撮像装置。
- 前記第１の電極がオーミックコンタクト層を有することを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の放射線撮像装置。
- 放射線源と、
基板と、
前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する複数の第１の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に接続された複数の薄膜トランジスタとを備えた変換部と、
前記変換部内に入射した放射線の照射量を検出するために前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する第２の半導体変換素子と、
前記第１の半導体変換素子に設けられた第１の電極及び前記第２の半導体変換素子に設けられた第２の電極に接続されたバイアスラインと、
を有する放射線撮像装置を駆動する方法であって、
前記第２の半導体変換素子を用いて前記変換部内に入射した放射線の照射量を検出するために、前記第２の電極にバイアスを印加する工程と、
前記放射線源から放射線を前記変換部に向けて照射する工程と、
前記照射量がある値に到達した時に、前記放射線源からの放射線の照射を停止させる工程と、
前記第１の半導体変換素子に蓄積された電荷を読み出すために、前記薄膜トランジスタの制御電極に動作電圧を印加する工程と、
前記第１の半導体変換素子及び前記第２の半導体変換素子内の残存電荷を除去するために、前記第１の半導体変換素子及び前記第２の半導体変換素子の半導体層に順方向バイアスを印加するか、又は前記半導体層の空乏化バイアスによる電界を小さくする工程と、
を有することを特徴とする放射線撮像装置の駆動方法。 - 基板と、
前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する複数の第１の半導体変換素子と、前記第１の半導体変換素子に接続された複数の薄膜トランジスタとを備えた変換部と、
前記変換部内に入射した放射線の照射量を検出するために前記基板上に配設され、放射線を電気信号に変換する第２の半導体変換素子と、
前記第１の半導体変換素子に設けられた第１の電極及び前記第２の半導体変換素子に設けられた第２の電極に接続されたバイアスラインと、
を有する放射線撮像装置の製造方法であって、
前記基板上に、同一の層から前記第１の半導体変換素子のセンサ電極、前記薄膜トランジスタの制御電極及び前記第２の半導体変換素子の電極を形成する工程と、
前記基板の上方に、前記バイアスライン、並びに前記薄膜トランジスタのソース電極及びドレイン電極用の導電膜を形成する工程と、
前記導電膜をパターニングすることにより、前記バイアスラインを形成する工程と、
前記導電膜を更にパターニングすることにより、前記薄膜トランジスタのソース電極及びドレイン電極を形成する工程と、
同一の層から前記第１の半導体変換素子に設けられた第１の電極及び前記第２の半導体変換素子に設けられた第２の電極を形成する工程と、
を有することを特徴とする放射線撮像装置の製造方法。
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