JP4655032B2 - 半導体装置 - Google Patents
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発光素子と、
前記発光素子が配置された素子支持体と、
前記素子支持体と接合されて前記発光素子を封止する蓋状封止部材と、
を備え、前記素子支持体と前記蓋状封止部材とが、芳香族エポキシ樹脂を含む組成物から得られる硬化物により接合されていることを特徴とする半導体装置、
である。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体装置100の概略断面図である。同図において、半導体装置100は、発光素子110と、発光素子110が配置された平板状の素子支持体120と、蓋状封止部材130と、素子支持体120と蓋状封止部材130を接合する樹脂硬化物140を備える。素子支持体120には、スルーホール170などの導通部材が設けられており、素子支持体120の裏面に備えられた電極180に接続される。発光素子110には、これらスルーホール170及び電極180を介して電力が供給される。蓋状封止部材130は、発光素子110から発せられる光を透過するガラスなどからなる。本実施形態では、蓋状封止部材130がレンズ形状に形成されており、発光素子110から放射状に発せられた光を絞ることができる。
上式において、cは0以上の整数、好ましくは1〜8の整数である。上記フェノールノボラック樹脂としては、例えばDL-92(商品名、明和化成製)が挙げられる。
R1乃至R8は水素原子、或いは炭素数1乃至10の炭化水素基、或いはハロゲン原子であり、より好ましくは、下記のものである。
(工程1)蓋状封止部材の、素子支持体の上端面に接着する部分に、上記組成物を施与し、
(工程2)前記組成物が施与された蓋状封止部材を80〜120℃で30〜90分間加熱し、
(工程3)前記蓋状封止部材を、施与された組成物を介して、その内部に発光素子が配置された素子支持体の上端面に圧着し、
(工程4)得られた蓋状封止部材及び素子支持体を150〜200℃で60〜240分間加熱する。
これにより、蓋状封止部材と素子支持体とが硬化組成物により固定され、半導体装置を作ることができる。
ここで工程1では組成物が、ディスペンサー、プリンター等によって蓋に施与され、工程2では開閉式や連続式のオーブンで加熱されて、希釈剤が除去されて固形状にされ(Bステージ化)、工程3では必要に応じて加熱、加圧が可能なボンダー等で蓋状封止部材が素子支持体上に搭載され、工程4では開閉式や連続式のオーブンで組成物が硬化される。工程2で得られるBステージの組成物が施与された状態で、蓋状封止部材を保存し、必要な時に工程3以降を行ってもよい。
1)組成物の調製
下表に示す重量部の各物質を、25℃で、プラネタリーミキサーで混合した後、3本ロールで混練後、プラネタリーミキサーで再度混合して、樹脂組成物を得た。
フェノキシ樹脂
nの平均値は26である。
2)揮発分の測定
上記組成物を、アルミ製板(5mm×66mm)2枚の表面上に、厚みが150μmになるように夫々塗布し、100℃で1時間乾燥した。得られた試料を、150℃に設定したヘッドスペースサンプラー内で1時間保持し、その間に揮発される成分をガスサンプリングして、ガスクロマトグラフィー(SE−30キャピラリカラム、注入温度250℃、50℃で2分間保持後10℃/分で270℃まで昇温、検出器FID)で、ベンゼン及びフェノールについて定量し、試料1cm2当たりの試料の重量に対する揮発量(重量%)を計算し、平均を求めた。結果は、0.48重量%であった。
3)装置の作成(実施例1〜15)
図2に示す装置を15個作成した。発光素子210として発光ピーク波長が約405nmの窒化ガリウム系レーザダイオードを、素子支持体220としてセラミックス部材を、蓋状封止部材230としてガラスを、吸着剤250としてゼオライトを用いた。樹脂硬化物240は、実施例1〜15では上記組成物1を、前記ガラスの上端面にスクリーン印刷した後、100℃のオーブン中で60分間加熱し溶剤を揮発させた。次いで、前記ガラスを塗布された組成物を介して素子支持体に圧着して、150℃で240分間加熱して硬化させた。
4)1000時間通電試験
上記のようにして作成した半導体装置の素子支持体の温度を60℃に維持し、初期光出力が65mWになるように電流値一定で通電した後、1000時間経過後の光出力の変動を測定した通電試験で評価する。電流投入時の光出力を100%とし、1000時間経過後の光出力を測定したものを相対値で表す。図4に、実施例1乃至15で作成した半導体装置の1000時間通電試験の結果を示す。
110、210 発光素子
120、220、320 素子支持体
130、230 蓋状封止部材
140、240、340 樹脂硬化物
150、250、350 吸着剤
160、260 光触媒
170、270 スルーホール
180、280 電極
300 レーザカプラ
310 2波長レーザダイオード
330 波長板
360 複合レンズ
370 複合プリズム
380 受光素子
390 マイクロプリズム
Claims (11)
- 発光素子と、
前記発光素子が配置された素子支持体と、
前記素子支持体と接合されて前記発光素子を封止する蓋状封止部材と、
を備え、前記素子支持体と前記蓋状封止部材とが、
(A)軟化点が50℃〜100℃のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂又はビスフェノール型エポキシ樹脂、
(B)軟化点が50℃〜100℃のフェノールノボラック樹脂 成分(A)のエポキシ基モル量に対するフェノール性水酸基のモル量の比が0.8〜1.2となる量、
(C)熱可塑性樹脂 成分(A)と成分(B)の合計量の100重量部に対して1〜100重量部、
(D)下記式(1):
(R 1 〜R 8 は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、又はハロゲン原子である)、
で表される硬化促進剤 成分(A)と成分(B)の合計量の100重量部に対して0.1〜10重量部、及び
(F)希釈剤
を含む組成物から得られる硬化物により接合されていることを特徴とする半導体装置。 - (F)成分の希釈剤が前記組成物全体の100重量部に対して5〜90重量部含まれることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記蓋状封止部材が、素子支持体上に配置された発光素子を囲む空間を封止している請求項1又は2に記載の半導体装置。
- 前記素子支持体の温度を60℃に維持した状態で、初期光出力が65mWになるように電流を設定し、該電流を1000時間流した後の光出力の低下が前記初期光出力の20%以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記組成物が、無機充填剤をさらに含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記素子支持体と前記蓋状封止部材とで囲まれた空間に、吸着剤をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記吸着剤が、ゼオライトであることを特徴とする請求項6に記載の半導体装置。
- 前記素子支持体と前記蓋状封止部材とで囲まれた空間に、光触媒をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記発光素子がレーザダイオードであり、前記素子支持体と前記蓋状封止部材とで囲まれた空間に、マイクロプリズムをさらに備えたことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記発光素子がレーザダイオードであり、前記素子支持体と前記蓋状封止部材とで囲まれた空間に、受光素子をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記発光素子が、窒化物系半導体発光素子であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体装置。
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