JP4641374B2 - 投射光学系およびそれを用いた投射型表示装置 - Google Patents
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Description
物体面上の画像を像面上の投射有効領域内に投影する投影光学系であって、
該投射光学系は、物体面側から順に、光学ブロックCと、平面ミラーと、曲率を持つ反射面を含む非共軸光学系より成る光学ブロックRとを備えており、
前記光学ブロックCは、変倍部を有し、且つ前記物体面上の画像を球面上に結像する性能を有しており、
該光学ブロックCの射出瞳位置を中心にして、前記光学ブロックC、前記平面ミラー、前記光学ブロックRのいずれか1以上の部材を回転することによって、該変倍部の変倍動作により投影される像が該投射有効領域内で移動することを特徴としている。
前記光学ブロックRは、前記光学ブロックCにより投影される像を導光し、該光学ブロックCから出射する軸上の主光線に対して斜め方向の平面上に投射していることを特徴としている。
前記光学ブロックCは共軸回転対称レンズより成ることを特徴としている。
前記光学ブロックCの射出瞳位置は、前記変倍部による変倍によって変化せず、
前記平面ミラーが前記射出瞳位置に配置されており、
前記平面ミラーを回転させることにより、前記投影される像を移動させることを特徴としている。
前記光学ブロックCによる変倍に際して、前記投射有効領域の大きさが一定であることを特徴としている。
前記光学ブロックCは、回転対称レンズによって構成されており、
前記光学ブロックRは、互いに共通の光軸を持たない複数の反射面で構成されており、
前記投影される像を前記投射有効領域内で移動させるために、前記平面ミラーと、該平面ミラーとは異なる別の平面ミラーとを、互いに異なる回転軸を中心として回転させている、
ことを特徴としている。
前記1以上の部材は、前記光学ブロックCの射出瞳位置に配置された平面ミラーであって、該平面ミラーが前記光学ブロックCの射出瞳位置を中心に回転することにより、前記投射有効領域内において前記像面上の投影される像が移動することを特徴としている。
物体面上の画像を請求項1〜7のいずれか1項の投射光学系により、像面上の投射有効領域に投影することを特徴としている
前記変倍部の変倍位置と前記1以上の部材の回転角度を制御して、投影される像が前記投射有効領域内で移動するようにする制御手段を有していることを特徴としている。
Z軸:原点と物体面OBの中心を通る直線。物体面OBから第1面R1に向かう方向を正とする
Y軸:原点を通り右手座標系の定義に従ってZ 軸に対して反時計回りに90゜をなす直線
X軸:原点を通りZ、Y各軸に垂直な直線
又、光学系を構成する第i面の面形状及びチルト角を表すには、絶対座標系にてその面の形状及びチルト角を表記するより、基準軸と第i面が交差する点を原点とするローカル座標系を設定して、ローカル座標系でその面の面形状を表し、基準軸とローカル座標系の成す角でチルト角を表した方が形状を認識する上で理解し易い為、第i面の面形状を以下のローカル座標系で表す。そのためにまず基準軸上の任意の点に対して以下の基準軸上の座標系を設定する。
zb軸:基準軸上の任意の点を通り、基準軸の方向を正とする。基準軸の偏向点においては入射方向を正とする
yb軸:基準軸上の任意の点を通り、右手座標系の定義に従ってzb軸に対して反時計回りに90゜をなす直線であり、絶対座標系の原点で絶対座標系のY軸と一致し、以降、zb軸に対する回転はないものとする
xb軸:基準軸上の任意の点を通り、zb、yb各軸に垂直な直線
次にローカル座標系を設定する。
z軸:ローカル座標の原点を通る面法線
y軸:ローカル座標の原点を通り、右手座標系の定義に従ってz方向に対し反時計方向に90゜をなす直線
x軸:ローカル座標の原点を通り、ybzb面に対し垂直な直線
従って、第i面のybzb面内でのチルト角はローカル座標系のz軸が基準軸上座標系のzb軸に対して鋭角に反時計回り方向を正とした角度θxb,i(単位°)、第i面のxbzb面内でのチルト角は基準軸上座標系のzb軸に対して反時計回り方向を正とした角度θyb,i(単位°)、第i面のxbyb面内でのチルト角は絶対座標系のyb軸に対して反時計回り方向を正とした角度θzb,i(単位°)で表す。ただし、通常、θzb,iは面の回転に相当するもので本発明の実施例においては存在しない。図13はこれらの絶対座標系、基準軸上座標系、ローカル座標系の相互関係を表している。
z=C02y2+C20x2+C03y3+C21x2y+C04y4+C22x2y2+C40x4
+C05y5+C23x2y3+C41x4y+C06y6+C24x2y4+C42x4y2+C60x6
上記曲面式はxに関して偶数次の項のみであるため、上記曲面式により規定される曲面はyz面を対称面とする面対称な形状である。さらに以下の条件が満たされる場合はxz面に対して対称な形状を表す。
さらに
C02 =C20 C04=C40 = C22/2 C06=C60 =C24/3 =C42/3
が満たされる場合は回転対称な形状を表す。以上の条件を満たさない場合は非回転対称な形状である。
||ωr,z ・Sr,z/M・θMr,zLr,z|−1| < 0.2・・・・(1)
を満足している。表1に本実施例における式(1)の結果を示す。各変倍位置(WIDE、MIDDLE、TELE)での画像表示面の移動方向(x又はy)毎の計算結果を示している。表中、w及びqの単位は[°]、又S及びLの単位は[mm]であり、M及び(1)式の計算結果は無次元量である。又、本実施例においてはWIDEの変倍位置でのx方向の画面移動は無い仕様としているので(1)式の計算結果は空欄となっているが、これは一つの例であり、本発明を制限するものではない。
面番号3〜15は光学ブロックC’のレンズ面、
面番号16、17は回転ミラーG1、G2、
面番号18〜21は光学ブロックCの反射面R1〜R4、
面番号22は折り返りミラーFM、
面番号23はスクリーン面(画像表示面)、
を表している。
B 光学素子
LL ライトバルブ及び照明系
L 照明系
LV ライトバルブ(画像表示パネル)
C 共軸回転対称光学ブロック
D ダイクロイック光学素子
G 回転ミラーブロック
Gi i番目の回転ミラー
R 曲率をもつ反射面を構成要素とする光学ブロック
Ri i番目のOff−Axial反射自由曲面
E 投射有効領域(拡張スクリーン)
E’ パネル側の光学ブロックの拡張スクリーン
S 画像表示面
Si 画像表示位置
A1、B1、C1 パネル側の光学ブロックの結像面
A2、B2、C2 投射光学系の結像面
SS 絞り
SSa 投射光学系の射出瞳
EXP パネル側の光学ブロックの射出瞳
(i=1、2、‥‥)
Claims (9)
- 物体面上の画像を像面上の投射有効領域内に投影する投影光学系であって、
該投射光学系は、物体面側から順に、光学ブロックCと、平面ミラーと、曲率を持つ反射面を含む非共軸光学系より成る光学ブロックRとを備えており、
前記光学ブロックCは、変倍部を有し、且つ前記物体面上の画像を球面上に結像する性能を有しており、
該光学ブロックCの射出瞳位置を中心にして、前記光学ブロックC、前記平面ミラー、前記光学ブロックRのいずれか1以上の部材を回転することによって、該変倍部の変倍動作により投影される像が該投射有効領域内で移動することを特徴とする投射光学系。 - 前記光学ブロックRは、前記光学ブロックCにより投影される像を導光し、該光学ブロックCから出射する軸上の主光線に対して斜め方向の平面上に投射していることを特徴とする請求項1の投射光学系。
- 前記光学ブロックCは共軸回転対称レンズより成ることを特徴とする請求項1又は2の投射光学系。
- 前記光学ブロックCの射出瞳位置は、前記変倍部による変倍によって変化せず、
前記平面ミラーが前記射出瞳位置に配置されており、
前記平面ミラーを回転させることにより、前記投影される像を移動させることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の投射光学系。 - 前記光学ブロックCによる変倍に際して、前記投射有効領域の大きさが一定であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の投射光学系。
- 前記光学ブロックCは、回転対称レンズによって構成されており、
前記光学ブロックRは、互いに共通の光軸を持たない複数の反射面で構成されており、
前記投影される像を前記投射有効領域内で移動させるために、前記平面ミラーと、該平面ミラーとは異なる別の平面ミラーとを、互いに異なる回転軸を中心として回転させている、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の投射光学系。 - 前記1以上の部材は、前記光学ブロックCの射出瞳位置に配置された平面ミラーであって、該平面ミラーが前記光学ブロックCの射出瞳位置を中心に回転することにより、前記投射有効領域内において前記像面上の投影される像が移動することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の投射光学系。
- 物体面上の画像を請求項1〜7のいずれか1項の投射光学系により、像面上の投射有効領域に投影することを特徴とする投射型表示装置。
- 前記変倍部の変倍位置と前記1以上の部材の回転角度を制御して、投影される像が前記投射有効領域内で移動するようにする制御手段を有していることを特徴とする請求項8の投射型表示装置。
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