JP4637593B2 - 除染方法、及び除染システム - Google Patents
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Description
ここで、Vは音速(m/sec)、Cpiは気体iの定圧比熱、Cviは気体iの定容比熱、Xiは気体iのモル分率、Rは気体定数、Tは気体温度(℃)、Miは気体iの分子量である。また、上式は、次のように表すことができる。
ここで、Dは気体濃度(体積%)である。また、かかる式は、次のように表すことができる。
ここで、Tは気体密度である。この例のように、気体濃度D、気体密度、及びその気体中に伝播する超音波の音速Vとは互いに密接な関係を有しているため、除染室内を占める除染ガスの割合等が変化した場合に、音速が変化することとなる。
以下に、本発明にかかる除染システム1について説明する。
図1に示されるように、除染システム1は、過酸化水素ガス発生装置2と、除染室3と、投入用ガス管6aと、循環用ガス管6bと、除染室3内の温度を測定する温度計8とで構成されている。
本発明にかかる除染システム1は、除染室3内に、超音波発振装置4と超音波受波装置5とが設置される。この超音波発振装置4は、超音波を発振する装置であって、この超音波発振装置4が駆動することにより超音波が発振されて、超音波が除染室3内に伝播する。これに対し、超音波受波装置5は、超音波を受波するセンサーにより構成される受波部5a(図6参照)を備えた装置である。そして、この超音波受波装置5は、超音波発振装置4が発振した超音波を確実に捕捉できる位置に配設されている。なお、超音波発振装置4と超音波受波装置5とは、それぞれ公知品が好適に用いられ、かかる構成からなる測定器は、例えば、特開平2−198357号公報に開示されている。
除染ガス追加投入制御内容は、過酸化水素ガス発生装置2に過酸化水素ガスを発生させる制御指令信号を出力すると共に、超音波発振装置4に超音波を発振させる制御指令信号を出力する。ここで、制御指令信号を受信した過酸化水素ガス発生装置2は、駆動して過酸化水素ガスを所定量発生させる。さらに詳述すると、過酸化水素ガスの投入量は、過酸化水素水の加熱面への滴下量で調整される。また、制御指令信号を受信した超音波発振装置4は、駆動して超音波を発振する。そうすると、除染室3内に過酸化水素ガスが投入されると共に、過酸化水素ガスが内在する除染室3内に、超音波が伝播することとなる。
まず、除染室3内に、乾燥空気を投入して、室内湿度を所定湿度に調整する。また、同時に、除染室3の漏れ検査を実施する。
また、超音波の音速を測定する態様は、様々な構成が提案される。
例えば、図3に示されるように、複数の超音波発振装置4を除染室3内に設けると共に、各超音波発振装置4に対応させて超音波受波装置5を設けてなる構成である。具体的には、第一超音波発振装置41が発振した超音波を第一超音波受波装置51が受波し、第二超音波発振装置42が発振した超音波を第二超音波受波装置52が受波し、かつ第三超音波発振装置43が発振した超音波を第三超音波受波装置53が受波するように設定している。また、第一超音波発振装置41及び第一超音波受波装置51は、除染室3内で過酸化水素ガスが最も浸透しやすいと考えられる部分の音速を測定するように配置し、第三超音波発振装置43及び第三超音波受波装置53は、除染室3内におけるコールドポイントと考えられる部分の音速を測定するように配置されている。このように、除染室3内の所要位置に、複数の超音波発振装置4及び超音波受波装置5をそれぞれ対応させて配設する構成とすることにより、複数の箇所から発振された超音波を確実に捕捉できると共に、除染の確実性・信頼性が向上することとなる。
また、図4に示されるように、複数の超音波発振装置4を設けると共に、単数の超音波受波装置5’を除染室3内で移動可能とし、各超音波発振装置4が発振する超音波を受波できるようにした構成が提案される。このように超音波受波装置5’を単数とする構成とすることにより、第二実施例にかかる構成に比して、除染システム1bの構成を簡略化することが可能となる。ここで、具体的には、超音波発振装置4を除染室3内で同方向に超音波を発振しうる態様で一列状に配設すると共に、これら超音波発振装置4の列設方向とほぼ平行に移動用レール11を超音波発振装置4の対向位置に敷設する。そして、この移動用レール11に超音波受波装置5’を係合させて、かかる超音波受波装置5’を移動用レール11に沿って移動可能とする。かかる構成にあって、各超音波発振装置4に超音波を発振させると共に、超音波受波装置5’を移動用レール11上でスライド移動させて、順次各超音波を受波し、それぞれ音速を測定していくこととなる。なお、超音波受波装置5’の移動は、超音波受波装置5’を除染室3外から遠隔的に所定速度で移動させることを可能とする操作制御装置を設けて実現させる構成が好適である。また、各装置4,5’の配置は、コールドポイントと考えられる部分の音速を測定できる配置とし、除染の確実性・信頼性を向上させうる構成が好適である。なお、上述の移動用レール11は、除染室3内の内壁や、床面等、除染室3内の様々な場所に設けることができる。また、移動用レール11を用いた構成に代えて、自走式の台車上に超音波受波装置5を固定させてなる構成としても良い。
また、超音波発振装置4’を単数とし、超音波受波装置5を複数設けた構成としても良い。かかる構成とすることにより、第二実施例にかかる構成に比して、除染システム1cの構成を簡略化することが可能となる。ここで、具体的には、回転テーブル10aを上面に備えた回転台10を除染室3内の中央に配設し、前記回転テーブル10a上に超音波発振装置4’を載置する。ここで、回転台10の回転テーブル10aは、除染室3外から遠隔操作により水平面内で回転させることが可能で、超音波発振装置4’を旋回させて360°の範囲で超音波を伝播させうる構成となっている。これに対し、超音波受波装置5を超音波発振装置4’の周囲に複数配設している。かかる構成にあって、超音波発振装置4’に超音波を発振させると共に、回転テーブル10aを回転させて、超音波を360°の範囲で除染室3内に伝播させる。一方、各超音波受波装置5により順次超音波を受波し、それぞれ音速を測定する。なお、各装置4’,5の配置は、コールドポイントと考えられる部分の音速を測定できる配置とし、除染の確実性・信頼性を向上させうる構成が好適である。なお、別構成として、回転台10を備えない構成としても良い。すなわち、超音波は広がりをもって伝播するため、床面等に固定された超音波発振装置4から発振された超音波を、除染室3内で所定間隔をおいて配設された複数の超音波受波装置5で受波する構成としても良い。
また、これまでに述べた各実施例にあっては、図6に示されるように、超音波受波装置5に備えられた受波部5aに、皿状の隔膜カバー31を被覆するように配設した構成が提案される。ここで、隔膜カバー31は、超音波用腐食防止隔膜30により構成され、この超音波用腐食防止隔膜30は、超音波は通過可能とし、過酸化水素ガスは通過不能である特性を有しているものである。この腐食防止隔膜30としては、例えば、数10〜数100μm厚のプラスチック薄膜、貴金属薄膜などが好適に用いられる。なお、前記受波部5aは、公知の超音波センサーにより好適に構成することができる。また、前記隔膜カバー31は、超音波発振装置4に備えられた、超音波を発振する発振部に配設しても勿論良く、好ましくは、前記発振部及び受波部5aに隔膜カバー31を配設する構成が好適である。なお、この隔膜カバー31は、超音波の波長を制限するために利用することもできる。
Cw=C/{(1−(P/H))((γw/γa)−0.622)}1/2
c={(kRT)/M}1/2
となることが記載されている。かかる構成とすることにより、測定した音速に基づいて、室内ガスに対する過酸化水素ガスの濃度を特定し、該濃度に従って、所定量の過酸化水素ガスを除染室3内に追加投入する又は過酸化水素ガスの追加投入を中止する除染方法が実現される。例えば、過酸化水素ガスの濃度を所定時間間隔で算出し、濃度が所定値となった時に、初期投入量より少ない量の過酸化水素ガスを追加投入する構成が提案されうる。
また、これまでに述べた実施例は、全て超音波を用いた構成であったが、超音波を用いずにレーザ光又は可視光を除染室3内に伝播させて、除染室3内のガス濃度を特定し、該ガス濃度に従って所定量の過酸化水素ガスを除染室3内に追加投入する又は過酸化水素ガスの追加投入を中止する構成としても良い。具体的には、除染室3内にレーザ光を発振可能な光発振装置を設けると共に、当該光発振装置に対向させて、レーザ光を受光可能な受光装置を設ける。そして、除染制御装置60は、受光装置が受光したレーザ光の光量(lm・s)データに基づいて除染室3内の過酸化水素ガス濃度を特定する。例えば、特開2001−289780号公報に開示される濃度計が好適に用いられうる。さらに除染制御装置60は、特定したガス濃度が所定の値となると、例えば初期投入量より少ない量の過酸化水素ガスを追加投入する。この過酸化水素ガスの追加投入量等は、適宜変更可能であり、除染に最適なものが採用されうる。また、光発振に備えられた、光を発振する発振部、又は、受光装置に備えられた、光を受光する受光部に光用腐食防止隔膜からなる隔膜カバー31を被覆しても良い。例えば、隔膜カバー31を主にステンレス材料で構成し、光路上に相当する部分のみクリスタル材料とする構成が提案される。あるいは、全て透明プラスチック材料で構成しても良い。この隔膜カバー31により、周囲のノイズを遮断してフィルタ効果を得ることもできる。
2 過酸化水素ガス発生装置
3 除染室
4,41,42,43,4’ 超音波発振装置
5,51,52,53,5’ 超音波受波装置
6a 投入用ガス管
6b 循環用ガス管
30 腐食防止隔膜
5a 受波部
60 除染制御装置
Claims (9)
- 除染対象となる除染室内に除染ガスを投入して、当該除染室内を除染する除染方法において、
除染ガスが内在する除染室内に測定波を伝播させ、伝播させた測定波の特性情報を測定し、測定した特性情報に基づいて、除染管理する除染方法にあって、
測定波が超音波であり、測定波の特性情報が超音波の音速であり、
除染ガスの飽和によって除染室内を伝播する超音波の音速が変化するのを検出して、除染室内で除染ガスが凝縮するタイミングを特定し、該タイミングに従って、除染管理することを特徴とする除染方法。 - 除染室内の複数の箇所で測定波を発振して当該除染室内に複数の測定波を伝播させ、各測定波の特性情報を夫々測定することを特徴とする請求項1に記載の除染方法。
- 除染管理することが、所定量の除染ガスを除染室内に追加投入する又は除染ガスの追加投入を中止することである請求項1又は請求項2に記載の除染方法。
- 除染ガスが、過酸化水素ガスであることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の除染方法。
- 除染対象となる除染室と、
除染室内に除染ガスを投入する除染ガス投入装置と
を備えた、除染室内に除染ガスを投入することにより当該除染室内を除染する除染システムにおいて、
測定波を発振し、該測定波を除染室内に伝播させる測定波発振装置と、
除染室内を伝播する測定波を受波する測定波受波装置と、
除染ガス投入装置を駆動して除染ガスを除染室内に投入し、測定波発振装置を駆動して測定波を除染ガスが内在する除染室内で伝播させ、測定波受波装置が受波した測定波の特性情報を測定し、該測定した特性情報に基づいて、除染ガス投入装置を駆動して所定量の除染ガスを追加投入する又は除染ガス投入装置の駆動を中止して除染ガスの追加投入を中止する除染ガス追加投入制御内容を具備する除染制御装置と
を備え、
測定波発振装置が、超音波を発振し、該超音波を除染室内に伝播させる超音波発振装置であり、
測定波受波装置が、除染室内を伝播する超音波を受波する超音波受波装置であり、
除染制御装置が、除染ガス投入装置を駆動して除染ガスを除染室内に投入し、超音波発振装置を駆動して超音波を除染ガスが内在する除染室内で伝播させ、超音波受波装置が受波した超音波の音速を測定し、除染ガスの飽和によって除染室内を伝播する超音波の音速が変化するのを検出して、除染室内で除染ガスが凝縮するタイミングを特定し、該タイミングに従って、所定量の除染ガスを除染室内に追加投入する又は除染ガスの追加投入を中止する除染ガス追加投入制御内容を具備したものであることを特徴とする除染システム。 - 測定波発振装置が、超音波を発振する発振部を具備した超音波発振装置であり、測定波受波装置が、超音波を受波する受波部を具備した超音波受波装置であり、
前記発振部及び前記受波部のうち、少なくともいずれかが、超音波は通過可能で除染ガスは通過不能な超音波用腐食防止隔膜により被覆されてなることを特徴とする請求項5記載の除染システム。 - 除染室内に、測定波発振装置が複数配設されると共に、測定波受波装置が、各測定波発振装置が発振した測定波を受波し、除染制御装置が、受波した測定波の特性情報を夫々測定する制御内容を具備するものであることを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の除染システム。
- 除染室内に、測定波発振装置を単数配設すると共に、当該除染室内に、前記測定波発振装置が発振した測定波を受波する測定波受波装置を複数配設してなることを特徴とする請求項5乃至請求項7のいずれかに記載の除染システム。
- 除染ガスが、過酸化水素ガスであることを特徴とする請求項5乃至請求項8のいずれかに記載の除染システム。
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WO2019167593A1 (ja) * | 2018-03-01 | 2019-09-06 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 浄化方法、浄化装置及び浄化システム |
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001520532A (ja) * | 1995-07-27 | 2001-10-30 | アメリカン ステリライザー カンパニー | 過酸化水素蒸気消毒のためのリアルタイムモニタ、コントロールシステム、および方法 |
JP2003535327A (ja) * | 2000-05-31 | 2003-11-25 | テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム | 気相媒体を製造する方法および装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS554528A (en) * | 1978-06-27 | 1980-01-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Method and apparatus for measuring gas concentration |
JPH02198357A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-06 | Fuji Kogyo Kk | 超音波気体濃度計 |
JP3083025B2 (ja) * | 1992-12-24 | 2000-09-04 | キヤノン株式会社 | 密閉空間内の気体制御方法とこれを用いたチャンバ装置と露光装置、並びにデバイス製造方法 |
AU753047B2 (en) * | 1997-11-14 | 2002-10-03 | Ethicon Inc. | Method for measuring the concentration of hydrogen peroxide vapor |
-
2005
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001520532A (ja) * | 1995-07-27 | 2001-10-30 | アメリカン ステリライザー カンパニー | 過酸化水素蒸気消毒のためのリアルタイムモニタ、コントロールシステム、および方法 |
JP2003535327A (ja) * | 2000-05-31 | 2003-11-25 | テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム | 気相媒体を製造する方法および装置 |
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