JP4632713B2 - 並列データ書き込み方法 - Google Patents
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Description
2a ブロック
3 Xデコーダ
4 Yセレクタ
5 データ入出力回路
6 電圧ドライバ
7 センス回路
8 グランド
11 メモリセル
22a,22b 拡散領域
30 差動比較器
32 基準セル
33 ラッチ回路
34a,34b nMOSトランジスタ
F1,F2 フローティングゲート
BL0〜BL127 拡散ビット線
GL0〜GL63 金属ビット線
SEL0〜SEL3 選択信号線
S0〜S3 スイッチ
WL0〜WL127 ワード線
Claims (1)
- 半導体基板に形成され、印加される電圧に応じてソース領域またはドレイン領域として機能する第1拡散領域及び第2拡散領域と、
前記一対の拡散領域の間に形成されるチャネル領域の導通状態を電圧印加により制御するコントロールゲートと、
前記第1拡散領域をソース領域、前記第2拡散領域をドレイン領域とし、該ソース領域と該ドレイン領域との間に所定の電圧を印加するとともに、前記コントロールゲートにより前記チャネル領域を導通させた場合に、該チャネル領域に流れる電荷の一部が注入される第1電荷蓄積部と、
前記第2拡散領域をソース領域、前記第1拡散領域をドレイン領域とし、該ソース領域と該ドレイン領域との間に所定の電圧を印加するとともに、前記コントロールゲートにより前記チャネル領域を導通させた場合に、該チャネル領域に流れる電荷の一部が注入される第2電荷蓄積部とを有し、前記第1電荷蓄積部及び前記第2電荷蓄積部の電荷蓄積状態をそれぞれ独立に読み出すことが可能なメモリセルを備え、
前記メモリセルが、ロウ方向及びコラム方向にそれぞれ複数配列され、前記ロウ方向に配列された前記複数のメモリセルの前記コントロールゲートがワード線により共通に接続され、前記コラム方向に配列された前記複数のメモリセルの前記第1拡散領域及び前記第2拡散領域のそれぞれが一体化してビット線を構成したメモリセルアレイを、前記ロウ方向にブロック分割し、分割した各ブロックからそれぞれ1つのメモリセルを書き込み対象として選択し、選択された書き込み対象の各メモリセルに対して、「00」、「10」、「01」、「11」(ここで、「0」は書き込み電荷注入状態、「1」は書き込み電荷非注入状態に対応し、左側のビットは前記第1電荷蓄積部の電荷状態、右側のビットは前記第2電荷蓄積部の電荷状態に対応する)からなる2ビットデータからいずれかを書き込みデータとしてそれぞれ並列に書き込む並列データ書き込み方法において、
前記書き込み対象の各メモリセルの初期データが「11」であることを前提とし、
前記書き込み対象のメモリセルのうち、書き込みデータが「00」であるメモリセル及び書き込みデータが「01」であるメモリセルについて、前記第1拡散領域をソース領域、前記第2拡散領域をドレイン領域とし、該ソース領域と該ドレイン領域との間に、第1の電圧を印加するとともに、前記コントロールゲートによりチャネル領域を導通させることで、当該メモリセルの第1電荷蓄積部に電荷を注入する第1ステップと、
前記書き込み対象のメモリセルのうち、書き込みデータが「10」であるメモリセルについて、前記第2拡散領域をソース領域、前記第1拡散領域をドレイン領域とし、該ソース領域と該ドレイン領域との間に、前記第1の電圧を印加するとともに、前記コントロールゲートによりチャネル領域を導通させることで、当該メモリセルの第2電荷蓄積部に電荷を注入する第2ステップと、
前記書き込み対象のメモリセルのうち、書き込みデータが「00」であるメモリセルについて、前記第2拡散領域をソース領域、前記第1拡散領域をドレイン領域とし、該ソース領域と該ドレイン領域との間に、前記第1の電圧より大きい所定の第2の電圧を印加するとともに、前記コントロールゲートによりチャネル領域を導通させることで、当該メモリセルの第2電荷蓄積部に電荷を注入する第3ステップと、を有し、
第1ステップ、第2ステップ、第3ステップの順、又は、第1ステップ、第3ステップ、第2ステップの順に行われる
ことを特徴とする並列データ書き込み方法。
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