JP4628991B2 - 分布定数型フィルタ装置 - Google Patents

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Description

本発明は分布定数型フィルタ装置に係り、特に、UWB(ultra-wide band)を利用する平面アンテナ装置に適用される分布定数型フィルタ装置に関する。
図1(A),(B)は分布定数型フィルタ装置の一つである従来のリングフィルタ装置10を示す。このリングフィルタ装置10は、エポキシ樹脂製の基板11の上面11aに、オープンスタブ付きリングフィルタエレメント12を有し、下面11bの全面にグランドパターン15を有する構成である。
オープンスタブ付きリングフィルタエレメント12は、リング部13とオープンスタブ部14とからなる。リング部13は、λ/2の長さの第1の伝送線路13aと、λ/4の長さの二つの第2の伝送線路13b、13cとよりなる。λは周波数f0の波長である。第1の伝送線路13aの特性インピーダンスはZ1、第2の伝送線路13b(13c)の特性インピーダンスはZ2、オープンスタブ部14の特性インピーダンスはZ3である。
このリングフィルタ装置10は、図2に示すような通過特性を有し、二つの減衰極周波数f1,f2を有する。Aは二つの減衰極周波数f1,f2の間の周波数帯域である。
減衰極周波数f1,f2は、第1の伝送線路13aの特性インピーダンスZ1、第2の伝送線路13b(13c)の特性インピーダンスZ2、オープンスタブ部14の特性インピーダンスZ3の比で決定される。
オープンスタブ部14の特性インピーダンスZ3を低くすると、上記の周波数帯域Aが広くなり、特性インピーダンスZ3を高くすると、周波数帯域Aが狭くなる。
リングフィルタ装置10としては、上記の周波数帯域Aを異ならしめた複数の種類のものがラインナップされて商品化される。よって、リングフィルタ装置10では、商品に応じて、オープンスタブ部14の特性インピーダンスZ3が10Ω〜100Ωの範囲で適宜設定されるようになっており、リングフィルタ装置10は、オープンスタブ部14が所定の特性インピーダンスZ3となるように設計されて製造される。
特開2005−295316号公報
従来のリングフィルタ装置10では、特性インピーダンスZ1、Z2,Z3は、基板11の材料であるエポキシ樹脂の比誘電率(εr0)、基板11の厚さ等によって決定される。
特に、特性インピーダンスZ3についてみる。前記の周波数帯域Aを広くするべく、特性インピーダンスZ3を例えば10Ωと低くした場合には、オープンスタブ部14の幅Wが例えば20mm程度と異常に広くなってしまう。逆に、周波数帯域Aを狭くするべく、特性インピーダンスZ3を例えば100Ωと高くした場合には、オープンスタブ部14の幅Wが例えば0.1mm程度と異常に狭くなってしまう。
このため、オープンスタブ部14を適度の幅Wで形成するには、オープンスタブ部14の特性インピーダンスZ3を設定出来る範囲が10〜100Ωの範囲よりも狭くなってしまっており、リングフィルタ装置10の設計の自由度が制限されていた。
本発明は上記の点に鑑みてなされた分布定数型フィルタ装置を提供することを目的とする。
本発明は、誘電体製の基板の上面にフィルタパターンを有し、該基板の下面にグランドパターンを有する構成の分布定数型フィルタにおいて、
前記基板を、そのうちの一部に、前記基板の材料とは比誘電率が相違する材料で形成された異種材料部分を有する構成とし、
前記フィルタパターンを、前記異種材料部分に形成した構成とし
前記フィルタパターンは、リング部と、該リング部と接続してあるオープンスタブ部とからなる構成であり、
前記オープンスタブ部を、前記異種材料部分に形成した構成としたことを特徴とする。
フィルタパターンの寸法については異種材料の比誘電率に応じて決めることが可能となり、製造し易い寸法とすることが出来る。
次に本発明の実施の形態について説明する。
図3(A),(B)は分布定数型フィルタ装置の一つである本発明の実施例1になるリングフィルタ装置10Aを示す。各図中、図1(A),(B)に示す構成部分と対応する構成部分には同じ符号を付す。
このリングフィルタ装置10Aは、図1(A),(B)に示すリングフィルタ装置10とは、誘電体製の基板11Aの構成が相違する。リングフィルタ装置10Aは、基板11Aの上面11Aaに、銅箔製のオープンスタブ付きリングフィルタエレメント12Aを有し、下面11Abの全面に銅箔製のグランドパターン15を有する構成である。
このリングフィルタ装置10Aは、周波数帯域Aを狭くするべく、オープンスタブ部14Aの特性インピーダンスZ3を例えば100Ωと高く設定して設計したものである。
基板11Aは、誘電体であるエポキシ樹脂(比誘電率(εr0))製であり、符号20で示す部分、即ち、オープンスタブ部14Aが形成される部分は、誘電体であるフッ素樹脂製である。異種材料部分であるフッ素樹脂部分20の上面に、オープンスタブ部14Aが形成してある。フッ素樹脂の比誘電率(εr1)は、エポキシ樹脂の比誘電率(εr0)よりも低い。εr1<εr0である。
図3(C)は基板全体がエポキシ樹脂である場合であって、オープンスタブ部14aの特性インピーダンスZ3を100Ωに設定して設計した例を示す。オープンスタブ部14aは、幅W1が例えば0.1mm程度と狭くなっている。
しかし、本実施例では、εr1<εr0であるため、オープンスタブ部14Aは、図3(A)に示すように、幅W2が、例えば数mmと広くなって、製造し易い適度な広さを有している。
上記の基板11Aは、射出成形でもって製造する場合には、二色成形でもって製造する。即ち、最初に、エポキシ樹脂を送り出して、図4(A)に示すように、一部を開口31としたエポキシ樹脂製の基板本体30を成形し、続いて、フッ素樹脂を送り出して、開口31を埋めて、フッ素樹脂部分20を形成することによって、基板11Aが製造される。
また、基板11Aは、複数のプリプレグを積層してプリント配線基板を製造する工程と同じ工程でもって、製造することも可能である。即ち、図4(B)に示すように、開口41−1(41−2、41−3)が形成されたプリプレグ40−1(40−2、40−3)を用意し、この開口41−1(41−2、41−3)を符号42−1(42−2、42−3)で示すようにフッ素樹脂で埋め、この状態のプリプレグを積層することによって、基板11Aが製造される。
図5(A),(B)は本発明の実施例2になるリングフィルタ装置10Bを示す。各図中、図1(A),(B)に示す構成部分と対応する構成部分には同じ符号を付す。
このリングフィルタ装置10Bは、図1(A),(B)に示すリングフィルタ装置10とは、誘電体製の基板11Bの構成が相違する。リングフィルタ装置10Bは、基板11Bの上面11Baに、オープンスタブ付きリングフィルタエレメント12Bを有し、下面11Bbの全面にグランドパターン15を有する構成である。
このリングフィルタ装置10Bは、周波数帯域Aを広くするべく、オープンスタブ部14Bの特性インピーダンスZ3を例えば10Ωと低く設定して設計したものである。
基板11Bは、エポキシ樹脂(比誘電率(εr0))製であり、符号50で示す部分、即ち、オープンスタブ部14Bが形成される部分は、誘電体であるPPO製である。オープンスタブ部14Bは、異種材料部分であるPPO部分50の上面に形成してある。PPO樹脂の比誘電率(εr1)は、エポキシ樹脂の比誘電率(εr0)よりも高い。εr2>εr0である。PPOは、ポリフェニレンオキサイドである。
図5(C)は基板全体がエポキシ樹脂である場合であって、オープンスタブ部14bの特性インピーダンスZ3を10Ωに設定して設計した例を示す。オープンスタブ部14bは、幅W3が例えば20mm程度と異常に広くなっている。
しかし、本実施例では、εr2>εr0であるため、オープンスタブ部14Bは、図5(A)に示すように、幅W4が、例えば数mmと狭くなって、製造し易い適度な広さとなる。
図6(A),(B)は本発明の実施例3になるリングフィルタ装置10Cを示す。各図中、図1(A),(B)に示す構成部分と対応する構成部分には同じ符号を付す。
このリングフィルタ装置10Cは、図1(A),(B)に示すリングフィルタ装置10とは、誘電体製の基板11Cの構成が相違する。リングフィルタ装置10Cは、基板11Cの上面11Caに、オープンスタブ付きリングフィルタエレメント12を有し、下面11Cbの全面にグランドパターン15を有する構成である。オープンスタブ付きリングフィルタエレメント12はリング部13とオープンスタブ部14とよりなる。
基板11Cは、特殊なプリプレグを積層してなるものであり、周囲の部分を除いては、ガラスクロスを有しない構成である。即ち、基板11Cは、ガラスクロス無し部分60を有する構成である。ガラスクロス無し部分60は四角形である。61はガラスクロス有り部分であり、周囲の部分を占める。なお、プリプレグは、ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させたものである。
この基板11Cは、図7に示すように、ガラスクロスを除去した部分を有する特殊なプリプレグ70−1(70−2、70−3)を形成し、これを積層することによって製造される。71−1(71−2、71−3)はガラスクロスであり、72−1(72−2、72−3)は、ガラスクロスを有していず、エポキシ樹脂のみからなる部分である。この部分72−1(72−2、72−3)が積層されて、上記のガラスクロス無し部分60が形成される。
このガラスクロス無し部分60に、リング部13とオープンスタブ部14とが形成してある。
ここで、ガラスクロスは、基板11Cの誘電率及び誘電損失をばらつかせる原因、基板11Cの誘電損失を増加させる原因、及び、表面に凹凸を形成する原因となっている。
ガラスクロス無し部分60は、エポキシ樹脂のみからなる構成であり、ガラスクロスの影響を受けず、誘電率は安定しており、誘電損失は低く、表面は平面度が良い。
ガラスクロス無し部分60がその誘電率が安定しており且つ誘電損失が低いことによって、リングフィルタ装置10Cは、設計値により近い所望の通過特性を有する。
また、ガラスクロス無し部分60は、表面の平面度が良いため、銅箔製のリング部13及びオープンスタブ部14は、その表面の平面度が良好に形成され、表面を流れる電流の損失が、表面の平面度が良好でない場合に比較して、低減され、このことによっても、リングフィルタ装置10Cは、設計値に近い所望の通過特性を有する。
なお、上記の誘電体製の基板11Cに代えて、コンポジットエポキシ基板を使用して、リングフィルタ装置を製造することも可能である。コンポジットエポキシ基板の表面の平面度が良いため、表面を流れる電流の損失が少なく、よって、リングフィルタ装置は、設計値により近い所望の通過特性を有する。
図8(A),(B)は本発明の実施例4になるリングフィルタ装置10Dを示す。各図中、図1(A),(B)に示す構成部分と対応する構成部分には同じ符号を付す。
このリングフィルタ装置10Dは、基板11Dの上面に、オープンスタブ付きリングフィルタエレメント12Dを有し、下面の全面にグランドパターン15を有する構成である。オープンスタブ付きリングフィルタエレメント12Dはリング部13Dとオープンスタブ部14Dとよりなる。オープンスタブ部14Dはリング部13Dの内側に突き出て形成してある。基板11Dのうち、オープンスタブ部14Dに対応する部分は、フッ素樹脂領域20Dとなっている。
このリングフィルタ装置10Dは、オープンスタブ部14Dの幅を適度な寸法にすることができると共に、オープンスタブ部がリング部より外側に張り出ているものに比較して、小さいサイズとなる。
図9は本発明の実施例5になるUWB平面アンテナ装置80を示す。UWB平面アンテナ装置80は、エポキシ樹脂製の基板81の上面81aに、ホームベース形状のアンテナエレメントパターン82及びオープンスタブ付きリングフィルタエレメント83を有し、基板81の下面81bに、グランドパターン86を有する構成である。
オープンスタブ付きリングフィルタエレメント83は、リング部84とオープンスタブ部85とよりなる。
基板81の一部はフッ素樹脂領域90としてある。オープンスタブ部85は、フッ素樹脂領域90の上面に形成してあり、製造し易い適度な幅寸法を有し、UWB平面アンテナ装置80は従来に比較して設計の自由度が高まる。
図10は本発明の実施例6になるUWB平面アンテナ装置100を示す。図11はこのUWB平面アンテナ装置100を分解して示す。
このUWB平面アンテナ装置100は、平面アンテナ本体110の上面に、リングフィルタ装置10Eが実装してある構成である。
平面アンテナ本体110は、図11に示すように、誘電体製の基板111の上面111aに、アンテナエレメントパターン112と、線路113,114とが形成してあり、基板111の下面111bに、四角形状のグランドパターン115が形成してある構成である。線路113は、アンテナエレメントパターン112の突部(給電点)112aから延びている。
リングフィルタ装置10Eは、図3に示すリングフィルタ装置10Aと略同じであり、図3に示す構成部分と対応する構成部分には同じ符号を付す。リングフィルタ装置10Eは、図11に示すように、線路16,17が裏面まで延びている構成である。
リングフィルタ装置10Eは、線路113と線路114との間の箇所に、線路16が線路113に接続され且つ線路17が線路114に接続されて、実装してある。
図12は本発明の実施例7になるエッジカップルドフィルタ装置120を示す。
基板121は、特殊なプリプレグを積層してなるものであり、周囲の部分122を除いては、ガラスクロスを有しない構成である。即ち、基板121は、ガラスクロス無し部分123を有する構成である。
基板121の上面には、マイクロストリップライン131,132,133,134が一部重なりつつ平行に形成してあり、基板121の下面には、その全面に、グランドパターン125が形成してある。
マイクロストリップライン131とマイクロストリップライン132、マイクロストリップライン132とマイクロストリップライン133、マイクロストリップライン133とマイクロストリップライン134との結合の度合が、距離、重なり等によって制御されており、所望の周波数特性を得ている。
ここで、マイクロストリップライン131,132,133,134は、ガラスクロス無し部分113に形成してある。
ガラスクロス無し部分123は、その誘電率が安定しており且つ誘電損失が低いことによって、エッジカップルドフィルタ装置110は、設計値により近い所望の通過特性を有する。
また、ガラスクロス無し部分123は、表面の平面度が良いため、銅箔製のストリップライン131,132,133,134は、その表面の平面度が良好に形成され、表面を流れる電流の損失が、表面の平面度が良好でない場合に比較して、低減され、このことによっても、エッジカップルドフィルタ装置120は、設計値により近い所望の通過特性を有する。
従来のリングフィルタ装置を示す図である。 図1のリングフィルタ装置の通過特性図である。 本発明の実施例1になるリングフィルタ装置を示す図である。 図3中の基板の製造方法を示す図である。 本発明の実施例2になるリングフィルタ装置を示す図である。 本発明の実施例3になるリングフィルタ装置を示す図である。 図6中の基板の製造方法を示す図である。 本発明の実施例4になるリングフィルタ装置を示す図である。 本発明の実施例5になるUWB平面アンテナ装置を示す図である。 本発明の実施例6になるUWB平面アンテナ装置を示す図である。 図10のUWB平面アンテナ装置を分解して示す図である。 本発明の実施例7になるエッジカップルドフィルタ装置を示す図である。
符号の説明
10A〜10E リングフィルタ装置
11A〜11D、81,111 基板
12A、12B、83 オープンスタブ付きリングフィルタエレメント
13A〜13D、84 リング部
14A〜14D、85 オープンスタブ部
15、125 グランドパターン
20、90 フッ素樹脂部分
50 PPO部分
60、123 ガラスクロス無し部分
61、122 ガラスクロス有り部分
80、100 UWB平面アンテナ装置
82 アンテナエレメントパターン
110 平面アンテナ本体
120 エッジカップルドフィルタ装置
131〜134 マイクロストリップライン

Claims (2)

  1. 誘電体製の基板の上面にフィルタパターンを有し、該基板の下面にグランドパターンを有する構成の分布定数型フィルタにおいて、
    前記基板を、そのうちの一部に、前記基板の材料とは比誘電率が相違する材料で形成された異種材料部分を有する構成とし
    前記フィルタパターンは、リング部と、該リング部と接続してあるオープンスタブ部とからなる構成であり、
    前記オープンスタブ部を、前記異種材料部分に形成した構成としたことを特徴とする分布定数型フィルタ。
  2. 誘電体製の基板の上面に、アンテナエレメントパターンとフィルタパターンとを有し、前記基板の下面にグランドパターンとを有する構成の平面アンテナ装置において、
    前記基板を、そのうちの一部に、前記基板の材料とは比誘電率が相違する材料で形成された異種材料部分を有する構成とし
    前記フィルタパターンは、リング部と、該リング部と接続してあるオープンスタブ部とからなる構成であり、
    前記オープンスタブ部を、前記異種材料部分に形成した構成としたことを特徴とする平面アンテナ装置。
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