JP4619848B2 - 硬化性樹脂組成物及びそれを用いた造形物 - Google Patents
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Description
しかし、特許文献1で示されている樹脂組成物はウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂、シンジオタクチックポリメチルメタクリレートおよびアイソタクチックポリメチルメタクリレートの混合物であり、この樹脂組成物で得られる硬化物は一般的に弾性率は高いものの耐衝撃性が低く、造形物を実機にはめ込んで実用物性を評価すると割れやすく、実装試験に用いることは困難である。
成分(A):アイソタクチシティが80%以上のメタクリル酸メチル重合体;
成分(B):ガラス転移温度が−150〜50℃のポリアルキルアクリレートブロックとシンジオタクチシティが60%以上のポリメチルメタクリレートブロックとを有するブロック共重合体;
成分(C):アミド基を有するものを含有する光重合可能なエチレン性不飽和化合物;
を含有し、成分(A)が成分(A)および成分(B)の合計に対し10〜50質量%であり、成分(C)が成分(A)、成分(B)および成分(C)の合計に対し60〜95質量%であることを特徴とする光学造形用硬化性樹脂組成物である。
光学造形法であって、以下の工程(1)〜(6);
工程(1):所望の立体形状を3次元CADで設計し、水平スライスデータとする。
工程(2):上記の硬化性樹脂組成物を加熱し、ゾル状態で一定の膜厚に流延する。
工程(3):冷却し、硬化性樹脂組成物をゲル化させる。
工程(4):工程(1)で得られたスライスデータ状に露光する。
工程(5):工程(2)〜(4)を所望の形状ができるまで繰り返す。
工程(6):未硬化状態の光硬化性樹脂を除去する;
を含む光学造形法である。
成分(A):アイソタクチシティが80%以上のメタクリル酸メチル重合体;
成分(B):ポリアルキルアクリレートブロックとシンジオタクチシティが60%以上のポリメチルメタクリレートブロックとを有するブロック共重合体;
成分(C):光重合可能なエチレン性不飽和化合物;
を含有する。
工程(2):本発明の硬化性樹脂組成物を加熱し、ゾル状態で一定の膜厚に流延する。
工程(3):冷却し、硬化性樹脂組成物をゲル化させる。
工程(4):工程(1)で得られたスライスデータ状に露光する。
工程(5):工程(2)〜(4)を所望の形状ができるまで繰り返す。
工程(6):未硬化状態の光硬化性樹脂を除去する。
300ml三つ口フラスコを窒素置換し、トルエン24g、シクロヘキサン87g、フェニルマグネシウムブロマイド(エーテル溶液0.77M)7.4mlを加えた後10℃に冷却した。メチルメタクリレート28gを90分間かけて滴下し、その後6時間攪拌した後メタノール0.4gを加え反応を停止させた。反応液をろ過後、残渣をメタノールで洗い、乾燥させiso-PMMAを得た。GPC測定の結果Mwは5万であった。NMR測定の結果アイソタクチシティーは93%であった。
1Lの三口フラスコに三方コックを付け内部を脱気し、窒素で置換した後、室温にてトルエン291g、1,2−ジメトキシエタン29g、イソブチルビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノキシ)アルミニウム9.7mmolを含有するトルエン溶液12.2gを加え、さらに、sec−ブチルリチウム1.2mmolを加えた。これにメタクリル酸メチル10.0gを加え、室温で3時間反応させた後、反応液1gを採取した。これをサンプリング試料1とする。引き続き、重合液の内部温度を−40℃に冷却し、アクリル酸n−ブチル65gを2.5時間かけて滴下した。滴下終了後、反応液1gを採取した。これをサンプリング試料2とする。続いてメタクリル酸メチル10.0gを加え反応液を室温に昇温し、6.6時間攪拌した。反応液にメタノールを1g添加して重合を停止した。この重合停止後の反応液を大量のメタノール中に注ぎ、析出した沈殿物を得た。これをサンプリング試料3とする。サンプリング試料1〜3を用いて1H−NMR測定、GPC測定を行い、その結果に基づいて、Mn(数平均分子量)、Mw/Mn(分子量分布)、メタクリル酸メチル重合体(PMMA)ブロックとアクリル酸n−ブチル重合体(PnBA)ブロックの質量比等を求めたところ、最終的に得られた上記沈殿物は、PMMAブロック−PnBAブロック−PMMAブロックのトリブロック共重合体(PMMA−b−PnBA−b−PMMA)であって、そのPMMAブロック部のMnは8,800、Mw/Mnは1.13であり、また、トリブロック共重合体全体のMnは72,000、Mw/Mnは1.17であり、各重合体ブロックの割合はPMMA(12質量%)−PnBA(75質量%)−PMMA(13質量%)であることが判明した。
1リットルの三口フラスコに三方コックを付け内部を脱気し、アルゴンで置換した後、室温にてトルエン291g、N,N,N’,N’’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミン2.02g、イソブチルビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノキシ)アルミニウム8.18mmolを含有するトルエン溶液12.2gを加え、さらに、sec−ブチルリチウム3.38mmolを含有するシクロヘキサンとn−ヘキサンの混合溶液1.98gを加えた。これにメタクリル酸メチル11.0gを加えた。反応液は当初、黄色に着色していたが、室温(25℃)にて1時間攪拌後、無色となった。この時点で、反応液1gを採取した。これをサンプリング試料1とする。引き続き、重合液の内部温度を−2℃に冷却し、アクリル酸n−ブチル143gを5時間かけて滴下した。滴下終了後、反応液1gを採取した。これをサンプリング試料2とする。続いて反応液にメタノールを1g添加して重合を停止した。この重合停止後の反応液を大量のメタノールと水の混合溶液(メタノールの割合は70質量%)中に注ぎ、析出した油状の沈殿物を得た。これをサンプリング試料3とする。
サンプリング試料1〜3について1H−NMR測定、GPC測定を行い、その結果に基づいて、Mw(重量平均分子量)、Mw/Mn(分子量分布)、メタクリル酸メチル重合体(PMMA)ブロックとアクリル酸n−ブチル重合体(PnBA)ブロックの質量比等を求めたところ、最終的に得られた上記油状沈殿物は、PMMAブロック−PnBAブロックのジブロック共重合体A1(PMMA−b−PnBA)であり、そのPMMAブロック部のMw(重量平均分子量)は4,700であり、Mw/Mn(分子量分布)は1.12であり、また、ジブロック共重合体全体のMw(重量平均分子量)は92,400であり、Mw/Mn(分子量分布)は1.25であり、各重合体ブロックの割合はPMMA(7.1質量%)−PnBA(92.9質量%)であることが判明した。
300ml三つ口フラスコを窒素置換し、トルエン155g、メチルメタクリレート16g、ブチルメタクリレート4gを加えさらにアゾビスイソブチロニトリル20mgを加え80℃に昇温後6時間攪拌した。
反応液をヘキサン(2L)に投入し得られた沈殿物を真空乾燥機にて60℃で1晩乾燥した。
GPC測定の結果Mwは14.5万であった。
100ml三つ口フラスコを窒素置換し、N−アクリロイルモルホリン(商品名:ACMO、興人社製)60g、架橋ポリマー微粒子(商品名:スタフィロイドAC-4030、ガンツ化成社製)4.5g、アクリロイルオキシエチルイソシアネート(商品名カレンズMOI 昭和電工社製)0.5g、ジブチルチンジラウレート10mgを加え80℃に昇温後3時間攪拌した。得られた反応溶液1gをDMF10mlに溶解し、N,N−ジブチルアミンおよび塩酸を用いて逆滴定を行ったところ、アクリロイルオキシエチルイソシアネートの架橋ポリマー微粒子に対するウレタン化反応率は98%であった。
表1に示す成分(C)、(D)、(E)の混合溶液をホットプレート付マグネチックスターラー上で100℃に加熱、攪拌後、成分(A)、を添加し完全に溶解するまで攪拌した。更に成分(B)を添加し完全に溶解するまで攪拌し液温が60℃以下になった状態で開始剤(ダロキュア1173)を樹脂の全体量に対し5wt%添加し冷却後ゲル状光硬化性樹脂組成物を得た。
得られたゲル状光硬化性樹脂組成物を100℃で加熱してゾル状態にした後、各試験形状に合わせた容器内に流延し室温にて1分間冷却後、UV照射機(商品名トスキュア405 東芝社製)にて1分硬化後、更に反対面を1分間照射して硬化物を得、落球衝撃試験、引張弾性率測定に供した。
サンプル形状を縦50mm横50mm厚さ1mm、落球重さ360gとしたほかは、JIS K7211に準じて行った。
2.引張弾性率試験
サンプル形状を縦50mm横10mm厚さ2mm、チャック間距離25mm、引張速度2mm/minとしたほかはJIS K7113に準じて(装置名:AUTO GRAPH AG−2000B 島津製作所社製)測定および算出した。
*2:トリブロック共重合体、合成例2参照
*3:ジブロック共重合体、合成例3参照
*4:ポリメチルメタクリレート 商品名:パラペットLW1000、クラレ社製
*5:ブチルメタクリレート共重合ポリメチルメタクリレート、合成例4参照
*6:N−アクリロイルモルホリン 商品名:ACMO、興人社製
*7:ダイアセトンアクリルアミド 商品名:DAAM 日本化成社製
*8:トリメチロールプロパントリアクリレート 商品名:M−309 東亞合成社製
*9:ジブチルフタレート 和光純薬工業社製
*10:架橋ポリマー微粒子(商品名:スタフィロイドAC-4030、ガンツ化成社製)
*11:反応性基含有架橋ポリマー微粒子、合成例5参照
厚み2mmのガラス基板上に実施例1記載の樹脂組成物を加熱し、ゾル状態で縦10cm×横10cm×厚み0.2mmの形状に流延し、10秒間放冷し樹脂組成物をゲル化させた。得られたゲル状樹脂組成物に図1に示す縦10cm×横10cm×厚み0.1mmの形状のマスクを介してメタルハライドランプ(商品名:トスキュア401 東芝社製)を用いて照射強度10mW/cm2にて20秒間UV露光し、部分硬化物を得た。
得られた部分硬化物状にさらに以下の工程(2)〜(4)を10回繰り返し部分硬化物の積層体を得た。
工程(2)実施例4記載の樹脂組成物を加熱し、ゾル状態で縦10cm×横10cm×厚み0.2mmの形状に流延する。
工程(3)10秒間放冷し、該樹脂組成物をゲル化させる。
工程(4)黒色PETフィルムを用いて作成した、図1に示す形状のマスクを介して照射強度10mW/cm2にて20秒間UV露光する。
得られた部分硬化物から未硬化部分を除去し、H字型の造形物を得ることができた。
Claims (6)
- 成分(A):アイソタクチシティが80%以上のメタクリル酸メチル重合体;
成分(B):ガラス転移温度が−150〜50℃のポリアルキルアクリレートブロックとシンジオタクチシティが60%以上のポリメチルメタクリレートブロックとを有するブロック共重合体;
成分(C):アミド基を有するものを含有する光重合可能なエチレン性不飽和化合物;
を含有し、成分(A)が成分(A)および成分(B)の合計に対し10〜50質量%であり、成分(C)が成分(A)、成分(B)および成分(C)の合計に対し60〜95質量%であることを特徴とする光学造形用硬化性樹脂組成物。 - アミド基を有する光重合可能なエチレン性不飽和化合物が、4−アクリロイルモルホリンである請求項1に記載の光学造形用硬化性樹脂組成物。
- さらに成分(D)として可塑剤を組成物全体に対し20質量%以下含む請求項1または2に記載の光学造形用硬化性樹脂組成物。
- さらに成分(E)として架橋ポリマー微粒子を組成物全体に対し10質量%以下含む請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学造形用硬化性樹脂組成物。
- 光学造形法であって、以下の工程(1)〜(6);
工程(1):所望の立体形状を3次元CADで設計し、水平スライスデータとする。
工程(2):請求項1〜4のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物を加熱し、ゾル状態で一定の膜厚に流延する。
工程(3):冷却し、硬化性樹脂組成物をゲル化させる。
工程(4):工程(1)で得られたスライスデータ状に露光する。
工程(5):工程(2)〜(4)を所望の形状ができるまで繰り返す。
工程(6):未硬化状態の光硬化性樹脂を除去する;
を含む光学造形法。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学造形用硬化性樹脂組成物を硬化させてなる立体造形物。
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