JP4615429B2

JP4615429B2 - 画像形成装置及び画像形成方法

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Publication number: JP4615429B2
Application number: JP2005351525A
Authority: JP
Inventors: 達也新美
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2005-12-06
Filing date: 2005-12-06
Publication date: 2011-01-19
Anticipated expiration: 2025-12-06
Also published as: JP2007156122A

Description

本発明は、画像形成装置に用いられる静電潜像担持体（以下、「電子写真感光体」、「感光体」、「光導電性絶縁体」と称することがある）が、少なくとも電荷発生層と電荷輸送層とからなる感光層を有し、該電荷発生層中に有機電荷発生物質を含有する画像形成装置及び画像形成方法に関する。

近年、電子写真方式を用いた情報処理システム機の発展は目覚ましいものがある。特に情報をデジタル信号に変換して光によって情報記録を行う光プリンターは、そのプリント品質、信頼性において向上が著しい。このデジタル記録技術はプリンターのみならず通常の複写機にも応用され、所謂デジタル複写機が開発されている。また、従来からあるアナログ複写にこのデジタル記録技術を搭載した複写機は、種々様々な情報処理機能が付加されるため今後その需要が益々高まっていくと予想される。さらに、パーソナルコンピュータの普及及び性能の向上にともない、画像及びドキュメントのカラー出力を行うためのデジタルカラープリンターの進歩も急激に進んでいる。

このようなデジタル画像形成装置のほとんどには、ネガ・ポジ現像が採用されている。これは、従来の画像形成装置で出力される画像（原稿）のほとんどが、文字が中心であり、出力される画像（紙）に対して、書き込み率が低い（５〜１０％程度である）ことに起因する。
アナログからデジタルへの変換は、ポジ・ポジ現像からネガ・ポジ現像に推移したとも言え、この大きな違いは、原稿に対して全面に光を照射し、これを感光体に照射していたことから、文字等の情報分だけを感光体に書き込むことに変化した点が挙げられる。これは、上述のように書き込み率が低いため、書き込み光源の寿命を考慮して、原稿情報部分（全体の１０％以下程度）だけの使用に留めれば、光源の出力時間が１／１０になることを利用している。

ネガ・ポジ現像を用いた画像形成装置においては、書き込み光源によって書き込まれなかった部分（非画像部、地肌部）は、現像及び転写後においても静電潜像担持体の表面電荷が残存するため、次の帯電に際して影響を及ぼす場合があり、除電が行われている。除電に際しては、光を用いて光キャリアを発生させ表面電荷を打ち消す方法（光除電）と、導電性のブラシ等を感光体に接触させ電荷をリークさせてしまう方法や、逆バイアスを印加して表面電荷をキャンセルする方法などが用いられている。

近年の画像形成装置は、高画質化やカラー化が進み、比較的高精細な書き込み、現像などが可能になり、画像形成装置に入力される情報（原稿）も幾分変わってきた。上述のように、過去の原稿では文字が中心のものであったが、写真画像、カラー化された絵、グラフなどが入力されるようになってきた。このような色々なパターンの入力信号が存在する場合、画像形成における１サイクル前の履歴をキチンと消去しておかないと、次の画像形成に影響がある場合が出てきた。多くの場合は、残像と呼ばれる異常画像の発生である。残像は、画像形成プロセスの中で感光体が帯電を施された状態において、既に不均一な状態が形成されており、ここに感光体のある面積全面一様に書き込みが行われたような場合（特に中間調）、本来ならば書き込み後の帯電電位がほぼ均一になるのに対して、帯電前の感光体帯電状態の履歴を残しているため、不均一な帯電分布になる。この状態で静電潜像が形成され、これが現像部により現像が行われると、不均一な現像が行われることになり、前回の画像形成サイクルで形成した潜像があたかも残ってしまうような現象を生じるものである。

これは、２つの理由がある。１つは、画像形成が非常に高速になってきたため、帯電器の容量（帯電能力）が不足しがちで、帯電前の感光体表面電荷が不均一であると、次回帯電時にその履歴を拾い、帯電の均一化が確保できないことに依るものである。いま１つは、画像形成装置のコンパクト化あるいはカラー化によるタンデム化により、帯電ローラの使用が増えてきたことによる。帯電ローラは、感光体との間で放電現象を起こし、両者の間のバイアス差により感光体表面に帯電を施すが、帯電前の感光体表面電荷が不均一であると、次回帯電時にその履歴を残してしまう。
従って、帯電前の感光体表面電位（表面電荷）を如何に均一化するかが鍵であり、除電工程は高画質化のためには非常に重要な役割を担うようになってきた。

上述した除電方法のうち、光除電以外の方法は、次のような課題を有している。導電性ブラシ等による電荷リークの方法は、感光体表面に当接させる部材が必要であり、感光体及び当接部材の摩耗が生じ、高耐久化を望むことが出来ない。また、電荷リークさせる方法は感光体表面や当接部材表面の汚染によって、その効果が低下してしまう場合がある。また、高速化に際しては、電荷の移動時間を考慮すると、十分な効果が期待できない。

逆バイアスを印加する方法は、バイアスの印加条件が弱すぎる場合には均一化が十分に行われず、強すぎる場合には感光体表面に逆帯電を施してしまう。通常の感光体は、正電荷しか移動できないため、表面が正電荷で荷電された場合にはこれをキャンセルすることが出来ない。従って、次回帯電時に負帯電を施す場合には、まずこの正電荷をキャンセルした後に、負帯電を施すことになる。このことは帯電器の容量不足を更に生み出すことになる。また、正帯電された場合には、感光層内にトラップを形成しやすくなり、感光体の残留電位を生み出しやすくなり、結果として感光体の寿命を短くしてしまう。
以上のことから、画像形成装置における除電工程には、光除電を用いることが現時点ではベストな選択であると言える。

上述のように、近年ではデジタル方式の画像形成装置が主流となっており、上述した理由から、その際に用いられる現像方式としてはネガ・ポジ現像が用いられる。従来用いられていたアナログ方式におけるポジ・ポジ現像の場合と比べて、除電における意味合いが非常に大きく異なっている。
即ち、ポジ・ポジ現像においては、転写後の光除電においては、通常感光体全面に光照射がなされるものの、文字等の書き込み部に対応した領域のみが実質的に除電される。このため、感光体の全面積に対して、高々１０％程度の領域である。

一方、ネガ・ポジ現像においては、感光体未露光部（書き込みの行われない部分）が実質的に除電されるため、上記と同じ原稿であれば、感光体の全面積に対して９０％近い領域が実質的に除電されることになる。ここで言う、「実質的に除電」とは、光除電を行う場所において、感光体が表面電荷を有しており、除電部材の光照射によって、感光体内部で光キャリアが発生し、それによって感光体の表面電荷が打ち消されることを意味している。
即ち、従来用いられてきたポジ・ポジ現像とネガ・ポジ現像においては、感光体の表面電荷を打ち消す割合が全く異なる（逆の履歴になる）ことを意味しており、ポジ・ポジ現像の場合に比べて、除電による影響は、最低１０倍程度は異なることになる。しかしながら、感光体への除電工程での影響（特に除電光波長など）に関する検討は、あまり行われておらず、従来のまま使用されてきたのが実情である。

除電部材に関する技術として、特許文献１あるいは特許文献２には、無機系の感光体（Ｓｅ系、ａ−Ｓｉ）を使用した画像形成装置において、短波長の光を含む適切な除電光を照射することにより、光疲労や帯電疲労の防止を行える旨の記載がある。しかしながら、特許文献１あるいは特許文献２に用いられる感光体は、無機系の感光体であり、後述するように有機系電荷発生物質を用いた感光体とは、本質的に光キャリア発生機構が異なるため、無機系の技術（光除電）を有機系感光体にそのまま水平展開できない。また、使用する現像方式が、ポジ・ポジ現像の時代であり、光除電の影響度合いがネガ・ポジ現像と全く異なる。更に、除電光の波長として、５００ｎｍ以上の領域の波長光を含む。特許文献１あるいは特許文献２の技術を適用して実験を行った結果では、残留電位上昇を抑制する効果が十分ではなかった。

特許文献３には、色素増感した感光体の固有感光波長と略一致する波長の露光を行う、言い換えれば、増感色素の吸収のない領域の波長を用いて除電を行うことにより、残留電位が除去できる旨の記載がある。しかしながら、色素増感させた感光体の元の材料（例えば、ポリビニルカルバゾール）等は、可視域に吸収を持たないため、可視域に吸収を有する色素で増感するものである。従って、上記の技術は色素に吸収が無く、ポリビニルカルバゾールに吸収を有する波長領域で除電を行うことになる。この場合、この波長帯での光キャリア発生効率が低く、除電を効率よく出来ないばかりでなく、ポリビニルカルバゾールの光劣化等を生じることになるため、必ずしも有効な手段になり得ない場合が存在した。また、使用する現像方式が、ポジ・ポジ現像の時代であり、光除電の影響度合いがネガ・ポジ現像と全く異なる。このため、本発明が対象とするところのネガ・ポジ現像に用いる場合にはその効果が十分でなかった。

特許文献４には、長波長に光感度を有し、短波長側では低感度もしくは実質光感度を有さない感光体に対して、短波長光で除電を行うことにより、光疲労に起因する感度低下を抑制する旨の記載がある。しかしながら、比較的高速の画像形成装置では、低感度もしくは実質的に光感度を有さない領域の光で除電を行った場合には、除電機能が不十分であり、異常画像の抑制が出来ない場合が生じる。除電光に対しては十分な光感度を有することが重要であって、特許文献４の技術では、現在の画像形成措置には対応できない。また、特許文献４では、除電波長の特定がなされていない。

特許文献５及び特許文献６には、電荷輸送層上に電荷発生層を積層した正帯電感光体に、６２０ｎｍ以下の波長の光を照射することによって除電を行い、残留電位の低減を図る旨の記載がある。除電光の波長として、５００ｎｍ以上の領域の波長光を含む。特許文献５あるいは６の技術を適用して実験を行った結果では、残留電位上昇を抑制する効果が十分ではなかった。

特許文献７には、２種の発光ダイオードを同時に照射することにより除電を行い、高温高湿下での残留電位上昇を防止する旨の記載がある。除電光の波長として、５００ｎｍ以上の領域の波長光を含む。特許文献７の技術を適用して実験を行った結果では、残留電位上昇を抑制する効果が十分ではなかった。

特許文献８には、有機顔料を含む単層感光体の除電において、感光層の最大吸光度の半値幅以上の波長領域を含む範囲の光を照射することにより、除電を効率よく行う旨の記載がある。通常、実用的な有機顔料は可視域に吸収ピークが存在するため、特許文献８の技術では、残留電位上昇を抑制する十分な効果を獲得することは出来ない。

特許文献９では、除電波長における感光体の感度が、書き込み光における感光体の感度よりも高くなるような波長を選択して、除電光に用いることにより、残留電位低減、ゴースト発生の抑制が出来る旨の記載がある。この技術は、使用する感光体材料によって除電波長が異なることになり、除電波長の特定が出来ない。また、有機顔料は通常、可視域に吸収ピークが存在し、分光感度ピークもこれに伴って可視域に存在する。このため、特許文献９の技術では、５００ｎｍ以下の波長による除電技術が生み出されない。

特許文献１０には、電荷発生材料分散型（単層感光体）の感光体を用いた画像形成装置の除電において、感光体の分光吸収率の相対的に低い波長の光を照射する旨の記載がある。この技術は、単層感光体の繰り返し使用において、感光層バルクに発生する残留電荷を除去するために行われるものである。即ち、単層感光体の場合には、電荷発生材料がバルクに均一に分散されており、吸収率の高い波長においては、感光層の表面近傍で照射光は吸収される。単層感光体の高解像度化はこの現象を利用しており、書き込み光を感光層の吸収率の大きい波長を用いることによって、照射エネルギーを低減化すると共に、感光層表面近傍だけで光キャリア発生させる。このため、感光体表面に帯電される極性とは逆の極性の電荷の移動距離は小さくて済むことになり、電荷の移動距離を小さくすることで、クーロン反発による拡散を防いでいる。一方、バルク内部は照射光がほとんど届かないため、感光体表面に帯電される極性と同じ極性の電荷が、感光層バルクにトラップされて、残留電位となった場合にはこれをキャンセルすることが出来ない。このため、除電光においては、バルク深くまで透過する波長の光を用いて、バルクの深いところ（電極に近いところ、感光層の中央付近など）で、光キャリアを生成させることで、これをキャンセルするものである。

これに対し積層感光体の電荷発生層は、単層感光層とは異なり膜厚が非常に薄い。また、書き込み光に対する吸収率は最大吸収波長でも９０％以下である（言い換えれば、書き込み光は電荷発生層を１０％以上は透過してしまう）。このため、書き込み光の波長が異なっても、電荷発生は電荷発生層バルク全域で起こるという本質に変化はない。従って、積層感光体の場合には、特許文献１０に記載された様な効果は起こらない。

特許文献１１には、フタロシアニン化合物のソーレー帯に対する光照射を行ない、除電を行うことが記載されている。また同公報には、これを実現するために蛍光灯を除電光源とすることが記載されている。
更に、特許文献１２には、フタロシアニン化合物を含有する感光体に対して、蛍光灯による除電を行うことが記載されている。

図１には、蛍光灯の光の分光発光スペクトルを示す。蛍光灯には幾つかの輝線が含まれているが、この他に５００〜６５０ｎｍにかけての大きな発光が存在する。光照射量（発光量）は、図１の面積に依存することになるから、感光体に照射される蛍光灯の光は、実質的には上記波長域（５００〜６５０ｎｍ）の光がメインに照射されていることになる。

特許文献１１及び１２においては、６８０ｎｍの赤色ＬＥＤ光による除電と蛍光灯照射による除電を比較している。図１のスペクトルから、両者の比較は６８０ｎｍの赤色ＬＥＤ光による除電と、５００〜６５０ｎｍにかけての発光による除電が比較されていることになる。フタロシアニンのソーレー帯に相当する光はゼロではないから、ソーレー帯に光が照射されていることは事実であるにしても、それ以外の光の成分の方が大きく、ソーレー帯でない領域の吸収が大きいことになる。

このような状況の中で、上記プリンターや複写機はカラー化を含め、更なる装置の高画質化及び高耐久化が要求される。デジタル機における高画質化は２つの課題があり、１つは如何に静電潜像を微小ドットで均一に形成するかであり、もう１つは各種異常画像を如何に低減するかである。また、高耐久化に関しては、感光体の寿命を延ばすことが最も有効な方法である。
これらを解決するためのアプローチ方法は色々あると考えられるが、両者に共通して言えることは、これら画像形成装置に使用される感光体の静電疲労による劣化を如何に小さくするかと言える。具体的には、繰り返し使用時の残留電位（露光部電位）の上昇を如何に抑えるかということである。

残留電位の上昇に関する対応方法としては、ここまでの開発においては感光体の設計（処方、構成など）を工夫することにより行われてきた。しかしながら、感光体の静電疲労は感光体処方、あるいはプロセス条件によって大きく異なるものであり、感光体の開発側から考えると、プロセス条件ごとに対応を迫られる。このような状況の下で、プロセス条件から感光体の静電疲労に関する検討はほとんどなされていなかった。

本発明に用いる保護層の技術は特許文献１３、１４に記載されている。しかしながら、近年のネガ・ポジ現像に使用され、かつ非常に高耐久化を狙う場合には、使用するプロセス条件が確立されておらず、材料の有する優位性を必ずしも十分に引き出されているものではなかった。
特開昭６０−８８９８１号公報特開昭６２−８７９８１号公報特開昭６１−３６７８４号公報特開昭６２−３８４９１号公報特開平１−２１７４９０号公報特開平１−２７４１８６号公報特開平４−１７４４８９号公報特許第３４６０２８５号公報特開２００２−２８７３８２号公報特開２００５−３１１１０号公報特開２００４−４５９９６号公報特開２００４−４５９９７号公報特開２００２−３４１５７１号公報特開２００２−３６５８２２号公報

本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、高耐久で高精細な画像を形成するため、感光体の繰り返し使用における残留電位上昇を抑制し、高耐久で高精細な画像形成が可能な画像形成装置及び画像形成方法を提供することを目的とする。

本発明者らは感光体の静電疲労、特に残留電位の上昇に関して、プロセス条件がどの様に影響を与えるかに関して検討を行った。検討方法としては、以下の通りである。
画像形成装置における繰り返し使用において、感光体の静電特性以外の形状・物性に影響をなるべく与えないように、現像、転写およびクリーニング部材を外した状態で、帯電、書き込み、除電だけを印加する状態で、感光体の静電疲労試験を実施した。
（１）書き込み光による書き込み率を変化させ、その際の感光体通過電荷量を測定した。
（２）書き込みを行わず、除電光のみで表面電荷を消去して、感光体の通過電荷量を測定した。

この時、（１）、（２）の各種条件を行って、感光体の残留電位を評価することで、以下の知見を得た。
（１）感光体の残留電位上昇は、感光体の通過電荷量に依存する。書き込み率を変えた場合でも、通過電荷量で整理すると残留電位上昇量が一様に揃う。
（２）感光体の通過電荷量は、画像形成１サイクルにおける光照射量に依存する。書き込み、除電に依らず、光照射量（正確には感光体光吸収量）に依存する。
（３）ネガ・ポジ現像の場合には、光照射量のうち、大半は光除電により照射量が与えられる。

更に、除電工程の前に感光体に逆バイアスを印加出来るように、転写部材を取り付けて、上記と同じような実験を行った。除電前の感光体表面電位を測定できるようにし、逆バイアスを変化させて、除電前の感光体表面電位が、上記（１）〜（３）の実験における除電後の表面電位とほぼ同じになるような条件で逆バイアスを印加出来るようにした。
この状態で静電疲労試験を実施すると、感光体の残留電位上昇量が非常に小さくなり、書き込み率に依存した大きさになり、除電の影響は全く現れなくなった。

以上のことから、以下のことが言える。
（４）除電前に感光体表面電位を低下させておくと、残留電位上昇が起こりにくくなる。言い換えれば、除電突入時に感光体表面電位が低ければ、除電光の照射は、残留電位上昇に寄与しない。
（５）逆バイアスを印加し、除電前に感光体表面電位を低下させた場合でも、上記（１）と同じく、感光体通過電荷量で残留電位上昇量が整理できる。
（１）〜（５）から、残留電位上昇は感光体の通過電荷量に依存するが、そのほとんどが除電工程にて生成されており、除電工程を如何に制御するかが、残留電位上昇をコントロールする一つの鍵となる。

（１）に示す通過電荷量とは、画像形成１サイクルにおける感光体の単位表面積あたりの通過電荷量であり、光キャリア発生量に依存する。従って、画像形成条件のうち、帯電電位（感光体への印加電界強度）、露光量、露光面積、感光体の静電容量（膜厚）、キャリア発生効率等に依存することになる。しかしながら、ターゲットとする画像形成装置では、これら項目に関しては、それほど大きな変化を持たせることが出来ない。

例えば、帯電電位を大きく変化させることは以下の変化をもたらす。帯電電位を大きく上昇させる場合には、感光体へのハザードが大きくなる。大きく低下させる場合には、地肌ポテンシャル（感光体帯電電位−現像バイアス）が小さくなったり、現像ポテンシャル（現像バイアス−感光体露光部電位）が小さくなったりして、画像形成条件（特に現像条件）が非常に狭くなり、システムの余裕度が小さくなる。

露光量を大きく変化させることは以下の変化をもたらす。露光量を小さくした場合には、画像濃度が足りなくなったり、コントラストが取れない場合が存在する。一方、露光量を大きくした場合には、ドットが潰れるといった現象が起こる。

感光体の静電容量（膜厚）やキャリア発生効率は、感光体の材料そのものを大きく換えない限り、大きく変化しないものであるが、現状の高速・高耐久・高安定の画像形成装置に使用できる感光体用の主材料（電荷発生物質や電荷輸送物質）には限りがあって、これを全く違う材料に変更することは困難を極める。
従って、ターゲットとする画像形成装置に搭載される感光体の通過電荷量は、極端に大きく変化せず、光照射量に大きく依存することになる。

ところが、ここで言う光照射量は、画像形成１サイクル（帯電、書き込み、現像、転写、除電）における感光体への光照射量ということになる。画像形成には、定着工程が含まれるが、感光体と直接接しているわけではないので、ここでは説明から除く。ということは、感光体への光照射は、書き込み光と除電光の２種類からなる事が分かる。

一般に、現在のデジタル書き込みを行う画像形成装置は、ネガ・ポジ現像を使用している。これは、実際の原稿の書き込み率のほとんどが１０％以下であることに起因しており、書き込み光源へのストレスを低減することを目的としている。しかしながら、感光体側から考えてみると、次の画像形成サイクルの前に、感光体の表面電位をキャンセル（平滑化）しておかないと、次の帯電時に影響が出るため、通常は光除電によって、次工程の帯電前に感光体の表面電位を出来る限り低減する。

上述のように、書き込み率が１０％程度で使用されるわけであるから、感光体表面の９０％以上は表面電荷が乗った状態で除電工程に突入することになる。ここでは、転写後に残った感光体表面電位に対して、除電光が照射され、光キャリアが発生することにより、残留電荷が消去される。即ち、画像形成工程１サイクルで発生する感光体通過電荷は、９０％以上は除電工程で発生することになる。

ここまでは、ネガ・ポジ現像を用いた画像形成装置における通常の状態であり、連続して全面書き込みを行うような原稿ばかり出力するような場合を除けば、基本的には全てのネガ・ポジ現像を使用した画像形成装置に共通して言えることである。しかしながら上述のように、感光体の静電疲労に関するプロセス側からの解析は未だそれほど行われていないのが実情であった。

電荷輸送層あるいは保護層の光の透過性に関しては、除電光の場合と書き込み光の場合で異なる。例えば、電荷輸送層あるいは保護層が書き込み光の一部を吸収してしまうような場合、感光体の光感度そのものが劣化する課題が存在する。また、吸収した書き込み光により蛍光やリン光を生じるような場合、これを電荷発生層が吸収してキャリアを生成してしまう。このような場合には、光感度の低下は幾分防げるものの、蛍光やリン光には指向性がないため、画像そのものがにじんでしまうという致命的な欠点を有する。

一方、除電光の場合には、既に静電潜像の形成、トナー像の形成が完了した後であるから、次回帯電に備えて感光体表面電位を均一化することが主な狙いである。レイアウト上、光照射時間や光照射量は書き込み光の場合に比べて十分に長く設定できる。このため、除電光に対する光感度の低下はほとんど無視できる。また、蛍光やリン光を生じたとしても、結果的に感光体表面電位を均一化できれば、除電工程での主目的は達成される。これらの点が、書き込みに関する発明と決定的に異なる点である。

本発明者は、感光体の繰り返し使用における残留電位（露光部電位）の上昇に対して、プロセス条件による制御について検討を行ったところ、上述のように画像形成における除電工程が大きな影響を及ぼすことを明らかにした。更に、除電光の条件（主に光波長）に関して検討を重ねた。

除電光は、感光体（電荷発生層）が吸収を有する波長であれば、その機能を発現する。一般的には、感光体の長手方向にほぼ均一な光を照射するために、ＬＥＤアレイあるいは蛍光灯のような光源が用いられる。過去には、蛍光灯が主に用いられてきたが、電荷輸送層あるいは保護層に吸収がある領域の光を含むため、以下の課題を有していた。
（１）電荷輸送層あるいは保護層に光の一部が吸収されてしまうため、電荷発生層に十分な光が届かない場合が存在し、光量を非常に大きくしなければならない場合が存在した。
（２）電荷輸送層あるいは保護層に含有される電荷輸送物質が除電光を吸収した結果、電荷輸送物質が劣化し、感光体の静電特性に影響を与える場合が存在した。

このような課題を克服するため、一般的には赤色（６００ｎｍ台の波長を有する）ＬＥＤが用いられてきた。この赤色ＬＥＤの波長では、通常用いられる電荷輸送物質には吸収が無く、上述の２つの課題をクリアでき、電荷発生物質の吸収も大きな材料が多く、効率よく除電が実施される。また、ＬＥＤのコストも比較的安価であることもこの部材を使用する大きなメリットである。

本発明者は、この赤色ＬＥＤ等の比較的長波長の光を照射して除電することが、感光体の繰り返し使用に最適なのか疑問を持ち、除電光の波長依存性について検討した。具体的には、単色のレーザー光や適当な光源とフィルターを組み合わせて、様々な波長を作り出し、感光体の繰り返し使用における残留電位上昇に関して検討を行った。

その結果、従来良好であると考えられてきた赤色の除電は、それよりも短波長の光を照射するよりも、残留電位を上昇させることを突き止めた。また、波長依存性を細かく見ていくと、５００ｎｍよりも短波長側の光で除電を行うことにより、残留電位の上昇を大幅に抑制できることを見いだした。この実験では、除電時の単位時間あたりの感光体通過電荷量を揃えて実験を行っているため、感光体（電荷発生物質）の分光吸収スペクトルのプロフィールによって、感光体への除電光照射量は変化するが、感光層の光吸収量は変化していない。従って、上述の結果は除電光の波長依存性の影響によるものであることが理解された。
上述のような知見を得て、本発明者は本発明を完成するに至った。

また、画像形成におけるプロセス側の制御技術（手段）によって、上述のように残留電位上昇を抑制することが出来ることが分かったが、使用する感光体の静電疲労に対する耐久性が悪いものであると、その効果が十分に発揮されない。
本発明者は、特定の保護層を使用することにより、これを用いた感光体の繰り返し使用における静電特性の劣化を大きく制御できることを見いだした。

前記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、本発明者は、少なくとも電荷発生層と電荷輸送層からなる積層感光層を有し、かつ感光層上に保護層を有する静電潜像担持体における電荷発生層が有機電荷発生物質を含有し、保護層に比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質を含み、かつ、除電光源に５００ｎｍより短波長の光源を使用ことによって、画像形成装置における感光体の繰り返し使用時における残留電位上昇を抑制することを見いだし、異常画像の少ない画像形成が安定して行えることを見いだし、上記問題点を解決できることを知見した。

本発明は、本発明者の前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
（１）静電潜像担持体と、該静電潜像担持体上に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、該静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段と、該可視像を記録媒体に転写する転写手段と、記録媒体に転写された転写像を定着させる定着手段と、静電潜像担持体の残留電荷を光除電する除電手段とを少なくとも有する画像形成装置であって、前記除電手段が５００ｎｍ未満の波長領域にのみ発光強度を有する光を照射する除電手段であると共に、画像書き込み光源が６５５ｎｍもしくは７８０ｎｍのレーザーダイオードであり、前記静電潜像担持体が、支持体と、該支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層とからなる感光層、更に感光層上に保護層を有し、該電荷発生層中に有機電荷発生物質を含有し、かつ保護層が比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質を含むことを特徴とする画像形成装置。

（２）前記有機電荷発生物質が下記（Ｉ）式で表されるアゾ顔料であることを特徴とする前記第（１）項に記載の画像形成装置。
（式中、Ｃｐ₁，Ｃｐ₂はカップラー残基を表す。Ｒ₂₀₁，Ｒ₂₀₂はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基のいずれかを表し、同一でも異なっていても良い。またＣｐ₁，Ｃｐ₂は下記（II）式で表され、
式中、Ｒ₂₀₃は、水素原子、アルキル基、アリール基を表す。Ｒ₂₀₄，Ｒ₂₀₅，Ｒ₂₀₆，Ｒ₂₀₇，Ｒ₂₀₈はそれぞれ、水素原子、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、アルキル基、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基、水酸基を表し、Ｚは置換もしくは無置換の芳香族炭素環または置換もしくは無置換の芳香族複素環を構成するのに必要な原子群を表す。）
（３）前記アゾ顔料のＣｐ₁とＣｐ₂が互いに異なるものであることを特徴とする前記第（２）項に記載の画像形成装置。

（４）前記有機電荷発生物質がＣｕＫαの特性Ｘ線（波長１．５４２Å）に対するブラッグ角２θの回折ピーク（±０．２゜）として少なくとも２７．２゜に最大回折ピークを有し、更に９．４゜、９．６゜、２４．０゜に主要なピークを有し、最も低角側の回折ピークとして７．３゜にピークを有し、該７．３°のピークと９．４゜のピークの間にピークを有さず、更に２６．３°にピークを有さないチタニルフタロシアニン結晶であることを特徴とする前記第（１）項に記載の画像形成装置。

（５）前記保護層に含有される電荷輸送物質が、下記（III）式で表される電荷輸送物質であることを特徴とする前記第（１）項乃至第（４）項のいずれかに記載の画像形成装置。
（式中、Ａｒ₁及びＡｒ₃は置換基を有してもよい芳香環基を示し、Ａｒ₂は置換基を有してもよい芳香環の２価基を示す。Ｒ₁は置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいビニル基及び置換基を有してもよい芳香環基を示す。Ａｒ₁とＲ₁は結合して環を形成してもよい。）

（６）前記潜像担持体において、支持体と電荷発生層の間に中間層が設けられ、該中間層が電荷ブロッキング層とモアレ防止層からなることを特徴とする前記第（１）項乃至第（５）項のいずれかに記載の画像形成装置。
（７）前記電荷ブロッキング層が絶縁性材料からなり、その膜厚が２．０μｍ未満、０．３μｍ以上であることを特徴とする前記第（６）項に記載の画像形成装置。
（８）前記モアレ防止層が無機顔料とバインダー樹脂を含有し、両者の容積比が１／１乃至３／１の範囲であることを特徴とする前記第（６）項又は第（７）項に記載の画像形成装置。

（９）少なくとも静電潜像担持体、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段、及び除電手段を有する画像形成要素を複数備えたことを特徴とする前記第（１）項乃至第（８）項のいずれかに記載の画像形成装置。
（１０）静電潜像担持体と、静電潜像形成手段、現像手段、除電手段及びクリーニング手段から選択される１つ以上の手段とが一体となり、装置本体と着脱自在なプロセスカートリッジを搭載していることを特徴とする前記第（１）項乃至第（９）項のいずれかに記載の画像形成装置。

（１１）静電潜像担持体上に静電潜像を形成する静電潜像形成工程と、該静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像工程と、該可視像を記録媒体に転写する転写工程と、記録媒体に転写された転写像を定着させる定着工程と、静電潜像担持体の残留電荷を光除電する除電工程とを少なくとも有する画像形成方法であって、前記除電工程が５００ｎｍ未満の波長領域にのみ発光強度を有する光を照射する除電工程であると共に、画像書き込み光源が６５５ｎｍもしくは７８０ｎｍのレーザーダイオードであり、前記静電潜像担持体が、支持体と、該支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層とからなる感光層、更に感光層上に保護層を有し、該電荷発生層中に有機電荷発生物質を含有し、かつ保護層が比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質を含むことを特徴とする画像形成方法。

（１２）少なくとも静電潜像形成工程、現像工程、転写工程、及び除電工程を有する画像形成工程を複数備えたことを特徴とする前記第（１１）項に記載の画像形成方法。

本発明者の検討に依れば、照射光を細かく分解していくと、短波長光を照射するほど残留電位の上昇を抑制でき、かつ長波長光（５００ｎｍ以上の光）が混ざった場合には、長波長光が混ざった分に応じて残留電位上昇が観測された。従って、特許文献１に記載された方法では、高耐久化・高画質化を意識して、残留電位上昇を抑制する技術としては、まだ不十分である。
従って、本発明における除電光としての５００ｎｍよりも短波長の除電光とは、５００ｎｍ以上の長波長側の光を含まない光であることを示している（以降、５００ｎｍ未満の除電光と記す場合がある）。

５００ｎｍ未満の除電光を用いることにより、感光体の繰り返し使用における残留電位上昇を抑制できる詳細なメカニズムは明らかになってはいない。現時点では、そのメカニズムを以下のように考えている。
図２には、有機材料（有機電荷発生物質）の光キャリア発生機構を示す。ここまでに知られている有機材料の光キャリア発生機構は、そのほとんどが図２に示すような２段階（光励起→中間体の生成→フリーキャリアの生成）からなる反応に基づく。この際、有機電荷発生物質は光吸収し、より高い励起状態に励起されるものの、中間体の生成はある一定のエネルギーレベルから起こる。この一定のエネルギーレベルが、最低励起一重項状態（Ｓ₁）である。基底状態（Ｓ₀）と最低励起一重項状態（Ｓ₁）の間よりも小さなエネルギー（長い波長の光）を照射された場合には、光キャリアはほとんど生成しない。

一方、基底状態（Ｓ₀）と最低励起一重項状態（Ｓ₁）の間よりも大きなエネルギー（短い波長の光）を照射された場合には、Ｓ₁よりも高いエネルギー準位（Ｓ^＊）に励起され、速やかにＳ₁状態まで緩和され、Ｓ₁より中間体が形成される。この際、Ｓ^＊とＳ₁のエネルギー差に相当するエネルギーは、熱的に緩和される（図では、余剰エネルギーと示している）。
このモデルは、有機系感光体の光キャリア発生効率の波長依存性がない結果から、支持されている。

電子写真感光体の繰り返し使用における残留電位の上昇は、光キャリア発生により生成した正負の光キャリアが、感光体に印加されている電界の作用により、それぞれの逆極性のサイト（負帯電型の感光体の場合には、負帯電が感光体表面側である）に移動する。この際、この光キャリアがある種のトラップに落ち込み、残留電位を形成する。このトラップの深さは、室温により与えられる活性化エネルギーよりも大きいため、通常の使用では脱トラップできずに、残留電位として蓄積される。

ところで、本発明のように画像形成１サイクルにおいて生成する光キャリアの大半を、５００ｎｍよりも短波長の除電光により発生させる場合には、図２に示す余剰エネルギーの大きな状態が繰り返される。このため、この余剰エネルギーが、脱トラップに作用することにより、残留電位上昇を抑制できるものと考えている。

図３には、無機系感光体の光キャリア発生機構の模式図を示す。一般的には、無機材料（無機電荷発生物質）の場合にはバンドモデルが適用されるため、図３に示したような価電子帯と伝導帯からなるモデルが提出される。
光励起により、バンドギャップに相当するエネルギーを得た電子は、価電子帯で自由に動けることが出来、フリーキャリアとして存在する。この際、伝導帯の領域では、直接イオン化して、フリーキャリアになるのが特徴である。従って、図２のようにエネルギーギャップよりも大きなエネルギーを得た場合、キャリア発生効率（イオン解離効率）が向上するが、余剰エネルギーは生じない。この点が、有機系感光体の光キャリア発生機構と大きく異なる点である。
このような無機系のモデルは、無機系感光体のキャリア発生効率が励起光に対する波長依存性を示す結果からも支持されている。

上記の有機系感光体と無機系感光体の光キャリア発生機構の違いを考慮すると、本発明における除電光波長における効果の違いを考察できる。
即ち、上述のように除電工程における光キャリア発生において、有機系感光体の場合には除電光波長に対するキャリア発生量は変わらないが（量子効率の波長依存性がない）、キャリア１つが発生した際の余剰エネルギーが波長依存性を有する。つまり、除電光波長が短いほど、感光体内部に発生する余剰エネルギー量が多くなる。

一方、無機系感光体の場合、量子効率の波長依存性があるため、除電光波長が短いほど、キャリア発生量が多いが、余剰エネルギーは生み出さない（余剰エネルギーに相当するエネルギーは、キャリア発生効率の向上に振り分けられる）。
従って、本発明のように５００ｎｍよりも短波長の除電光を照射した場合に、有機系感光体では、従来のような可視光領域の除電を行う場合と比較して、キャリア発生量が変わらないものの、余剰エネルギーを多く獲得することが出来る。この余剰エネルギーを利用して、感光層内にトラップされた電荷を脱トラップする活性化エネルギーとして利用するものである。

一方、無機感光体の場合には、上述のようにキャリア発生量を増やすだけであって、余剰エネルギーは生み出さないから、感光層内にトラップされた電荷を脱トラップすることが出来ない。ここが感光層を構成する材料（キャリア発生機構）の違いに基づく、大きな相違点である。このため、無機系感光体で短波長の除電を行ったとしても、本発明のような効果を得ることが出来ず、仮に類似の構成があったとしても、その思想・目的・効果が本発明とは全く異なるものである。

このような効果を十分に発現させるためには、少なくとも感光体の電荷発生層に除電光が十分に到達する必要がある。このためには、電荷発生層の上層に設置される電荷輸送層や保護層が、５００ｎｍ未満の除電光を十分に透過する必要がある。また、５００ｎｍ未満の光を十分に透過する構成であっても、キャリア輸送機能が十分でないと、繰り返し使用における感光体の静電特性の安定性を確保することができない。

このようなことから、本発明に使用される保護層に求められる特性としては、（１）保護層を形成した状態で５００ｎｍ未満の除電光を十分に透過すること、（２）電荷輸送層とのマッチング性がよいこと、具体的にはエネルギーマッチングが良好であり、電荷輸送層の光キャリアをスムーズに注入できることであり、（３）感光体の繰り返し使用において材料としての安定性を示すこと、具体的には帯電手段で生成する酸化性ガス等に対する耐性があること、長期間の通電に対しても安定であること、等が挙げられる。

このような観点から材料を選択する必要があり、本発明者は保護層として、比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質を含有する構成とすることで、上記の条件を満足することを見いだし、発明を完成するに至った。

本発明によると、従来における諸問題を解決でき、高耐久で高画質な画像形成を行う事の出来る画像形成装置であり、少なくとも電荷発生層と電荷輸送層からなる積層感光層及び保護層を有する静電潜像担持体における電荷発生層に有機電荷発生物質を含有し、かつ保護層が比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質含有し、かつ除電光源に５００ｎｍよりも短波長の光源を用いた画像形成装置である。これにより、高耐久で異常画像の少ない安定した画像出力が可能な画像形成装置及び画像形成方法が提供できる。

（画像形成装置及び画像形成方法）
本発明の画像形成装置は、少なくとも電荷発生層と電荷輸送層からなる積層感光層及び保護層を有する静電潜像担持体における電荷発生層に有機電荷発生物質を含有し、かつ保護層が比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質含有する静電潜像担持体と、静電潜像形成手段と、現像手段と、転写手段と、定着手段、５００ｎｍよりも短波長の光源を有する除電手段とを少なくとも有してなり、更に必要に応じて適宜選択したその他の手段、例えば、クリーニング手段、リサイクル手段、制御手段等を有してなる。

本発明の画像形成方法は、静電潜像形成工程と、現像工程と、転写工程、５００ｎｍよりも短波長の光源を有する除電工程と、定着工程とを少なくとも含んでなり、更に必要に応じて適宜選択したその他の工程、例えば、クリーニング工程、リサイクル工程、制御工程等を含んでなる。

本発明の画像形成方法は、本発明の画像形成装置により好適に実施することができ、前記静電潜像形成工程は前記静電潜像形成手段により行うことができ、前記現像工程は前記現像手段により行うことができ、前記転写工程は前記転写手段により行うことができ、前記除電工程は前記除電手段により行うことが出来、前記定着工程は前記定着手段により行うことができ、前記その他の工程は前記その他の手段により行うことができる。

本発明の画像形成装置は、静電潜像担持体と、該静電潜像担持体上に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、該静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段と、該可視像を記録媒体に転写する転写手段と、該静電潜像担持体に残留する電荷を除去する除電手段と、記録媒体に転写された転写像を定着させる定着手段とを少なくとも有し、前記除電手段が、少なくとも５００ｎｍよりも短波長側の光源を有する光源によって、該静電潜像担持体に除電光を照射する。

−静電潜像担持体−
前記静電潜像担持体としては、電荷発生層に有機電荷発生物質を含有し、かつ保護層が比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質含有することを必須要件とする以外は、その材質、形状、構造、大きさ、等について特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができる。前記支持体としては、導電性を有する導電性支持体が好ましい。

続いて、本発明に用いられる電子写真感光体について、図面を用いて詳しく説明する。
図４は、本発明に用いられる電子写真感光体の構成例を示す断面図であり、支持体（３１）上に、電荷発生物質として少なくとも有機電荷発生物質を主成分とする電荷発生層（３５）と、電荷輸送物質を主成分とする電荷輸送層（３７）とが積層され、更に電荷輸送層上に比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質含有する保護層（４１）を積層した構成をとっている。

図５は、本発明に用いられる電子写真感光体の別の構成例を示す断面図であり、支持体（３１）上に、中間層（３９）と、電荷発生物質として少なくとも有機電荷発生物質を主成分とする電荷発生層（３５）と、電荷輸送物質を主成分とする電荷輸送層（３７）とが積層され、更に電荷輸送層上に比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質含有する保護層（４１）を積層した構成をとっている。

図６は、中間層（３９）が電荷ブロッキング層（４３）とモアレ防止層（４５）から構成され、中間層上に電荷発生物質として少なくとも有機電荷発生物質を主成分とする電荷発生層（３５）と、電荷輸送物質を主成分とする電荷輸送層（３７）とが積層され、更に電荷輸送層上に比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質含有する保護層（４１）を積層した構成をとっている。

導電性支持体３１としては、体積抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着またはスパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるいは、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板およびそれらを、押し出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理した管などを使用することができる。また、エンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体として用いることができる。

この他、上記支持体上に導電性粉体を適当な結着樹脂に分散して塗工したものも、本発明の導電性支持体として用いることができる。この導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、またアルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ＩＴＯなどの金属酸化物粉体などがあげられる。また、同時に用いられる結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂があげられる。このような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布することにより設けることができる。

更に、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン（登録商標）などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電性支持体として良好に用いることができる。

また、これらの中でも陽極酸化皮膜処理を簡便に行うことのできるアルミニウムからなる円筒状支持体が最も良好に使用できる。ここでいうアルミニウムとは、純アルミニウム系あるいはアルミニウム合金のいずれをも含むものである。具体的には、ＪＩＳ１０００番台、３０００番台、６０００番台のアルミニウムあるいはアルミニウム合金が最も適している。陽極酸化皮膜は各種金属、各種合金を電解質溶液中において陽極酸化処理したものであるが、中でもアルミニウムもしくはアルミニウム合金を電解質溶液中で陽極酸化処理を行ったアルマイトと呼ばれる被膜が本発明に用いる感光体には最も適している。特に、反転現像（ネガ及びポジ現像）に用いた際に発生する点欠陥（黒ポチ、地汚れ）を防止する点で優れている。

陽極酸化処理は、クロム酸、硫酸、蓚酸、リン酸、硼酸、スルファミン酸などの酸性浴中において行われる。このうち、硫酸浴による処理が最も適している。一例を挙げると、硫酸濃度：１０〜２０％、浴温：５〜２５℃、電流密度：１〜４Ａ／ｄｍ²、電解電圧：５〜３０Ｖ、処理時間：５〜６０分程度の範囲で処理が行われるが、これに限定するものではない。このように作製される陽極酸化皮膜は、多孔質であり、また絶縁性が高いため、表面が非常に不安定な状況である。このため、作製後の経時変化が存在し、陽極酸化皮膜の物性値が変化しやすい。これを回避するため、陽極酸化皮膜を更に封孔処理することが好ましい。封孔処理には、フッ化ニッケルや酢酸ニッケルを含有する水溶液に陽極酸化皮膜を浸漬する方法、陽極酸化皮膜を沸騰水に浸漬する方法、加圧水蒸気により処理する方法などがある。このうち、酢酸ニッケルを含有する水溶液に浸漬する方法が最も好ましい。封孔処理に引き続き、陽極酸化皮膜の洗浄処理が行われる。これは、封孔処理により付着した金属塩等の過剰なものを除去することが主な目的である。これが支持体（陽極酸化皮膜）表面に過剰に残存すると、この上に形成する塗膜の品質に悪影響を与えるだけでなく、一般的に低抵抗成分が残ってしまうため、逆に地汚れの発生原因にもなってしまう。洗浄は純水１回の洗浄でも構わないが、通常は多段階の洗浄を行う。この際、最終の洗浄液が可能な限りきれいな（脱イオンされた）ものであることが好ましい。また、多段階の洗浄工程のうち１工程に接触部材による物理的なこすり洗浄を施すことが好ましい。以上のようにして形成される陽極酸化皮膜の膜厚は、５〜１５μｍ程度が好ましい。これより薄すぎる場合には陽極酸化皮膜としてのバリア性の効果が充分でなく、これより厚すぎる場合には電極としての時定数が大きくなりすぎて、残留電位の発生や感光体のレスポンスが低下する場合がある。

次に、中間層３９について述べる。中間層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶媒で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが好ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、中間層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。
中でも、中間層に酸化チタンを含有する場合、本発明の効果を顕著にするものであり、最も有効に使用できる。また、この酸化チタンを含有する中間層が以降に示す電荷発生層と接触した状態で存在する場合には、最も効果が顕著になり、その感光体構成が最も適当である。

これらの中間層は前述の感光層の如く適当な溶媒、塗工法を用いて形成することができる。更に本発明の中間層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。この他、本発明の中間層には、Ａｌ₂Ｏ₃を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物やＳｉＯ₂、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＩＴＯ、ＣｅＯ₂等の無機物を真空薄膜作成法にて設けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のものを用いることができる。中間層の膜厚は０〜５μｍが適当である。

中間層３９は、感光体の帯電時に電極側に誘起される逆極性の電荷の感光層への注入を防止する機能と、レーザー光のようなコヒーレント光による書き込み時に生じるモアレを防止する機能の少なくとも２つの機能を有する。この機能を２つ以上の層に機能分離した機能分離型中間層は、本発明に用いられる感光体には有効な手段である。以下に、電荷ブロッキング層４３とモアレ防止層４５の機能分離型中間層について説明する。

電荷ブロッキング層４３は、感光体帯電時に電極（導電性支持体３１）に誘起される逆極性の電荷が、支持体から感光層に注入するのを防止する機能を有する層である。負帯電の場合には正孔注入防止、正帯電の場合には電子注入防止の機能を有する。電荷ブロッキング層としては、酸化アルミ層に代表される陽極酸化被膜、ＳｉＯに代表される無機系の絶縁層、金属酸化物のガラス質ネットワークから形成される層、ポリフォスファゼンからなる層、アミノシラン反応生成物からなる層、この他には絶縁性の結着樹脂からなる層、硬化性の結着樹脂からなる層等が挙げられる。中でも湿式塗工法で形成可能な絶縁性の結着樹脂あるいは硬化性の結着樹脂から構成される層が良好に使用できる。電荷ブロッキング層は、その上にモアレ防止層や感光層を積層するものであるから、これらを湿式塗工法で設ける場合には、これらの塗工溶媒により塗膜が侵されない材料あるいは構成からなることが肝要である。

使用できる結着樹脂としては、ポリアミド、ポリエステル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂例えば、活性水素（−ＯＨ基、−ＮＨ₂基、−ＮＨ基等の水素）を複数個含有する化合物とイソシアネート基を複数個含有する化合物及び／又はエポキシ基を複数個含有する化合物とを熱重合させた熱硬化性樹脂等も使用できる。この場合活性水素を複数個含有する化合物としては、例えばポリビニルブチラール、フェノキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、ヒドロキシエチルメタアクリレート基等の活性水素を含有するアクリル系樹脂等があげられる。イソシアネート基を複数個含有する化合物としては、たとえば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等とこれらのプレポリマー等があげられ、エポキシ基を複数有する化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂等があげられる。
中でも、成膜性、環境安定性、溶剤耐性の点などから、ポリアミドが最も良好に用いられる。

また、オイルフリーアルキッド樹脂とアミノ樹脂例えば、ブチル化メラミン樹脂等を熱重合させた熱硬化性樹脂、さらにまた、不飽和結合を有するポリウレタン、不飽和ポリエステル等の不飽和結合を有する樹脂と、チオキサントン系化合物、メチルベンジルフォルメート等の光重合開始剤との組合せ等の光硬化性樹脂も結着樹脂として使用できる。
また、整流性のある導電性高分子や、帯電極性に合わせてアクセプター（ドナー）性の樹脂・化合物などを加えて、基体からの電荷注入を制抑するなどの機能を持たせても良い。

また、電荷ブロッキング層の膜厚は０．１μｍ以上２．０μｍ未満、好ましくは０．３μｍ以上２．０μｍ未満程度が適当である。電荷ブロッキング層が厚くなると、帯電と露光の繰返しによって、特に低温低湿で残留電位の上昇が著しく、また、膜厚が薄すぎるとブロッキング性の効果が小さくなる、また電荷ブロッキング層には、必要に応じて硬化（架橋）に必要な薬剤、溶剤、添加剤、硬化促進材等を加えて、常法により、ブレード塗工、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート法などにより基体上に形成される。塗布後は乾燥や加熱、光等の硬化処理により乾燥あるいは硬化させる。

モアレ防止層４５は、レーザー光のようなコヒーレント光による書き込みを行う際に、感光層内部での光干渉によるモアレ像の発生を防止する機能を有する層である。基本的には、前記書き込み光の光散乱を起こす機能を有する。このような機能を発現するために、モアレ防止層は屈折率の大きな材料を有することが有効である。一般には、無機顔料とバインダー樹脂を含有し、無機顔料がバインダー樹脂に分散された構成からなる。特に、無機顔料の中でも白色の顔料が有効に使用され、例えば、酸化チタン、フッ化カルシウム、酸化カルシウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化アルミニウムなどが良好に用いられる。中でも、隠蔽力の大きな酸化チタンが最も有効に使用出来る。

中間層が、電荷ブロッキング層とモアレ防止層から構成される場合においても、モアレ防止層に酸化チタンが含有される場合が最も本発明の効果が顕著に発現される。また、この酸化チタンを含有するモアレ防止層が電荷発生層と接触する構成にすることにより、その効果は更に顕著に高まるものであり、最も有効な感光体構成である。

また、機能分離型中間層を有する感光体では支持体３１からの電荷注入を電荷ブロッキング層にて防止するものであるから、モアレ防止層においては少なくとも感光体表面に帯電される電荷とは同極性の電荷を移動できる機能を有することが残留電位防止の観点から好ましい。このため、例えば負帯電型感光体の場合、モアレ防止層には電子伝導性を付与することが望ましく、使用する無機顔料に電子伝導性を有するものを使用するか、導電性のものを使用することが望ましい。あるいは、モアレ防止層に電子伝導性の材料（例えば、アクセプター）などを使用することは本発明の効果を一層顕著なものにするものである。

バインダー樹脂としては電荷ブロッキング層と同様のものを使用できるが、モアレ防止層の上に感光層（電荷発生層３５、電荷輸送層３７）を積層することを考慮すると、感光層（電荷発生層、電荷輸送層）の塗工溶媒に侵されないことが肝要である。

バインダー樹脂としては、熱硬化型樹脂が良好に使用される。特に、アルキッド／メラミン樹脂の混合物が最も良好に使用される。この際、アルキッド／メラミン樹脂の混合比は、モアレ防止層の構造及び特性を決定する重要な因子である。両者の比（重量比）が５／５〜８／２の範囲が良好な混合比の範囲として挙げることが出来る。５／５よりもメラミン樹脂がリッチであると、熱硬化の際に体積収縮が大きくなり塗膜欠陥を生じやすくなったり、感光体の残留電位を大きくする方向にあり望ましくない。また、８／２よりもアルキッド樹脂がリッチであると、感光体の残留電位低減には効果があるものの、バルク抵抗が低くなりすぎて地汚れが悪くなる方向になり望ましくない。

モアレ防止層においては、無機顔料とバインダー樹脂の容積比が重要な特性を決定する。このため、無機顔料とバインダー樹脂の容積比が１／１乃至３／１の範囲であることが重要である。両者の容積比が１／１未満である場合には、モアレ防止能が低下するだけでなく、繰り返し使用における残留電位の上昇が大きくなる場合が存在する。一方、容積比が３／１を超える領域ではバインダー樹脂における結着能が劣るだけでなく、塗膜の表面性が悪化し、上層の感光層の成膜性に悪影響を与える場合がある。この影響は感光層が積層タイプで構成され、電荷発生層のような薄層を形成する場合に深刻な問題になり得るものである。また容積比が３／１を超える場合には、無機顔料表面をバインダー樹脂が覆い尽くせない場合が存在し、電荷発生物質と直接接触することで、熱キャリア生成の確率が大きくなり、地汚れに対して悪影響を与える場合がある。

更に、モアレ防止層には、平均粒径の異なる２種類の酸化チタンを用いることで、導電性基体に対する隠蔽力を向上させモアレを抑制することが可能となるとともに、異常画像の原因となるピンホールをなくすことができる。このためには、用いる２種の酸化チタンの平均粒径の比が一定の範囲内（０．２＜Ｄ２／Ｄ１≦０．５）にあることが重要である。本発明で規定する範囲外の粒径比の場合、すなわち平均粒径の大きな酸化チタン（Ｔ１）の平均粒径（Ｄ１）に対する他方の酸化チタン（Ｔ２）の平均粒径（Ｄ２）の比が小さすぎる場合（０．２≧Ｄ２／Ｄ１）は、酸化チタン表面での活性が増加し電子写真感光体としたときの静電的安定性が著しく損なわれるようになる。また、一方の酸化チタン（Ｔ１）の平均粒径に対する他方の酸化チタン（Ｔ２）の平均粒径の比が大きすぎる場合（Ｄ２／Ｄ１＞０．５）は、導電性基体に対する隠蔽力が低下し、モアレや異常画像に対する抑制力が低下する。ここで言う平均粒径は、水系で強分散を行なったときに得られる粒度分布測定から得られる。

また、粒径の小さい方の酸化チタン（Ｔ２）の平均粒径（Ｄ２）の大きさが重要な因子であり、０．０５μｍ＜Ｄ２＜０．２０μｍであることが重要である。０．０５μｍ以下の場合には隠蔽力が低下し、モアレを発生させる場合がある。一方、０．２０μｍ以上の場合には、モアレ防止層の酸化チタンの充填率を低下させ、地汚れ抑制効果が十分に発揮出来ない。

また、２種の酸化チタンの混合比率（重量比）も重要な因子である。Ｔ２／（Ｔ１＋Ｔ２）が０．２よりも小さい場合には、酸化チタンの充填率がそれほど大きくなく、地汚れ抑制効果が十分に発揮出来ない。一方、０．８よりも大きな場合には、隠蔽力が低下し、モアレを発生させる場合がある。従って、０．２≦Ｔ２／（Ｔ１＋Ｔ２）≦０．８であることが重要である。
また、モアレ防止層の膜厚は１〜１０μｍ、好ましくは２〜５μｍとするのが適当である。膜厚が１μｍ未満では効果の発現性が小さく、１０μｍを越えると残留電位の蓄積を生じるので望ましくない。

無機顔料は溶剤とバインダー樹脂と共に常法により、例えばボールミル、サンドミル、アトライラー等により分散し、また、必要に応じて硬化（架橋）に必要な薬剤、溶剤、添加剤、硬化促進剤等を加えて、常法により、ブレード塗工、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート法などにより基体上に形成される。塗布後は乾燥や加熱、光等の硬化処理により乾燥あるいは硬化させる。

次に、感光層について説明する。感光層は電荷発生物質として有機電荷発生物質を含有する電荷発生層３５と、電荷輸送物質を含有する電荷輸送層３７の積層構成で構成される。
電荷発生層３５は、電荷発生物質としての有機電荷発生物質を主成分とする層である。有機電荷発生物質を必要に応じてバインダー樹脂とともに適当な溶剤中にボールミル、アトライター、サンドミル、超音波などを用いて分散し、これを導電性支持体上に塗布し、乾燥することにより形成される。

必要に応じて電荷発生層に用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド、ポリビニルベンザール、ポリエステル、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等があげられる。バインダー樹脂の量は、電荷発生物質１００重量部に対し０〜５００重量部、好ましくは１０〜３００重量部が適当である。

ここで用いられる溶剤としては、例えばイソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、リグロイン等が挙げられる。塗布液の塗工法としては、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の方法を用いることができる。電荷発生層の膜厚は、０.０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましくは０.１〜２μｍである。

電荷発生物質としては、有機電荷発生物質を用いることができる。
有機電荷発生物質としては、公知の材料を用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独または２種以上の混合物として用いることができる。

中でも、下記（Ｉ）式で表されるアゾ顔料は有効に使用される。特に、アゾ顔料のＣｐ₁とＣｐ₂が互いに異なるものである非対称アゾ顔料は、キャリア発生効率が大きく、本発明の電荷発生物質として有効に使用できる。
式中、Ｃｐ₁，Ｃｐ₂はカップラー残基を表す。Ｒ₂₀₁，Ｒ₂₀₂はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基のいずれかを表し、同一でも異なっていても良い。またＣｐ₁，Ｃｐ₂は下記（II）式で表され、
式中、Ｒ₂₀₃は、水素原子、メチル基、エチル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基を表す。Ｒ₂₀₄，Ｒ₂₀₅，Ｒ₂₀₆，Ｒ₂₀₇，Ｒ₂₀₈はそれぞれ、水素原子、ニトロ基、シアノ基、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基等のハロゲン化アルキル基、メチル基、エチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、ジアルキルアミノ基、水酸基を表し、Ｚは置換もしくは無置換の芳香族炭素環または置換もしくは無置換の芳香族複素環を構成するのに必要な原子群を表す。

また、チタニルフタロシアニンも本発明の電荷発生物質として有効に使用できる。中でも、ＣｕＫαの特性Ｘ線（波長１．５４２Å）に対するブラッグ角２θの回折ピーク（±０．２゜）として少なくとも２７．２゜に最大回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶、その中でも２７．２゜に最大回折ピークを有し、更に９．４゜、９．６゜、２４．０゜に主要なピークを有し、最も低角側の回折ピークとして７．３゜にピークを有し、該７．３°のピークと９．４゜のピークの間にピークを有さず、更に２６．３°にピークを有さないチタニルフタロシアニン結晶は、キャリア発生効率が大きく、本発明の電荷発生物質として有効に使用できる。

本発明の電子写真感光体に含有される有機電荷発生物質においては、電荷発生物質の粒子サイズをより細かくすることにより、その効果が発現されるものであり、平均粒子サイズは０．２５μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以下がより好ましい。以下にその作製方法を示す。感光層に含有される電荷発生物質の粒子サイズをコントロールするための方法は、電荷発生物質を分散した後、０．２５μｍより大きい粗大粒子を取り除いてしまう方法である。

ここでいう平均粒子サイズとは、体積平均粒径であり、超遠心式自動粒度分布測定装置：ＣＡＰＡ−７００（堀場製作所製）により求めたものである。この際、累積分布の５０％に相当する粒子径（Ｍｅｄｉａｎ径）として算出されたものである。しかしながら、この方法では微量の粗大粒子を検出できない場合があるため、より詳細に求めるには、電荷発生物質粉末、あるいは分散液を直接、電子顕微鏡にて観察し、その大きさを求めることが重要である。

分散液の更なる観察により、微小欠陥に関して検討した結果、上記現象は次のように理解された。通常、平均粒子サイズを測定するような方法においては、極端に大きな粒子が数％以上も存在するような場合には、その存在が検出できるものであるが、全体の１％以下程度のような微量になってくると、その測定は検出限界以下になってしまうものである。その結果として、平均粒子サイズの測定だけでは粗大粒子の存在が検出されずに、上述のような微小欠陥に関する解釈を困難にしていた。

図７及び図８に、分散条件を固定して分散時間だけを変更した２種類の分散液の状態を観察した写真を示す。同一条件における分散時間の短い分散液の写真を図７に示すが、分散時間の長い図８と比較して、粗大粒子が残っている様子が観測される。図７中の黒い粒が粗大粒子である。

この２種類の分散液の平均粒径並びに粒度分布を公知の方法に従って、市販の粒度分布測定装置（堀場製作所製：超遠心式自動粒度分布測定装置、ＣＡＰＡ７００）により測定した。その結果を図９に示す。図９における「Ａ」が図７に示す分散液に対応し、「Ｂ」が図８に示す分散液に対応する。両者を比較すると、粒度分布に関してはほとんど差が認められない。また、両者の平均粒径値は、「Ａ」が０．２９μｍ、「Ｂ」が０．２８μｍと求められ、測定誤差を加味した上では、両者に全くの差異が認められない。

従って、公知の平均粒径（粒子サイズ）の規定だけでは、微量な粗大粒子の残存を検出できずに、昨今の高解像度のネガ・ポジ現像には対応できていないことが理解される。この微量な粗大粒子の存在は、塗工液を顕微鏡レベルで観察することにより、初めて認識できたものである。

次に有機電荷発生物質を分散した後に、粗大粒子を取り除く方法について述べる。
即ち、出来る限り粒子を微細にした分散液を作製後、適当なフィルターで濾過してしまう方法である。分散液の作製に関しては一般的な方法が用いられ、有機電荷発生物質を必要に応じてバインダー樹脂とともに適当な溶剤中にボールミル、アトライター、サンドミル、ビーズミル、超音波などを用いて分散することで得られるものである。この際、バインダー樹脂は感光体の静電特性などにより、また溶媒は顔料へのぬれ性、顔料の分散性などにより選択すればよい。

この方法では、残存する目視では観察できない（あるいは粒径測定では検出できない）微量な粗大粒子をも取り除くことができ、また粒度分布を揃えるという点からも非常に有効な手段である。具体的には、上述のように作製した分散液を有効孔径が５μｍ以下のフィルター、より好ましくは３μｍ以下のフィルターにて濾過する操作を行ない、分散液を完成させるというものである。この方法によっても、粒子サイズの小さな（０．２５μｍ以下、好ましくは０．２μｍ以下）有機電荷発生物質のみを含む分散液を作製することができ、これを用いた感光体を画像形成装置に搭載使用することにより、本発明の効果をより一層顕著にするものである。

この際、濾過される分散液の粒子サイズが大きすぎたり、粒度分布が広すぎたりする場合には、濾過によるロスが大きくなったり、濾過の目詰まりを生じて濾過が不可能になったりする場合がある。このため、濾過前の分散液においては、平均粒子サイズが０．３μｍ以下で、その標準偏差が０．２μｍ以下に到達するまで分散を行った方が望ましい。平均粒子サイズが０．３μｍ以上である場合には濾過によるロスが大きくなり、標準偏差が０．２μｍ以上である場合には濾過時間が非常に長くなったりする不具合点を生じる場合がある。

本発明で使用する電荷発生物質は、高感度な特性を示す電荷発生物質の特徴である分子間水素結合力が極めて強い。このため、分散された顔料粒子の粒子間での相互作用も非常に強い。この結果、分散機などにより分散された電荷発生物質粒子が、希釈などにより再凝集する可能性が非常に大きく、上述のように分散終了後、特定サイズ以下のフィルターで濾過を行うことにより、このような凝集物を取り除くことができる。この際、分散液がチキソトロピーな状態にあるため、使用するフィルターの有効孔径よりも小さいなサイズの粒子まで除去される。または、構造粘性を示す液をフィルター処理によりニュートン性に近い状態に変えることもできる。このようにして、電荷発生物質の粗大粒子を取り除いてやることにより、本発明の効果を著しく向上させるものである。

分散液を濾過するフィルターに関しては、除去したい粗大粒子のサイズによって異なるものであるが、本発明者等の検討によれば、６００ｄｐｉ程度の解像度を必要とする電子写真装置で使用される感光体としては、最低でも３μｍ以上の粗大粒子の存在は画像に対して影響を及ぼす。したがって、有効孔径が５μｍ以下のフィルターを使用すべきである。より好ましくは３μｍ以下の有効孔径を有するフィルターを使用することである。この有効孔径に関しては、細かいほど粗大粒子の除去に効果があるものであるが、あまり細かすぎると、必要な顔料粒子そのものも濾過されてしまうため、適切なサイズが存在する。また、細かすぎた場合には、濾過に時間がかかる、フィルターが目詰まりを起こす、ポンプ等を使用して送液する場合には負荷がかかりすぎる等の問題を生じる。なお、ここで使用されるフィルターの材質は、当然のことながら濾過する分散液に使用される溶媒に対して耐性のあるものが使用される。

電荷輸送層は、電荷輸送物質および結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層上に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必要により可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤等を添加することもできる。
電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。正孔輸送物質としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等その他公知の材料が挙げられる。これらの電荷輸送物質は単独、または２種以上混合して用いられる。

電子輸送物質としては、例えばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイド、ベンゾキノン誘導体等の電子受容性物質が挙げられる。

結着樹脂としてはポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアレート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げられる。
電荷輸送物質の量は結着樹脂１００重量部に対し、２０〜３００重量部、好ましくは４０〜１５０重量部が適当である。また、電荷輸送層の膜厚は５〜１００μｍ程度とすることが好ましい。

ここで用いられる溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトンなどが用いられる。中でも、環境への負荷低減等の意図から、非ハロゲン系溶媒の使用は望ましいものである。具体的には、テトラヒドロフランやジオキソラン、ジオキサン等の環状エーテルやトルエン、キシレン等の芳香族系炭化水素、及びそれらの誘導体が良好に用いられる。

感光層が単層構成の場合や、電荷輸送層上に電荷発生層を形成する場合には問題にならないが、電荷発生層上に電荷輸送層を形成する感光層の場合、適正な電荷輸送物質を選定しないと除電光が電荷発生層に十分に届かずに、除電作用が明確には働かない場合が存在する。また、電荷輸送物質が除電光を吸収することにより、劣化しやすくなり、逆に残留電位上昇を生み出す場合が存在する。このため、上記構成の場合には、電荷輸送層の除電光に対する透過率が３０％以上、好ましくは５０％以上、更に望ましくは８５％以上であることが望ましい。

電荷輸送層をこのような条件にするためには、除電光に対して適正な電荷輸送材料を選択して、電荷輸送層を形成することが重要である。上述する電荷輸送物質の中でも、トリアリールアミン骨格を有する電荷輸送物質は、４８０ｎｍ以下の除電光を透過しやすく、かつ移動度も大きいため、本発明の感光体に使用する電荷輸送物質としては好適である。
また、トリアリールアミン骨格を有する電荷輸送物質の中でも、下記（III）式で表される電荷輸送物質は特に有効に使用される。

（式中、Ａｒ₁及びＡｒ₃は置換基を有してもよい芳香環基を示し、Ａｒ₂は置換基を有してもよい芳香環の２価基を示す。Ｒ₁は置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいビニル基及び置換基を有してもよい芳香環基を示す。Ａｒ₁とＲ₁は結合して環を形成してもよい。）

本発明において電荷輸送層中に可塑剤やレベリング剤を添加してもよい。可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど一般の樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、結着樹脂に対して０〜３０重量％程度が適当である。レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどのシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいは、オリゴマーが使用され、その使用量は結着樹脂に対して、０〜１重量％が適当である。

また、電荷輸送層には電荷輸送物質としての機能とバインダー樹脂の機能を持った高分子電荷輸送物質も良好に使用される。これら高分子電荷輸送物質から構成される電荷輸送層は耐摩耗性に優れたものである。高分子電荷輸送物質としては、公知の材料が使用できるが、特に、トリアリールアミン構造を主鎖および／または側鎖に含むポリカーボネートが良好に用いられる。

本発明の電子写真感光体には、感光層保護の目的で、保護層が感光層の上に設けられる。近年、日常的にコンピュータの使用が行なわれるようになり、プリンターによる高速出力とともに、装置の小型も望まれている。したがって、保護層を設け、耐久性を向上させることによって、本発明の高感度で異常欠陥のない感光体を有用に用いることができる。
本発明に用いられる有効な保護層としては、比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質を含む構成からなるものである。

保護層に使用されるバインダー樹脂としてはＡＢＳ樹脂、ＡＣＳ樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合体、塩素化ポリエーテル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリアセタール、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリレート、ポリアリルスルホン、ポリブチレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリメチルベンテン、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホン、ポリスチレン、ＡＳ樹脂、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。中でも、ポリカーボネートもしくはポリアリレートが最も良好に使用できる。

保護層にはその他、耐摩耗性を向上する目的で比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物が添加される。このような材料としては、銅、スズ、アルミニウム、インジウムなどの金属粉末、シリカ、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、アンチモンをドープした酸化錫、錫をドープした酸化インジウム等の金属酸化物、チタン酸カリウムなどの無機材料が挙げられる。特に、フィラーの硬度の点からは、シリカ、酸化チタン、アルミナが有効に使用できる。

このような比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物を以下の説明ではフィラーと称して説明する。
保護層中のフィラー濃度は使用するフィラー種により、また感光体を使用する電子写真プロセス条件によっても異なるが、保護層の最表層側において全固形分に対するフィラーの比で５重量％以上、好ましくは１０重量％以上、５０重量％以下、好ましくは３０重量％以下程度が良好である。また、使用するフィラーの体積平均粒径は、０．１μｍ〜２μｍの範囲が良好に使用され、好ましくは０．３μｍ〜１μｍの範囲である。この場合、平均粒径が小さすぎると耐摩耗性が充分に発揮されず、大きすぎると塗膜の表面性が悪くなったり、塗膜そのものが形成できなかったりするからである。

なお、本発明におけるフィラーの平均粒径とは、特別な記載のない限り体積平均粒径であり、超遠心式自動粒度分布測定装置：ＣＡＰＡ−７００（堀場製作所製）により求めたものである。この際、累積分布の５０％に相当する粒子径（Ｍｅｄｉａｎ径）として算出されたものである。また、同時に測定される各々の粒子の標準偏差が１μｍ以下であることが重要である。これ以上の標準偏差の値である場合には、粒度分布が広すぎて、本発明の効果が顕著に得られなくなってしまう場合がある。

また、本発明で使用するフィラーのｐＨも解像度やフィラーの分散性に大きく影響する。その理由の一つとしては、フィラー、特に金属酸化物は製造時に塩酸等が残存することが考えられる。その残存量が多い場合には、画像ボケの発生は避けられず、またそれは残存量によってはフィラーの分散性にも影響を及ぼす場合がある。
もう一つの理由としては、フィラー、特に金属酸化物の表面における帯電性の違いによるものである。通常、液体中に分散している粒子はプラスあるいはマイナスに帯電しており、それを電気的に中性に保とうとして反対の電荷を持つイオンが集まり、そこで電気二重層が形成されることによって粒子の分散状態は安定化している。粒子から遠ざかるに従いその電位（ゼータ電位）は徐々に低くなり、粒子から充分に離れて電気的に中性である領域の電位はゼロとなる。したがって、ゼータ電位の絶対値の増加によって粒子の反発力が高くなることによって安定性は高くなり、ゼロに近づくに従い凝集しやすく不安定になる。一方、系のｐＨ値によってゼータ電位は大きく変動し、あるｐＨ値において電位はゼロとなり等電点を持つことになる。したがって、系の等電点からできるだけ遠ざけて、ゼータ電位の絶対値を高めることによって分散系の安定化が図られることになる。

本発明の構成においては、フィラーとしては前述の等電点におけるｐＨが、少なくとも５以上を示すものが画像ボケ抑制の点から好ましく、より塩基性を示すフィラーであるほどその効果が高くなる傾向があることが確認された。等電点におけるｐＨが高い塩基性を示すフィラーは、系が酸性であったほうがゼータ電位はより高くなることにより、分散性及びその安定性は向上することになる。
ここで、本発明におけるフィラーのｐＨは、ゼータ電位から等電点におけるｐＨ値を記載した。この際、ゼータ電位の測定は、大塚電子（株）製レーザーゼータ電位計にて測定した。

更に、画像ボケが発生しにくいフィラーとしては、電気絶縁性が高いフィラー（比抵抗が１０¹⁰Ω・ｃｍ以上）が必須であり、フィラーのｐＨが５以上を示すものやフィラーの誘電率が５以上を示すものが特に有効に使用できる。また、ｐＨが５以上のフィラーあるいは誘電率が５以上のフィラーを単独で使用することはもちろん、ｐＨが５以下のフィラーとｐＨが５以上のフィラーとを２種類以上を混合したり、誘電率が５以下のフィラーと誘電率が５以上のフィラーとを２種類以上混合したりして用いることも可能である。また、これらのフィラーの中でも高い絶縁性を有し、熱安定性が高い上に、耐摩耗性が高い六方細密構造であるα型アルミナは、画像ボケの抑制や耐摩耗性の向上の点から特に有用である。

本発明において使用するフィラーの比抵抗は以下のように定義される。フィラーのような粉体は、充填率によりその比抵抗値が異なるので、一定の条件下で測定する必要がある。本発明においては、特開平５−１１３６８８号公報（図１）に示された測定装置と同様の構成の装置を用いて、フィラーの比抵抗値を測定し、この値を用いた。測定装置において、電極面積は４．０ｃｍ²である。測定前に片側の電極に４ｋｇの荷重を１分間かけ、電極間距離が４ｍｍになるように試料量を調節する。測定の際は、上部電極の重量（１ｋｇ）の荷重状態で測定を行ない、印加電圧は１００Ｖにて測定する。１０⁶Ω・ｃｍ以上の領域は、ＨＩＧＨＲＥＳＩＳＴＡＮＣＥＭＥＴＥＲ（横河ヒューレットパッカード）、それ以下の領域についてはデジタルマルチメーター（フルーク）により測定した。これにより得られた比抵抗値を本発明でいうところの比抵抗値と定義するものである。
フィラーの誘電率は以下のように測定した。上述のような比抵抗の測定と同様なセルを用い、荷重をかけた後に、静電容量を測定し、これより誘電率を求めた。静電容量の測定は、誘電体損測定器（安藤電気）を使用した。

更に、これらのフィラーは少なくとも一種の表面処理剤で表面処理させることが可能であり、そうすることがフィラーの分散性の面から好ましい。フィラーの分散性の低下は残留電位の上昇だけでなく、塗膜の透明性の低下や塗膜欠陥の発生、さらには耐摩耗性の低下をも引き起こすため、高耐久化あるいは高画質化を妨げる大きな問題に発展する可能性がある。表面処理剤としては、従来用いられている表面処理剤すべてを使用することができるが、フィラーの絶縁性を維持できる表面処理剤が好ましい。例えば、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤、高級脂肪酸等、あるいはこれらとシランカップリング剤との混合処理や、Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、シリコーン、ステアリン酸アルミニウム等、あるいはそれらの混合処理がフィラーの分散性及び画像ボケの点からより好ましい。シランカップリング剤による処理は、画像ボケの影響が強くなるが、上記の表面処理剤とシランカップリング剤との混合処理を施すことによりその影響を抑制できる場合がある。表面処理量については、用いるフィラーの平均一次粒径によって異なるが、３〜３０ｗｔ％が適しており、５〜２０ｗｔ％がより好ましい。表面処理量がこれよりも少ないとフィラーの分散効果が得られず、また多すぎると残留電位の著しい上昇を引き起こす。これらフィラー材料は単独もしくは２種類以上混合して用いられる。フィラーの表面処理量に関しては、上述のようにフィラー量に対する使用する表面処理剤の重量比で定義される。
これらフィラー材料は、適当な分散機を用いることにより分散できる。また、保護層の透過率の点から使用するフィラーは一次粒子レベルまで分散され、凝集体が少ないほうが好ましい。

また、保護層には残留電位低減、応答性改良のため、電荷輸送物質が含有される。電荷輸送物質は、電荷輸送層の説明のところに記載した材料や公知の電荷輸送物質を用いることができる。電荷輸送物質として、低分子電荷輸送物質を用いる場合には、保護層中における濃度傾斜を設けても構わない。耐摩耗性向上のため、表面側を低濃度にすることは有効な手段である。ここでいう濃度とは、保護層を構成する全材料の総重量に対する低分子電荷輸送物質の重量の比を表わし、濃度傾斜とは上記重量比において表面側において濃度が低くなるような傾斜を設けることを示す。また、高分子電荷輸送物質を用いることは、感光体の耐久性を高める点で非常に有利である。

この他、保護層のバインダー樹脂としては公知の高分子電荷輸送物質も用いることが出来る。これを用いた場合の効果としては、耐摩耗性の向上、高速電荷輸送の効果を得ることが出来る。
このような保護層の形成法としては通常の塗布法が採用される。尚、上述した保護層の厚さは０．１〜１０μｍ程度が適当である。

上述のように、感光層上に保護層を形成する場合、適正な保護層を選定しないと除電光が感光層に十分に届かずに、除電作用が明確には働かない場合が存在する。また、保護層が除電光を吸収することにより、劣化しやすくなり、逆に残留電位上昇を生み出す場合が存在する。従って、上述した保護層においても、除電光に対する透過率が３０％以上、好ましくは５０％以上、更に望ましくは８５％以上であることが望ましい。
保護層の透過率は電荷輸送層と同様な方法で測定される。即ち、感光体に使用する保護層を単独で形成し、これを市販の分光光度計により分光吸収スペクトルを測定する。スペクトルから画像形成装置に使用する除電光の波長における透過率を求めることにより得られる。

また、電荷発生層と電荷輸送層の順に構成される感光層上に保護層を設け、感光体の表面側から除電光を照射する場合には、除電光は保護層と電荷輸送層を通って電荷発生層に照射されることになる。従って、実質的には電荷輸送層と保護層を積層した形の透過率が重要になってくる。この場合には、電荷輸送層と保護層を積層した状態で、除電光に対する透過率が３０％以上、好ましくは５０％以上、更に望ましくは８５％以上であることが望ましい。
この様な場合に透過率は、電荷輸送層と保護層を積層した状態の塗膜を上述のように分光吸収スペクトルを測定することにより求めることが出来る。

上述したように、感光体の表面に保護層を設けることは、各々の感光体の耐久性（耐摩耗性）を高めるだけでなく、後述のようなタンデム型フルカラー画像形成装置中で使用される場合には、モノクロ画像形成装置にはない新たな効果をも生み出すものである。

本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、保護層、電荷輸送層、電荷発生層、電荷ブロッキング層、モアレ防止層等の各層に酸化防止剤を添加することができる。
（フェノール系化合物）
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２'−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２'−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４'−チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４'−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−（３'，５'−ジ−ｔ−ブチル−４'−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３'−ビス（４'−ヒドロキシ−３'−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］クリコ−ルエステル、トコフェロール類など。

（パラフェニレンジアミン類）
Ｎ−フェニル−Ｎ'−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジメチル−Ｎ，Ｎ'−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなど。
（ハイドロキノン類）
２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノンなど。

（有機硫黄化合物類）
ジラウリル−３，３'−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３'−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−３，３'−チオジプロピオネートなど。
（有機燐化合物類）
トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィンなど。
これら化合物は、ゴム、プラスチック、油脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる。本発明における酸化防止剤の添加量は、添加する層の総重量に対して０．０１〜１０重量％である。

フルカラーの画像の場合、様々な形態の画像が入力されるが、逆に定型的な画像も入力される場合がある。例えば、日本語の文書等における検印の存在などである。検印のようなものは通常、画像領域の端のほうに位置され、また使用される色も限定される。ランダムな画像が常に書き込まれているような状態においては、画像形成要素中の感光体には、平均的に画像書き込み、現像、転写が行なわれることになるが、上述のように特定の部分に数多くの画像形成が繰り返されたり、特定の画像形成要素ばかり使用された場合には、その耐久性のバランスを欠くことにつながる。このような状態で表面の耐久性（物理的・化学的・機械的）の小さな感光体が使用された場合には、この差が顕著になり、画像上の問題になりやすい。一方、感光体を高耐久化した場合には、このような局所的な変化量が小さく、結果的に画像上の欠陥として現われにくくなるため、高耐久化を実現すると共に、出力画像の安定性をも増すことになり、非常に有効である。

−静電潜像形成手段−
前記静電潜像の形成は、例えば、前記静電潜像担持体の表面を一様に帯電させた後、像様に露光することにより行うことができ、前記静電潜像形成手段により行うことができる。
前記静電潜像形成手段は、例えば、前記静電潜像担持体の表面を一様に帯電させる帯電器と、前記静電潜像担持体の表面を像様に露光する露光器とを少なくとも備える。
前記帯電器としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、導電性又は半導電性のロール、ブラシ、フィルム、ゴムブレード等を備えたそれ自体公知の接触帯電器、コロトロン、スコロトロン等のコロナ放電を利用した非接触帯電器（感光体表面と帯電器との間に１００μｍ以下の空隙を有する近接方式の非接触帯電器を含む）、などが挙げられる。

前記帯電器により静電潜像担持体に印加される電界強度としては、２０〜６０Ｖ／μｍが好ましく、３０〜５０Ｖ／μｍがより好ましい。感光体に印加される電界強度は高いほどドット再現性が良好になるが、電界強度が高すぎると感光体の絶縁破壊や現像時のキャリア付着等の問題が発生する場合がある。

なお、前記電界強度は、下記数式（１）で表される。
＜数式（１）＞
電界強度（Ｖ／μｍ）＝ＳＶ／Ｇ
ただし、前記数式（１）中、ＳＶは、現像位置における静電潜像担持体の未露光部における表面電位の絶対値（Ｖ）を表す。Ｇは、少なくとも感光層（電荷発生層及び電荷輸送層）を含む感光層の膜厚（μｍ）を表す。

前記露光は、例えば、前記露光器を用いて前記静電潜像担持体の表面を像様に露光することにより行うことができる。前記露光器の種類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、複写光学系、ロッドレンズアレイ系、レーザー光学系、液晶シャッタ光学系、などの各種露光器が挙げられる。なお、本発明においては、前記静電潜像担持体の裏面側から像様に露光を行う光背面方式を採用してもよい。

前記露光器の光源としては、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの高輝度が確保できる光源が使用される。
使用する光源（書き込み光）の解像度により、形成される静電潜像ひいてはトナー像の解像度が決定され、解像度が高いほど鮮明な画像が得られる。しかしながら、解像度を高くして書き込みを行うとそれだけ書き込みに時間がかかることになるため、書き込み光源が１つであると書き込みがドラム線速（プロセス速度）の律速になってしまう。従って、書き込み光源が１つの場合には２４００ｄｐｉ程度の解像度が上限となる。書き込み光源が複数の場合には、それぞれが書き込み領域を負担すれば良く、実質的には「２４００ｄｐｉ×書き込み光源個数」が上限となる。これらの光源のうち、発光ダイオード、及び半導体レーザーは照射エネルギーが高く、良好に使用される。

また、露光器の光源波長として、４５０ｎｍよりも短波長の光源を用いることにより、より精細な静電潜像が形成されるため、本発明においては有効に使用される。このような波長範囲にレーザー発振させる技術としては第２高調波発生（ＳＨＧ）を用いてレーザー光の波長を２分の１にする方法や、ワイドギャップ半導体を用いるものが挙げられる。近年では、４００〜４１０ｎｍの波長領域にレーザー発振するＬＤも開発され、これを用いた光学系が開発されており、本発明にも有益に用いることができる。現在の書き込み光の使用できる波長下限値は、電荷輸送層や保護層を構成する材料によって異なるが、概ね３５０ｎｍ程度である。新たな材料、レーザーの開発によってこの下限値は短波長化するものである。

−現像手段−
前記現像は、前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成することにより行うことができる。前記トナーは、感光体の帯電極性と同極性のトナーを用いられ、反転現像（ネガ・ポジ現像）によって、静電潜像が現像される。また、トナーのみで現像を行う１成分方式と、トナー及びキャリアからなる２成分現像剤を使用した２成分方式の２通りの方法があるが、いずれの場合にも良好に使用できる。

−転写手段−
前記転写手段は、前記可視像を記録媒体に転写する手段であるが、感光体表面から記録媒体に可視像を直接転写する方法と、中間転写体を用い、該中間転写体上に可視像を一次転写した後、該可視像を前記記録媒体上に二次転写する方法がある。いずれの態様も良好に使用することができるが、高画質化に際して転写による悪影響が大きいような場合には、転写回数が少ない前者（直接転写）の方法が好ましい。

前記転写は、例えば、前記可視像を転写帯電器を用いて前記静電潜像担持体（感光体）を帯電することにより行うことができ、前記転写手段により行うことができる。なお、転写手段としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の転写手段の中から適宜選択することができ、例えば、記録媒体の搬送も同時に行うことのできる転写搬送ベルト等が好適に挙げられる。

前記転写手段（前記第一次転写手段、前記第二次転写手段）は、前記静電潜像担持体（感光体）上に形成された前記可視像を前記記録媒体側へ剥離帯電させる転写帯電器を少なくとも有するのが好ましい。前記転写手段は、１つであってもよいし、２以上であってもよい。前記転写帯電器としては、コロナ放電によるコロナ転写器、転写ベルト、転写ローラ、圧力転写ローラ、粘着転写器、などが挙げられる。なお、前記記録媒体としては、特に制限はなく、公知の記録媒体（記録紙）の中から適宜選択することができる。

また、転写帯電器は転写ベルト、転写ローラを用いることも可能であるが、オゾン発生量の少ない転写ベルトや転写ローラ等の接触型を用いることが望ましい。なお、転写時の電圧／電流印加方式としては、定電圧方式、定電流方式のいずれの方式も用いることが可能であるが、転写電荷量を一定に保つことができ、安定性に優れた定電流方式がより望ましい。このような転写部材は、構成上、本発明の構成を満足できるものであれば、公知のものを使用することができる。

前述の通り、転写後の感光体表面電位（除電部に突入する差異の表面電位）によって、画像形成１サイクルあたりの感光体通過電荷量が大きく異なる。これが大きいほど、繰り返し使用における感光体の静電疲労に大きな影響を及ぼす。
この通過電荷量とは、感光体の膜厚方向を流れる電荷量に相当する。感光体の画像形成装置中の動作として、メイン帯電器により所望の帯電電位に帯電され（ほとんどの場合負帯電される）、原稿に応じた入力信号に基づき光書き込みが行われる。この際、書き込みが行われた部分は光キャリアが発生し、表面電荷を中和する（電位減衰する）。この時、光キャリア発生量に依存した電荷量が感光体膜厚方向に流れる。一方、光書き込みが行われない領域（非書き込み部）は、現像工程及び転写工程を経て、除電工程に進む（必要に応じて、その前にクリーニング工程が施される）。ここで、感光体の表面電位がメイン帯電により施された電位に近い状態（暗減衰分は除く）であると、光書き込みが行われた領域とほぼ同じ量の電荷量が感光体膜厚方向に流れることになる。一般的に、現在の原稿は書き込み率が低いため、この方式であると、繰り返し使用における感光体の通過電荷量は除電工程で流れる電流がほとんどと言うことになる（書き込み率が１０％であるとすると、除電工程で流れる電流は、全体の９割を占めることになる）。

この通過電荷は、感光体を構成する材料の劣化を引き起こす等、感光体静電特性に大きく影響を及ぼす。その結果、通過電荷量に依存して、特に感光体の残留電位を上昇させる。感光体の残留電位が上昇すると、本発明で使用されるネガ及びポジ現像では、画像濃度が低下することになり、大きな問題となる。従って、画像形成装置内での感光体の長寿命化（高耐久化）を狙うためには、如何に感光体の通過電荷量を小さくするかという課題が存在する。

これに対して、光除電を行わないという考え方もあるが、メイン帯電器の帯電器能力が大きくないと、帯電の安定化が図れず、残像のような問題を生じる場合がある。感光体の通過電荷は、感光体表面に帯電された電位（これにより生じた電界）により、光照射が行われることにより、発生した光キャリアが移動することにより生じる。従って、感光体表面電位を光以外の手段で減衰させることが出来れば、感光体１回転（画像形成１サイクル）あたりの通過電荷量を低減することができる。

このためには、転写工程において転写バイアスを調整することにより、感光体通過電荷量を調整することが有効である。即ち、メイン帯電器により帯電され、書き込みが行われない非書き込み部は、暗減衰量を除き、帯電された電位に近い状態で転写工程に突入する。この際、メイン帯電器により帯電された極性側の絶対値として１００Ｖ以下まで低減することにより、引き続く除電工程に突入しても光キャリア発生がほとんど行われず、通過電荷が生じない。この値は、０Ｖより近いほど好ましい。

更には、転写バイアスの調整により、メイン帯電により施される帯電極性とは逆極性に感光体表面電位が帯電するように転写バイアスを印加させることにより、光キャリアが絶対に発生しないため、より望ましい。但し、逆極性にまで帯電するような転写条件では、場合により転写チリを多く発生させたり、次の画像形成プロセス（サイクル）のメイン帯電が追いつかない場合が出てくる。その場合には、残像のような不具合が発生する場合があるため、逆極性の絶対値として１００Ｖ以下であることが好ましい。
以上のような制御を加えることは、本発明における効果を顕著なものとして、有効に使用できるものである。

−定着手段−
前記定着は、記録媒体に転写された可視像を、定着装置を用いて定着され、各色のトナーに対し前記記録媒体に転写する毎に行ってもよいし、各色のトナーに対しこれを積層した状態で一度に同時に行ってもよい。
前記定着装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、公知の加熱加圧手段が好適である。前記加熱加圧手段としては、加熱ローラと加圧ローラとの組み合わせ、加熱ローラと加圧ローラと無端ベルトとの組み合わせ、などが挙げられる。前記加熱加圧手段における加熱は、通常、８０℃〜２００℃が好ましい。なお、本発明においては、目的に応じて、前記定着工程及び定着手段と共にあるいはこれらに代えて、例えば、公知の光定着器を用いてもよい。

−除電手段−
前記除電手段としては、５００ｎｍ未満（好ましくは４８０ｎｍ未満、より好ましくは４５０ｎｍ未満）の波長を有し、前記静電潜像担持体に対し除電を行うことが出来れば良く、公知の除電器の中から適宜選択することができ、例えば、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）等が好適に挙げられる。
半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）等の光源には、５００ｎｍ未満に発振波長を有する半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）等、あるいは蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、キセノンランプ等と発光が５００ｎｍ未満に制限できるような適当な光学フィルターと組み合わせたもの等を用いることができる。前記光学フィルターとは、所望の波長域の光（５００ｎｍ未満）のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。

このような波長範囲にレーザー発振させる技術としてはいくつかの手法が挙げられる。一つは、非線形光学材料を利用し、第２高調波発生（ＳＨＧ）を用いてレーザー光の波長を２分の１にするものである（例えば、特開平９−２７５２４２号公報、特開平９−１８９９３０号公報、特開平５−３１３０３３号公報等参照）。この系は、一次光源として、既に技術が確立し高出力可能なＧａＡｓ系ＬＤやＹＡＧレーザーを使用することができるため、長寿命化や大出力化が可能である。もう一つは、ワイドギャップ半導体を用いるもので、ＳＨＧ利用のデバイスと比べ、装置の小型化が可能である。ＺｎＳｅ系半導体（特開平７−３２１４０９号公報、特開平６−３３４２７２号公報等参照）や、ＧａＮ系半導体（特開平８−８８４４１号公報、特開平７−３３５９７５号公報等参照）を用いたＬＤが、その発光効率の高さから、以前から多くの研究の対象となっている。また、比較的最近の技術として、日亜化学工業から、ＧａＮ系半導体を用いたＬＤ（４０５ｎｍ発振）が実用化され、上記の技術よりも格段に進んだ書き込み系が開発され、本発明にも有益に用いることができる。
また、上記材料を用いたＬＥＤランプ等も上市されており、これらも有効に使用することが出来る。

一方、現時点では次の課題により下限値が定められる。即ち、感光体（書き込み光入射側に存在する電荷輸送層や保護層）を構成する材料として、電荷輸送物質が挙げられるが、高移動度を有し、実用レベルで使用出来る電荷輸送物質の中で３５０ｎｍ程度よりも短波長側の成分の光に対して十分に透明な材料が存在しないことである。これは、現在開発されている電荷輸送物質の殆どがトリアリールアミン構造を有するものであり、この材料の長波長側の吸収端が概ね３００〜３５０ｎｍであることに由来する。従って、除電用光源の更なる短波長化と電荷輸送物質の更なる透明化（吸収の短波長化）が実現されれば、本発明に使用出来る光源の発振波長の加減は更に短波長側に延びることになる。

−その他−
前記クリーニング手段としては、特に制限はなく、前記静電潜像担持体上に残留する前記電子写真トナーを除去することができればよく、公知のクリーナの中から適宜選択することができ、例えば、磁気ブラシクリーナ、静電ブラシクリーナ、磁気ローラクリーナ、ブレードクリーナ、ブラシクリーナ、ウエブクリーナ等が好適に挙げられる。
前記リサイクル手段は、前記クリーニング手段により除去した前記電子写真用カラートナーを前記現像手段にリサイクルさせる工程であり、例えば、公知の搬送手段等が挙げられる。
前記制御手段は、前記各工程を制御する工程であり、制御手段により好適に行うことができる。
前記制御手段としては、前記各手段の動きを制御することができる限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シークエンサー、コンピュータ等の機器が挙げられる。

ここで、本発明の画像形成装置の一の態様について、図１０を参照しながら説明する。
図１０は、本発明の画像形成装置を説明するための概略図であり、後に示すような変形例も本発明の範疇に属するものである。
図１０において、静電潜像担持体としての感光体（１）は支持体上に少なくとも有機系電荷発生物質を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質が含有される電荷輸送層からなる積層感光層と、比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質含有する保護層が設けられてなる。感光体（１）はドラム状の形状を示しているが、シート状、エンドレスベルト状のものであっても良い。

帯電器（３）には、ワイヤー方式の帯電器やローラ形状の帯電器が用いられる。高速帯電が必要とされる場合にはスコロトロン方式の帯電器が良好に使用され、コンパクト化や後述の感光体を複数使用するタンデム方式の画像形成装置においては、酸性ガス（ＮＯｘ、ＳＯｘ等）やオゾン発生量の少ないローラ形状の帯電器が有効に使用される。この帯電器により、感光体には帯電が施されるが、感光体に印加される電界強度は高いほどドット再現性が良好になるため、２０Ｖ／μｍ以上の電界強度が印加されることが望ましい。しかしながら、感光体の絶縁破壊や現像時のキャリア付着の問題を生み出す可能性があり、上限値は概ね６０Ｖ／μｍ以下、より好ましくは５０Ｖ／μｍ以下である。

また、画像露光部（５）には、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの高輝度が確保でき、高解像度（６００ｄｐｉ以上の解像度）で書き込むことのできる光源が使用される。光源（書き込み光）の解像度により、形成される静電潜像ひいてはトナー像の解像度が決定され、解像度が高いほど鮮明な画像が得られる。しかしながら、解像度を高くして書き込みを行うとそれだけ書き込みに時間がかかることになるため、書き込み光源が１つであると書き込みがドラム線速（プロセス速度）の律速になってしまう。従って、書き込み光源が１つの場合には１２００ｄｐｉ程度の解像度が上限となる。書き込み光源が複数の場合には、それぞれが書き込み領域を負担すれば良く、実質的には「１２００ｄｐｉ×書き込み光源個数」が上限となる。これらの光源のうち、発光ダイオード、及び半導体レーザーは照射エネルギーが高く、良好に使用される。
また上述のように発振波長が、４５０ｎｍより短波長のレーザー光を用いることは有効な手段である。

現像手段である現像ユニット（６）は、少なくとも１つの現像スリーブを有する。
現像ユニット（６）では、感光体の帯電極性と同極性のトナーが使用され、反転現像（ネガ・ポジ現像）によって、静電潜像が現像される。先の画像露光部に使用する光源によっても異なるが、近年使用するデジタル光源の場合には、一般的に画像面積率が低いことに対応して、書込部分にトナー現像を行う反転現像方式が光源の寿命等を考慮すると有利である。また、トナーのみで現像を行う１成分方式と、トナー及びキャリアからなる２成分現像剤を使用した２成分方式の２通りの方法があるが、いずれの場合にも良好に使用できる。

また、転写チャージャー（１０）は転写ベルト、転写ローラを用いることも可能であるが、オゾン発生量の少ない転写ベルトや転写ローラ等の接触型を用いることが望ましい。なお、転写時の電圧／電流印加方式としては、定電圧方式、定電流方式のいずれの方式も用いることが可能であるが、転写電荷量を一定に保つことができ、安定性に優れた定電流方式がより望ましい。特に、転写部材に電荷を供給する電源供給用部材（高圧電源）から出力された電流のうち、転写部材に関連する部分に流れ、感光体に流れ込まない電流を差し引くことにより、感光体への電流値を制御する方法が好ましい。

転写電流は、感光体に静電的に付着しているトナーを引きはがし、被転写体（転写紙もしくは中間転写体など）へ移行させるために与える必要電荷量に基づく電流である。転写残などの転写不良を回避するためには、転写電流を大きくすれば良いことになるが、ネガ及びポジ現像を用いた場合には、感光体の帯電極性と逆極性の帯電を与えることになり、感光体の静電疲労が著しいものとなる。転写電流は大きいほど、感光体−トナー間の静電付着力を上回る電荷量を与えられるため有利であるが、ある閾値を越えると転写部材−感光体間で放電現象を生じてしまい、微細に現像されたトナー像を散らせる結果になる。このため、上限値としてはこの放電現象を起こさない範囲ということになる。この閾値は転写部材−感光体間の空隙（距離）、両者を構成する材料などによって変わるものであるが、概ね２００μＡ以下程度で使用することにより、放電現象を回避できる。従って、転写電流の上限値は２００μＡ程度である。

また、感光体上の形成されたトナー像は、転写紙に転写されることで転写紙上の画像となるものであるが、この際、２つの方法がある。１つは図１０に示すような感光体表面に現像されたトナー像を転写紙に直接転写する方法と、もう１つはいったん感光体から中間転写体にトナー像が転写され、これを転写紙に転写する方法である。いずれの場合にも本発明において用いることができる。
このような転写部材は、構成上、本発明の構成を満足できるものであれば、公知のものを使用することができる。
また、前述のように転写電流を制御することで、転写後の感光体表面電位（書き込み光の未露光部）を低下させておくことは、画像形成１サイクルあたりの感光体通過電荷量を低減することが出来、本発明においては有効に使用される。

除電ランプ（２）等の光源には、５００ｎｍ未満（好ましくは４８０ｎｍ未満、より好ましくは４５０ｎｍ未満）の波長を有し、前記静電潜像担持体に対し除電を行うことが出来れば良く、公知の除電器の中から適宜選択することができ、例えば、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）等が好適に挙げられる。
半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）等の光源には、５００ｎｍ未満に発振波長を有する半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）等、あるいは蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、キセノンランプ等と発光が５００ｎｍ未満に制限できるような適当な光学フィルターと組み合わせたもの等を用いることができる。前記光学フィルターとは、所望の波長域の光（５００ｎｍ未満）のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。
使用する波長の下限値としては、感光体に使用される電荷輸送層や保護層の透過率によって異なるが、概ね３００〜３５０ｎｍが下限となる。

図１０中、８はレジストローラ、１１は分離チャージャー、１２は分離爪である。
また、現像ユニット（６）により感光体（１）上に現像されたトナーは、転写紙（９）に転写されるが、感光体（１）上に残存するトナーが生じた場合、ファーブラシ（１４）及びクリーニングブレード（１５）により、感光体より除去される。クリーニングは、クリーニングブラシだけで行われることもあり、クリーニングブラシにはファーブラシ、マグファーブラシを始めとする公知のものが用いられる。

次に、図１１は、本発明のタンデム型のフルカラー画像形成装置を説明するための概略図であり、下記するような変形例も本発明の範疇に属するものである。
図１１において、符号（１６Ｙ）、（１６Ｍ）、（１６Ｃ）、（１６Ｋ）はドラム状の感光体であり、感光体は支持体上に少なくとも有機系電荷発生物質を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質が含有される電荷輸送層からなる積層感光層と、比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質含有する保護層が設けられてなる。

この感光体（１６Ｙ）、（１６Ｍ）、（１６Ｃ）、（１６Ｋ）は図１１中の矢印方向に回転可能であり、その周りに少なくとも回転順に帯電器（１７Ｙ）、（１７Ｍ）、（１７Ｃ）、（１７Ｋ）、少なくとも１つの現像スリーブを有する現像手段（１９Ｙ）、（１９Ｍ）、（１９Ｃ）、（１９Ｋ）、クリーニング部材（２０Ｙ）、（２０Ｍ）、（２０Ｃ）、（２０Ｋ）、５００ｎｍよりも短波長（好ましくは４８０ｎｍ未満、より好ましくは４５０ｎｍ未満）の光を照射する除電手段（２７Ｙ）、（２７Ｍ）、（２７Ｃ）、（２７Ｋ）が配置されている。帯電器（１７Ｙ）、（１７Ｍ）、（１７Ｃ）、（１７Ｋ）は、感光体表面を均一に帯電するための帯電装置を構成する帯電器である。この帯電器（１７Ｙ）、（１７Ｍ）、（１７Ｃ）、（１７Ｋ）と現像手段（１９Ｙ）、（１９Ｍ）、（１９Ｃ）、（１９Ｋ）の間の感光体表面側より、露光器（１８Ｙ）、（１８Ｍ）、（１８Ｃ）、（１８Ｋ）からのレーザー光が照射され、感光体（１６Ｙ）、（１６Ｍ）、（１６Ｃ）、（１６Ｋ）に静電潜像が形成されるようになっている。そして、このような感光体（１６Ｙ）、（１６Ｍ）、（１６Ｃ）、（１６Ｋ）を中心とした４つの画像形成要素（２５Ｙ）、（２５Ｍ）、（２５Ｃ）、（２５Ｋ）が、転写材搬送手段である転写搬送ベルト（２２）に沿って並置されている。転写搬送ベルト（２２）は各画像形成ユニット（２５Ｙ）、（２５Ｍ）、（２５Ｃ）、（２５Ｋ）の現像手段（１９Ｙ）、（１９Ｍ）、（１９Ｃ）、（１９Ｋ）とクリーニング部材（２０Ｙ）、（２０Ｍ）、（２０Ｃ）、（２０Ｋ）の間で感光体（１６Ｙ）、（１６Ｍ）、（１６Ｃ）、（１６Ｋ）に当接しており、転写搬送ベルト（２２）の感光体側の裏側に当たる面（裏面）には転写バイアスを印加するための転写ブラシ（２１Ｙ）、（２１Ｍ）、（２１Ｃ）、（２１Ｋ）が配置されている。各画像形成要素（２５Ｙ）、（２５Ｍ）、（２５Ｃ）、（２５Ｋ）は現像装置内部のトナーの色が異なることであり、その他は全て同様の構成となっている。

図１１に示す構成のフルカラー画像形成装置において、画像形成動作は次のようにして行われる。まず、各画像形成要素（２５Ｙ）、（２５Ｍ）、（２５Ｃ）、（２５Ｋ）において、感光体（１６Ｙ）、（１６Ｍ）、（１６Ｃ）、（１６Ｋ）に静電潜像が形成されるようになっている。そして、このような感光体（１６Ｙ）、（１６Ｍ）、（１６Ｃ）、（１６Ｋ）が回転し、帯電器（１７Ｙ）、（１７Ｍ）、（１７Ｃ）、（１７Ｋ）により、感光体が帯電される。この際、高精細の潜像を形成するためには、感光体の電界強度が２０Ｖ／μｍ以上（６０Ｖμｍ以下、好ましくは５０Ｖ／μｍ以下）になるように帯電が施される。

次に、感光体の外側に配置された露光部（１８Ｙ）、（１８Ｍ）、（１８Ｃ）、（１８Ｋ）でレーザー光により、１２００ｄｐｉ以上（好ましくは２４００ｄｐｉ以上）の解像度で書き込みが行われ、作成する各色の画像に対応した静電潜像が形成される。この書き込み光源としては前述の様に、任意の感光体に適した光源が用いられる。この場合にも書き込み光源１つに対して２４００ｄｐｉの書き込みが概ね上限となる。この場合にも、上述のように発振波長が、４５０ｎｍより短波長のレーザー光を用いることは有効な手段である。

次に、現像手段（１９Ｙ）、（１９Ｍ）、（１９Ｃ）、（１９Ｋ）により潜像を現像してトナー像が形成される。現像手段（１９Ｙ）、（１９Ｍ）、（１９Ｃ）、（１９Ｋ）は、それぞれＹ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）、Ｋ（ブラック）のトナーで現像を行う現像手段で、４つの感光体（１６Ｙ）、（１６Ｍ）、（１６Ｃ）、（１６Ｋ）上で作られた各色のトナー像は転写紙上で重ねられる。転写紙（２６）は給紙コロ（図示せず）によりトレイから送り出され、一対のレジストローラ（２３）で一旦停止し、上記感光体上への画像形成とタイミングを合わせて転写搬送ベルト（２２）に送られる。転写搬送ベルト（２２）上に保持された転写紙（２６）は搬送されて、各感光体（１６Ｙ）、（１６Ｍ）、（１６Ｃ）、（１６Ｋ）との当接位置（転写部）で各色トナー像の転写が行われる。

感光体上のトナー像は、転写ブラシ（２１Ｙ）、（２１Ｍ）、（２１Ｃ）、（２１Ｋ）に印加された転写バイアスと感光体（１６Ｙ）、（１６Ｍ）、（１６Ｃ）、（１６Ｋ）との電位差から形成される電界により、転写紙（２６）上に転写される。そして４つの転写部を通過して４色のトナー像が重ねられた転写紙（２６）は定着装置（２４）に搬送され、トナーが定着されて、図示しない排紙部に排紙される。
また、転写部で転写されずに各感光体（１６Ｙ）、（１６Ｍ）、（１６Ｃ）、（１６Ｋ）上に残った残留トナーは、クリーニング装置（２０Ｙ）、（２０Ｍ）、（２０Ｃ）、（２０Ｋ）で回収される。

続いて、５００ｎｍよりも短波長の光源を有する除電部材（２７Ｙ）、（２７Ｍ）、（２７Ｃ）、（２７Ｋ）により、感光体上の余分な残留電荷が除去される。この後再び、帯電器で均一に帯電が施されて、次の画像形成が行われる。
なお、図１１の例では画像形成要素は転写紙搬送方向上流側から下流側に向けて、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）、Ｋ（ブラック）の色の順で並んでいるが、この順番に限るものではなく、色順は任意に設定されるものである。また、黒色のみの原稿を作成する際には、黒色以外の画像形成要素（（２５Ｙ）、（２５Ｍ）、（２５Ｃ））が停止するような機構を設けることは本発明に特に有効に利用できる。

また、先に述べたように転写後の感光体表面が、主帯電器により帯電させた極性側に１００Ｖ以下に帯電させることが好ましく、逆極性側に帯電させることがより好ましく、逆極性側に１００Ｖ以下に帯電させることが特に好ましい。これにより、感光体の繰り返し使用における残留電位の上昇を低減化することができる。

以上に示すような画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンタ内に固定して組み込まれていてもよいが、プロセスカートリッジの形でそれら装置内に組み込まれてもよい。プロセスカートリッジとは、感光体を内蔵し、他に静電潜像形成手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段等を含んだ１つの装置（部品）である。プロセスカートリッジの形状等は多く挙げられるが、一般的な例として、図１２に示すものが挙げられる。感光体（１０１）は支持体上に少なくとも有機系電荷発生物質を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質が含有される電荷輸送層からなる積層感光層と、比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質含有する保護層が設けられてなる。

画像露光部（１０３）には、前述のように好ましくは６００ｄｐｉ以上の解像度で書き込みが行うことのできる光源が用いられ、帯電器（１０２）には、任意の帯電器が用いられる。図１２中、１０４は少なくとも１つの現像スリーブを有する現像手段、１０５は転写体、１０６は転写手段、１０７はクリ−ニング手段、１０８は５００ｎｍよりも短波長（好ましくは４８０ｎｍ未満、より好ましくは４５０ｎｍ未満）の光源を有する除電部材である。

以下、実施例により本発明について詳細に説明するが、本発明は、下記実施例に何ら限定されるものではない。尚、部はすべて質量部である。
まず、本発明に用いたアゾ顔料及びチタニルフタロシアニン結晶の合成方法について述べる。以下の実施例で使用するアゾ顔料は、特公平６０−２９１０９号公報及び特許第３０２６６４５号公報に記載の方法に準じて作製したものである。また、チタニルフタロシアニン結晶は、以下に示すように特開２００１−１９８７１号公報及び特開２００４−８３８５９号公報に準じて作製した。

−チタニルフタロシアニン結晶の合成−
（合成例１）
特開２００１−１９８７１号公報、合成例１に準じて、顔料を作製した。即ち、１，３−ジイミノイソインドリン２９．２ｇとスルホラン２００ｍｌを混合し、窒素気流下でチタニウムテトラブトキシド２０．４ｇを滴下する。滴下終了後、徐々に１８０℃まで昇温し、反応温度を１７０℃〜１８０℃の間に保ちながら５時間撹拌して反応を行った。反応終了後、放冷した後、析出物を濾過し、クロロホルムで粉体が青色になるまで洗浄し、次にメタノールで数回洗浄し、更に８０℃の熱水で数回洗浄した後乾燥し、粗チタニルフタロシアニンを得た。粗チタニルフタロシアニンを２０倍量の濃硫酸に溶解し、１００倍量の氷水に撹拌しながら滴下し、析出した結晶を濾過し、次いで、洗浄液が中性になるまでイオン交換水（ｐＨ：７．０、比伝導度：１．０μＳ／ｃｍ）により水洗いを繰り返し（洗浄後のイオン交換水のｐＨ値は６．８、比伝導度は２．６μＳ／ｃｍであった）、チタニルフタロシアニン顔料のウェットケーキ（水ペースト）を得た。得られたこのウェットケーキ（水ペースト）４０ｇをテトラヒドロフラン２００ｇに投入し、４時間攪拌を行った後、濾過を行い、乾燥して、チタニルフタロシアニン粉末を得た。これを顔料１とする。
前記ウェットケーキの固形分濃度は、１５質量％であった。結晶変換溶媒は、前記ウェットケーキに対する質量比で３３倍の量を用いた。なお、合成例１の原材料には、ハロゲン含有化合物を使用していない。

得られたチタニルフタロシアニン粉末を、下記の条件によりＸ線回折スペクトル測定したところ、Ｃｕ−Ｋα線（波長１．５４２Å）に対するブラッグ角２θが２７．２±０．２°に最大ピークと最低角７．３±０．２°にピークを有し、更に９．４±０．２°、９．６±０．２°、２４．０±０．２°に主要なピークを有し、かつ７．３°のピークと９．４°のピークの間にピークを有さず、更に２６．３°にピークを有さないチタニルフタロシアニン粉末を得られた。その結果を図１３に示す。

また、合成例１で得られた水ペーストの一部を８０℃の減圧下（５ｍｍＨｇ）で、２日間乾燥して、低結晶性チタニルフタロシアニン粉末を得た。水ペーストの乾燥粉末のＸ線回折スペクトルを図１４に示す。

＜Ｘ線回折スペクトル測定条件＞
Ｘ線管球：Ｃｕ
電圧：５０ｋＶ
電流：３０ｍＡ
走査速度：２°／分
走査範囲：３°〜４０°
時定数：２秒

（合成例２）
−チタニルフタロシアニン結晶の合成−
特開２００４−８３８５９号公報、実施例１の方法に従って、チタニルフタロシアニン顔料の水ペーストを合成し、次のように結晶変換を行い、先の合成例１よりも一次粒子の小さなフタロシアニン結晶を得た。
先の合成例１で得られた結晶変換前の水ペースト６０質量部にテトラヒドロフラン４００質量部を加え、室温下でホモミキサー（ケニス、ＭＡＲＫIIｆモデル）により強烈に撹拌（２０００ｒｐｍ）し、ペーストの濃紺色の色が淡い青色に変化したら（撹拌開始後２０分）、撹拌を停止し、直ちに減圧濾過を行った。濾過装置上で得られた結晶をテトラヒドロフランで洗浄し、顔料のウェットケーキを得た。これを減圧下（５ｍｍＨｇ）、７０℃で２日間乾燥して、チタニルフタロシアニン結晶８．５質量部を得た。これを顔料２とする。合成例２の原材料には、ハロゲン含有化合物を使用していない。前記ウェットケーキの固形分濃度は、１５質量％であった。結晶変換溶媒は、前記ウェットケーキに対する質量比で４４倍の量を用いた。

合成例１で作製された結晶変換前チタニルフタロシアニン（水ペースト）の一部をイオン交換水でおよそ１質量％になるように希釈し、表面を導電性処理した銅製のネットですくい取り、チタニルフタロシアニンの粒子径を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ、日立：Ｈ−９０００ＮＡＲ）にて、７５０００倍の倍率で観察を行った。平均粒子径として、以下のように求めた。
上述のように観察されたＴＥＭ像をＴＥＭ写真として撮影し、映し出されたチタニルフタロシアニン粒子（針状に近い形）を３０個任意に選び出し、それぞれの長径の大きさを測定する。測定した３０個体の長径の算術平均を求めて、平均粒子径とした。以上の方法により求められた合成例１における水ペースト（ウェットケーキ）中の平均粒子径は、０．０６μｍであった。

また、合成例１及び合成例２における濾過直前の結晶変換後チタニルフタロシアニン結晶を、テトラヒドロフランでおよそ１質量％になるように希釈し、上の方法と同様に観察を行った。上記のようにして求めた平均粒子径を表１に示す。なお、合成例１及び合成例２で作製されたチタニルフタロシアニン結晶は、必ずしも全ての結晶の形が同一ではなかった（三角形に近い形、四角形に近い形など）。このため、結晶の最も大きな対角線の長さを長径として、計算を行った。

合成例２で作製した顔料２は、先程と同様の方法でＸ線回折スペクトルを測定した。その結果、合成例２で作製した顔料２のＸ線回折スペクトルは、合成例１で作製した顔料１のスペクトルと一致した。

（分散液作製例１）
合成例１で作製した顔料１を下記組成の処方にて、下記に示す条件にて分散を行い電荷発生層用塗工液として、分散液を作製した。
チタニルフタロシアニン顔料（顔料１）１５部
ポリビニルブチラール（積水化学製：ＢＸ−１）１０部
２−ブタノン２８０部
市販のビーズミル分散機に直径０．５ｍｍのＰＳＺボールを用い、ポリビニルブチラールを溶解した２−ブタノン及び顔料を全て投入し、ローター回転数１２００ｒ．ｐ．ｍ．にて３０分間分散を行い、分散液を作製した。これを分散液１とした。

（分散液作製例２）
分散液作製例１で使用した顔料１に変えて、それぞれ合成例２で作製した顔料２を使用して、分散液作製例１と同じ条件にて分散液を作製した。これを分散液２とした。
（分散液作製例３）
分散液作製例１で作製した分散液１を、アドバンテック社製、コットンワインドカートリッジフィルター、ＴＣＷ−１−ＣＳ（有効孔径１μｍ）を用いて、濾過を行った。濾過に際しては、ポンプを使用し、加圧状態で濾過を行った。これを分散液３とした。
（分散液作製例４）
分散液作製例３で使用したフィルターを、アドバンテック社製、コットンワインドカートリッジフィルター、ＴＣＷ−３−ＣＳ（有効孔径３μｍ）に変えた以外は、分散液作製例３と同様に加圧濾過を行い分散液を作製した。これを分散液４とした。

（分散液作製例５）
下記組成の処方にて、下記に示す条件にて分散を行い、電荷発生層用塗工液として、分散液を作製した。
下記構造のアゾ顔料５部
ポリビニルブチラール（積水化学製：ＢＸ−１）２部
シクロヘキサノン２５０部
２−ブタノン１００部
ボールミル分散機に直径１０ｍｍのＰＳＺボールを用い、ポリビニルブチラールを溶解した溶媒およびアゾ顔料を全て投入し、回転数８５ｒ．ｐ．ｍ．にて７日間分散を行ない、分散液を作製した（分散液５とする）。

（分散液作製例６）
分散液作製例５で使用したアゾ顔料を下記構造のものに変更した以外は、分散液作製例５と同様に分散液を作製した（分散液６とする）。

以上のように作製した分散液中の顔料粒子の粒度分布を、堀場製作所：ＣＡＰＡ−７００にて測定した。結果を表２に示す。

（感光体作製例１）
φ３０ｍｍのアルミドラム（ＪＩＳ１０５０）上に、下記組成の中間層塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液および保護層塗工液を、順次塗布・乾燥し、３．５μｍの中間層、０．５μｍの電荷発生層、２２μｍの電荷輸送層、３μｍの保護層を形成し、積層感光体を作製した（電子写真感光体１とする）。
◎中間層塗工液
酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ：石原産業社製、平均粒径：０．２５μｍ）１１２部
アルキッド樹脂［ベッコライトＭ６４０１−５０−Ｓ（固形分５０％）、
大日本インキ化学工業製］３３．６部
メラミン樹脂［スーパーベッカミンＬ−１２１−６０（固形分６０％）、
大日本インキ化学工業製］１８．７部
２−ブタノン２６０部

◎電荷発生層塗工液
先に作製した分散液１を用いた。
◎電荷輸送層塗工液
ポリカーボネート（ＴＳ２０５０：帝人化成社製）１０部
下記構造式の電荷輸送物質７部
塩化メチレン８０部

◎保護層塗工液
ポリカーボネート（ＴＳ２０５０：帝人化成社製）１０部
下記構造式の電荷輸送物質７部
アルミナ微粒子４部
（比抵抗：２．５×１０¹²Ω・ｃｍ、平均一次粒径：０．４μｍ）
シクロヘキサノン５００部
テトラヒドロフラン１５０部

（実施例１）
以上のように作製した電子写真感光体１を図１０に示すような画像形成装置に搭載し、画像露光光源を７８０ｎｍの半導体レーザー（ポリゴン・ミラーによる画像書き込み）、帯電部材としてスコロトロン帯電器、転写部材として転写ベルトを用い、除電光源として４２８ｎｍＬＥＤ（ローム製：半値幅６５ｎｍ）を用いた。試験前のプロセス条件が下記になるように設定し、書き込み率６％のチャート（Ａ４全面に対して、画像面積として６％相当の文字が平均的に書かれている）を用い、連続５万枚印刷を行った。
感光体帯電電位（未露光部電位）： −９００Ｖ
現像バイアス： −６５０Ｖ（ネガ・ポジ現像）
除電後表面電位（書き込み光未露光部）： −１００Ｖ

評価は、５万枚の画像印刷前後における感光体露光部電位を測定した。
測定方法としては、図１０に示す現像部位置に、表面電位計を搭載し、感光体を−９００Ｖに帯電した後、上記半導体レーザーでベタ書込みを行ない、現像部位における未露光部表面電位及び露光部電位を測定した。結果を表３に示す。

（実施例２）
実施例１における除電光源として、４７２ｎｍＬＥＤ（星和電機製：半値幅１５ｎｍ）に変更した以外は、実施例１と同様に評価を行った。除電後の感光体表面電位が、実施例１の場合と同じになるように、除電光量を調整した。結果を表３に示す。

（比較例１）
実施例１における除電光源として、５０２ｎｍＬＥＤ（星和電機製：半値幅１５ｎｍ）に変更した以外は、実施例１と同様に評価を行った。除電後の感光体表面電位が、実施例１の場合と同じになるように、除電光量を調整した。結果を表３に示す。
（比較例２）
実施例１における除電光源として、５９１ｎｍＬＥＤ（ローム製：半値幅１５ｎｍ）に変更した以外は、実施例１と同様に評価を行った。除電後の感光体表面電位が、実施例１の場合と同じになるように、除電光量を調整した。結果を表３に示す。

（比較例３）
実施例１における除電光源として、６３０ｎｍＬＥＤ（ローム製：半値幅２０ｎｍ）に変更した以外は、実施例１と同様に評価を行った。除電後の感光体表面電位が、実施例１の場合と同じになるように、除電光量を調整した。結果を表３に示す。
（比較例４）
実施例１における除電光源として、蛍光灯（図１に示す発光スペクトルを有する）に変更した以外は、実施例１と同様に評価を行った。除電後の感光体表面電位が、実施例１の場合と同じになるように、除電光量を調整した。結果を表３に示す。
（比較例５）
実施例１における除電光源として、４２８ｎｍＬＥＤ（ローム製：半値幅６５ｎｍ）及び６３０ｎｍＬＥＤ（ローム製：半値幅２０ｎｍ）の２つを用いてほぼ同等の光量を同時に照射するように変更した以外は、実施例１と同様に評価を行った。除電後の感光体表面電位が、実施例１の場合と同じになるように、除電光量を調整した。結果を表３に示す。

表３から、除電光の波長を５００ｎｍ未満にした場合（実施例１、２）には、それよりも長波長を使用した場合（比較例１〜３）と比較して、繰り返し使用後の露光部電位の上昇が小さいことが分かる。中でも、４５０ｎｍ未満にした場合（実施例１）は、実施例２よりも更に効果が顕著であることが分かる。
また、発光分布が広く、５００ｎｍ以上の長波長光の成分を含む場合（比較例４）では、実施例ほどの明確な効果が得られていない。また、露光波長の異なる２種類の光源を用いた場合（比較例５）では、短波長光源による除電の効果が低減されていることが分かる。

（感光体作製例２）
感光体作製例１において、電荷発生層塗工液として、先に作製した分散液２を用いた以外は、感光体作製例１と同様に感光体を作製した（電子写真感光体２とする）。

（実施例３）
実施例１において、使用した電子写真感光体１の代わりに、電子写真感光体２を用いた以外は、実施例１と同様に評価を行った。結果を表４に示す。
（実施例４）
実施例２において、使用した電子写真感光体１の代わりに、電子写真感光体２を用いた以外は、実施例２と同様に評価を行った。結果を表４に示す。

（比較例６）
比較例１において、使用した電子写真感光体１の代わりに、電子写真感光体２を用いた以外は、比較例１と同様に評価を行った。結果を表４に示す。
（比較例７）
比較例２において、使用した電子写真感光体１の代わりに、電子写真感光体２を用いた以外は、比較例２と同様に評価を行った。結果を表４に示す。

（比較例８）
比較例３において、使用した電子写真感光体１の代わりに、電子写真感光体２を用いた以外は、比較例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。
（比較例９）
比較例４において、使用した電子写真感光体１の代わりに、電子写真感光体２を用いた以外は、比較例４と同様に評価を行った。結果を表４に示す。
（比較例１０）
比較例５において、使用した電子写真感光体１の代わりに、電子写真感光体２を用いた以外は、比較例５と同様に評価を行った。結果を表４に示す。

表４から、除電光の波長を５００ｎｍ未満にした場合（実施例３、４）には、それよりも長波長を使用した場合（比較例６〜８）と比較して、繰り返し使用後の露光部電位の上昇が小さいことが分かる。中でも、４５０ｎｍ未満にした場合（実施例３）は、実施例４よりも更に効果が顕著であることが分かる。
また、発光分布が広く、５００ｎｍ以上の長波長光の成分を含む場合（比較例９）では、実施例ほどの明確な効果が得られていない。また、露光波長の異なる２種類の光源を用いた場合（比較例１０）では、短波長光源による除電の効果が低減されていることが分かる。

（感光体作製例３）
感光体作製例１における電荷発生層塗工液（分散液１）を、分散液３に変更した以外は、感光体作製例１と同様に感光体を作製した（電子写真感光体３とする）。
（感光体作製例４）
感光体作製例１における電荷発生層塗工液（分散液１）を、分散液４に変更した以外は、感光体作製例１と同様に感光体を作製した（電子写真感光体４とする）。

（実施例５）
実施例１と同じ条件で、電子写真感光体１の代わりに電子写真感光体３を用いて評価を行った。また、５万枚の画像出力後に、白ベタの画像を出力して、地汚れの評価を実施した。実施例１及び３の結果と併せて表５に示す。
（実施例６）
実施例１と同じ条件で、電子写真感光体１の代わりに電子写真感光体４を用いて評価を行った。また、５万枚の画像出力後に、白ベタの画像を出力して、地汚れの評価を実施した。結果を表５に示す。

地汚れ評価は、地肌部に発生する黒点の数、大きさからランク評価を実施した。ランクは、４段階にて行い、極めて良好なものを◎、良好なものを○、やや劣るものを△、非常に悪いものを×で表わした。

表５より、電荷発生層に用いられる塗工液の平均粒径が０．２５μｍ以下の場合（実施例３、５、６）、感光体初期状態での露光部の表面電位を低下できるとともに、繰り返し使用後では、露光部電位上昇に影響を与えずに、地汚れの発生を抑制することが出来ることが分かる。

（感光体作製例５）
感光体作製例１における保護層塗工液中のアルミナ微粒子を以下のものに変更した以外は、感光体作製例１と同様に感光体を作製した（電子写真感光体５とする）。
酸化チタン微粒子４部
（比抵抗：１．５×１０¹⁰Ω・ｃｍ、平均一次粒径：０．５μｍ）
（感光体作製例６）
感光体作製例１における保護層塗工液中のアルミナ微粒子を以下のものに変更した以外は、感光体作製例１と同様に感光体を作製した（電子写真感光体６とする）。
酸化錫−酸化アンチモン粉末４部
（比抵抗：１０⁶Ω・ｃｍ、平均１次粒径０．４μｍ）

（感光体作製例７）
感光体作製例１における保護層塗工液を以下の組成のものに変更した以外は、感光体作製例１と同様に感光体を作製した（電子写真感光体７とする）。
◎保護層塗工液
ポリカーボネート（ＴＳ２０５０：帝人化成社製）１０部
アルミナ微粒子４部
（比抵抗：２．５×１０¹²Ω・ｃｍ、平均一次粒径：０．４μｍ）
シクロヘキサノン５００部
テトラヒドロフラン１５０部

（感光体作製例８）
感光体作製例５における保護層塗工液を下記組成のものに変更した以外は、感光体作製例５と同様に電子写真感光体を作製した（電子写真感光体８とする）。
◎保護層塗工液
下記構造式の高分子電荷輸送物質１７部
（重量平均分子量：約１４００００）
アルミナ微粒子４部
（比抵抗：２．５×１０¹²Ω・ｃｍ、平均一次粒径：０．４μｍ）
シクロヘキサノン５００部
テトラヒドロフラン１５０部

（感光体作製例９）
感光体作製例１における保護層塗工液を下記組成のものに変更した以外は、感光体作製例１と同様に電子写真感光体を作製した（電子写真感光体９とする）。
◎保護層塗工液
メチルトリメトキシシラン１００部
３％酢酸２０部
下記構造の電荷輸送性化合物３５部
アルミナ微粒子１５部
（比抵抗：２．５×１０¹²Ω・ｃｍ、平均一次粒径：０．４μｍ）
酸化防止剤（サノールＬＳ２６２６：三共化学社製）１部
ポリカルボン酸化合物（ＢＹＫＰ１０４：ビックケミー社製）０．４部
硬化剤（ジブチル錫アセテート）１部
２−プロパノール２００部

（実施例７）
以上のように作製した電子写真感光体５を図１０に示すような画像形成装置に搭載し、画像露光光源を７８０ｎｍの半導体レーザー（ポリゴン・ミラーによる画像書き込み）、帯電部材としてスコロトロン帯電器、転写部材として転写ベルトを用い、除電光源として４２８ｎｍＬＥＤ（ローム製：半値幅６５ｎｍ）を用いた。試験前のプロセス条件が下記になるように設定し、書き込み率６％のチャートを用い、連続５万枚印刷を行ない、実施例１との比較を行った。
感光体帯電電位（未露光部電位）： −９００Ｖ
現像バイアス： −６５０Ｖ（ネガ・ポジ現像）
除電後表面電位（書き込み光未露光部）： −１００Ｖ

＜評価項目＞
（１）表面電位測定
評価は、５万枚の画像印刷前後における感光体露光部電位を測定した。
測定方法としては、図１０に示す現像部位置に、表面電位計を搭載し、感光体を−９００Ｖに帯電した後、上記半導体レーザーでベタ書込みを行ない、現像部位における未露光部表面電位及び露光部電位を測定した。結果を表６に示す。

（２）地汚れ評価
また、５万枚の画像出力後（表面電位測定終了後）に、白ベタの画像を出力して、地汚れの評価を実施した（２２℃−５０％ＲＨ）。地汚れ評価は、前述の４段階のランク評価にて、評価を実施した。結果を表６に示す。

（３）クリーニング性評価
更に、地汚れ評価後に、低温低湿環境下（１０℃、１５％ＲＨ）で、図１５に示すようなテストチャートを用い、実施例１と同じ条件下で、黒ベタ部から白ベタ部の方向で画像出力し、連続５０枚の印刷を実施し、クリーニング性の評価を実施した。この際、５０枚目の白ベタ部の画像を目視にて評価した。評価は４段階にて行ない、極めて良好なもの（クリーニング不良全くなし）を◎、良好なもの（うっすらと黒スジが入るレベル、長手方向で１〜２カ所）を○、やや劣るもの（うっすらと黒スジが入るレベル、長手方向で３〜４カ所）を△、非常に悪いもの（明確に黒スジが入るレベル）を×で表わした。結果を表６に示す。

（４）ドット再現性評価
先のクリーニング性試験に引き続き、高温高湿環境（３０℃−９０％ＲＨ）にて、更に１０００枚の通紙試験（先の６％チャーと使用）を行い、１０００枚通紙後に１ドット画像評価（独立ドットを書き込んだ画像を出力）を実施した。１ドット画像を光学顕微鏡で観察し、ドット輪郭の明確さをランク評価した。ランク評価は４段階にて行ない、極めて良好なものを◎、良好なものを○、やや劣るものを△、非常に悪いものを×で表わした。結果を表６に示す。

（５）摩耗量評価
感光体初期膜厚を測定し、上記（１）〜（４）の試験を全て終了した後に再び膜厚を測定した。全ての試験前後における膜厚の差（摩耗量）を評価した。尚、膜厚の測定は、感光体長手方向の両端５ｃｍを除き、１ｃｍ間隔に測定し、その平均値を膜厚とした。

（実施例８〜９、比較例１１〜１２）
実施例７と同じ条件で、上述のように作製した電子写真感光体６〜９を評価した。結果を表６に示す。表６には実施例番号に対応する使用した電子写真感光体番号も併せて記載する。

（感光体作製例１０）
感光体作製例１における中間層を、電荷ブロッキング層とモアレ防止層の積層構成とした。それぞれの下記組成の電荷ブロッキング層塗工液、モアレ防止層塗工液を塗布乾燥して、１．０μｍの電荷ブロッキング層、３．５μｍのモアレ防止層とした以外は、感光体作製例１と同様に感光体を作製した（電子写真感光体１０とする）。
◎電荷ブロッキング層塗工液
Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（鉛市：ファインレジンＦＲ−１０１）４部
メタノール７０部
ｎ−ブタノール３０部
◎モアレ防止層塗工液
酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ：石原産業社製、平均粒径：０．２５μｍ）１２６部
アルキッド樹脂［ベッコライトＭ６４０１−５０−Ｓ（固形分５０％）、
大日本インキ化学工業製］３３．６部
メラミン樹脂［スーパーベッカミンＬ−１２１−６０（固形分６０％）、
大日本インキ化学工業製］１８．７部
２−ブタノン１００部
上記組成で、無機顔料とバインダー樹脂の容積比は、１．５／１である。
アルキッド樹脂とメラミン樹脂の比は、６／４重量比である。

（感光体作製例１１）
感光体作製例１０において、電荷ブロッキング層の膜厚を０．３μｍとした以外は、感光体作製例１０と同様に感光体を作製した（電子写真感光体１１とする）。
（感光体作製例１２）
感光体作製例１０において、電荷ブロッキング層の膜厚を１．８μｍとした以外は、感光体作製例１０と同様に感光体を作製した（電子写真感光体１２とする）。

（感光体作製例１３）
感光体作製例１０において、電荷ブロッキング層塗工液を下記組成のものに変更した以外は、感光体作製例１０と同様に感光体を作製した（電子写真感光体１３とする）。
◎電荷ブロッキング層塗工液
アルコール可溶性ナイロン（東レ：アミランＣＭ８０００）４部
メタノール７０部
ｎ−ブタノール３０部

（感光体作製例１４）
感光体作製例１０において、モアレ防止層塗工液を下記組成のものに変更した以外は、感光体作製例１０と同様に感光体を作製した（電子写真感光体１４とする）。
◎モアレ防止層塗工液
酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ：石原産業社製、平均粒径：０．２５μｍ）２５２部
アルキッド樹脂［ベッコライトＭ６４０１−５０−Ｓ（固形分５０％）、
大日本インキ化学工業製］３３．６部
メラミン樹脂［スーパーベッカミンＬ−１２１−６０（固形分６０％）、
大日本インキ化学工業製］１８．７部
２−ブタノン１００部
上記組成で、無機顔料とバインダー樹脂の容積比は、３／１である。
アルキッド樹脂とメラミン樹脂の比は、６／４重量比である。

（感光体作製例１５）
感光体作製例１０において、モアレ防止層塗工液を下記組成のものに変更した以外は、感光体作製例１０と同様に感光体を作製した（電子写真感光体１５とする）。
◎モアレ防止層塗工液
酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ：石原産業社製、平均粒径：０．２５μｍ）８４部
アルキッド樹脂［ベッコライトＭ６４０１−５０−Ｓ（固形分５０％）、
大日本インキ化学工業製］３３．６部
メラミン樹脂［スーパーベッカミンＬ−１２１−６０（固形分６０％）、
大日本インキ化学工業製］１８．７部
２−ブタノン１００部
上記組成で、無機顔料とバインダー樹脂の容積比は、１／１である。
アルキッド樹脂とメラミン樹脂の比は、６／４重量比である。

（実施例１０〜１５）
以上のように作製した電子写真感光体１０〜１５を、実施例７と同じ条件下で５万枚のランニング試験を行った（評価方法、項目も同じ）。結果を実施例１の場合と比較して、表７に示す。

表７の結果から、中間層の構成を電荷ブロッキング層とモアレ防止層の構成にすることにより、地汚れに対する耐久性が向上することが分かる。

（参考例１）
実施例１において、画像露光光源を４０７ｎｍの半導体レーザー（日亜化学製）に変更した以外は、実施例１と同様に評価を行った。結果を実施例１の場合と併せて表８に示す。
また、直径６０μｍの１ドット画像を形成し、実施例１の場合と比較（ドット形成状態を、１５０倍の顕微鏡にて観察）を行った。

表８から、短波長ＬＤ（４０７ｎｍ）を用いて書き込みを行った場合（参考例１）、実施例１の場合と比較して、更に露光部電位上昇が抑制されていることが分かる。更に、ドット評価においては、参考例１の１ドット画像の方が輪郭が明確であった。

（感光体作製例１６）
感光体作製例１における電荷発生層塗工液（分散液１）を分散液５に変更し、電荷輸送層塗工液、保護層塗工液を以下の組成のものに変更した以外は、感光体作製例１と同様に電子写真感光体を作製した（電子写真感光体１６とする）。
◎電荷輸送層塗工液
ポリカーボネート（ＴＳ２０５０：帝人化成社製）１０部
下記構造式の電荷輸送物質７部
塩化メチレン８０部

（実施例１７）
先に作製した電子写真感光体１６を図１２に示すようなプロセスカートリッジに装着し、図１１に示すような画像形成装置に搭載し、画像露光光源を６５５ｎｍの半導体レーザー（ポリゴン・ミラーによる画像書き込み）、帯電部材として接触ローラー帯電器、転写部材として転写ベルトを用い、除電光源として４２８ｎｍＬＥＤ（ローム製：半値幅６５ｎｍ）を用いた。試験前のプロセス条件が下記になるように設定し、書き込み率６％のチャート（Ａ４全面に対して、画像面積として６％相当の文字が平均的に書かれている）を用い、連続５万枚印刷を行った。
感光体帯電電位（未露光部電位）： −９００Ｖ
現像バイアス： −６５０Ｖ（ネガ・ポジ現像）
除電後表面電位（書き込み光未露光部）： −１００Ｖ

評価は、５万枚の画像印刷前後における感光体露光部電位を測定した（黒ステーション）。
測定方法としては、図１２に示す現像部位置に、表面電位計を搭載し、感光体を−９００Ｖに帯電した後、上記半導体レーザーでベタ書込みを行ない、現像部位における未露光部表面電位及び露光部電位を測定した。結果を表９に示す。
また、５万枚の印刷前後において、ＩＳＯ／ＪＩＳ−ＳＣＩＤ画像Ｎ１（ポートレート）を出力して、カラー色の再現性について評価した。

（実施例１８）
実施例１７における除電光源として、４７２ｎｍＬＥＤ（星和電機製：半値幅１５ｎｍ）に変更した以外は、実施例１７と同様に評価を行った。除電後の感光体表面電位が、実施例１７の場合と同じになるように、除電光量を調整した。結果を表９に示す。

（比較例１３）
実施例１７における除電光源として、５０２ｎｍＬＥＤ（星和電機製：半値幅１５ｎｍ）に変更した以外は、実施例１７と同様に評価を行った。除電後の感光体表面電位が、実施例１７の場合と同じになるように、除電光量を調整した。結果を表９に示す。
（比較例１４）
実施例１７における除電光源として、５９１ｎｍＬＥＤ（ローム製：半値幅１５ｎｍ）に変更した以外は、実施例１７と同様に評価を行った。除電後の感光体表面電位が、実施例１７の場合と同じになるように、除電光量を調整した。結果を表９に示す。

（比較例１５）
実施例１７における除電光源として、６３０ｎｍＬＥＤ（ローム製：半値幅２０ｎｍ）に変更した以外は、実施例１７と同様に評価を行った。除電後の感光体表面電位が、実施例１７の場合と同じになるように、除電光量を調整した。結果を表９に示す。
（比較例１６）
実施例１７における除電光源として、蛍光灯（図１に示す発光スペクトルを有する）に変更した以外は、実施例１７と同様に評価を行った。除電後の感光体表面電位が、実施例１７の場合と同じになるように、除電光量を調整した。結果を表９に示す。
（比較例１７）
実施例１７における除電光源として、４２８ｎｍＬＥＤ（ローム製：半値幅６５ｎｍ）及び６３０ｎｍＬＥＤ（ローム製：半値幅２０ｎｍ）の２つを用いてほぼ同等の光量を同時に照射するように変更した以外は、実施例１７と同様に評価を行った。除電後の感光体表面電位が、実施例１７の場合と同じになるように、除電光量を調整した。結果を表９に示す。

表９から、除電光の波長を５００ｎｍ未満にした場合（実施例１７、１８）には、それよりも長波長を使用した場合（比較例１３〜１５）と比較して、繰り返し使用後の露光部電位の上昇が小さいことが分かる。更に４５０ｎｍ未満とした場合（実施例１７）には、更にその効果が顕著であることが分かる。
また、発光分布が広く、５００ｎｍ以上の長波長光の成分を含む場合（比較例１６）では、実施例ほどの明確な効果が得られていない。また、露光波長の異なる２種類の光源を用いた場合（比較例１７）では、短波長光源による除電の効果が低減されていることが分かる。
テストチャートの結果から、実施例１７、１８の場合には、５万枚印刷後においても、初期とほぼ同等の画像を出力したが、比較例１３〜１７の場合には、５万枚印刷後に、カラーバランスが多少崩れた画像になった。

（感光体作製例１７）
感光体作製例１６における電荷発生層塗工液（分散液５）を分散液６に変更した以外は、感光体作製例１６と同様に電子写真感光体を作製した（電子写真感光体１７とする）。

（実施例１９）
実施例１７において、使用した電子写真感光体１６の代わりに、電子写真感光体１７を用いた以外は、実施例１７と同様に評価を行った。結果を表１０に示す。
（実施例２０）
実施例１８において、使用した電子写真感光体１６の代わりに、電子写真感光体１７を用いた以外は、実施例１８と同様に評価を行った。結果を表１０に示す。

（比較例１８）
比較例１３において、使用した電子写真感光体１６の代わりに、電子写真感光体１７を用いた以外は、比較例１３と同様に評価を行った。結果を表１０に示す。
（比較例１９）
比較例１４において、使用した電子写真感光体１６の代わりに、電子写真感光体１７を用いた以外は、比較例１４と同様に評価を行った。結果を表１０に示す。

（比較例２０）
比較例１５において、使用した電子写真感光体１６の代わりに、電子写真感光体１７を用いた以外は、比較例１５と同様に評価を行った。結果を表１０に示す。
（比較例２１）
比較例１６において、使用した電子写真感光体１６の代わりに、電子写真感光体１７を用いた以外は、比較例１６と同様に評価を行った。結果を表１０に示す。
（比較例２２）
比較例１７において、使用した電子写真感光体１６の代わりに、電子写真感光体１７を用いた以外は、比較例１７と同様に評価を行った。結果を表１０に示す。

表１０から、除電光の波長を５００ｎｍ未満にした場合（実施例１９、２０）には、それよりも長波長を使用した場合（比較例１８〜２０）と比較して、繰り返し使用後の露光部電位の上昇が小さいことが分かる。更に４５０ｎｍ未満とした場合（実施例１９）には、更にその効果が顕著であることが分かる。
また、発光分布が広く、５００ｎｍ以上の長波長光の成分を含む場合（比較例２１）では、実施例ほどの明確な効果が得られていない。また、露光波長の異なる２種類の光源を用いた場合（比較例２２）では、短波長光源による除電の効果が低減されていることが分かる。
テストチャートの結果から、実施例１９、２０の場合には、５万枚印刷後においても、初期とほぼ同等の画像を出力したが、比較例１８〜２２の場合には、５万枚印刷後に、カラーバランスが多少崩れた画像になった。
また、表９に記載した実施例１７の露光部表面電位と、表１０に記載の実施例１９の露光部表面電位を比較すると、実施例１７の露光部表面電位の方が低い。実施例１７に使用したアゾ顔料のカップラー成分の非対称化が高感度化に寄与していることが分かる。

（参考例２）
実施例１７において、画像露光光源を４０７ｎｍの半導体レーザー（日亜化学製）に変更した以外は、実施例１７と同様に評価を行った。結果を実施例１７の場合と併せて表１１に示す。
また、直径６０μｍの１ドット画像を形成し、実施例１７の場合と比較（ドット形成状態を、１５０倍の顕微鏡にて観察）を行った。

表１１から、短波長ＬＤ（４０７ｎｍ）を用いて書き込みを行った場合（参考例２）、実施例１７の場合と比較して、更に露光部電位上昇が抑制されていることが分かる。更に、ドット評価においては、参考例２の１ドット画像の方が輪郭が明確であった。

蛍光灯の分光発光スペクトルを示す図である。有機材料の光キャリア発生機構の概念図である。無機材料の光キャリア発生機構の概念図である。本発明に用いられる電子写真感光体の層構成を表わした図である。本発明に用いられる電子写真感光体の別の層構成を表わした図である。本発明に用いられる電子写真感光体の別の層構成を表わした図である。分散時間が短い場合の分散液の状態を示す図である。分散時間が長い場合の分散液の状態を示す図である。図７、８の分散液について、平均粒径及び粒度分布を示す図である。本発明の電子写真プロセスおよび画像形成装置を説明するための概略図である。本発明のタンデム方式のフルカラー画像形成装置を説明するための概略図である。本発明の画像形成装置用プロセスカートリッジを説明するための図である。合成例１で合成されたチタニルフタロシアニンのＸＤスペクトルを表わした図である。水ペースト（ウェットケーキ）の乾燥粉末のＸＤスペクトルを表わした図である。実施例７で用いたテストチャートである。

符号の説明

１感光体
２除電ランプ
３帯電器
５画像露光部
６現像ユニット
８レジストローラ
９転写紙
１０転写チャージャー
１１分離チャージャー
１２分離爪
１４ファーブラシ
１５クリーニングブレード
１６Ｙ、１６Ｍ、１６Ｃ、１６Ｋ感光体
１７Ｙ、１７Ｍ、１７Ｃ、１７Ｋ帯電部材
１８Ｙ、１８Ｍ、１８Ｃ、１８Ｋ露光部
１９Ｙ、１９Ｍ、１９Ｃ、１９Ｋ現像部材
２０Ｙ、２０Ｍ、２０Ｃ、２０Ｋクリーニング部材
２１Ｙ、２１Ｍ、２１Ｃ、２１Ｋ転写ブラシ
２２転写搬送ベルト
２３レジストローラ
２４定着装置
２５Ｙ、２５Ｍ、２５Ｃ、２５Ｋ画像形成要素
２６転写紙
２７Ｙ、２７Ｍ、２７Ｃ、２７Ｋ除電部材
３１導電性支持体
３５電荷発生層
３７電荷輸送層
３９中間層
４１保護層
４３電荷ブロッキング層
４５モアレ防止層
１０１感光体
１０２帯電手段
１０３露光
１０４現像手段
１０５転写体
１０６転写手段
１０７クリーニング手段
１０８除電手段

Claims

静電潜像担持体と、該静電潜像担持体上に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、該静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段と、該可視像を記録媒体に転写する転写手段と、記録媒体に転写された転写像を定着させる定着手段と、静電潜像担持体の残留電荷を光除電する除電手段とを少なくとも有する画像形成装置であって、前記除電手段が５００ｎｍ未満の波長領域にのみ発光強度を有する光を照射する除電手段であると共に、画像書き込み光源が６５５ｎｍもしくは７８０ｎｍのレーザーダイオードであり、前記静電潜像担持体が、支持体と、該支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層とからなる感光層、更に感光層上に保護層を有し、該電荷発生層中に有機電荷発生物質を含有し、かつ保護層が比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質を含むことを特徴とする画像形成装置。
前記有機電荷発生物質が下記（Ｉ）式で表されるアゾ顔料であることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
（式中、Ｃｐ₁，Ｃｐ₂はカップラー残基を表す。Ｒ₂₀₁，Ｒ₂₀₂はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基のいずれかを表し、同一でも異なっていても良い。またＣｐ₁，Ｃｐ₂は下記（II）式で表され、
式中、Ｒ₂₀₃は、水素原子、アルキル基、アリール基を表す。Ｒ₂₀₄，Ｒ₂₀₅，Ｒ₂₀₆，Ｒ₂₀₇，Ｒ₂₀₈はそれぞれ、水素原子、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、アルキル基、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基、水酸基を表し、Ｚは置換もしくは無置換の芳香族炭素環または置換もしくは無置換の芳香族複素環を構成するのに必要な原子群を表す。）
前記アゾ顔料のＣｐ₁とＣｐ₂が互いに異なるものであることを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
前記有機電荷発生物質がＣｕＫαの特性Ｘ線（波長１．５４２Å）に対するブラッグ角２θの回折ピーク（±０．２゜）として少なくとも２７．２゜に最大回折ピークを有し、更に９．４゜、９．６゜、２４．０゜に主要なピークを有し、最も低角側の回折ピークとして７．３゜にピークを有し、該７．３°のピークと９．４゜のピークの間にピークを有さず、更に２６．３°にピークを有さないチタニルフタロシアニン結晶であることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
前記保護層に含有される電荷輸送物質が、下記（III）式で表される電荷輸送物質であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の画像形成装置。
（式中、Ａｒ₁及びＡｒ₃は置換基を有してもよい芳香環基を示し、Ａｒ₂は置換基を有してもよい芳香環の２価基を示す。Ｒ₁は置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいビニル基及び置換基を有してもよい芳香環基を示す。Ａｒ₁とＲ₁は結合して環を形成してもよい。）
前記潜像担持体において、支持体と電荷発生層の間に中間層が設けられ、該中間層が電荷ブロッキング層とモアレ防止層からなることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の画像形成装置。
前記電荷ブロッキング層が絶縁性材料からなり、その膜厚が２．０μｍ未満、０．３μｍ以上であることを特徴とする請求項６に記載の画像形成装置。
前記モアレ防止層が無機顔料とバインダー樹脂を含有し、両者の容積比が１／１乃至３／１の範囲であることを特徴とする請求項６又は７に記載の画像形成装置。
少なくとも静電潜像担持体、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段、及び除電手段を有する画像形成要素を複数備えたことを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の画像形成装置。
静電潜像担持体と、静電潜像形成手段、現像手段、除電手段及びクリーニング手段から選択される１つ以上の手段とが一体となり、装置本体と着脱自在なプロセスカートリッジを搭載していることを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の画像形成装置。
静電潜像担持体上に静電潜像を形成する静電潜像形成工程と、該静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像工程と、該可視像を記録媒体に転写する転写工程と、記録媒体に転写された転写像を定着させる定着工程と、静電潜像担持体の残留電荷を光除電する除電工程とを少なくとも有する画像形成方法であって、前記除電工程が５００ｎｍ未満の波長領域にのみ発光強度を有する光を照射する除電工程であると共に、画像書き込み光源が６５５ｎｍもしくは７８０ｎｍのレーザーダイオードであり、前記静電潜像担持体が、支持体と、該支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層とからなる感光層、更に感光層上に保護層を有し、該電荷発生層中に有機電荷発生物質を含有し、かつ保護層が比抵抗１０¹⁰Ω・ｃｍ以上の無機顔料及び金属酸化物から選択される少なくともいずれかと電荷輸送物質を含むことを特徴とする画像形成方法。
少なくとも静電潜像形成工程、現像工程、転写工程、及び除電工程を有する画像形成工程を複数備えたことを特徴とする請求項１１に記載の画像形成方法。