JP4603000B2 - 反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板とその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置に関し、特に反射モードと透過モードを選択的に使用することができ、反射部と透過部で同一の光利用効率を得ることができると同時に、同一の色純度を有する反射透過型液晶表示装置に関するものである。

一般的に、反射透過型液晶表示装置は透過型液晶表示装置と反射型液晶表示装置の機能を同時に持つもので、バックライトの光と外部の自然光源又は人造光源を全て利用することができるので、周辺環境の制約を受けることなしに電力消費を減少させることができる長所がある。

図１は一般的な反射透過型液晶表示装置用アレイ基盤の一部を概略的に図示した拡大平面図である。

図に示したように、透明な絶縁基板（５０）上に、一方向に延びるゲート配線（５２）と、ゲート配線（５２）と垂直に交差して画素領域（Ｐ）を定義するデータ配線（６２）とが配置される。
上記２配線（５２，６２）の交差地点には、ゲート電極（５４）と、アクティブ層（５６）と、ソース電極（５８）と、ドレーン電極（６０）とを包含する薄膜トランジスタ（Ｔ）が配置される。

上記画素領域（Ｐ）は透過部（Ｄ）と反射部（Ｃ）とで構成され、透過部（Ｄ）に対応して透明電極（６６）が、反射部（Ｃ）に対応して反射電極（反射板）（６４）が配置される。
一般的には、上記透過電極（６６）の上部に透過溝（６４ａ）を包含する反射電極（６４）を配置して透過部（Ｄ）と反射部（Ｃ）を構成する。

上記画素領域（Ｐ）の一方の側を通過するゲート配線（５２）の一部の上部には、上記反射電極（６４）又は透過電極（６６）と接触する島形状の金属パターンが形成されて、これを第２電極とし、その下部のゲート配線（５２）を第１電極とする補助容量部（ＣＳＴ）が構成される。

前述のように構成される半透過画素電極の断面構成を、図２及び３を参照して以下に説明する。

図２及び３は、図１をＩ−Ｉ線に沿って切断したものであり、従来技術による第１例及び第２例にそれぞれ従う反射透過型液晶表示装置の構成を図示した断面図である。

図２及び３に示したように、第１基板（５０）と第２基板（８０）は離間して接合される。第２基板（８０）と向かい合う第１基板（５０）には多数の画素領域（Ｐ）が定義され、上記画素領域（Ｐ）の一方の側と、これに平行でない他方の側にそれぞれ延びて互いに直交するゲート配線（図示せず）とデータ配線（６２）とが配置される。

上記第１基板（５０）と向かい合う第２基板（８０）の一面には赤色と緑色と青色を帯びるサブカラーフィルタ（８４ａ，８４ｂ、図示せず）が、各サブカラーフィルタの間にはブラックマトリクス（８２）が配置され、サブカラーフィルタ（８４ａ，８４ｂ）とブラックマトリクス（８２）の上部には透明な共通電極（８６）が配置される。

前述の構成において、上記画素領域（Ｐ）は更に反射部（Ｃ）と透過部（Ｄ）に分けられる。

一般的に、第１基板の反射部（Ｃ）に対応させて反射電極（６４）を配置し、透過部（Ｄ）に対応させて透明電極（６６）を配置するが、図に示したように透過溝（６４ａ）を包含する反射電極（６４）を透明電極（６６）の上部又は下部に配置することで、反射部（Ｃ）と透過部（Ｄ）を構成することもできる。

この時、反射透過型液晶表示装置で考慮されるべき部分は、透過部（Ｄ）と反射部（Ｃ）の偏向特性を同一にし、同一の光学的効率を得ることである。

この点で、図２の構成は、透過部（Ｄ）に対応する部分と反射部（Ｃ）に対応する部分を通過する光が感じる距離ｄ（液晶層を通過する時光が感じる液晶層の距離）が異なるため、光の偏光特性もまた異なる。
即ち、透過部（Ｄ）を通過した光がｄの厚さを有する液晶層（９０）を通過する一方、反射部（Ｃ）を通過する光は反射電極（６４）に一度は反射されるので、２ｄの厚さを有する液晶層（９０）を通過するのと同様となる。
従って、透過部（Ｄ）と反射部（Ｃ）に対応する部分を通過する光はその偏光特性が異なり、これにより透過モードと反射モードに色純度の差異が発生する。

これを解決するための方法として、図３に示したように、上記透過部（Ｄ）に対応する下部の絶縁膜（６３）に溝（６１）を形成し、この部分に液晶（９０）を満たすことにより、反射部（Ｃ）と透過部（Ｄ）に対応する液晶層を通過する光の経路を同一にする構成が提案された。

これは特許文献１に記載されており、その内容を図４の断面図と、この製造方法を示す図５ａないし５ｆを参照して説明する。

図４は、図１をＩ−Ｉ線に沿って切断したものであり、従来技術による第３例に従う反射透過型液晶表示装置の断面図である。

図に示したように、透過部（Ｄ）と反射部（Ｃ）で構成された画素領域（Ｐ）が画定された下部基板（５０）と、上部基板（８０）とは、所定の間隔を空けて位置し、上記上部基板（８０）と下部基板（５０）の間には液晶層（９０）が存在する。
上記上部基板（８０）の下部基板に対向する一面には、上記画素領域の境界に対応する位置にブラックマトリクス（９２）が、上記ブラックマトリクス（９２）を包含する反射部（Ｃ）に対応する位置に透明なバッファ層（９４）が、及び透過部と反射部とを包含する画素領域に対応する位置にカラーフィルタ層（９６ａ，９６ｂ）と平坦化層（９７）と共通電極（９８）とが、それぞれ配置される。

上記下部基板（５０）の上部基板に対向する一面には、透過部（Ｄ）に対応する位置に透明電極（６６）が、反射部（Ｃ）に対応する位置に反射電極（６４）が、それぞれ配置される。

一般的には、図に示したように、上記透明電極（６６）の下に、溝（Ｈ）を包含する反射電極（６４）を配置することにより透過部（Ｄ）と反射部（Ｃ）を画定する。

この時、絶縁膜（６３）の上記透過部（Ｄ）に対応する部分を穿孔して段差を形成するが、望ましくは、透過部（Ｄ）が位置する液晶層（９０）の厚さｄ２と、上記反射部に位置する液晶層（９０）の厚さｄ１とが、ｄ２≒２ｄ１となるように構成する。

前述の構成中、上記バッファ層（９４）は、カラーフィルタ層（９６ａ，ｂ）の反射部（Ｃ）に対応する部分と透過部（Ｄ）に対応する部分の厚さの比を１：２にするための手段である。

以下、図５ａないし５ｆを参照して従来技術の第３例に従うカラーフィルタの製造方法を説明する。

先ず、図５ａに示したように、透明な絶縁基板（８０）に酸化クロム（ＣｒＯｘ）とクロム（Ｃｒ）を次々に蒸着させた後パターニングし、上記画素領域に対応する部分に開口部を有するブラックマトリクス（９２）を形成する。

上記ブラックマトリクス（９２）は、液晶スクリーンの低反射化を目的に使用される手段であり、開口率と直接的な関係を有するので、反射光による光漏洩電流の防止および液晶工程でのアセンブリマージンを考慮して、下部基板のスイッチング素子形成部とゲート配線（図示しない）とデータ配線部（図示しない）を除外した部分、即ち上記下部基板の画素領域に対応する部分を穿孔して形成する。

次に、図５ｂに示したように、上記ブラックマトリクス（９２）が形成された基板（９０）の全面に光重合型高分子又は有機絶縁物質を塗布して透明薄膜（９３）を形成する。
場合によっては上記透明薄膜（９３）には無機絶縁物質を使用することができる。

次に、図５ｃに示したように、上記透明薄膜層（９３）を形成した後、フォトリソグラフィ工程を使用して、上記透過部（Ｄ）に対応する部分を穿孔し、上記反射部（Ｃ）に対応する部分にバッファ層（９４）を形成する。

従って、上記下部基板（図４の５０）の反射部（図４のＣ）に対応する上部基板の一面にバッファ層（９４）が存在するようになる。

次に、図５ｄに示したように、上記反射部に対応して多数のバッファ層（９４）が形成された基板（８０）の全面に、赤色染料を含むカラー樹脂を塗布してパターニングし、透過部（Ｄ）と反射部（Ｃ）に対応してレッドカラーフィルタ層（９６ａ）を形成する。
このカラー樹脂は、上記バッファ層（９４）が形成されていない透過部（Ｄ）に対応する部分に充填されながら塗布される。

従って、上記レッドカラーフィルタ層（９６ａ）は、透過部（Ｄ）と反射部（Ｃ）とで構成される一つの画素領域（Ｐ）に対応して形成される。

次に、図５ｅに示したように、上記レッドカラーフィルタ層（９６ａ）が形成された基板（８０）に緑色染料を含むカラー樹脂を塗布し、図５ｃと同一の方法でグリーンカラーフィルタ層（９６ｂ）を形成する。

次に、図５ｆに示したように、上記レッドカラーフィルタ層（９６ａ）とグリーンカラーフィルタ層（９６ｂ）が形成された基板（８０）に青色染料を含むカラー樹脂を塗布し、図５ｃと同一の方法でブルーカラーフィルタ層（９６ｃ）を形成する。

このような方法でカラーフィルタ層（９６ａ，ｂ，ｃ）が形成された基板上に、図５ｆに示すように、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）および酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）等を含む透明導電性金属物質のグループから一つを選択して蒸着させ、共通電極（９８）を形成する。

この時、上記共通電極（５８）とカラーフィルタ層（９６ａ，ｂ，ｃ）の間に平坦化膜（図示しない）を更に配置することもできる。
韓国特許出願第００／９９７９号明細書

前述した従来技術の第３例に従う構成は、上記透過部と反射部に対応するセルキャップ比を２：１にするために、下部基板の有機膜を穿孔して段差を形成する工程を要し、上記反射部と透過部にそれぞれ対応する部分に形成されたカラーフィルタの厚さを２：１にするためにバッファ層を形成する工程をさらに要する。

しかし、前述の工程は透過部と反射部に同一の光学的効率と同一な色純度を得ることはできるが、工程が非常に複雑であり、特に下部基盤に段差を構成するために有機物質が過度に使用されるので費用が上昇する問題があった。

本発明は前述の問題を解決するために提案されたものであり、上記カラーフィルタ基板の上部に配置されるバッファ層を形成する時、上記反射部と透過部の厚さを１：２にするのに、反射部が透過部に対して段差を持つように構成する。
即ち、上記カラーフィルタの段差の高さにより、透過部と反射部に対応するセルキャップを２：１に合わせる。

この時、バッファ層の上記反射部に対応する部分に溝を形成し、上記カラーフィルタ被覆時にカラー樹脂が上記透過領域に過度に流れるのを防止することで、カラーフィルタのそれぞれ透過部と反射部に対応する部分の厚さを２：１に制御するのが容易になる。

従って、本発明による反射透過型液晶表示装置は、単純な工程を有しながら、上記透過部と反射部にそれぞれ対応するセルキャップ比を２：１にすることができ、透過部と反射部にそれぞれ形成されるカラーフィルタの厚さの比を容易に２：１に制御できるという長所を有する。

前述の目的を達成するために、本発明は、各々が透過部と反射部で構成された多数の画素領域が画定された基板と；上記基板上に形成されたブラックマトリクスと；上記ブラックマトリクス上部に形成されて、上記ブラックマトリクスに対応する位置に溝を有するバッファ層と；上記バッファ層上部に形成されて、上記反射部における第１の厚みと、上記透過部における第２の厚みの比が１：２であり、透過部と反射部の境界に段差を有するカラーフィルタ層と；上記カラーフィルタ層上部に形成された共通電極と；を備える、反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板を提供する。

上記バッファ層は、ベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）とアクリル樹脂を含む透明な有機絶縁物質のグループのうちの１つからなり、上記バッファ層の厚さは約２．５μｍ〜約４．０μｍの範囲であり、上記カラーフィルタ層の段差は約２．０μｍ〜約２．５μｍの範囲である。

上記ブラックマトリクスは上記多数の画素領域に対応する多数の第１開口部を有し、上記バッファ層は上記透過部に対応する多数の第２開口部を有する。

また、本発明は、各々が透過部と反射部で構成された多数の画素領域が画定された基板上にブラックマトリクスを形成する段階と；上記ブラックマトリクスに対応する位置に溝を有するバッファ層を上記ブラックマトリクス上部に形成する段階と；上記反射部における第１の厚みと、上記透過部における第２の厚みの比が１：２であり、透過部と反射部の境界に段差を有するカラーフィルタ層を、上記バッファ層上部に形成する段階と；上記カラーフィルタ層上部に共通電極を形成する段階と；を含む、反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法を提供する。

上記バッファ層は、ベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）とアクリル樹脂を含む透明な有機絶縁物質のグループのうちの１つからなり、上記バッファ層の厚さは約２．５μｍ〜約４．０μｍの範囲であり、上記カラーフィルタ層の段差は約２．０μｍ〜約２．５μｍの範囲である。

上記ブラックマトリクスは上記多数の画素領域に対応する多数の第１開口部を有し、上記バッファ層は上記透過部に対応する多数の第２開口部を有する。

さらに、本発明は、一定の間隔を置いて配置された互いに対向する第１及び第２基板と；上記第１基板の内側面に形成されたゲート配線と；上記ゲート配線と交差して各々が透過部と反射部で構成された多数の画素領域を画定するデータ配線と；上記ゲート配線及びデータ配線に連結された薄膜トランジスタと；上記反射部に形成された反射層と；上記透過部に形成されて上記薄膜トランジスタと連結された透過電極と；上記第２基板の内側面に形成されたブラックマトリクスと；上記ブラックマトリクス上部に形成されて、上記ブラックマトリクスに対応する位置に溝を持つバッファ層と；上記バッファ層上部に形成されて、上記反射部における第１の厚みと上記透過部における第２の厚みの比が１：２であり、透過部と反射部の境界に段差を有するカラーフィルタ層と；上記カラーフィルタ層上部に形成された共通電極と；上記透過電極と共通電極の間に介在する液晶層と；を備える反射透過型液晶表示装置を提供する。

上記液晶層は、上記反射部と透過部においてそれぞれ第３及び第４の厚みを有し、上記第３の厚みと第４の厚みの比は１：２であり、上記バッファ層の厚さは約２．５μｍ〜約４．０μｍの範囲であり、上記カラーフィルタ層の段差は約２．０μｍ〜約２．５μｍの範囲であり、上記ブラックマトリクスは上記多数の画素領域に対応する第１開口部を有し、上記バッファ層は上記透過部に対応する多数の第２開口部を有する。

またさらに、本発明は、第１基板上にゲート配線を形成する段階と；上記ゲート配線と交差して各々が透過部と反射部で構成された多数の画素領域を画定するデータ配線を形成する段階と；上記ゲート配線及びデータ配線に連結される薄膜トランジスタを形成する段階と；上記反射部に反射層を形成する段階と；上記透過部に上記薄膜トランジスタと連結される透過電極を形成する段階と；第２基板上にブラックマトリクスを形成する段階と；上記ブラックマトリクス上部に、上記ブラックマトリクスに対応する位置に溝を持つバッファ層を形成する段階と；上記バッファ層上部に、上記反射部における第１の厚みと上記透過部における第２の厚みの比が１：２であり、透過部と反射部の境界に段差を有するカラーフィルタ層を形成する段階と；上記カラーフィルタ層上部に共通電極を形成する段階と；上記透過電極と共通電極が対向するように上記第１及び第２基板を接合する段階と；上記透過電極と共通電極の間に液晶層を形成する段階と；を含む反射透過型液晶表示装置の製造方法を提供する。

上記液晶層は、上記反射部と透過部においてそれぞれ第３及び第４の厚みを有し、上記第３の厚みと第４の厚みの比は１：２であり、上記バッファ層の厚さは約２．５μｍ〜約４．０μｍの範囲であり、上記カラーフィルタ層の段差は約２．０μｍ〜約２．５μｍの範囲であり、上記ブラックマトリクスは上記多数の画素領域に対応する第１開口部を有し、上記バッファ層は上記透過部に対応する多数の第２開口部を有する。

以下、添付図面を参照して望ましい実施例を説明する。

本発明は、カラーフィルタに段差を付与して透過部と反射部のセルキャップ比を２：１に構成するが、カラー樹脂が過度に流れて段差部位のカラーフィルタが厚く形成されるのを防止するために、上記バッファ層にカラー樹脂を閉じ込める溝を形成することを特徴とする。

以下、図６及び７を参照して本発明による反射透過型カラーフィルタの構成を説明する。

図６は本発明による反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の一部を概略的に図示した平面図であり、図７は上記ブラックマトリクスとバッファ層のみを図示した斜視図である。

図に示すように、基板（１００）上に反射部（Ｃ）と透過部（Ｄ）で構成された多数の画素領域（Ｐ）を画定し、上記画素領域（Ｐ）に対応する部分に多数の開口部（Ｈ１）を有する格子形状のブラックマトリクス（１０２）を構成する。
上記ブラックマトリクス（１０２）の上部には、上記画素領域（Ｐ）の透過部に対応する部分に多数の開口部（Ｈ２）を有するバッファ層（１０６）を形成する。

この時、隣接する開口部（Ｈ２）の間のバッファ層（１０６）の一部を穿孔して、横方向及び縦方向に延びる溝（Ｋ）を形成する。

上記バッファ層（１０６）の上部にカラー樹脂をスピンコーティグ方式でコーティングすることにより、カラー樹脂を上記透過部（Ｄ）に対応する部分に充填する。

この時、上記カラー樹脂を上記バッファ層（１０６）の溝（Ｋ）に充填する一方、上記透過部（Ｄ）に対応する部分に過度に充填されるのを防止することができる。

従って、上記反射部（Ｃ）に対応するバッファ層（１０６）の上部に堆積したカラー樹脂の厚さと、上記透過部（Ｄ）に対応する基板（１００）に堆積したカラー樹脂の厚さを約１：２の比率に形成することが容易になる。

以下、図８ａないし８ｄを参照して、本発明による反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法を説明する。このカラーフィルタは、縦方向に延びる画素領域に全て同一のカラー樹脂が形成されるように構成する。

従って、基板全体で見ると、縦方向に延びる赤色と緑色と青色のカラーフィルタが、横に並んでいる構成である。

図８ａないし図８ｄは、図６のVIII−VIII線に沿って切った断面を、本発明の工程順序に従って図示した工程断面図である。

先ず、図８ａに示すように、透明な絶縁基板（１００）上に、それぞれが透過部（Ｄ）と反射部（Ｃ）で構成された多数の画素領域（Ｐ）を画定する。

次いで、上記基板（１００）上に、画素領域（Ｐ）に対応する部分に開口部を有するブラックマトリクス（１０２）を形成する。

続いて、上記ブラックマトリクス（１０２）の上部に、ベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）とアクリル樹脂を含む透明な有機絶縁物質のグループから選択した一つを塗布し、透明絶縁膜（１０４）を形成する。

上記透明絶縁膜（１０４）をパターニングすることにより、図８ｂに示すように、上記画素領域（Ｐ）の透過部（Ｄ）に対応する部分に開口部を有し、上記ブラックマトリクス（１０２）に対応する部分に溝（Ｋ）が形成された、透明なバッファ層（１０６）を形成する。

図８ｃに示すように、上記バッファ層（１０６）が形成された基板（１００）の全面にカラー樹脂をスピンコーティングし、上記多数の画素領域（Ｐ）に対応する部分にサブカラーフィルタ（１０８ａ，１０８ｂ，１０８ｃ）を構成する。

上記サブカラーフィルタ（１０８ａ，１０８ｂ，１０８ｃ）は赤色と緑色と青色を現し、各色にスピンコーティング工程とパターニング工程を行う。

この時、カラー樹脂をスピンコーティングする間に上記塚部（ｄ）に対応する部分に流入するべきカラー樹脂の一部が上記溝（Ｋ）に堆積する。
従って、上記透過部（Ｄ）に対応する部分にカラー樹脂が過度に充填されるのを防止することができる。

結果的に、上記反射部（Ｃ）に対応する部分と透過部（Ｄ）に対応する部分のカラーフィルタの厚さの比は約ｔ：２ｔとなり、段差が形成される。

上記サブカラーフィルタ（１０８ａ，ｂ，ｃ）の段差の高さ（Ｍ）は、上記バッファ層（１０６）の厚みと相関するが、一例として、反射部（Ｃ）のカラーフィルタと透過部（Ｄ）のカラーフィルタ間の表面段差の厚さを２．０μｍ〜２．５μｍにするためには、バッファ層（１０６）の厚さを２．５μｍ〜４．０μｍとするのが望ましい。

次に、図８ｄに示したように、上記赤色と緑色と青色サブカラーフィルタ（１０８ａ，１０８ｂ，１０８ｃ）の全面に、 酸化インジウム錫（ＩＴＯ）および酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）等を含む透明導電性金属物質のグループから一つを選択して蒸着させ、共通電極（１１０）を形成する。

前述した工程を通じて、本発明による反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタを製作することができる。

以下、図９を参照し、前述の工程を通じて製作された反射透過型カラーフィルタを備える、本発明による反射透過型液晶表示装置用アレイ基板の構成を説明する。
（ここで、図９は図1のIX−IXに沿って切断した断面図として説明する。但し、参照番号は異なる番号を使用する。）

図９は、本本発明による反射透過型液晶表示装置の構成を概略的に示した断面図である。

図に示したように、第１基板（２００）と第２基板（１００）は離間させて配置し、第１基板（２００）の第２基板と対向する一面に、反射部（Ｃ）と透過部（Ｄ）から構成される画素領域（Ｐ）を画定する。

上記画素領域の一方の側に、ゲート電極（２０２）とアクティブ層（２０８）とオーミックコンタクト層（２１０）とソース電極（２１２）とドレーン電極（２１４）を包含する薄膜トランジスタ（Ｔ）を形成する。

上記ソース電極（２１２）と接触しながら上記画素領域（Ｐ）の一方の側に従い一方向に延びるデータ配線（２１６）と、データ配線（２１６）と直交してこれと平行でない画素領域（Ｐ）の別の側沿って延びるゲート配線（図示せず）を配置する。

上記反射部（Ｃ）に対応する位置に反射板（２２４）を配置し、上記反射板（２２４）と絶縁膜（２２８）を間に置いて上記画素領域（Ｐ）に透明電極（２３０）を形成する。

このような構成を有する第１基板（２００）と対向する第２基板（１００）の一面には、上記画素領域（Ｐ）に対応する部分に開口部を有するブラックマトリクス（１０２）を形成する。

この時、望ましくは、上記ブラックマトリクス（１０２）の一部が上記薄膜トランジスタ（Ｔ）の上部に来るように構成する。

上記ブラックマトリクス（１０２）の表面には、上記透過部（Ｄ）に対応する部分に開口部を有する透明なバッファ層（１０６）を形成する。この時、バッファ層のゲート配線（図示せず）とデータ配線（２１６）に対応する部分を穿孔して溝（Ｋ）を形成する。

この時、上記溝（Ｋ）の幅と深さは、上記ブラックマトリクス（１０２）の幅を超えない範囲で自由な設計が可能である。

上記バッファ層（１０６）の上に上記画素領域（Ｐ）に対応させて赤色と緑色と青色のサブカラーフィルタ（１０８ａ，１０８ｂ，１０８ｃ）を形成する。
この時、上記溝により、各サブラカーフィルタ（１０８ａ，１０８ｂ，１０８ｃ）の、反射部（Ｃ）に対応する部分の厚みと透過部（Ｄ）に対応する部分の厚みの比をｔ：２ｔに構成することが容易になると同時に、透過部に対応する部分の表面と反射部に対応する部分の表面とが段差を有することで、上記反射部と透過部に対応するセルキャプの比をｄ：２ｄに構成することができる。

前述の構成で本発明による反射透過型液晶表示装置を製作することができる。

本発明による反射透過型液晶表示装置では、反射部に対応する位置に、コーティング工程中過度に流れる樹脂を閉じ込める溝が形成されたバッファ層を形成し、上記透過部と反射部にそれぞれ対応する位置のカラーフィルタが段差を有するように構成することにより、非常に容易にフィルタの厚さを１：２の比に形成することができる。

従って、本発明による反射透過型液晶表示装置は、第１に、透過部と反射部のセルキャップ比が１：２となることにより、下部基板に施された段差形成工程を省略することができるので工程を単純化する効果があり、また、上記透過部と反射部の光学効率を同一にすることができるという効果がある。

第２に、上記反射部と透過部に対応するカラーフィルタの厚さの比を１：２に構成することにより、色純度を同一にすることができるという効果がある。

一般的な反射透過型液晶表示装置用アレイ基板の一部画素を概略的に示した拡大平面図である。 図１のＩ−Ｉ線に沿って切断した断面において、従来技術の第１例による反射透過型液晶表示装置の構成を示した断面図である。 図１のＩ−Ｉ線に沿って切断した断面において、従来技術の第２例による反射透過型液晶表示装置の構成を示した断面図である。 図１のＩ−Ｉ線に沿って切断した断面において、従来技術の第３例による反射透過型液晶表示装置の構成を示した断面図である。 図５ａないし５ｆは、従来技術の第３例による反射透過型カラーフィルタの製造工程を順に示した工程断面図である。 本発明による反射透過型カラーフィルタ基板の構成を概略的に示した平面図である。 図６の構成におけるバッファ層とブラックマトリクスの構成を図示した分解斜視図である。 図８ａないし８ｄは、図６のVIII−VIII線に沿って切った断面を、本発明の工程順序に従って図示した工程断面図である。 本発明による反射透過型カラー液晶表示装置の構成を概略的に示した断面図である。

符号の説明

１００ 透明絶縁基板
１０２ ブラックマトリクス
１０６ バッファ層
１０８ａ，ｂ，ｃ サブカラーフィルタ
１１０ 共通電極

Claims (10)

1. それぞれが透過部と反射部とで構成された多数の画素領域が定義された基板と；
   上記基板上に形成されたブラックマトリクスと；
   上記ブラックマトリクス上部に形成され、上記ブラックマトリクスに対応する溝を有し、上記透過部に対応する位置に多数の開口部を有するバッファ層と；
   上記バッファ層上部に形成され、上記反射部において第１の厚みを、上記透過部において第２の厚みを有し、反射部と透過部との間に段差を有するカラーフィルタ層と；
   上記カラーフィルタ層上部に形成された共通電極と；
   を備え、上記第１の厚みは実質的に上記第２の厚みの半分であり、上記カラーフィルタ層は上記透過部と上記反射部の境界において段差を有する、反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板。
2. 上記バッファ層はベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）とアクリル樹脂を含む透明な有機絶縁物質のグループから選択される一つよりなる、請求項１に記載の反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板。
3. 上記バッファ層の厚さは約２．５μｍ〜約４μｍの範囲である、請求項２に記載の反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板。
4. 上記カラーフィルタ層の段差は約２．０μｍ〜約２．５μｍの範囲である、請求項３に記載の反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板。
5. 上記ブラックマトリクスは上記多数の画素領域に対応する位置に多数の他の開口部を有する請求項１に記載の反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板。
6. それぞれが透過部と反射部から構成された多数の画素領域が画定された基板上にブラックマトリクスを形成する段階と；
   上記ブラックマトリクスに対応する位置に溝を有し、上記透過部に対応する位置に多数の開口部を有するバッファ層を上記ブラックマトリクスの上部に形成する段階と；
   上記反射部において第１の厚みを、上記透過部において第２の厚みを有し、上記反射部と上記透過部との間に段差を有するカラーフィルタ層を、上記バッファ層上部に形成する段階と；
   上記カラーフィルタ層上部に共通電極を形成する段階と
   を含み、上記第１の厚みは、上記第２の厚みの実質的に半分であり、上記カラーフィルタ層は上記透過部と上記反射部の境界において段差を有する、反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
7. 上記バッファ層はベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）とアクリル樹脂を含む透明な有機絶縁物質のグループから選択される一つよりなる、請求項６に記載の反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
8. 上記バッファ層の厚さは約２．５μｍ〜約４μｍの範囲である、請求項７に記載の反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
9. 上記カラーフィルタ層の段差は約２．０μｍ〜約２．５μｍの範囲である、請求項８に記載の反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。
10. 上記ブラックマトリクスは上記多数の画素領域に対応する位置に多数の他の開口部を有する、請求項６に記載の反射透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。

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