JP2003241185A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光拡散反射膜を備えた液晶表示装置におい
て、液晶を封止するために用いる一対の基板を所定の間
隔で保持した反射型又は半透過型の液晶表示装置を提供
する。詳しくは、液晶層に配設されたスペーサの表示面
積あたりの個数を低減させた反射型又は半透過型の液晶
表示装置を提供する。 【解決手段】 絶縁基板と絶縁基板上に設けられた突出
部と突出部の少なくとも一部を覆う光反射性を有する反
射膜とを備えた第１の封止板、及び、透光性を有する透
光基板と透光基板に設けられた透光性を有する透光電極
とを備えた第２の封止板を所定の間隔で保持するための
スペーサを、突出部の形成された領域に選択的に設け
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、外光を利用した表
示を行う反射型の液晶表示装置及び半透過型の液晶表示
装置に関する。詳しくは、一対の基板間に、球状のビー
ズスペーサと異なる柱スペーサ等のスペーサを所定の部
位に設けた反射型の液晶表示装置及び半透過型の液晶表
示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、様々な液晶表示装置が開発さ
れており、それらは表示方式によって透過型液晶表示装
置、反射型液晶表示装置又は半透過型液晶表示装置に大
別される。ここに、半透過型液晶表示装置とは、外光を
利用した反射型表示とバックライトからの光を利用した
透過型表示とを併用する液晶表示装置である。反射型表
示では、表示面側からの外光を反射膜で反射させ、その
反射光を表示光として利用する。

【０００３】反射型液晶表示装置の反射膜としては、ま
ず、平坦な基板上に形成しただけの平坦な反射膜が考え
られる。しかし、平坦な反射膜では、外光が鏡面反射す
る方向から見た場合には、外光が写り込むため見づらい
表示となり、それ以外の方向から見た場合には、外光が
ほとんど反射されないため暗い表示となる。

【０００４】そこで、外光の写り込みや表示領域内にお
ける明るさの不均一性を低減するために、光拡散反射性
を有する反射膜（以下、光拡散反射膜とも称する）を備
えた反射型液晶表示装置や半透過型の液晶表示装置（以
下、簡便のため拡散反射型液晶表示装置とも総称する）
が開発されている。ここに、光拡散反射膜としては、表
面に凹凸を有する反射膜を意味する。

【０００５】しかし、光拡散反射膜を一対の基板の内側
に備えた液晶表示装置では一対の基板間を所定の間隔で
保持することが困難となるという問題が生じる。以下、
液晶表示装置におけるスペーサの役割について説明した
後、具体的な従来例に基づいて、光拡散反射膜を有する
液晶表示装置のスペーサについて説明する。

【０００６】液晶表示装置では、一般的に、所定の間隔
に保持された一対の基板の間隙に液晶材料が封止され
る。スペーサは、一対の基板を所定の間隔に保持するた
めに液晶層に設けられるものである。従来の液晶表示装
置には球状のビーズスペーサが用いられている。

【０００７】ビーズスペーサは、基板の単位面積あたり
の個数が適正な個数となるように散布される。基板に散
布されたビーズスペーサの単位面積あたりの個数が少な
すぎる場合には、一対の基板を所定の間隔に保持するこ
とができない。また、基板に散布されたビーズスペーサ
の単位面積あたりの個数が多い場合には、所定の間隔を
確保することはできるが、余剰のビーズスペーサによっ
て表示性能の劣化を招く。これは、ビーズスペーサが散
布された領域には液晶材料が存在しないため、表示動作
に寄与しない領域が増大すること、また、スペーサ付近
では液晶の配向が乱れること等によって生じる。また、
透明なビーズスペーサを用いた場合は、光が透過するた
めに、液晶表示装置のコントラスト比が更に低下する。

【０００８】まず、第１の従来例として、図１６に、平
坦な光反射膜を備える液晶表示装置の部分断面図を示
す。図１６に示された従来の液晶表示装置は、画素電極
を兼ねる反射膜１１６が形成された第１の基板１１１
と、カラーフィルタ層１２２及び透明な共通電極１２６
が設けられた第２の基板１２１と、対向した第１の基板
１１１と第２の基板１２１の間に設けられた液晶層１０
４と、偏光板１０６と、位相差板１０７とを有する。第
１の基板１１１と第２の基板１２１の間隔は、液晶表示
装置の表示性能を左右する重要な要素であり、反射膜１
１６と共通電極１２６の間に配設された球状のビーズス
ペーサ１０５によってその間隔が保持されている。ビー
ズスペーサ１０５は、第１の基板１１１と第２の基板１
２１とを貼りあわせる工程の前に、第１の基板１１１上
又は第２の基板１２１上に均一な密度で散布することに
より配設される。

【０００９】次に、光拡散反射膜を用いることにより良
好な表示を得る拡散反射型液晶表示装置が、特許公報２
６９８２１８号に開示されている。図１４（ａ）及び図
１４（ｂ）に、特許公報２６９８２１８号で開示された
液晶表示装置に用いられている従来の反射板を示す。図
１４（ｂ）は従来の反射板の平面図であり、また、図１
４（ａ）は図１４（ｂ）におけるＸ−Ｘ断面を表わす断
面図である。図１４（ａ）に示された従来の反射板Ａ
（本発明における第１の封止板に相当）は、感光性を有
する樹脂等を用いて第１の基板１１１上に多数の同形状
の凸部（本発明における突出部に相当）１１５を形成し
た後、凸部１１５を覆うように反射膜１１６を成膜する
ことによって得られる。これにより、反射板Ａは、その
表面が凹凸面となり、光拡散反射性を発現する。

【００１０】また、良好な表示を得る拡散反射型表示装
置が特許第２７５６２０６号に開示されている。図１５
（ａ）及び図１５（ｂ）に、特許第２７５６２０６号に
開示された液晶表示装置に用いられている従来の反射板
を示す。図１５（ｂ）は従来の反射板の平面図であり、
また、図１５（ａ）は図１５（ｂ）におけるＹ−Ｙ断面
を表わす断面図である。図１５（ａ）に示された反射板
Ｂ（本発明における第１の封止板に相当）は、第１の樹
脂からなる凸部１１５が形成された基板１１１上に、第
２の樹脂を更に追加的に塗布硬化させる工程により、表
面が滑らかな凹凸をなす平滑化膜１１８を形成した後
に、凹凸をなす平滑化膜１１８を覆うように反射膜１１
６を形成することによって得られる。これにより、反射
板Ｂは、その表面が滑らかな凹凸面となり、光拡散反射
性を発現する。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】図１７に示すように、
第１の基板１１１上に凸部１１５を形成することにより
光拡散反射性を確保した従来の拡散反射型液晶表示装置
では、高さ０．５〜２．０μｍ程度の凸部１１５が設け
られている。従来の如くビーズスペーサ１０５を散布し
た場合、凸部１１５の頂上付近の領域、凸部の高さが低
い領域及び凸部が形成されていない領域に均一に散布さ
れる。第１の基板１１１と第２の基板１２１の間隔は、
凸部１１５の頂上付近に配設されたビーズスペーサ１０
５ａに依存して決まる。つまり、凸部１１５の高さが低
い領域又は凸部１１５が形成されていない領域に散布さ
れたビーズスペーサ１０５ｂは、ビーズスペーサの直径
が第１の基板１１１と第２の基板１２１の間隔よりも小
さいために、スペーサとして機能しない。このため、凸
部１１５の頂上付近に散布されたごくわずかな数のビー
ズスペーサ１０５ａのみで第１の基板１１１と第２の基
板１２１を支えることになる。したがって、図１４及び
図１５に示されたような光拡散反射膜１１６を備えた拡
散反射型液晶表示装置では、所定の間隔を確保するため
に、図１６に示されたような平坦な反射膜を備えた液晶
表示装置に比べて多くのビーズスペーサを散布する必要
があり、表示性能が低下するという問題点があった。

【００１２】本発明は上記に鑑みなされたものであり、
その第１の目的は、一対の基板の一方に光拡散反射膜を
有する液晶表示装置であっても、一対の基板を所定の間
隔に保持し、かつ余剰のスペーサの数を低減させた反射
型液晶表示装置及び半透過型液晶表示装置を提供するこ
とにある。また、本発明の第２の目的は、上記反射型液
晶表示装置及び上記半透過型液晶表示装置の製造方法を
提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項１に記載の発明は、第１の封止板と、第１
の封止板に対向した第２の封止板と、第１の封止板と第
２の封止板との間に設けられた周縁封止部と、第１の封
止板、第２の封止板及び周縁封止部で形成された閉空間
に封止された液晶層と、閉空間に設けられた複数のスペ
ーサとを含む液晶表示装置であって、第１の封止板が絶
縁基板と絶縁基板の液晶層側に設けられた突出部と突出
部の少なくとも一部を覆う光反射性を有する反射膜とを
備え、かつ、第２の封止板が透光性を有する透光基板と
透光基板の液晶層側に設けられた透光性を有する透光電
極とを備え、かつ、複数のスペーサの各々が突出部の形
成された領域に設けられていることを特徴とする液晶表
示装置である。

【００１４】上記の構成によれば、第１の封止板の液晶
層側表面及び第２の封止板の液晶層側表面の形状に応じ
て液晶層の厚さが部位により異なることとなるが、所定
の高さのスペーサを選択的な部位に設けることによっ
て、第１の封止板の絶縁基板と第２の封止板の透光基板
とを所定の間隔に保持することができる。つまり、所望
の液晶層を簡便に実現することができ、また、ビーズス
ペーサを散布した場合に比べて余剰のスペーサを低減す
ることができる。したがって、液晶表示装置として必要
な表示特性が確保され、良好な表示を行うことができ
る。また、第１の封止板が光拡散反射性を有することに
より、高輝度を確保しかつ鏡面反射の防止による高コン
トラスト比を確保した反射型液晶表示装置となる。

【００１５】ここに、絶縁基板とは、絶縁性物質よりな
る基板及び絶縁膜の形成された任意の基板を意味する。
また、透光基板とは、光を透過する性質を有する基板を
意味する。したがって、透光基板には透明基板をも含
む。

【００１６】スペーサとしては、円柱や角柱の如く、高
さ方向と垂直な任意の平面で切断した断面が同形状であ
る柱状のスペーサ（柱スペーサ）や、円錐、角錐、円錐
台、角錐台等のテーパ形状のスペーサが例示できる。

【００１７】突出部は、反射膜の表面を凹凸を有する面
とするために設けられる。凹凸表面を有する反射膜は光
を拡散反射させることができるので、第１の封止板は光
拡散反射性を有することとなる。

【００１８】上記の課題を解決するために、請求項２に
記載の発明は、第１の封止板と、第１の封止板に対向し
た第２の封止板と、第１の封止板と第２の封止板との間
に設けられた周縁封止部と、前記第１の封止板、第２の
封止板及び周縁封止部で形成された閉空間に封止された
液晶層と、閉空間に設けられた複数のスペーサと、第１
の封止板の液晶層と反対側の後方に配置されたバックラ
イトとを含む液晶表示装置であって、第１の封止板が透
光性を有する絶縁基板と絶縁基板の液晶層側に設けられ
た突出部と突出部の一部を覆いかつ突出部の形成されて
いない領域に開口部を有する反射膜と少なくとも反射膜
の開口部が形成された領域に設けられた透光性及び導電
性を有する透光導電膜とを備え、かつ、第２の封止板が
透光性を有する透光基板と透光基板の液晶層側に設けら
れた透光性を有する透光電極とを備え、かつ、複数のス
ペーサの各々が前記突出部の形成された領域に設けられ
ていることを特徴とする液晶表示装置である。

【００１９】上記の構成によれば、第１の封止板の液晶
層側表面及び第２の封止板の液晶層側表面の形状に応じ
て液晶層の厚さが部位により異なることとなるが、所定
の高さのスペーサを選択的な部位に設けることによっ
て、第１の封止板の絶縁基板と第２の封止板の透光基板
とを所定の間隔に保持することができる。つまり、所望
の液晶層を簡便に実現することができ、また、ビーズス
ペーサを散布した場合に比べて余剰のスペーサを低減す
ることができる。したがって、液晶表示装置として必要
な表示特性が確保され、良好な表示を行うことができ
る。また、第１の封止板が光拡散反射性を有することに
より、高輝度を確保しかつ鏡面反射の防止による高コン
トラスト比を確保した半透過型の液晶表示装置となる。
ここに、反射膜は形成されず、かつ透光導電膜は形成さ
れた領域が、透過表示領域をなすことに注意を要する。

【００２０】請求項３に記載の発明は、請求項１又は２
に記載の発明において、複数のスペーサの各々が柱スペ
ーサであることを特徴とする。この構成の如くスペーサ
として柱スペーサを設ければ、スペーサの数を少なく抑
えることができる。また、スペーサの総体積を小さく抑
えることによって、表示に関与しない領域を低減するこ
ともできる。

【００２１】請求項４に記載の発明は、請求項３に記載
の発明において、複数のスペーサの各々が略同一の高さ
を有することを特徴とする。この構成であれば、安価な
液晶表示装置を提供できる。高さの同一な１種類の柱ス
ペーサを形成する工程は、高さの異なる複数種の柱スペ
ーサを形成する工程に比べ簡便であるので、製造コスト
が低くかつ製造効率が高いという製造上の利点を有する
からである。

【００２２】請求項５に記載の発明は、請求項４に記載
の発明において、スイッチング素子、信号配線及び／又
は容量素子を構成要素として含む液晶駆動手段を更に有
し、かつ、複数のスペーサの各々が液晶駆動手段を構成
する少なくともいずれか１種の構成要素が形成された領
域に突出部を介して設けられていることを特徴とする。

【００２３】この構成であれば、厚さが薄いスペーサを
用いて、絶縁基板と透光基板とを所定の間隔で保持する
ことができる。液晶駆動手段を構成するスイッチング素
子、信号配線あるいは容量素子が形成された領域ではこ
れらが絶縁基板から突出しており、他の領域に比べて絶
縁基板からの高さが高い突出部を簡便に形成できるから
である。また、薄いスペーサを用いれば、形成すべきス
ペーサの個数あるいは総体積を更に低減することができ
る。

【００２４】請求項６に記載の発明は、請求項４に記載
の発明において、第１の封止板が複数の同一形状の突出
部を有し、かつ、複数のスペーサの各々が、前記同一形
状の突出部の形成された領域に設けられていることを特
徴とする。この構成であれば、絶縁基板からの突出部の
高さが均一となり、高さが略同一なスペーサを用いて確
実に絶縁基板を透光基板とを所定の間隔で保持すること
ができる。また、スペーサを第１の封止板と第２の封止
板とに確実に接触させることができるために、余剰のス
ペーサの個数を低減することができる。したがって、良
好な表示を実現することができる。

【００２５】請求項７に記載の発明は、請求項６に記載
の発明において、第２の封止板が、透光基板と透光電極
との間に、平坦なカラーフィルタ層を更に備えることを
特徴とする。この構成であれば、平坦なカラーフィルタ
層を有するカラー液晶表示装置であっても、形成すべき
スペーサの個数を確実に低減することができるため、良
好なカラー表示を実現することができる。

【００２６】ここに、カラー液晶表示装置とはユニカラ
ー表示又はフルカラー表示の液晶表示装置である。ま
た、平坦なカラーフィルタ層は、１つの単色カラーフィ
ルタ膜を着色部として備えた層、色は異なるが膜厚は同
一である複数のカラーフィルタ膜を着色部として備えた
層、色ごとに膜厚の異なる複数のカラーフィルタ膜を着
色部として備えかつ複数のカラーフィルタ膜全体を平滑
化する保護膜を備えた層のいずれであってもよい。

【００２７】請求項８に記載の発明は、請求項４又は５
に記載の発明において、第２の封止板が、透光基板と透
光電極との間に、部分的に厚さが異なり凹凸をなすカラ
ーフィルタ層を更に備え、かつ、スペーサの各々が、カ
ラーフィルタ層の厚さが厚い部位に設けられていること
を特徴とする。

【００２８】上記の構成の如く、カラーフィルタ層の層
厚の厚い部分にスペーサを設けることで、厚さが更に薄
いスペーサを用いて、絶縁基板と透光基板とを所定の間
隔に保持することができる。凹凸をなすカラーフィルタ
層とは、色ごとに膜厚の異なる複数のカラーフィルタ膜
が並設されてなる層等である。

【００２９】第２の封止板に厚さの異なる複数種のカラ
ーフィルタ膜が形成されていても、１種のカラーフィル
タ膜の形成された領域に高さの同一なスペーサを設ける
ことによって、絶縁基板と透光基板とを所定の間隔に保
持することができる。また、第２の封止板に設けられ
る、凹凸をなすカラーフィル層の凹凸形状に応じて、第
１の封止板に設けられる突出部の高さを予め制御してお
けば、第２の封止板に高さの同一なスペーサを設けるこ
とによって、絶縁基板と透光基板とを所定の間隔に保持
することができる。

【００３０】請求項９に記載の発明は、請求項８に記載
の発明において、突出部の配置のパターンが単位パター
ンの繰り返しであり、かつ、複数のスペーサの各々が単
位パターンにおける同一部位に設けられていることを特
徴とする。この構成によれば、スペーサを基板面内にお
いて均一に分布させることも容易となり、スペーサを効
果的に機能させることができる。更に、突出部の表面形
状のパターンが単位パターンの繰り返しであってもよ
い。

【００３１】なお、各スペーサが単位パターンにおける
同一部位に設けられている限りにおいて、各スペーサの
配置のパターンは任意でよい。したがって、全ての単位
パターンの同一部位にスペーサを設けた構成であっても
よいし、複数の繰り返しごとに単位パターンの同一部位
にスペーサを設けてもよい。また、表示領域内の中央付
近におけるスペーサの密度を、周縁付近におけるスペー
サの密度より高くする等の設計変更も容易となる。

【００３２】上記の課題を解決するために、請求項１０
に記載の発明は、絶縁基板と絶縁基板上に設けられた突
出部と突出部の少なくとも一部を覆う光反射性を有する
反射膜とを備える第１の封止板を作製する第１封止板作
製工程と、透光基板と透光基板上に設けられた透光性を
有する透光電極とを備える第２の封止板を作製する第２
封止板作製工程と、第２の封止板における選択的な部位
に複数のスペーサを形成するスペーサ形成工程と、スペ
ーサ形成工程後に第１の封止板、第２の封止板及び周縁
封止部となるシール剤で液晶材料を封止する液晶封止工
程と、を含む液晶表示装置の製造方法である。

【００３３】上記の構成によれば、従来の如く散布され
たビーズスペーサを有する拡散反射型液晶表示装置に比
べて、少ない個数のスペーサを用いて絶縁基板と透光基
板を所定の間隔で保持することができる。したがって、
表示性能の高い拡散反射型液晶表示装置を製造できる。
また、スペーサの高さの設定を変更することによって、
所望の液晶層を簡便に形成することができる。

【００３４】請求項１１に記載の発明は、請求項１０に
記載の発明において、絶縁基板が透光性を有する基板で
ありかつ反射膜が突出部の形成されていない領域に開口
部を有する反射膜であって、第１封止板作製工程で、少
なくとも前記反射膜の開口部の形成された領域に、透光
性及び導電性を有する透光導電膜を更に形成することを
特徴とする。この構成によれば、所望の液晶層を備えた
表示性能の高い半透過型液晶表示装置を製造できる。

【００３５】請求項１２に記載の発明は、請求項１０又
は１１に記載の発明において、スペーサ形成工程で、選
択的な部位として、対向することとなる第１封止板の突
出部に対応する部位に、スペーサを形成することを特徴
とする。

【００３６】上記の構成によれば、スペーサの厚さを薄
くできるため、スペーサを簡便に形成できる。また、形
成すべきスペーサの総体積を低減することによって表示
に寄与しない領域を減少させた、表示性能が更に高い拡
散反射型液晶表示装置を製造できる。

【００３７】

【発明の実施の形態】本発明の内容を説明すると共に、
好ましい実施の形態を記述する。

【００３８】（実施の形態１）本実施の形態において
は、スペーサが信号線の形成された領域に設けられた反
射型の液晶表示装置について図１から図５を参照しなが
ら説明する。図１は、信号線の形成された領域に配設さ
れたスペーサを有する反射型液晶表示装置の部分断面図
であり、図２はその反射型液晶表示装置の部分平面図で
ある。なお、図１は、図２におけるＡ−Ａ断面を示す。
図３には、液晶表示装置全体を説明するための模式的な
断面図を示す。

【００３９】本実施の形態に係る反射型液晶表示装置
は、図３に示す如く、第１の封止板１と、第２の封止板
２と、周縁封止部３と、液晶層４と、第２の封止板２上
に設けられた位相差板７と、位相差板７上に設けられた
偏光板６とで構成されている。なお、位相差板７及び偏
光板６は、液晶層４を構成する液晶材料の種類や液晶材
料の液晶駆動モードに応じて付加的に必要とされるもの
であり、本発明に係る液晶表示装置の必須要素ではない
ことに注意を要する。例えば、液晶層を構成する液晶材
料が高分子分散型液晶材料の場合、位相差板７や偏光板
７は必ずしも必要なわけではない。

【００４０】第１の封止板１には、絶縁基板１１と、絶
縁基板１１上に形成されたＴＦＴ１３、信号線１２（ソ
ース信号線、ゲート信号線）及びコンタクトホール１４
と、絶縁基板１１上に形成された突出部１５と、突出部
１５の少なくとも一部を覆うように形成された、画素電
極を兼ねる複数の反射膜１６と、第１の液晶配向膜１７
とを有する。

【００４１】また、第２の封止板２には、透光基板２１
と、透光基板２１の表面に形成された、複数の赤色フィ
ルタ膜２２ｒ、複数の緑色フィルタ膜２２ｇ及び複数の
青色フィルタ膜（図示せず）並びに全てのカラーフィル
タを覆う平坦化保護膜２３よりなるカラーフィルタ層
と、カラーフィルタ層の表面に形成された透光性を有す
る共通電極（透光電極）２６と、共通電極２６を覆う第
２の液晶配向膜２７とを有する。なお、第１の液晶配向
膜１７と第２の液晶配向膜２７は、本発明に係る液晶表
示装置の必須要素ではないことに注意を要する。液晶層
４を構成する液晶材料がツイスト・ネマチック型液晶材
料であれば、通常、第１の液晶配向膜１７及び第２の液
晶配向膜２７が形成されるが、高分子分散型液晶材料等
の場合、第１の液晶配向膜１７や第２の液晶配向膜２７
は必ずしも必要なわけではない。

【００４２】以下に、本実施の形態に係る反射型液晶表
示装置の構成例を具体的に説明する。絶縁基板１１とし
ては、シリコン基板、ガラス基板、プラスチック基板等
が挙げられ、透光基板２１としてはガラス基板、プラス
チック基板等が挙げられる。

【００４３】突出部１５は、ポジ型光感光性樹脂で構成
されており、突出部１５の頂上の高さは、概ね２．５μ
ｍである。具体的には、ＪＳＲ株式会社製のポジ型フォ
トレジスト（ＰＣ４０３）が例示できる。なお、突出部
１５を形成するための材料は光感光性樹脂に限らないこ
とに注意を要する。ただし、突出部１５を構成する物質
としては、導電性を持たない物質が好ましい。

【００４４】各反射膜１６は、膜厚が０．１μｍのアル
ミニウム膜とした。なお、本実施の形態に係る反射膜と
しては、アルミニウムや銀等の如く、光反射率が高く、
かつ導電性を有する金属膜を用いることが好ましい。

【００４５】以下に、本実施の形態に係る反射型液晶表
示装置の変化例を具体的に説明する。上記において複数
の赤色フィルタ膜２２ｒ、複数の緑色フィルタ膜２２ｇ
及び複数の青色フィルタ膜（図示せず）並びに全てのカ
ラーフィルタを覆う平坦化保護膜２３よりなるカラーフ
ィルタ層を設けたが、膜厚が同一であり、複数の赤色フ
ィルタ膜、複数の緑色フィルタ膜及び複数の青色フィル
タ膜からなるカラーフィルタ層を設けてもよい。

【００４６】図１においては、画素領域を繰り返し単位
とする繰り返しパターンの突出部が形成されているが、
２以上の画素領域を単位パターンとする繰り返しパター
ンを有する突出部が形成されていてもよい。

【００４７】第１の封止板としては、図１４に示された
従来の構成の突出部１１５や図１５に示された突出部１
１５及び突出部１１５を平滑化するように覆う凹凸平滑
化膜１１８を備える構成であってもよい。なお、図１４
及び図１５においては、ＴＦＴ、信号線及び第１の液晶
配向膜は省略されていることに注意を要する。

【００４８】以下に、図１に示された反射型の液晶表示
装置の製造方法について説明する。図４及び図５は、反
射型の液晶表示装置の製造方法を模式的に示す工程断面
図である。第１の封止板を製造する工程、第２の封止板
を製造する工程、柱スペーサを形成する工程、及び第１
の封止板と第２の封止板とを用いて液晶表示装置を完成
させる工程に分けて順次説明する。なお、以下において
は、第２の封止板に柱スペーサを形成する場合を説明す
るが、第１の封止板に柱スペーサを形成してもよい。

【００４９】まず第１に、図４を参照しながら第１の封
止板の製造工程について説明する。絶縁基板１１上にＴ
ＦＴ素子（図示せず）及び信号線１２を形成する（図４
（ａ））。次に、ポストベークによりメルトフローする
性質を有するアクリル系ポジ型フォトレジストを塗布し
て、厚さ４μｍのフォトレジスト膜を形成する。画素領
域単位を単位パターンとする繰り返しパターンを構成す
るように、フォトリソグラフィによりフォトレジスト膜
をパターニングする。次に、パターニングされたフォト
レジスト膜をポストベークする。ポストベークにおける
フォトレジスト膜のメルトフローによって、表面が滑ら
かに起伏した曲面領域を有する突出部１５が形成される
（図４（ｂ））。なお、信号線１２上に柱スペーサを形
成することとなるので、信号線１２にも突出部１５を形
成した。次に、蒸着法を適用して、アルミニウムを突出
部１５の形成された絶縁基板１１上に堆積させて、厚さ
０．１μｍのアルミニウム膜を形成した。蒸着形成され
たアルミニウム膜をフォトリソグラフィ及びエッチング
によりパターニングして、複数の反射膜１６を形成する
（図４（ｃ））。ここに、各反射膜１６を突出部１５の
少なくとも一部を覆うように形成したため、各反射膜１
６は光拡散反射性を有することとなる。次に、反射膜形
成工程後に、絶縁基板１１上に第１の液晶配向膜１７を
形成する（図４（ｄ））。第１の液晶配向膜の形成に
は、スピンコート法等の公知技術を利用することができ
る。

【００５０】第２に、図５を参照しながら、第２の封止
板の製造工程について説明する。透光基板上に、赤色の
顔料を混入させたネガ型レジストを塗布して赤色フィル
タ膜を成膜する。成膜された赤色フィルタ膜をフォトリ
ソグラフィによりパターニングして、複数の赤色フィル
タ２２ｒを形成する。ネガ型レジストに混入させる顔料
が異なること以外は、上記パターニングされた赤色フィ
ルタ膜を形成する場合と同様にして、緑色フィルタ２２
ｇと青色フィルタ（図示せず）とを順次形成する。更
に、各カラーフィルタを覆いかつ表面を平坦化するよう
に、平坦化保護膜２３を形成する。これにより、赤色フ
ィルタ膜２２ｒ、緑色フィルタ膜２２ｇ及び青色フィル
タ膜、並びに、平坦化保護膜２３よりなるカラーフィル
タ層が形成される（図５（ａ））。ここに、３種のカラ
ーフィルタ膜（赤色フィルタ膜、緑色フィルタ膜及び青
色フィルタ膜）の形成順序は任意でよい。上記におい
て、カラーフィルタ層は、フォトリソグラフィによって
形成したが、印刷法等の公知技術を利用して形成するこ
ともできる。次に、スパッタリング法を適用してインジ
ウム錫酸化物（ＩＴＯ）をカラーフィルタ層上に堆積さ
せて、厚さ約０．１μｍの透明な共通電極２６（透光電
極）を形成した。次に、共通電極２６の形成後に、透光
基板２１上に第２の液晶配向膜２７を形成する（図５
（ｄ））。第２の液晶配向膜２７の形成には、印刷法等
の公知技術を利用することができる。

【００５１】第３に、第２の液晶配向膜２７の上にネガ
型レジストを塗布し、厚さが２．５μｍのスペーサ膜を
形成した。スペーサ形成用のフォトマスクを用いたフォ
トリソグラフィによってスペーサ膜をパターニングし
て、複数のスペーサ５を形成した。複数のスペーサ各々
の底面を一辺が５μｍの正方形となるように設定した。
ここに、複数のスペーサ５は、任意の部位に形成される
のではなく、絶縁基板１１の上に形成された突出部１５
と対向することとなる部位に選択的に形成されているこ
とに注意を要する。

【００５２】上記においてはスペーサ５の形成に先立っ
て第２の液晶配向膜を形成したが、第２の液晶配向膜の
形成前にスペーサ５を形成してもよい。また、上記にお
いて、スペーサ５をフォトリソグラフィにより形成した
が、印刷法等の公知技術を利用して形成することもでき
る。また、スペーサ５を形成する材料としてネガ型レジ
ストを用いたが、任意の絶縁性物質を用いてスペーサ５
を形成してもよい。

【００５３】第４に、図３を参照しながら液晶表示装置
を完成させる工程を説明する。上記の如く形成された第
１の封止板１と第２の封止板２とを、第１の配向膜１７
と第２の液晶配向膜２７とが対面するように、表示領域
の周縁に形成したシール剤で貼り合わせて、液晶注入口
を有する空セルを形成する。空セルの液晶注入口から液
晶材料を注入した後、液晶注入口を封止剤で塞ぐ。これ
により、第１の封止板１と第２の封止板２と周縁封止部
３からなる閉空間に封止された液晶層４を形成すること
ができる。なお、周縁封止部３はシール剤及び封止剤に
より形成されていることに注意を要する。

【００５４】最後に、透光基板４上に位相差板７と偏光
板６とを順次貼り合わせる。以上の工程により、図１に
示された液晶表示装置を完成した。

【００５５】（実施の形態２）本実施の形態において、
ＴＦＴの形成された領域に配設されたスペーサを備える
反射型の液晶表示装置について、図６及び図７を参照し
ながら説明する。図６は、ＴＦＴの形成された領域に配
設されたスペーサを有する反射型の液晶表示装置の部分
断面図であり、図７はその反射型液晶表示装置の部分平
面図である。なお、図６は、図７におけるＢ−Ｂ断面を
表す。

【００５６】図６に示された本実施の形態に係る反射型
液晶表示装置は、上記実施の形態１に記載の反射型液晶
表示装置におけるスペーサの配置部位を信号線の形成さ
れた領域からＴＦＴ１３の形成された領域に変更したこ
と以外は、同一の構成である。なお、図６及び図７にお
いては、同一部材に関して図１及び図２と同じ参照符号
を付した。図６に示す如くＴＦＴ１３の形成された領域
にスペーサ５を配置することによって、図１に示された
構成に比べて、スペーサ５の高さを低くすることができ
る。これにより、同一の底面形状を有するスペーサを用
いる場合、スペーサの高さの低減により強度が高くな
り、少数のスペーサで絶縁基板と透光基板とを所定の間
隔に保持することができる。また、製造方法の観点から
は、スペーサ膜をパターニングする際の露光時間を短縮
できるので生産性が更に向上するという利点がある。

【００５７】また、上記実施の形態１に記載の反射型液
晶表示装置におけるスペーサの配置部位を信号線の形成
された領域から蓄積容量の形成された領域に変更したこ
と以外は、同一の構成とした反射型液晶表示装置であっ
てもよい。ＴＦＴの形成された領域に形成された場合と
同様に、少数のスペーサで絶縁基板と透光基板と所定の
間隔に保持することができる。

【００５８】（実施の形態３）本実施の形態において
は、カラーフィルタ層を構成するカラーフィルタ膜を積
層してなるスペーサを有する反射型液晶表示装置につい
て図８を参照しながら説明する。図８は、本実施の形態
における反射型液晶表示装置の部分断面図である。第２
の封止板２及びスペーサ５の構成が異なる以外は、上記
実施の形態２に記載した液晶表示装置と同様の構成であ
るので、特徴部分についてのみ説明する。

【００５９】本実施の形態における第２の封止板２に
は、透光基板２１と、透光基板２１の表面に形成され
た、複数の赤色フィルタ膜２２ｒ、複数の緑色フィルタ
膜２２ｇ及び複数の青色フィルタ膜（図示せず）よりな
るカラーフィルタ層と、カラーフィルタ層の表面に形成
された、一部にスルーホールを有する透明な共通電極２
６と、透明な共通電極２６を覆う第２の液晶配向膜２７
とを有する。また、本実施の形態におけるスペーサ５
は、緑色フィルタ膜２２ｇ上にスペーサ用の赤色フィル
タ膜５ｇ及びスペーサ用の青色フィルタ膜５ｂを積層し
た構成である。

【００６０】この構成であれば、３種のカラーフィルタ
膜を形成する工程において、スペーサを同時に形成する
ことができる。したがって、製造における工程数を減ら
すことができ、簡便に及び効率的に第２の封止板を作製
できる。ただし、同色のカラーフィルタ膜を積層した構
成であってもよいが、工程が複雑になるため好ましくな
い。

【００６１】図８においては、赤色フィルタ膜２２ｒと
スペーサ用の赤色フィルタ膜５ｒとは繋がった１つの膜
で形成されているが、それらを離隔させて形成した構成
であってもよい。また、緑色フィルタ膜２２ｇ上にスペ
ーサ用の赤色フィルタ膜５ｒとスペーサ用の青色フィル
タ膜５ｂとを積層したが、任意の色のフィルタ膜上に、
他の色のフィルタ膜を１種又は複数種積層する構成であ
ってもよい。つまり、緑色フィルタ膜上に、スペーサ用
の赤色フィルタ膜又はスペーサ用の青色フィルタ膜のい
ずれか１つを設けた構成や、赤色フィルタ膜上にスペー
サ用の緑色フィルタ膜と青色フィルタ膜とを設けた構成
であってもよい。

【００６２】（実施の形態４）本実施の形態において
は、突出部と反射膜との間に凹凸平滑化膜を有する反射
型液晶表示装置について図９を参照しながら説明する。
図９は、本実施の形態に係る反射型液晶表示装置の部分
断面図である。第１の封止板１の構成が異なる以外は、
上記実施の形態２に記載した液晶表示装置と同様の構成
であるので、特徴部分についてのみ説明する。

【００６３】図９に示された液晶表示装置は、図１５に
示されたような従来の光拡散反射板を第１の封止板とし
て備える液晶表示装置である。本実施の形態に係る第１
の封止板は、絶縁基板１１と、絶縁基板１１上に形成さ
れたＴＦＴ１３及び信号線１２（ソース信号線、ゲート
信号線）と、絶縁基板１１上に形成された突出部１５
と、突出部１５の全体を覆う凹凸平滑化膜１８と、凹凸
平滑化膜１８の一部を覆うように形成された画素電極を
兼ねる複数の反射膜１６と、第１の液晶配向膜１７とを
有する。

【００６４】この構成であっても、上記実施の形態１か
ら４に記載の液晶表示装置と同様の効果を奏する。図９
においては、信号線１２の形成された領域にスペーサを
設ける構成を示したが、他の領域に形成するものであっ
てもよい。

【００６５】（実施の形態５）本実施の形態において
は、凹凸カラーフィルタ層を有する反射型液晶表示装置
について図１０及び図１１を参照しながら説明する。図
１０は、本実施の形態における反射型液晶表示装置の部
分平面図であり、図１１は部分断面図である。なお、図
１１は、図１０におけるＣ−Ｃ矢視断面を表す。

【００６６】図１１に示す如く、液晶表示装置は、膜厚
の異なる３色のカラーフィルタ膜（赤色フィルタ膜２２
ｒ、緑色フィルタ膜２２ｇ及び青色フィルタ膜２２ｂ）
を有する構成である。また、図１０に示す如く、液晶表
示装置は、１つの画素領域を繰り返し単位とする繰り返
しパターンの突出部を有しており、突出部の単位パター
ン中には、各色の画素用として高さの異なるの突出部
（赤色画素用突出部３５ｒ、緑色画素用突出部３５ｇ及
び青色画素用突出部３５ｂ）を含む構成である。ただ
し、柱スペーサの高さが同一となるように、第２の封止
板に形成された各色のカラーフィルタ膜の膜厚に応じ
て、各色画素用の突出部の高さは調整されている。

【００６７】以下に、高さの同じポジ型フォトレジスト
膜から高さの異なる突出部を形成する方法を説明する。
上記実施の形態１で示した突出部形成工程と同様にして
同じ高さの第１のフォトレジスト膜２５ｃ及び第２のフ
ォトレジスト膜２５ｐを形成した後、形成された第１の
スペーサ膜２５ｃ及びフォトレジスト膜２５ｐをポスト
ベークにおいてメルトフローさせると、図１２に示すよ
うに、第１のフォトレジスト膜２５ｃがメルトフローし
てなる突出部５ｃの高さより、第２のフォトレジスト膜
２５ｐがメルトフローしてなる突出部２５ｐの高さの方
が低くなる。

【００６８】図１１においては１つの画素領域を繰り返
し単位とする繰り返しパターンの突出部を設けた構成を
示したが、３つの画素領域（赤色画素、緑色画素及び青
色画素）を繰り返し単位とする繰り返しパターンの突出
部が形成され、かつ突出部の単位パターン中には各色の
画素用として高さの異なる複数種の突出部（赤色画素用
突出部、緑色画素用突出部及び青色画素用突出部）を含
む構成とすることもできる。また、３つの画素領域（赤
色画素、緑色画素及び青色画素）を繰り返し単位とする
繰り返しパターンの突出部が形成され、かつ突出部の単
位パターン中には、各色の画素用として高さの異なる複
数種の部位を有する１つの突出部を含む構成とすること
もできる。

【００６９】（実施の形態６）本実施の形態において
は、半透過型液晶表示装置について、図１３を参照しな
がら説明する。上記実施の形態１から５に記載の反射型
液晶表示装置における第１の封止板を半透過型用の第１
の封止板に変更すること及び半透過型用の第１の封止板
の後方側（液晶層と反対側）にバックライトを配置する
こと以外は同一の構成とすることにより、半透過型液晶
表示装置を製造できる。なお、半透過型用の第１の封止
板とバックライトとの間に、偏光板及び位相差板を設け
た構成とすることもできる。

【００７０】図１３は、信号線の形成された領域に設け
られたスペーサを有する半透過型液晶表示装置を表す。
図１３に示された半透過型液晶表示装置は、第１の封止
板１と、第２の封止板２と、周縁封止部（図示せず）
と、液晶層４と、第２の封止板２の液晶層４側と反対側
に設けられた第１の位相差板７と、第１の位相差板７に
接して設けられた第１の偏光板６と、第１の封止板１の
液晶層４側と反対側に設けられた第２の位相差板９と、
第２の位相差板９に接して設けられた偏光板８と、第２
の偏光板８の後方に配置されたバックライト（図示せ
ず）で構成されている。

【００７１】本実施の形態に係る半透過用の第１の封止
板１は、透光性を有する絶縁基板１１と、絶縁基板１１
の液晶層４側に設けられた複数の信号線１２及び複数の
ＴＦＴ（図示せず）と、絶縁基板１１の液晶層４側に設
けられた突出部１５と、突出部１５の少なくとも一部を
覆うように形成された、開口部を有する複数の反射膜１
６と、反射膜１６を覆うように形成された透光性を有す
る複数の透光導電膜１９と、第１の液晶配向膜１７を備
える。これにより、本実施の形態に係る半透過型液晶表
示装置は、突出部１５と光反射膜１９とが積層されてい
る反射表示領域と、突出部１５及び光反射膜１９の形成
されていない透過表示領域とを有する。

【００７２】上記の本実施の形態においては、透光導電
膜１９が単独で、又は反射膜が導電性を有する場合には
透光導電膜及び反射膜が共同で画素電極として機能す
る。また、本実施の形態において反射膜の上に透光導電
膜を設けたが、反射膜と透光導電膜とを接触させて形成
する場合においては反射膜の下に透光導電膜を設けても
よい。

【００７３】上記の本実施の形態において、透明性の突
出部を設けた構成の場合には、光反射膜の形成された領
域が反射表示領域となり、光反射膜の形成されない領域
が透過表示領域となる。また、図９に示されたような凹
凸平滑化膜１８を備えた半透過用の第１の封止板を用い
る場合、凹凸平滑化膜１８は透明性を有する必要があ
る。

【００７４】

【発明の効果】以上で説明したように、本発明では、柱
スペーサ等を用いることにより、球状スペーサの散布さ
れた液晶層を設けた場合に比べて、少ない数のスペーサ
で絶縁基板と透光基板とを所定の間隔で保持できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、信号線の形成された領域に設けられた
スペーサを有する反射型液晶表示装置の部分断面図であ
り、図２におけるＡ−Ａ断面を表す。

【図２】図２は、信号線の形成された領域に設けられた
スペーサを有する反射型液晶表示装置の部分平面図であ
る。

【図３】図３は、拡散反射型液晶表示装置の全体を模式
的に示す断面図である。

【図４】図４は、第１の封止板を形成する工程を説明す
るための工程断面図である。

【図５】図５は、第２の封止板を形成する工程を説明す
るための工程断面図である。

【図６】図６は、ＴＦＴ形成された領域に設けられたス
ペーサを有する反射型液晶表示装置の部分断面図であ
り、図７におけるＢ−Ｂ断面を表す。

【図７】図７は、ＴＦＴの形成された領域に設けられた
スペーサを有する反射型液晶表示装置の部分平面図であ
る。

【図８】図８は、カラーフィルタ膜が積層してなるスペ
ーサを有する反射型液晶表示装置の部分断面図である。

【図９】図９は、突出部及び凹凸平滑化膜を備えた反射
型液晶表示装置の部分断面図である。

【図１０】図１０は、突出部の単位パターンに赤色画素
用突出部、緑色画素用突出部及び青色画素用突出部を含
む突出部を含む反射型液晶表示装置の部分平面図であ
る。

【図１１】図１１は、突出部の単位パターンに赤色画素
用突出部、緑色画素用突出部及び青色画素用突出部を含
む突出部を含む反射型液晶表示装置の部分平面図であ
り、図１０におけるＣ−Ｃ矢視断面を表す。

【図１２】図１２は、高さの異なる突出部を形成する工
程の１例を説明するための断面図である。

【図１３】図１３は、信号線の形成された領域に設けら
れたスペーサを有する半透過型液晶表示装置の部分断面
図である。

【図１４】図１４は、従来の反射板を説明するための模
式図であり、図１４（ａ）が凸部と反射膜とを備えた反
射板の断面図であって、図１４（ｂ）におけるＸ−Ｘ断
面を表し、図１４（ｂ）が凸部と反射膜とを備えた反射
板の部分平面図を表す。

【図１５】図１５は、従来の反射板を説明するための模
式図であり、図１５（ａ）が凸部と凹凸平滑化膜と反射
膜とを備えた反射板の部分断面図であって、図１５
（ｂ）におけるＹ−Ｙ断面を表し、図１５（ｂ）が凸部
と凹凸平滑化膜と反射膜とを備えた反射板の部分平面図
を表す。

【図１６】図１６は、平坦な反射膜と球状のビーズスペ
ーサとを有する従来の液晶表示装置の部分断面図であ
る。

【図１７】図１７は、光拡散反射膜と球状のビーズスペ
ーサとを有する従来の液晶表示装置の部分断面図であ
る。

【符号の説明】

１ 第１の封止板 ２ 第２の封止板 ３ 周縁封止部 ４、１０４ 液晶層 ５、５ｃ、５ｐ、１０５ スペーサ ５ｂ スペーサ用の青色フィルタ膜 ５ｒ スペーサ用の赤色フィルタ膜 ６、１０６ 第１の偏光板 ７、１０７ 第１の位相差板 ８ 第２の偏光板 ９ 第２の位相差板 １１、１１１ 絶縁基板 １２ 信号線 １３ ＴＦＴ １４ コンタクトホール １５、１１５ 突出部 １６、１１６ 反射膜 １７ 第１の液晶配向膜 １８、１１８ 凹凸平滑化膜 １９、１１９ 透光導電膜 ２１、１２１ 透光基板 ２２ｒ 赤色フィルタ膜 ２２ｇ 緑色フィルタ膜 ２２ｂ 青色フィルタ膜 ２３ 平坦化保護膜 ２５、２５ｃ、２５ｐ スペーサ膜 ２６、１２６ 透光共通電極 ２７ 第２の液晶配向膜 ３５ｒ 赤色画素用突出部 ３５ｇ 緑色画素用突出部 ３５ｂ 青色画素用突出部 １２２ カラーフィルタ膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H089 LA07 LA09 LA14 LA15 LA24 LA41 NA07 NA14 NA37 PA15 QA14 TA02 TA11 TA18 2H091 FA02Y FA15Y FA31Y FA41Z FB06 FC02 GA03 GA07 GA08 GA09 GA13 LA17 LA18

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１の封止板と、前記第１の封止板に対
   向した第２の封止板と、前記第１の封止板と前記第２の
   封止板との間に設けられた周縁封止部と、前記第１の封
   止板、前記第２の封止板及び前記周縁封止部で形成され
   た閉空間に封止された液晶層と、前記閉空間に設けられ
   た複数のスペーサとを含む液晶表示装置であって、 前記第１の封止板が、絶縁基板と、前記絶縁基板の前記
   液晶層側に設けられた突出部と、前記突出部の少なくと
   も一部を覆う光反射性を有する反射膜とを備え、かつ、 前記第２の封止板が、透光性を有する透光基板と、前記
   透光基板の前記液晶層側に設けられた透光性を有する透
   光電極とを備え、かつ、 前記複数のスペーサの各々が、前記突出部の形成された
   領域に設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
2. 【請求項２】 第１の封止板と、前記第１の封止板に対
   向した第２の封止板と、前記第１の封止板と前記第２の
   封止板との間に設けられた周縁封止部と、前記第１の封
   止板、前記第２の封止板及び前記周縁封止部で形成され
   た閉空間に封止された液晶層と、前記閉空間に設けられ
   た複数のスペーサと、前記第１の封止板の前記液晶層と
   反対側の後方に配置されたバックライトとを含む液晶表
   示装置であって、 前記第１の封止板が、透光性を有する絶縁基板と、前記
   絶縁基板の前記液晶層側に設けられた突出部と、前記突
   出部の一部を覆いかつ前記突出部の形成されていない領
   域に開口部を有する反射膜と、少なくとも前記反射膜の
   開口部が形成された領域に設けられた透光性及び導電性
   を有する透光導電膜とを備え、かつ、 前記第２の封止板が、透光性を有する透光基板と、前記
   透光基板の前記液晶層側に設けられた透光性を有する透
   光電極とを備え、かつ、 前記複数のスペーサの各々が、前記突出部の形成された
   領域に設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
3. 【請求項３】 請求項１又は２に記載の液晶表示装置に
   おいて、 前記複数のスペーサの各々が、柱スペーサであることを
   特徴とする液晶表示装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の液晶表示装置におい
   て、 前記複数のスペーサの各々が、略同一の高さを有するこ
   とを特徴とする液晶表示装置。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の液晶表示装置におい
   て、 前記絶縁基板上に設けられた、スイッチング素子、信号
   配線及び／又は容量素子を構成要素として含む液晶駆動
   手段を更に備え、かつ、 前記複数のスペーサの各々が、前記液晶駆動手段を構成
   する少なくともいずれか１種の構成要素が形成された領
   域に、前記突出部を介して設けられていることを特徴と
   する液晶表示装置。
6. 【請求項６】 請求項４に記載の液晶表示装置におい
   て、 前記第１の封止板が、複数の同一形状の突出部を備え、
   かつ、 前記複数のスペーサの各々が、前記同一形状の突出部の
   形成された領域に設けられていることを特徴とする液晶
   表示装置。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の液晶表示装置におい
   て、 前記第２の封止板が、前記透光基板と前記透光電極との
   間に、平坦なカラーフィルタ層を更に備えることを特徴
   とする液晶表示装置。
8. 【請求項８】 請求項４又は５に記載の液晶表示装置に
   おいて、 前記第２の封止板が、前記透光基板と前記透光電極との
   間に、部分的に厚さが異なり凹凸をなすカラーフィルタ
   層を更に備え、かつ、 前記スペーサの各々が、前記カラーフィルタ層の厚さが
   厚い部位に設けられていることを特徴とする液晶表示装
   置。
9. 【請求項９】 請求項８に記載の液晶表示装置におい
   て、 前記突出部の配置のパターンが、単位パターンの繰り返
   しであり、かつ、 前記複数のスペーサの各々が、前記単位パターンにおけ
   る同一部位に設けられていることを特徴とする液晶表示
   装置。
10. 【請求項１０】 絶縁基板と、前記絶縁基板上に設けら
    れた突出部と、前記突出部の少なくとも一部を覆う光反
    射性を有する反射膜とを備える第１の封止板を作製する
    第１封止板作製工程と、 透光基板と、前記透光基板上に設けられた透光性を有す
    る透光電極とを備える第２の封止板を作製する第２封止
    板作製工程と、 前記第２の封止板における選択的な部位に複数のスペー
    サを形成するスペーサ形成工程と、 前記スペーサ形成工程後に、前記第１の封止板、前記第
    ２の封止板及び周縁封止部となるシール剤で液晶材料を
    封止する液晶封止工程と、を含む液晶表示装置の製造方
    法。
11. 【請求項１１】 請求項１０に記載の液晶表示装置の製
    造方法において、 前記絶縁基板が透光性を有する基板であり、かつ前記反
    射膜が前記突出部の形成されていない領域に開口部を有
    する反射膜であって、 前記第１封止板作製工程で、少なくとも前記反射膜の開
    口部の形成された領域に透光性及び導電性を有する透光
    導電膜を更に形成することを特徴とする液晶表示装置の
    製造方法。
12. 【請求項１２】 請求項１０又は１１に記載の液晶表示
    装置の製造方法において、 前記スペーサ形成工程で、前記選択的な部位として、対
    向することとなる前記第１封止板の突出部に対応する部
    位に、前記スペーサを形成することを特徴とする液晶表
    示装置の製造方法。