JP4600859B2 - ヘテロ環置換チオフェノール化合物、その製造中間体および製造法 - Google Patents
ヘテロ環置換チオフェノール化合物、その製造中間体および製造法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4600859B2 JP4600859B2 JP2000553413A JP2000553413A JP4600859B2 JP 4600859 B2 JP4600859 B2 JP 4600859B2 JP 2000553413 A JP2000553413 A JP 2000553413A JP 2000553413 A JP2000553413 A JP 2000553413A JP 4600859 B2 JP4600859 B2 JP 4600859B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- compound
- reaction
- methyl
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D261/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings
- C07D261/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings
- C07D261/06—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings having two or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D261/08—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings having two or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
本発明は、農薬特に除草剤の製造中間体として有用な新規ヘテロ環置換チオフェノール化合物及びその製造中間体、並びにそれらの製造法に関する。
背景技術:
本発明化合物であるヘテロ環置換チオフェノール化合物は、例えば、WO96/26206号、WO97/41118号及びWO97/46530号公報等に記載の除草活性ベンゾイルピラゾール化合物の製造中間体として重要である。
本発明化合物であるシクロヘキセノン化合物の製造法に類似の、エノールラクトンからシクロヘキセノン誘導体を合成する反応に関しては、例えば、エノールラクトンと、酢酸エステルのリチウム塩との反応(下記反応式A)が、Tetrahedron Letters 31,3421(1990)に、又エノールラクトンとグリニャ試薬との反応(下記反応式B)が、J.Org.Chem.54,4704(1989))に記載されている。
しかしながら、エノールラクトンとイソオキサゾールなどの含窒素ヘテロ環化合物との直接反応に関しての報告はない。
発明の開示:
本発明は、農薬・医薬等、特に除草活性を有する化合物の製造中間体として有用な新規ヘテロ環置換チオフェノール化合物、それらの製造中間体並びに、多段階にわたる工程が必要なヘテロ環置換チオフェノール化合物を、より簡便かつ経済的に有利に製造することのできる方法を提供することを目的とする。
本発明は、1.一般式(1)
[式中、R1は、C1−4アルキル基を表し、
R2は、水素原子またはC1−4アルキル基を表し、
R3は、水素原子,シアノ基,アミド基,C1−4アルキルカルボニル基またはC1−4アルコキシカルボニル基を表し、
R4は、C1−4アルキル基を表し、
Qは、次のQ1,Q2またはQ3
(ここで、r1〜r9は、それぞれ独立して、水素原子もしくはC1−4アルキル基を表すか,またはr3とr5は一緒になって結合を形成してもよい)のいずれかの基を表す。]で表されるヘテロ環置換チオフェノール化合物、および
2.その製造中間体である一般式(2)
(式中、R1、R2、R3およびQは、前記と同じ意味を表す。)で表されるシクロヘキセノン化合物、
3.前記一般式(2)で表されるシクロヘキセノン化合物と、式R4SH(R4は、前記と同じ意味を表す。)で表されるアルカンチオールとを反応させて、一般式(3)
(式中、R1〜R4およびQは、前記と同じ意味を表し、nは、0,1または2を表し、一般式(3)で表される化合物は、次の一般式(3−1)、(3−2)、(3−3)または(3−4)で表されるいずれかの化合物を表す。)
で表される化合物を得た後、脱水素することを特徴とする、前記一般式(1)で表されるヘテロ環置換チオフェノール化合物の製造法、
4.一般式(4)
(式中、R1〜R3は、前記と同じ意味を表し、R5は、水素原子,シアノ基,C1−4アルキルカルボニル基またはC1−4アルコキシカルボニル基を表す。)で表される化合物、
5.一般式(5)
(式中、R1〜R3は、前記と同じ意味を表す。)で表されるエノールラクトンと、一般式 Q−CH2R5(式中、Q,R5は、前記と同じ意味を表す。)で表される化合物を反応させることを特徴とする、前記一般式(4)で表される化合物の製造法、および
6.前記一般式(4)で表される化合物に、酸または塩基を作用させることを特徴とする、前記一般式(2)で表されるシクロヘキセノン化合物の製造法に関するものである。
本発明の概要は下記の反応式で示すことができる。
(式中、R1〜R5,n及びQは、前記と同じ意味を表す。)
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
発明の実施の形態:
前記一般式(1)、一般式(2)、一般式(3)、一般式(4)および一般式(5)で表される化合物の定義において、
R1は、メチル,エチル,プロピル,イソプロピル,n−ブチル,イソブチル,s−ブチル,t−ブチル等のC1−4アルキル基を、
R2は、水素原子、又はメチル,エチル,プロピル,イソプロピル,n−ブチル,イソブチル,s−ブチル,t−ブチル等のC1−4アルキル基を、
R3は、水素原子、シアノ基、アミド基、
アセチル,プロピオニル,ブチリル,イソブチリル,バレリル,イソバレリル,ピバロイルなどのC1−4アルキルカルボニル基、
メトキシカルボニル,エトキシカルボニル,プロポキシカルボニル,イソプロポキシカルボニル,ブトキシカルボニル,イソブトキシカルボニル,s−ブトキシカルボニル,t−ブトキシカルボニルなどのC1−4アルコキシカルボニル基を、
R4は、メチル,エチル,プロピル,イソプロピル,n−ブチル,イソブチル,s−ブチル,t−ブチル等のC1−4アルキル基を、
Qは、次のQ1,Q2又はQ3のいずれかの基を表す。
ここで、r1〜r9は、それぞれ独立して、水素原子,メチル,エチル,プロピル,イソプロピル,n−ブチル,イソブチル,s−ブチル,t−ブチル等のC1−4アルキル基を表す。またr3とr5は一緒になって結合を形成せいしてもよい。これらの内、r1〜r9は、水素原子,メチル又はエチル基であるのがより好ましい。
より好ましいQで表されるヘテロ環としては、イソオキサゾール−3−イル、4−メチル−イソオキサゾール−3−イル、5−メチル−イソオキサゾール−3−イル、4,5−ジメチルイソオサゾール−3−イル、4−エチル−イソオキサゾール−3−イル、5−エチル−イソオキサゾール−3−イル、4,5−ジエチルイソオサゾール−3−イル、イソオキサゾール−5−イル、3−メチル−イソオキサゾール−5−イル、4−メチル−イソオキサゾール−5−イル、3,4−ジメチルイソオサゾール−5−イル、3−エチル−イソオキサゾール−5−イル、4−エチル−イソオキサゾール−5−イル、3,4−ジエチルイソオサゾール−5−イル等のイソオキサゾリル基、
イソオキサゾリン−3−イル、4−メチル−イソオキサゾリン−3−イル、5−メチル−イソオキサゾリン−3−イル、4−エチル−イソオキサゾリン−3−イル、5−エチル−イソオキサゾリン−3−イル等のイソオキサゾリン基
ピラゾール−3−イル、1−メチルピラゾール−3−イル、1−エチルピラゾール−3−イル、1−プロピルピラゾール−3−イル、1,5−ジメチルピラゾール−3−イル等のピラゾリル基等を挙げることができる。
本発明化合物は、次の方法によって製造することができる。
(製造法1)一般式(1)で表されるヘテロ環置換チオフェノール化合物の製造法
(式中、R1〜R4,n及びQは、前記と同じ意味を表す。)
即ち、一般式(2)で表される化合物をS−アルキル化して、中間体(3)を得たのち、脱水素反応により、(1)で表される化合物を得るものである。
S−アルキル化反応は、ヘテロ環置換シクロヘキセノン化合物(2)を適当な不活性溶媒に溶解し、−20℃から用いる溶媒の沸点の間の温度で、1〜5当量のアルカンチオールを反応させることにより行われる。この反応において、p−トルエンスルホン酸、硫酸等の酸類、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、三フッ化ホウ素エーテラート等のルイス酸等を、0.01〜2当量添加することにより、反応をより円滑に進行させることができる。
この反応に用いることのできる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類、テトラヒドロフラン(THF)、ジメトキシエタン等のエーテル類等を挙げることができる。
次の脱水素反応は、シクロヘキセン誘導体またはシクロヘキサン誘導体(3)を適当な溶媒に溶解し、脱水素剤の存在下、−10℃から用いる溶媒の沸点の間の温度で行われる。
この脱水素化反応に用いるられる脱水素剤としては、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン(DDQ),テトラクロロ−1,4−ベンゾキノンなどのキノン類、塩素,臭素などのハロゲン類、N−クロロスクシンイミド,N−ブロモスクシンイミドなどのハロゲン化イミド類、二酸化マンガン,過酸化ニッケルなどの酸化剤、あるいはイオウ、ジメチルスルホキシドと共存下のイオウなどを挙げることができる。
又、用いるのに適当な溶媒としては、ベンゼン,トルエン,メシチレンなどの炭化水素類、クロロホルム,クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、ジメチルスルホキシド,スルホランなどの含イオウ類、エタノール,エチレングリコールなどのアルコール類、エーテル,THFなどのエーテル類、酢酸などが挙げられる。
(製造法2)一般式(5)で表されるエノールラクトン化合物から一般式(2)で表されるシクロヘキセノン化合物を製造する方法。
(式中、R1〜R3,R5,Qは、前記と同じ意味を表す。)
エノールラクトン(5)とヘテロ環誘導体(6)とを不活性溶媒中、0℃から用いられる溶媒の沸点までの間の温度で、塩基の存在下に反応させることにより、化合物(4)を得たのち、さらにこのものを塩基あるいは酸で処理することにより、R5基の脱離を伴う閉環反応によって、本発明化合物(2)を製造することができる。
R5が水素原子であるヘテロ環誘導体(6)を用いる場合は、−78℃から用いられる溶媒の沸点までの間の温度で、n−ブチルリチウム,リチウムジイソプロピルアミド、カリウムt−ブトキシドなどの強塩基と作用させ、次いでエノールラクトン(5)を反応させることにより、化合物(4)を単離することなく本発明化合物(2)を製造することができる。 また、この反応では、テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)、ヘキサメチルホスホルトリアミド(HMPA)などの添加剤を反応系に存在させることにより、反応をより円滑かつ短時間に終了させることができる。
上記化合物(4)を得る反応において用いられる溶媒としては、n−ヘキサン,ベンゼン,トルエンなどの炭化水素類、ジクロロメタン,クロロホルム,モノクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、THF,ジエチルエーテル,ジメトキシエタンなどのエーテル類、t−ブタノール,イソペンチルアルコールなどのアルコール類、DMF,N−メチルピロリドン,N,N−ジメチルイミダゾリ−2−オン(DMI)などのアミド類、DMSOなどの含イオウエーテル類、アセトニトリルなどのニトリル類などが挙げられる。これらは、単独あるいは2種類以上の混合溶媒としても用いることができる。
またこの反応に用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム,水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム,水酸化マグネシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、炭酸カリウム,炭酸セシウムなどのアルカリ金属炭酸塩、炭酸カルシウム,炭酸マグネシウムなどのアルカリ土類金属炭酸塩、ナトリウムメチラート,カリウムt−ブトキシドなどの金属アルコラート類、水素化ナトリウムなどの金属ヒドリド類、トリエチルアミン,ジイソプロピルエチルアミン,ピリジン,1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセ−7−エン(DBU)などの有機塩基類などが挙げられる。用いられる塩基の量は、反応基質に対し、0.1から5倍モルであるのが好ましい。
また、この反応において、トリエチルベンジルアンモニウムクロリドなどの第四アンモニウム塩類、18−クラウン−6などのクラウンエーテル類の添加により、反応をより円滑かつ短時間で終了させることができる。
後半の化合物(2)を得る反応においては、前半の反応で例示した溶媒及び塩基を好ましく用いることができる。
例えば、R5がアルキルカルボニル基である化合物(6)を用いる場合には、前記の塩基が用いられるが、好ましくは、トリエチルアミン,ピリジンなどのアミン類、ナトリウムメチラート,カリウムt−ブトキシドなどの金属アルコラート類などの塩基の存在下に反応させることにより、脱アシル化と同時に閉環反応が進行し、本発明化合物(2)を製造することができる。この反応は、0℃から用いる溶媒の沸点の間の温度で行われるのが好ましい。
また、R5がシアノ基、アルコキシカルボニル基である化合物(6)を用いる場合は、塩酸,硫酸などの酸あるいは前半の反応で例示した塩基を用いて加水分解させた後、脱炭酸反応とそれに続く閉環反応により、本発明化合物(2)を製造することができる。
一般式(5)で表されるエノールラクトン類は、例えば、J.Org.Chem.50,4105−4107(1985)に記載のように、ベンゼン中、ケトカルボン酸と塩化チオニルとの反応により、あるいはJ.Org,Chem.55,157−172(1990)に記載のように、ケトカルボン酸の酸クロリドと炭酸水素ナトリウムとの反応等により合成することができる。
本発明化合物および中間体等は、反応終了後、通常の後処理を行うことにより得ることができる。
また、本発明化合物及び中間体等の構造は、IR,NMRおよびMSなどから決定した。
発明を実施するための最良の形態:
次に実施例、参考例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。
実施例1
3−メチル−5−(2−メチル−6−メチルチオフェニル)イソオキサゾール(化合物(1)−1)の製造
3−メチル−2−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)−2−シクロヘキセン−1−オン4.0g(20.9mmol)をクロロホルム60mlに溶解し、塩化アルミニウム0.84g(6.3mmol)を添加した。次いで、−5℃に冷却した後、そこへ、メタンチオール3.0g(62.7mmol)を吹き込み、その後、一昼夜室温で攪拌した。反応液を2規定塩酸に注加し、クロロホルム層を水洗、無水硫酸マグネシウムで脱水後、濃縮して、6,6−ジメチルチオ−2−メチル−1−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)−1−シクロヘキセン〔化合物(3)−1〕と、2,6−ジメチルチオ−2−メチル−1−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)−6−シクロヘキセン〔化合物(3)−2〕の混合物6.1gを得た。
化合物(3)−1のNMRデータ
1H−NMR(CDCl3,δppm):1.57(s,3H),1.90−2.25(m,6H),1.98(s,6H),2.31(s,3H),6.11(s,1H)
化合物(3)−2のNMRデータ
1H−NMR(CDCl3,δppm):1.31(s,3H),1.80(m,2H),1.90−2.20(m,2H),1.99(s,3H),2.19(s,3H),2.34(s,3H),2.42(m,2H),6.12(s,1H)
次いで、得られたジメチルチオ体混合物6.1gをクロロホルム100mlに溶解し、攪拌下に臭素4.0g(25.0mmol)のクロロホルム15ml溶液を室温で滴下し、滴下終了後さらに室温で3時間攪拌した。反応液をチオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄、次いで、水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色液体として、目的物3.7gを得た。沸点121−122℃/0.2mmHg
実施例2
3−メチル−5−(2−メチル−6−メチルチオフェニル)イソオキサゾール(化合物(1)−1)の製造
実施例1と同様にして得られたジメチルチオ体混合物0.50gおよびジメチルスルホキシド0.15gをキシレン5mlに溶解し、イオウ0.065gを加えた後、18時間加熱還流した。冷却後、反応液を減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色液体として、目的物0.21gを得た。
実施例3
3−メチル−5−(2−メチル−6−メチルチオフェニル)イソオキサゾール(化合物(1)−1)の製造
実施例1と同様にして得られたジメチルチオ体混合物0.40gをキシレン7mlに溶解し、テトラクロロ−1,4−ベンゾキノン0.55gを加えた後、2時間加熱還流した。冷却後、反応液を1規定水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、液体として目的物0.24g(純度92%)を得た。
実施例4
エチル 2−メチル−3−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)−4−メチルチオベンゾエート(化合物(1)−2)の製造
4−エトキシカルボニル−2−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)−3−メチル−2−シクロヘキセン−1−オン1.0g(純度61.5%)をクロロホルム20mlに溶解し、塩化アルミニウム0.09gを加えた後、0℃以下に冷却し、そこへ、メタンチオールをフロートメーターを用いて60ml導入した。室温に戻し、15時間攪拌した。反応液を冷水中に注入し、2規定塩酸5mlを加えて分液した。クロロホルム層を水洗、無水硫酸マグネシウムで脱水後、濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、淡黄色液体として、エチル4,4−ジメチルチオ−2−メチル−3−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)−2−シクロヘキセンカルボキシレート〔化合物(3)−3〕0.56gを得た。
化合物(3)−3のNMRデータ
1H−NMR(CDCl3,δppm):1.30(t,3H),1.63(s,3H),1.80(m,2H),2.04(s,3H),2.07(s,3H),2.05−2.15(m,2H),2.25−2.35(m,2H),2.34(s,3H),3.14(m,1H),4.21(q,2H),6.19(s,1H)
上記で得られたエチル−4,4−ジメチルチオ−2−メチル−3−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)−2−シクロヘキセンカルボキシレート0.55gをクロロホルム10mlに溶解し、臭素0.28gのクロロホルム1ml溶液を室温で滴下した。滴下と同時にガスの発生が認められ、滴下終了後さらに室温で1時間攪拌した。反応液を冷水中に注入し、クロロホルムで抽出した。抽出したクロロホルム層を水洗、無水硫酸マグネシウムで脱水後、濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、白色結晶として、目的物0.37gを得た。mp.72−74℃
実施例5
2−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)−3−メチル−2−シクロヘキセン−1−オン(化合物(2)−1)の製造
TMEDA4.75gをTHF10mlに溶解し、3,5−ジメチルイソオキサゾール3.3gを加えた後、ドライアイス−アセトン浴で−78℃に冷却し、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.6M溶液)26mlを滴下した。この温度で30分間反応させた後、−78℃で、3,4−ジヒドロ−6−メチル−2H−ピラン−2−オン1.90gおよびDMSO5mlのTHF10ml溶液を滴下した。同温度で2時間攪拌した後、ドライアイス−アセトン浴をはずし、徐々に室温に戻し、15時間攪拌した。反応液を希塩酸−氷中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水次いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、白色結晶として表記化合物1.10gを得た。融点104−105℃
実施例6
3−メチルイソオキサゾール−5−イル−2,4,8−ノナントリオン(化合物(3)−1)の製造
5−アセトニル−3−メチルイソオキサゾール1.39g、3,4−ジヒドロ−6−メチル−2H−ピラン−2−オン1.68g及び炭酸セシウム3.42gをアセトニトリル20mlに添加し、3時間加熱還流した。反応液を室温に戻し、塩酸を加えた氷水100ml中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、続いて飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色粘稠な液体として、目的物2.03gを得た。
1H−NMR(CDCl3,δppm):1.83(m,2H),2.01(s,3H),2.10(s,3H),2.28(t,2H),2.33(s,3H),2.44(t,2H),6.06(s,1H),16.98(s,1H)
実施例7
2−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)−3−メチル−2−シクロヘキセン−1−オン(化合物(2)−1)の製造
実施例6で得られた3−メチルイソオキサゾール−5−イル−2,4,8−ノナントリオン1.2gをエタノール15mlに溶解し、トリエチルアミン0.53gを加えた後、加熱還流下8時間攪拌した。冷却後、反応液を氷水中に注加し、塩酸で酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色結晶として目的物0.36gを得た。融点104−105℃
実施例8
2−アセチル−5,7−ジオキソ−6−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)オクタン酸エチルエステル(化合物(3)−2)の製造
5−アセトニル−3−メチルイソオキサゾール16.44gをアセトニトリル300mlに溶解し、そのものに、5−エトキシカルボニル−3,4−ジヒドロ−6−メチル−2H−2−オン28.30gのアセトニトリル30mlに溶液と炭酸セシウム40.47gを添加し、室温で2時間攪拌した。反応液に水を加え、2規定塩酸で酸性とした後、エーテルで抽出した。さらに、水層から酢酸エチルで抽出を行い、得られた有機層を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、淡黄色液体として、目的物29.80gを得た。
1H−NMRデータ(CDCl3,δppm):1.24(t,3H),2.03(s,3H),2.13(m,2H),2.24(m,4H),2.31(s,3H),2.34(t,1H),4.18(q,2H),6.07(s,1H),16.91(s,1H)
実施例9
4−エトキシカルボニル−2−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)−3−メチル−2−シクロヘキセン−1−オン(化合物(2)−2)の製造
得られた2−アセチル−5,7−ジオキソ−6−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)オクタン酸エチルエステル0.85gをメタノール5mlに溶解し、トリエチルアミン0.32gを加え、室温で2時間、次いで3時間加熱還流させた。冷却後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、無色の液体として表記化合物0.27gを得た。
1H−NMRデータ(CDCl3,δppm):1.31(t,3H),2.13(s,3H),2.33(s,3H),2.4(m,2H),2.6(m,2H),3.50(m,1H),4.25(q,2H),6.30(s,1H)
参考例1
5−アセトニル−3−メチルイソオキサゾールの製造
窒素置換した2lのフラスコに無水THF1000mlおよび1.6Mn−ブチルリチウムn−ヘキサン溶液500mlを仕込み、ドライアイス−アセトン浴を用いて、内温−70℃で、3,5−ジメチルイソオキサゾール68.0gをゆっくりと滴下した。同温度で30分間攪拌した後、120.0gのジメチルアセトアミドのTHF300ml溶液をゆっくり滴下した。滴下終了後、さらに−60℃〜−65℃で1時間攪拌した。反応液を塩酸酸性の氷水1lにあけ、有機層を分液後、さらに水層を酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を合わせて減圧濃縮した。得られた濃縮物を酢酸エチル500mlに溶解し、水、次いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残留物を減圧蒸留により精製して、無色の液体として目的物68.5g得た。沸点85℃/1.0mmHg
参考例2
5−アセトニル−3−メチルイソオキサゾールの製造
5−ヒドロキシ−3−メチル−4−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)イソオキサゾール9.70gを酢酸18mlおよびメタノール30mlの中に加え、60℃まで加温して溶解させた。この中に、電解鉄粉3.20gを加え、60℃で1時間攪拌した。さらに反応液に3規定塩酸20mlを加え、60℃で20分攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して、赤褐色液体として表記化合物6.00gを得た。
参考例3
5−アセトニル−3−メチルイソオキサゾールの製造
50%ヒドロキシアミン水溶液208g及び28%アンモニア水91mlを、水350mlに加え、そこへ、アセト酢酸メチル348gを、15℃以下で50分かけて滴下した。滴下終了後、反応液を室温に戻し、6日間放置して、粗成5−ヒドロキシ−3−メチル−4−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)イソオキサゾールのアンモニウム塩水溶液900mlを得た。
次に、6規定塩酸600mlとトルエン300mlを混合して、80℃に加熱して、電解鉄粉39.0gを添加した後、前記で得た粗成5−ヒドロキシ−3−メチル−4−(3−メチルイソオキサゾール−5−イル)イソオキサゾールのアンモニウム塩水溶液のうち300mlを、80℃で30分かけて滴下した。さらに同温度で30分間攪拌したのち、反応液を室温まで冷却した。トルエン層を分取し、水層をさらに酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせて、飽和食塩水で水洗、次いで重曹水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、減圧蒸留することにより、淡黄色液体の表記化合物28.0gを得た。
沸点:98℃/2mmHg
参考例4
5−エトキシカルボニル−3,4−ジヒドロ−6−メチル−2H−ピラン−2−オンの製造
2−アセチルグルタル酸モノエチルエステル55.2gを塩化メチレン500mlに溶解し、塩化オキザリル52.06gとDMF5滴を0℃で加え、室温で2時間反応させた。得られた酸クロリド溶液に塩化メチレン500mlを加え、10℃以下でトリエチルアミン33.12gを滴下して、室温で1時間反応させた。反応液は、水、炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、得られた残渣を減圧蒸留法により精製して、無色の液体として目的物29.30g得た。沸点130−150℃/17mmHg
一般式(1)で表される本発明化合物の代表例を、上記実施例の化合物を含めて、第1表に、一般式(2)で表される化合物の代表例を第2表に、一般式(4)で表される化合物の代表例を第3表に示す。
産業上の利用可能性:
以上説明したように、本発明によれば、農薬、医薬中間体として有用な新規ヘテロ環置換チオフェノール化合物およびその製造中間体が提供される。また、本発明の製造法によれば、容易に入手可能なエノールラクトン誘導体を原料として用いることにより、本発明のシクロヘキセノン化合物およびヘテロ環置換チオフェノール化合物を簡便、高収率かつ低コストで製造することができる。
本発明化合物は、医薬、農薬などの製造中間体、特に除草活性を有する化合物の中間体として有用である。例えば、下記スキームに示すように本発明化合物(一般式(1)で表される化合物)を中間体として、WO97/41118号公報等に記載の除草活性ピラゾール誘導体を製造することができる。
Claims (4)
- 一般式(1)
[式中、R1は、C1−4アルキル基を表し、 R2は、水素原子またはC1−4アルキル基を表し、 R3は、水素原子,シアノ基,アミド基,C1−4アルキルカルボニル基またはC1−4アルコキシカルボニル基を表し、R4は、C1−4アルキル基を表し、 Qは、次のQ1,Q2またはQ3
(ここで、r1〜r9は、それぞれ独立して、水素原子もしくはC1−4アルキル基を表すか,またはr3とr5は一緒になって結合を形成してもよい)のいずれかの基を表す。]
で表されるヘテロ環置換チオフェノール誘導体。 - 一般式(2)
(式中、R1、R2、R3およびQは、第1項記載と同じ意味を表す。)で表されるシクロヘキセノン誘導体。 - 一般式(2)
(式中、R1〜R3およびQは、前記と同じ意味を表す。)で表される化合物と、式R4SH(R4は、第1項記載と同じ意味を表す。)で表されるアルカンチオールとを反応させて、一般式(3)
(式中、R1〜R4およびQは、前記と同じ意味を表し、nは、0,1または2を表し、一般式(3)で表される化合物は、次の一般式(3−1)、(3−2)、(3−3)または(3−4)で表されるいずれかの化合物を表す。)
で表される化合物を得た後、脱水素することを特徴とする、一般式(1)
(式中、R1〜R4およびQは、前記と同じ意味を表す。)で表されるヘテロ環置換チオフェノール誘導体の製造法。 - 一般式(4)
(式中、R1〜R3、およびQは前記と同じ意味を表す。R 5 は、水素原子,シアノ基,C 1−4 アルキルカルボニル基またはC 1−4 アルコキシカルボニル基を表す。)で表される化合物に、酸または塩基を作用させることを特徴とする、一般式(2)
(式中、R1〜R3およびQは前記と同じ意味を表す。)で表される化合物の製造法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15813098 | 1998-06-05 | ||
JP19777698 | 1998-07-13 | ||
PCT/JP1999/002968 WO1999064404A1 (fr) | 1998-06-05 | 1999-06-03 | Composes thio phenoles a groupes heterocycliques, produits intermediaires utiles pour la preparation de ceux-ci et leurs procedes de preparation |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009244081A Division JP5067721B2 (ja) | 1998-06-05 | 2009-10-23 | ヘテロ環置換チオフェノール化合物の製造中間体および製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP4600859B2 true JP4600859B2 (ja) | 2010-12-22 |
Family
ID=26485364
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000553413A Expired - Fee Related JP4600859B2 (ja) | 1998-06-05 | 1999-06-03 | ヘテロ環置換チオフェノール化合物、その製造中間体および製造法 |
JP2009244081A Expired - Fee Related JP5067721B2 (ja) | 1998-06-05 | 2009-10-23 | ヘテロ環置換チオフェノール化合物の製造中間体および製造法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009244081A Expired - Fee Related JP5067721B2 (ja) | 1998-06-05 | 2009-10-23 | ヘテロ環置換チオフェノール化合物の製造中間体および製造法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6359143B1 (ja) |
EP (1) | EP1085016B1 (ja) |
JP (2) | JP4600859B2 (ja) |
DE (1) | DE69928107T2 (ja) |
ES (1) | ES2251829T3 (ja) |
WO (1) | WO1999064404A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19852095A1 (de) | 1998-11-12 | 2000-05-18 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von 2-Alkyl-3-(4,5-dihydroisoxazol-3-yl)-acylbenzolen |
PL219088B1 (pl) | 1998-05-11 | 2015-03-31 | Basf Ag | Oksymy, sposób wytwarzania oksymów i sposób wytwarzania tioeterów |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997046530A1 (en) * | 1996-06-06 | 1997-12-11 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Herbicidal pyridinyl and pyrazolylphenyl ketones |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2443811A (en) * | 1945-01-22 | 1948-06-22 | Shell Dev | Production of thiophenols |
GEP20002093B (en) | 1995-02-24 | 2000-05-10 | Basf Ag | Pyrazol-4-yl-Benzoyl Derivatives and Herbicides Containing Them |
AU7552598A (en) * | 1997-06-10 | 1998-12-30 | Nippon Soda Co., Ltd. | Isoxazol-5-yl-substituted benzenes and process for producing the same |
US5939360A (en) | 1997-07-08 | 1999-08-17 | Nippon Soda Co., Ltd. | Compound and herbicidal composition for weed control |
-
1999
- 1999-06-03 JP JP2000553413A patent/JP4600859B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-06-03 WO PCT/JP1999/002968 patent/WO1999064404A1/ja active IP Right Grant
- 1999-06-03 US US09/719,021 patent/US6359143B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-06-03 DE DE69928107T patent/DE69928107T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1999-06-03 EP EP99923885A patent/EP1085016B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-03 ES ES99923885T patent/ES2251829T3/es not_active Expired - Lifetime
-
2009
- 2009-10-23 JP JP2009244081A patent/JP5067721B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997046530A1 (en) * | 1996-06-06 | 1997-12-11 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Herbicidal pyridinyl and pyrazolylphenyl ketones |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6009041864, Tetrahedron Letters, 1990, 31(24), pp.3421−3424 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1085016A4 (en) | 2001-09-19 |
JP5067721B2 (ja) | 2012-11-07 |
JP2010090124A (ja) | 2010-04-22 |
EP1085016A1 (en) | 2001-03-21 |
ES2251829T3 (es) | 2006-05-01 |
US6359143B1 (en) | 2002-03-19 |
EP1085016B1 (en) | 2005-11-02 |
WO1999064404A1 (fr) | 1999-12-16 |
DE69928107T2 (de) | 2006-04-20 |
DE69928107D1 (de) | 2005-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4725977B2 (ja) | 2−ジハロアシル−3−アミノ−アクリル酸エステルおよび3−ジハロメチル−ピラゾール−4−カルボン酸エステルの製造方法 | |
EP2368879B1 (en) | 2,5-disubstituted pyridines for the preparation of 2-substituted 5-(1-alkylthio)-alkyl-pyridines | |
IL201407A (en) | 1 – aryl – 3 – sulfonyl – 5,4 – dihydro-H1 – pyrazole – carboxylic acids and their esters | |
JP5653442B2 (ja) | 縮合環化合物 | |
JP2018507871A (ja) | 3−クロロ−2−ビニルフェニルスルホネート類の製造方法 | |
AU2007346135B2 (en) | Process for the preparation of 2-substituted-5-(1-alkylthio) alkylpyridines | |
EP0220947B1 (en) | Polyfluoroalkylisoxazolylamines, their preparation and use | |
JP2012051929A (ja) | 1,5−ジアリール−3−置換ピラゾールの製造方法 | |
JP4600859B2 (ja) | ヘテロ環置換チオフェノール化合物、その製造中間体および製造法 | |
CZ20031662A3 (cs) | Způsob výroby 4-halogenalkylnikotinnitrilů | |
US5082947A (en) | 3-perfluoroalkyl-5-hydroxyisoxazoles | |
EP0095835A1 (en) | Preparing 4,7-dialkoxybenzofurans, and intermediates used therein | |
EP0891972A1 (en) | 3-(isoxazol-5-yl)-substituted benzoic acid derivatives and process for producing the same | |
HU214086B (en) | Process for producing 3-isoxazolecarboxylic acid and intermediates thereof | |
US6372915B1 (en) | Process for producing oxazole compound | |
US7291742B2 (en) | Process for the preparation of benzo [d] isoxazol-3-yl-methanesulfonic acid and the intermediates thereof | |
JP4177916B2 (ja) | α−イソオキサゾール置換メチルケトンの製造法 | |
US7528256B2 (en) | Process for the preparation of nicotinaldehydes | |
EP1484325A1 (en) | Isoxazole derivatives and process for producing the same | |
EP0454871A1 (en) | Alpha, beta-unsaturated ketone and ketoxime derivative | |
JP2000229955A (ja) | 5−アミノイソオキサゾリルイソオキサゾールおよびその製造法 | |
JP2000229954A (ja) | 3−メチル−5−〔(シス)−1−プロペニル〕イソオキサゾール及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060123 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090824 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091023 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100906 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100919 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131008 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |