JP4599473B2 - スパッタリング装置および薄膜形成方法 - Google Patents
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Description
特許文献1に係るスパッタリング装置によれば、従来のガス導入口(真空室の壁近傍に設けられたガス導入口)に加えて、ターゲット材に設けられた複数の小穴、もしくは分割したターゲットの分割面に介在する介挿部材に設けられた複数の小穴からもガスを導入するスパッタリング装置が開示されている。
以下に、図1ないし図5を用いて、本発明の一実施形態にかかるスパッタリング装置を説明する。
このスパッタリング装置は、真空容器9と、真空容器9内に設けられた、基板を保持するための基板ホルダー7と、該基板と対向する位置に配置されたカソード機構とを備えている。このカソード機構は、ターゲット1を支持するためのバッキングプレート2を有する。このバッキングプレート2にはターゲット1が支持される。
図2に示すように、ターゲット1は、所定の間隔で配置された、ターゲット1a,1b,1cの3つのターゲット部材(サブターゲット)からなるものである。本明細書では、ターゲット1a、1b、1cの集合体をターゲット1と呼ぶことにする。また、バッキングプレート2は、所定の間隔で配置された、バッキングプレート2a、2b、2cの3つのバッキングプレート(サブバッキングプレート)からなるものである。本明細書ではバッキングプレート2a、2b、2cの集合体をバッキングプレート2と呼ぶことにする。ターゲット1a〜1cは、1つのターゲットを分割して形成しても良いし、別個のターゲットであっても良い。同様に、バッキングプレート2a〜2cも1つのバッキングプレートを分割して形成しても良いし、別個のバッキングプレートであっても良い。ただし、別個のバッキングプレートを用いると、大型の基板へのスパッタリングにも容易に対応できるので好ましい。
第1の実施形態では、第1のガス導入機構および第2のガス導入機構の双方を有する形態について説明した。本実施形態では、第1のガス導入機構を設けない形態について説明する。
Claims (10)
- 真空容器と、
前記真空容器内に配置され、基板を保持するための基板ホルダーと、
前記基板ホルダーと対向して配置され、複数のターゲットを支持するための複数のバッキングプレートと、
前記真空容器内にガスを導入するガス導入機構とを備えたスパッタリング装置であって、
前記複数のバッキングプレートは、第1の隙間を持って配置され、
前記ガス導入機構は、前記第1の隙間を通してガスを導入することを特徴とするスパッタリング装置。 - 第2の隙間を持って配置され、前記複数のバッキングプレートに配置された複数のターゲットをさらに備え、
前記ターゲットの各々の間の第2の隙間が、前記バッキングプレートの各々の間の第1の隙間より小さく、かつ前記第2の隙間が前記第1の隙間の少なくとも一部と重なるように前記複数のターゲットは前記複数のバッキングプレートに配置され、
前記ガス導入機構は、前記第1の隙間および第2の隙間を通してガスを導入することを特徴とする請求項1に記載のスパッタリング装置。 - 前記バッキングプレートの、前記ターゲットを支持する面と対向する面に配置され、少なくとも1つの貫通孔を有する絶縁板と、
前記絶縁板の、前記バッキングプレートが配置された面と対向する面に配置され、溝が形成された保持部材とをさらに備え、
前記溝が形成された面上に前記絶縁板が配置されており、
前記ガス導入機構は、前記溝、貫通孔、および前記第1の隙間をこの順番で経由して前記ガスを導入することを特徴とする請求項1に記載のスパッタリング装置。 - 前記第2の隙間は、0.2mm〜1.0mmの範囲内であることを特徴とする請求項2に記載のスパッタリング装置。
- 前記ガス導入機構により前記真空容器に導入させるガスは、不活性ガスおよび反応性ガスの混合ガスであることを特徴とする請求項1に記載のスパッタリング装置。
- 前記ガス導入機構とは別個のガス導入機構であって、前記バッキングプレートとは別個の位置からガスを導入するためのガス導入機構をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のスパッタリング装置。
- 前記ガス導入機構からは少なくとも反応性ガスが導入され、前記別個のガス導入機構からは少なくとも不活性ガスが導入されることを特徴とする請求項6に記載のスパッタリング装置。
- 前記ガス導入機構および前記別個のガス導入機構から、前記不活性ガスおよび前記反応性ガスを含む混合ガスが導入されることを特徴とする請求項7に記載のスパッタリング装置。
- 請求項1に記載のスパッタリング装置を用いて、基板に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、
前記複数のターゲットを前記複数のバッキングプレートに隙間を持って配置する工程であって、前記ターゲットの各々の間の第2の隙間が、前記バッキングプレートの各々の間の第1の隙間より小さく、かつ前記第2の隙間が前記第1の隙間の少なくとも一部と重なるように前記複数のターゲットを前記複数のバッキングプレートに配置する工程を有することを特徴とする薄膜形成方法。 - 請求項1に記載のスパッタリング装置を用いて、基板に薄膜を形成する基板の製造方法であって、
前記基板ホルダーに基板を保持する工程と、
前記第1の隙間を通してガスを導入することにより、基板にガスを供給する工程と
を有することを特徴とする基板の製造方法。
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