JP4587815B2 - 基板処理システム、基板処理システムの制御方法、及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
本発明の第3の特徴とするところは、基板を洗浄する洗浄工程に続く基板を処理する基板処理工程において複数の連続するロットの基板を処理する基板処理方法であって、基板処理工程に投入された投入済ロットの処理が開始したタイミングに基づいて、前記投入済ロットに先行する前処理ロットの基板処理工程の完了する時間である前処理ロット完了時間を算出し、前記投入済ロットの基板処理工程における処理に要する時間に基づいて、前記投入済ロットに続く後処理ロットの基板処理工程における処理を開始する時間である後処理ロット開始時間を算出し、前処理ロット完了時間、後処理ロット開始時間、及び前記後処理ロットの洗浄工程に要する時間に基づいて、前記後処理ロットを洗浄工程へ投入するまでの投入待ち時間を算出し、投入待ち時間に基づいて、前記後処理ロットの洗浄工程への投入を指示することを特徴とする基板処理方法。
また、図1,図2はそれぞれ、基板処理装置10を、図2,図1に示した矢印Y,Xの方向から見たときの構成が示されている。
なお、基板処理装置10においては、ウエハなどの基板を収容する基板収納容器としては、FOUP(front opening unified pod;ポッド)が使用される。
以上の動作が繰り返されることにより、基板処理装置10により、ウエハが順次処理される。
なお、以上の説明においては、第一の処理炉202および第一のクーリングユニット138が使用される場合が具体例とされているが、第二の処理炉137および第二のクーリングユニット139が使用される場合も、同様の動作によりウエハに対する処理が行われる。
図4に示すように、基板は、ストッカから前工程の基板処理装置としての前洗浄処理装置18に搬入されて、洗浄され(前洗浄処理工程)、基板処理装置10に搬入され処理が行われる(基板処理工程)。このとき、基板が大気雰囲気に滞留すると、基板表面に自然酸化膜が形成されるおそれがあるため、前洗浄処理工程による洗浄後、直ちに基板処理工程における負圧雰囲気に入る。(以下、前洗浄処理工程および、前洗浄処理工程に続く基板処理工程を総称して一連工程という。)
また、この一連工程において、基板はロット単位で処理される。ここで、ロットとは、複数枚の基板のまとまりを示す。
なお、上記実施形態の説明にあっては、基板処理装置として枚葉装置について説明したが、例えば、横型装置及び縦型装置にも適用できる。また、半導体製造装置だけでなく、LCD装置のようなガラス基板を処理する装置でも適用できる。
10 基板処理装置
12 ホストコンピュータ
14 通信回線
16 コントローラ
Claims (3)
- 基板を洗浄する洗浄工程に続く基板を処理する基板処理工程において複数の連続するロットの基板を処理する基板処理装置が、ホストコンピュータと通信手段により接続される基板処理システムであって、
前記基板処理装置のコントローラは、
基板処理工程に投入された投入済ロットの処理が開始したタイミングに基づいて、前記投入済ロットに先行する前処理ロットの基板処理工程の完了する時間である前処理ロット完了時間を算出し、
前記投入済ロットの基板処理工程における処理に要する時間に基づいて、前記投入済ロットに続く後処理ロットの基板処理工程における処理を開始する時間である後処理ロット開始時間を算出し、
前記ホストコンピュータに、前処理ロット完了時間及び後処理ロット開始時間を含む算出結果を処理開始可能指示イベントとして送信し、
前記ホストコンピュータは、
前記算出結果及び前記後処理ロットの洗浄工程に要する時間に基づいて、前記後処理ロットを洗浄工程へ投入するまでの投入待ち時間を算出し、
投入待ち時間に基づいて、前記後処理ロットの洗浄工程への投入を指示する
ことを特徴とする基板処理システム。 - 基板を洗浄する洗浄工程に続く基板を処理する基板処理工程において複数の連続するロットの基板を処理する基板処理装置が、ホストコンピュータと通信手段により接続される基板処理システムの制御方法であって、
前記基板処理装置のコントローラは、
基板処理工程に投入された投入済ロットの処理が開始したタイミングに基づいて、前記投入済ロットに先行する前処理ロットの基板処理工程の完了する時間である前処理ロット完了時間を算出し、
前記投入済ロットの基板処理工程における処理に要する時間に基づいて、前記投入済ロットに続く後処理ロットの基板処理工程における処理を開始する時間である後処理ロット開始時間を算出し、
前記ホストコンピュータに、前処理ロット完了時間及び後処理ロット開始時間を含む算出結果を処理開始可能指示イベントとして送信し、
前記ホストコンピュータは、
前記算出結果及び前記後処理ロットの洗浄工程に要する時間に基づいて、前記後処理ロットを洗浄工程へ投入するまでの投入待ち時間を算出し、
投入待ち時間に基づいて、前記後処理ロットの洗浄工程への投入を指示する
ことを特徴とする基板処理システムの制御方法。 - 基板を洗浄する洗浄工程に続く基板を処理する基板処理工程において複数の連続するロットの基板を処理する基板処理方法であって、
基板処理工程に投入された投入済ロットの処理が開始したタイミングに基づいて、前記投入済ロットに先行する前処理ロットの基板処理工程の完了する時間である前処理ロット完了時間を算出し、
前記投入済ロットの基板処理工程における処理に要する時間に基づいて、前記投入済ロットに続く後処理ロットの基板処理工程における処理を開始する時間である後処理ロット開始時間を算出し、
前処理ロット完了時間、後処理ロット開始時間、及び前記後処理ロットの洗浄工程に要する時間に基づいて、前記後処理ロットを洗浄工程へ投入するまでの投入待ち時間を算出し、
投入待ち時間に基づいて、前記後処理ロットの洗浄工程への投入を指示する
ことを特徴とする基板処理方法。
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2005
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