JP4584557B2 - 沈降ケイ酸をベースとする効果的艶消し剤 - Google Patents

沈降ケイ酸をベースとする効果的艶消し剤 Download PDF

Info

Publication number
JP4584557B2
JP4584557B2 JP2003315835A JP2003315835A JP4584557B2 JP 4584557 B2 JP4584557 B2 JP 4584557B2 JP 2003315835 A JP2003315835 A JP 2003315835A JP 2003315835 A JP2003315835 A JP 2003315835A JP 4584557 B2 JP4584557 B2 JP 4584557B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicic acid
precipitated silicic
wax
matting agent
paint
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003315835A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004099435A (ja
Inventor
シューベルト ユルゲン
クールマン ローベルト
ディーター クリスティアン ハンス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Evonik Degussa GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=31724411&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP4584557(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Evonik Degussa GmbH filed Critical Evonik Degussa GmbH
Publication of JP2004099435A publication Critical patent/JP2004099435A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4584557B2 publication Critical patent/JP4584557B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
    • C01B33/193—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28—Compounds of silicon
    • C09C1/30—Silicic acid
    • C09C1/3009—Physical treatment, e.g. grinding; treatment with ultrasonic vibrations
    • C09C1/3018—Grinding
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/42—Gloss-reducing agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/10—Solid density
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/11—Powder tap density
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12—Surface area
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/19—Oil-absorption capacity, e.g. DBP values
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80—Compositional purity
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
    • Y10T428/2991—Coated
    • Y10T428/2993—Silicic or refractory material containing [e.g., tungsten oxide, glass, cement, etc.]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)

Description

本発明は、沈降ケイ酸をベースとする効果的艶消し剤、その製法ならびに染料と塗料におけるその使用に関する。
沈降ケイ酸は、塗料における艶消し剤として既に長い間使用されている。これらの化合物のマット仕上げ特性は、ケイ酸粒子により粗くされた塗料表面上での分散した光反射に基づいている。従って、艶消し剤の効果は、種々の観測角（一般的には６０゜および８５゜）での反射値ならびに十分なマット仕上げに必要な初期量により決定される。従って、処理面は、マットで、サテン光沢を有さなくてはならないが、粗い効果はあってはならない。表面の粗さは、例えば、平均粗さ値Ｒaおよび粗さの深さＲzにより決定できる。艶消し剤に課せられた要求、必要な測定法、ならびに一般的な情報は、例えば、Degussa 社の パンフレットシリーズpigment, No.21 (2002) に見出すことができる。
ペイント表面のマット仕上げは、当然ながら使用される艶消し剤の量に依存する。マット仕上げ効果以外に、沈降ケイ酸は塗料の粘性増大を引き起こすため、塗料中のケイ酸フラクションは、所望の範囲内だけでしか増大させることができない。
Degussa 社の パンフレットシリーズpigment, No.21 (2002)
従って、本発明の課題は、公知のケイ酸のように同じ質量含有率で、改善されたマット仕上げ効果を有するケイ酸を見出すことであった。
意外にも、高いＤＢＰ吸収量を有するケイ酸が極めて効果的な艶消し剤であることが見出された。
従って、本発明の対象は、
ＢＥＴ ３５０〜５５０ｍ２／ｇ、
ＤＢＰ数 ３２０〜４００ｇ／１００ｇ
ｄ５０ ５〜１５μｍ、かつ
タッピング密度 ２０〜９０ｇ／ｌであることを特徴とする沈降ケイ酸である。
未処理の親水性ケイ酸と同様に、ワックスで被覆されたケイ酸を艶消し剤として使用することも公知である。このようなワックス処理は、沈降ケイ酸の沈降特性を著しく改善する。
従って、本発明のもう１つの対象は、
ＢＥＴ ３５０〜５５０ｍ２／ｇ、
ＤＢＰ数 ３２０〜４００ｇ／１００ｇ
ｄ５０ ５〜１５μｍ
タッピング密度 ２０〜９０ｇ／ｌ、かつ
炭素含量 ２〜１８質量％であることに特徴付けられるワックスで被覆された沈降ケイ酸である。
本発明の沈降ケイ酸は、有利には、ＤＢＰ数３５０〜３８０ｇ／１００ｇ、ｄ５０値７〜１１または８〜１２、有利には８〜９．５、およびタッピング密度 ５０〜８０ｇ／ｌ、有利には６０〜７０ｇ／ｌを有する。
タッピング密度は、ケイ酸の粉砕直後にISO 787-11により決定される。ＤＢＰ吸収量は、同じく粉砕直後にDIN 53601により決定される。同じことは、ISO 5794-1 Annex DによるＢＥＴ表面積の測定にも当てはまる。
ｄ１０、ｄ５０およびｄ９０値は、Coulter LS-230においてレーザー回折により決定する。
均一な艶消し効果には、できるだけ狭い粒度分布にするのがよい。粒度分布は、簡単な方法で、例えば、ｄ１０、ｄ５０およびｄ９０値の測定により決定することができる。従って、本発明による未処理またはワックスで被覆された沈降ケイ酸は、（ｄ９０−ｄ１０）：ｄ５０＝０．９０〜１．５、有利には１．０〜１．２の割合で定義された粒度分布（スパン）を有する。
塗料フィルム表面のマット仕上げ処理度の定量的測定は、特定の視射角（Glanzwinkel）での反射値の測定により頻繁に決定される。実際には、DIN 67530、ISO 2813またはTM 523-78に依拠し、光沢度を測定するための前記規定により、焼き付けした標準のトップコート上で実施する、６０゜および８５゜の視射角で測定するのが有利であると実証されている。未処理またはワックス被覆された本発明の沈降ケイ酸は、６０゜の角度で、光沢度１５〜２５を有し、８５゜の角度で、光沢度３０〜７０を有する。８５゜反射率計値と６０゜反射率計値の差は、シーン（sheen）とも称され、種々の観測角での表面のマット仕上げ効果を可能にする。比較的に低いシーンは、どの角度から見た場合にも、表面がマットに見えることを意味する。
市販の艶消し剤と比較して、本発明のケイ酸は、全ての観測角において、特に低い光沢度を有する。このことは、特定のマット仕上げ効果を達成するために、通常の艶消し剤よりも少ない材料が必要とされることを意味するか、または同じ量で改善された効果が達成されることを意味する。
本発明の未処理の沈降ケイ酸の製造に関しては、DE 10058616を参考にすることができる。ここでは、乾燥した、粉砕していない状態の沈降ケイ酸が、ＤＢＰ吸着量３８０〜４２０ｇ／１００ｇを有することが開示されている。これらのケイ酸の製造は、以下のように行われる：撹拌下かつ剪断下に３５〜４５℃に加熱された水から成る装入物に
ａ）少なくとも１００分間に以内に、ｐＨ６〜７を保持しながら水と硫酸を同時に添加し、その際、添加を６０〜１２０分間中止し、かつ添加を終了した後に、３６〜４２ｇ／ｌの固体濃度を調節し、
ｂ）固体を濾別し、かつフィルターケーキを洗浄し、かつ
ｃ）固体を短時間乾燥させる。
このような沈降ケイ酸は、フィルターケーキを１８質量％未満までの固体含量まで液化し、かつ引き続きこの懸濁液を噴霧乾燥させることにより、短時間乾燥させるのが有利である。フィルターケーキをスピン−フラッシュ乾燥器を用いて、場合により引き続き、アンモニアガスによりｐＨ７〜８に調節することにより乾燥させることもできる。
このように得られた沈降ケイ酸は、直接に粉砕されるか、または先ずワックスで被覆することができる。
本発明によるケイ酸のワックス被覆は、例えば、EP 1182233により実施することができる。このために、空気中、融点範囲を下回る温度およびワックスの分解温度を下回る温度で、ケイ酸をワックスで熱処理することにより、沈降ケイ酸を、例えば、ポリエチレンワックス、フィッシャー・トルプシュワックス（Fischer-Tropsch waxes）またはシリコーンベースのワックスで被覆する。ケイ酸は、その粉砕と同時にワックスで被覆することがきる。いずれにせよ、ワックス２〜１５質量％、有利には５〜１０質量％で被覆するのが適切であることが判明している。本発明の沈降ケイ酸は、炭素含量２〜１８質量％、有利には３〜１０質量％、より有利には３〜６質量％を有さなくてはならない。
本発明の沈降ケイ酸を粉砕するために、分級衝撃ミル（impact classifier mill）のような標準的な市販のミルを使用することができる（例えば Hosokawa-Alpine社の50 ZPS）。
上記のケイ酸のワックス含浸の他に、このために別の方法も公知であり、例えば、DE 1006100、DE 1592865またはEP 0922691を参考にすることもできる。ここで、ワックス懸濁液を、場合により分散剤を介在させて、ケイ酸懸濁液と反応させる。このように得られたワックスで含浸または被覆されたケイ酸は、引き続き乾燥させ、かつ場合により新たに分類しなくてはならない。
本発明の未処理またはワックスで含浸された沈降ケイ酸は、染料または塗料中で艶消し剤として使用することができる。
以下の実施例は、本発明を説明するものであるが、クレームに記載されているような保護範囲に限定されるものではない。
沈降ケイ酸をDE 10058616、例１〜６により、以下の物理化学的データ：
ｐＨ ２．６
ＤＢＰ ３８９ｇ／１００ｇ、
タッピング密度 １５４ｇ／ｌ、および
ＢＥＴ表面積 ４５４ｍ２／ｇ
で製造し、かつ50 ZPS ミルにおいて粉砕して種々の粒度にした。参考としてAcematt HK 450を使用した。
ＨＫ ４５０に対する６０゜および８５゜での光沢の差の値は、同じ使用量の場合に、著しく改善された艶消し効果を示している。
Figure 0004584557
記載された塗料工業試験は、標準的な試験塗料である”Scgwarzlack” Duplex D 1326（Herberts社、オーストリア）において、以下にように実施した。
光沢度を測定するための一般的方法
艶消し塗料の製造
塗料DUPLEX D 1326（調合物番号 L 87992, Fa. DuPont, Herberts Austria GmbH）１００ｇを、３５０ｍｌポリエチレンビーカーに秤量供給し、かつ希釈剤 V 0003（Fa. DuPont, Herberts Austria GmbH）２０ｇを供給した。引き続き、艶消し剤の必要量を正確に１０ｍｇ秤量し、かつスパチュラを用いて注意深く希釈試験塗料中に加えた。この後に、直径４３ｍｍのパドル撹拌機を用いて２０００ｒｐｍで１０分間分散させ、その際、ＰＥビーカーをカバーして蒸発損失を回避した。艶消し剤を加えた後、脱気するために艶消しされた塗料を密閉ビーカー中に３０分間置いた。その際に、標準（ＨＫ ４５０）が試験すべき試料と近い時間で分散するように注意すべきである（最大時間差：３時間）。
艶消し塗料の試験および処理
脱気に続いて、電動式延伸装置（Erichsen Coatmaster 509 MC）を使用して、四角形のドクターナイフにより、スロット高さ１２０μｍ、２５ｍｍ／ｓの速度で、塗料を綺麗にした１３０×９０×３ｍｍサイズのガラス板上に塗布した。それぞれの分散試料に、２枚のガラス板を被覆した。それぞれの焼き付け工程において、これらの試験体板を標準の２枚の板に対して試験した。トレーの最大占有は、１０枚の試験体板＋２枚の標準であった。
塗布された塗料を、規定のフラッシング条件下の範囲内でフラッシングした：
温度： ２０℃〜２５℃
相対湿度： ４０％〜６０％
フラッシング時間： １０分〜２０分
引き続き、循環式塗料乾燥器中で、塗料を１５０℃で２０分間焼いた。
反射率計値は、ガラス板を冷却した後（約３０分間）に、BYK Harze Glossにおいて測定した。反射率計値は、二重反復測定の平均から形成した。
二重反復測定の際に、＞２の光沢ポイントの差が生じた場合には、分散すべき試料を使用して二重反復測定を標準に対して改めて繰り返した。

Claims (7)

  1. 沈降ケイ酸において、
    ＢＥＴ ３５０〜５５０ｍ２／ｇ、
    ＤＢＰ数 ３５０〜４００ｇ／１００ｇ
    ｄ５０ ５〜１５μｍ、かつ
    タッピング密度 ２０〜７０ｇ／ｌであることを特徴とする、沈降ケイ酸。
  2. ｄ５０ ７〜１１μｍ
    である、請求項１記載の沈降ケイ酸。
  3. 粒度分布
    Figure 0004584557
     が０．９０〜１．５の間にある、請求項１または２に記載の沈降ケイ酸。
  4. 請求項１から３までのいずれか１項に記載の沈降ケイ酸の、塗料における艶消し剤としての使用。
  5. ワックスで被覆された沈降ケイ酸において、
    ＢＥＴ ３５０〜５５０ｍ２／ｇ、
    ＤＢＰ数 ３５０〜４００ｇ／１００ｇ
    ｄ５０ ５〜１５μｍ
    タッピング密度 ２０〜７０ｇ／ｌ、かつ
    炭素含量 ２〜１８質量％であることを特徴とする、ワックスで被覆された沈降ケイ酸。
  6. 粒度分布
    Figure 0004584557
     が０．９０〜１．５の間にある、請求項５に記載のワックスで被覆された沈降ケイ酸。
  7. 請求項５から６までのいずれか１項に記載の後被覆された沈降ケイ酸の塗料における艶消し剤としての使用。
JP2003315835A 2002-09-06 2003-09-08 沈降ケイ酸をベースとする効果的艶消し剤 Expired - Fee Related JP4584557B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10241273A DE10241273A1 (de) 2002-09-06 2002-09-06 Effiziente Mattierungsmittel basierend auf Fällungskieselsäuren

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004099435A JP2004099435A (ja) 2004-04-02
JP4584557B2 true JP4584557B2 (ja) 2010-11-24

Family

ID=31724411

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003315835A Expired - Fee Related JP4584557B2 (ja) 2002-09-06 2003-09-08 沈降ケイ酸をベースとする効果的艶消し剤

Country Status (9)

Country Link
US (3) US7488382B2 (ja)
EP (1) EP1398301B2 (ja)
JP (1) JP4584557B2 (ja)
KR (1) KR100931817B1 (ja)
CN (1) CN100519665C (ja)
BR (1) BR0303455A (ja)
DE (2) DE10241273A1 (ja)
MY (1) MY135467A (ja)
TW (1) TWI307332B (ja)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10112441A1 (de) * 2001-03-15 2002-09-19 Degussa Kieselsäure durch Fällung mit konstanter Alkalizahl und deren Verwendung
CN1330714C (zh) * 2005-01-18 2007-08-08 武汉理工大学 可诱导聚氯乙烯结晶的纳米二氧化硅制备方法
CN104987762A (zh) * 2006-12-07 2015-10-21 格雷斯股份有限两合公司 消光剂
DE102008000290A1 (de) 2008-02-13 2009-08-20 Evonik Degussa Gmbh Lagerstabile Produktsyteme für Prämixformulierungen
DE102009028255A1 (de) 2009-08-05 2011-02-10 Evonik Degussa Gmbh Mikrostrukturierte multifunktionale anorganische Coating-Additive zur Vermeidung von Fouling (Biofilmbewuchs) bei aquatischen Anwendungen
DE102009036767A1 (de) 2009-08-08 2011-02-10 Evonik Degussa Gmbh Kompositpartikel für den Einsatz in der Mundhygiene
DE102009045104A1 (de) 2009-09-29 2011-03-31 Evonik Degussa Gmbh Neuartige Mattierungsmittel für UV-Lacke
EP2476733B2 (de) 2011-01-17 2017-01-18 Byk-Chemie GmbH Verwendung von Polyhydroxyalkanoaten als Additive in Beschichtungszusammensetzungen
DE102012210294A1 (de) 2012-06-19 2013-12-19 Evonik Industries Ag Bewuchsmindernde-Additive, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung in Beschichtungen
US9353271B2 (en) * 2013-03-13 2016-05-31 Ppg Industries Ohio, Inc. Low gloss coatings
WO2015168305A1 (en) * 2014-04-29 2015-11-05 Twitter, Inc. Inter-application delegated authentication
KR101989438B1 (ko) * 2014-09-12 2019-06-17 (주)엘지하우시스 무광택 코팅 조성물
ES2700354T3 (es) * 2014-12-22 2019-02-15 At Promotions Ltd Recipiente de comida o bebida
EP3153549A1 (de) 2015-10-30 2017-04-12 Kronos International, Inc. Herstellung von matten lacken und druckfarben
EP3202858A1 (de) 2016-02-02 2017-08-09 Kronos International, Inc. Herstellung von matten lacken und druckfarben
DE102017209874A1 (de) 2017-06-12 2018-12-13 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von wachsbeschichteter Kieselsäure
CN107841186A (zh) * 2017-11-10 2018-03-27 北京航天赛德科技发展有限公司 改性二氧化硅的制备装置和制备方法及其应用
CN108557828A (zh) * 2018-05-21 2018-09-21 山西天纳米材料科技有限公司 一种弹性漆专用消光粉的制备方法
CA3167904A1 (en) * 2020-02-18 2021-08-26 Rohm Gmbh Acrylic multilayer foil with improved mechanical properties and a high weathering resistance
WO2021201229A1 (ja) * 2020-04-02 2021-10-07 株式会社トクヤマ シリカ、塗料およびシリカの製造方法
CN115667436A (zh) 2020-06-03 2023-01-31 东曹硅化工株式会社 涂料消光用表面处理含水硅酸及其制备方法
CN116323822A (zh) * 2020-10-02 2023-06-23 赢创运营有限公司 在粉末涂料中作为消光剂的低表面积球形沉淀二氧化硅

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01320215A (ja) * 1988-05-07 1989-12-26 Degussa Ag ストラクチヤー度の高い細粒沈降ケイ酸、その製造方法およびこれからなる塗料用艶消剤
JPH07165980A (ja) * 1993-08-02 1995-06-27 Degussa Ag 低い構造の熱分解法金属酸化物充填剤の製法及び高分子物質、ゴム、シーラント、コーキング材及び接着剤組成物
JPH11240712A (ja) * 1997-12-12 1999-09-07 Degussa Ag 沈降珪酸、被覆された状態での該化合物の製造法、および該化合物の使用
JP2002179946A (ja) * 2000-10-21 2002-06-26 Degussa Ag 構造変性された官能化ケイ酸
JP2002255534A (ja) * 2000-11-25 2002-09-11 Degussa Ag 高次構造を有する沈澱シリカ
EP1348669A1 (de) * 2002-03-30 2003-10-01 Degussa AG Fällungskieselsäure mit enger Partikelgrössenverteilung

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2838413A (en) * 1954-05-27 1958-06-10 Grace W R & Co Silica gel flatting agent, method of preparing same, and composition containing same
CH531989A (de) * 1967-10-12 1972-12-31 Degussa Verfahren zur Herstellung von organisch modifizierten Kieselsäuren und Silikaten
DE3144299A1 (de) * 1981-11-07 1983-05-19 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Faellungskieselsaeuren mit hoher struktur und verfahren zu ihrer herstellung
IN188702B (ja) 1995-06-01 2002-10-26 Degussa
US6395247B1 (en) * 1997-12-12 2002-05-28 Degussa Ag Precipitated silica
TR200402354T4 (tr) * 2000-08-23 2004-12-21 Degussa Ag Silisik asitlerin balmumlarıyla kaplanması için yöntem
DE10048616A1 (de) * 2000-09-30 2002-04-11 Degussa Dotierte Fällungskieselsäure

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01320215A (ja) * 1988-05-07 1989-12-26 Degussa Ag ストラクチヤー度の高い細粒沈降ケイ酸、その製造方法およびこれからなる塗料用艶消剤
JPH07165980A (ja) * 1993-08-02 1995-06-27 Degussa Ag 低い構造の熱分解法金属酸化物充填剤の製法及び高分子物質、ゴム、シーラント、コーキング材及び接着剤組成物
JPH11240712A (ja) * 1997-12-12 1999-09-07 Degussa Ag 沈降珪酸、被覆された状態での該化合物の製造法、および該化合物の使用
JP2002179946A (ja) * 2000-10-21 2002-06-26 Degussa Ag 構造変性された官能化ケイ酸
JP2002255534A (ja) * 2000-11-25 2002-09-11 Degussa Ag 高次構造を有する沈澱シリカ
EP1348669A1 (de) * 2002-03-30 2003-10-01 Degussa AG Fällungskieselsäure mit enger Partikelgrössenverteilung

Also Published As

Publication number Publication date
KR100931817B1 (ko) 2009-12-14
JP2004099435A (ja) 2004-04-02
EP1398301A3 (de) 2004-06-30
KR20040022182A (ko) 2004-03-11
CN1488682A (zh) 2004-04-14
MY135467A (en) 2008-04-30
US20090101866A1 (en) 2009-04-23
EP1398301B1 (de) 2007-09-12
US8012253B2 (en) 2011-09-06
TWI307332B (en) 2009-03-11
TW200417514A (en) 2004-09-16
US7488382B2 (en) 2009-02-10
DE50308157D1 (de) 2007-10-25
BR0303455A (pt) 2004-09-08
EP1398301A2 (de) 2004-03-17
EP1398301B2 (de) 2015-12-16
US20100288164A1 (en) 2010-11-18
DE10241273A1 (de) 2004-03-18
US20040047792A1 (en) 2004-03-11
CN100519665C (zh) 2009-07-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4584557B2 (ja) 沈降ケイ酸をベースとする効果的艶消し剤
US7816442B2 (en) Surface-modified precipitated silicas
AU2005202577B2 (en) Surface-modified silica gels
KR100394446B1 (ko) 효율을 개량시킨 단립실리카 광택소거제
JP5374378B2 (ja) 艶消し剤
EP1446447B1 (en) Silica matting agents
MXPA06013639A (es) Composicion acuosa para recubrimiento con pigmentos de aluminio en una capa delgada, resistentes a la corrosion, metodos para su produccion y uso.
WO2000002814A1 (en) Dispersion of fine porous inorganic oxide particles and processes for preparing same
JP2011515307A (ja) ナノ分散可能なベーマイトの製造方法および難燃性合成樹脂におけるその使用方法
AU9707698A (en) Precipitated silica
EP1914275B1 (en) Improved particulate mineral materials
US20120202914A1 (en) Novel matting agent for uv varnishes
JP2858466B2 (ja) 無機ヒドロゲルつや消し剤
EP0759959A1 (en) Wax coated silica matting agent
JPH08170030A (ja) トップコート用艶消しシリカ
JP2004513049A (ja) 微細な多孔質無機酸化物粒子の分散液および同分散液の製造方法
EP3133127B1 (en) Process for the preparation of a mineral filler product
US9139736B2 (en) Surface-modified silicic acid semi-gels
JP3935563B2 (ja) 塗料用艶消し剤、および塗料用艶消し剤の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060501

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090430

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090729

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091127

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100222

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100225

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100527

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100811

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100902

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130910

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees