CN104987762A - 消光剂 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及消光剂。具体地，本发明涉及用于制备消光涂料的消光剂，包括无机氧化物颗粒；和涂覆于无机氧化物颗粒上的蜡，其中，蜡具有约50％或以上的结晶度。

Description

消光剂
本案是申请号为200780044975.2的中国专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及蜡涂覆的无机氧化物消光剂，其可用于涂料、由其制备的涂料配制剂和形成的消光涂料的制备。
背景技术
众所周知微化蜡(micronisedwaxed)可使油漆、漆膜或涂料(如弹性、手感和光泽)获得所需的特性。无机氧化物颗粒也已经用于使涂料具有消光性能。被蜡涂覆/浸渍的无机氧化物颗粒其工艺一般是通过在气流式研磨机(超微粉碎机(microniser))里一起研磨氧化物颗粒和蜡，可使产品具有进一步的优点。蜡可以改善组合物中氧化物颗粒和油漆、清漆的相容性，避免了和其它组分的相互作用，另一个作用是避免存储过程中形成无法再分散的硬沉积物。虽然其提供的保护功能机理没有完全弄清楚，但油漆和清漆厂家已经广泛的认识到其优点，因为如果形成无法再分散的硬沉积物，上述所描述的优点都无法实现。
两种形式的蜡涂覆的氧化物颗粒在文献中得到了广泛披露。GB798621描述了一种通过在气流式研磨机中共磨中等密度的硅溶胶和微晶蜡形成的氧化硅消光剂。GB1236775教导了一种能够通过使用蜡的水乳液或分散体处理沉淀氧化硅制备的氧化硅消光剂，其中包括热塑性材料。通过在加入到气流式混合机之前，添加脂肪酸(GB1461511)或可变分子量的合成聚乙烯蜡(US4097302)到微晶蜡中，可使所谓的“干”共微方式(co-micronising route)制备的氧化硅消光剂性质进一步提高。前者提高了蜡涂覆产品的分散能力，而后者和商业可用材料相比显示出增强的沉降特征。上述的“干”处理工艺路线中采用超过蜡或蜡混合物熔点的温度，但是GB1538474描述了可在低于50℃的微化温度制造满意的蜡涂覆的氧化硅的工艺，其中可使用诸如褐煤酸酯的功能性蜡。
US5326395描述了一种采用蜡的三元混合物的消光剂，包括涂覆在氧化硅颗粒上的硬微晶蜡、增塑微晶蜡和合成的聚乙烯蜡。US2004/0047792A1涉及一种蜡涂覆沉淀氧化硅消光剂，其中所述的蜡可包括聚乙烯蜡、费-托蜡(Fischer-Tropsch)或硅酮蜡。
US6761764B2描述了蜡颗粒的用途，在没有无机氧化物组分的情况下，其在各种涂料中用作消光剂。所用的蜡包括烯烃蜡和各种其它的蜡的混合物。
在涂料工业中，对于能够在提供改善的抗磨性和化学稳定性的同时提供可接受的消光性能的无机氧化物消光剂仍然是有需求的。
附图说明
图1说明了蜡结晶度对根据本发明的涂料的抗磨性的影响。
图2说明了根据本发明的涂料和其它涂料的抗磨性的比较。
图3说明了根据本发明的涂料和在木材清漆中的其它涂料的消光效率的比较。图4说明了根据本发明的涂料和在UV漆中的其它涂料的消光效率的比较。
图5说明了根据本发明的涂料和其它涂料的耐化学性的比较。
发明内容
本发明涉及消光剂，其用于制备包括无机氧化物颗粒和涂覆于所述无机氧化物颗粒上或浸渍于所述无机氧化物颗粒中的蜡的消光涂料，其中，蜡具有大约50％或以上的结晶度。
本发明还涉及一种涂料配制剂，其用于制备包括无机氧化物颗粒和涂覆于无机氧化物颗粒上或浸渍于所述无机氧化物颗粒中的蜡的消光涂料，其中，蜡具有大约50％或以上的结晶度。
本发明进一步涉及包括无机氧化物颗粒，和涂覆于无机氧化物颗粒上或浸渍于所述无机氧化物颗粒中的蜡的消光涂料，其中，蜡具有大约50％或以上的结晶度。
具体实施方式
在这里提到的术语具有它们在行业内公认的含义，除非在这里另有定义。
术语“颗粒”表示固体，指包括具有规则和不规则的形状和表面的球体、颗粒、碎片或片状物质的单独个体和聚集体(例如粉末)。
术语“无机氧化物”描述一种元素和氧的二元化合物，包括金属和半金属氧化物。氧化物的例子可以包括：SiO2、Al2O3、AlPO4、MgO、TiO2、ZrO2、Fe2O3或其混合物。混合无机氧化物包括SiO2、Al2O3、MgO、SiO2、Al2O3、Fe2O3等，其可以通过传统制备工艺(如，共混、共沉淀、共凝胶等)制备。氧化物可以为包括凝胶、沉淀、锻制(fumed)和胶体等的各种形式。
无机氧化物可能也包括天然矿石、被处理/被活化的矿石、蒙脱土、绿坡缕石、膨润土、坡缕石、漂白土(Fuller’searth)、硅藻土、蒙脱石、纤维棒石、石英砂、石灰石、高岭土、球土、滑石、叶蜡石、珍珠岩、硅酸钠、硅酸铝钠、硅酸镁、镁铝硅酸盐、氧化硅水溶胶、硅胶、煅制氧化硅、沉淀氧化硅、渗析氧化硅、氧化铝沸石、分子筛、硅藻土、反向氧化硅、漂白粘土(bleachingclay)、及其混合物。
在一个实施例中，本发明涉及消光剂，其用于制备包括无机氧化物颗粒和涂覆于无机氧化物颗粒上的蜡的消光涂料，其中，蜡具有约50％或以上的结晶度。蜡可以具有约55％或以上的结晶度，优选60％或以上，更优选70％或以上，最优选80％或以上。在另一实施例中，蜡具有90％或以上(例如，90、91、92、93、94、95、96、97、98、99或100％)的结晶度。聚合物的结晶度通过采用ASTME793(1985(Rev.1989))的示差扫描量热法测量。
具有此处所述的结晶度的本发明的蜡，如果其结晶度小于100％，则包括具有结晶和无定形区的聚合物。本发明的聚合物还可以描述为全同立构或间规立构的，也就是说，同无规聚合物比较起来，本发明的聚合物具有其原子或侧基团的规整的而非不规整的排布。例如，高结晶度(例如，50％以上)聚合物包括聚烯烃、聚苯乙烯、聚酰胺、聚酮、聚酯等等。优选地，聚合物为聚烯烃，因为这些聚合物在更低的温度熔化。本发明的聚烯烃可以包括聚亚烷基，例如聚乙烯、聚甲烯、聚丙烯、聚丁烯等等，或它们的混合物。更优选地，本发明的蜡可以为全同立构和/或间规立构的聚乙烯，聚丙烯或它们的混合物，并且进一步更优选聚乙烯类型。合适的蜡包含规则的聚合物链使结晶度大于90％。合适的蜡的重均分子量为1000至30000g/mol，滴点温度为90至140℃，优选110至140℃。在140℃的温度下测量，所述的蜡具有不高于1000mPas，优选从10至500mPs的熔体粘度。
本发明的聚合物可以通过任何提供大于50％的结晶度的常规方法合成。例如，通过Ziegler-Natta聚合或通过有机金属的催化聚合生产聚烯烃。优选地，茂金属的有机金属催化聚合。例如，在US5081322、US5643846、US5919723、US6194341和US6750307中描述的那些工艺。
本发明的无机氧化物可以包括在这里提到的各种氧化物。然而，在一个优选的实施例中，无机氧化物为氧化硅。这一实施例在其后进行描述，但可以用任何无机氧化物代替氧化硅。
用于制备本发明的氧化硅可以为用于制备常规多孔氧化硅消光剂的那些，如果所述氧化硅具有在0.8至2.4cc/g范围内的孔体积。优选，氧化硅具有在0.9至1.2cc/g范围内的孔体积。这里所指的孔体积是由下面将要描述的氮孔隙率测定法测量的。
硅胶是优选的。水凝胶、干凝胶和气凝胶都是合适的。制备无机凝胶的常用工艺是通过酸中和金属或准金属的盐溶液，随后在放置时形成水凝胶。所述水凝胶其后必须洗涤以除去相对较高浓度的可溶性盐，这一洗涤阶段中的处理工艺决定了最终产物的物理性能，如孔隙率。获得这些性能的技术是已知的。例如，最终的凝胶体积和表面积取决于冲洗液的pH值和温度、洗涤的速率、水凝胶的粒度和洗涤的持续时间。通常，孔体积可通过缩短洗涤时间的长度而加以限制。然而，如果在最终的凝胶中形成上述孔体积，具体的洗涤条件可依据所使用的具体的无机水凝胶来改变，并且对于本发明来说其本身不是关键的。如上所述，本领域技术人员熟悉这些洗涤条件，并能够容易地确定适于形成本发明中使用所需的孔体积的洗涤条件。例如，在50-90℃下，以3-5的起始pH值下洗涤5-25小时的硅胶形成了孔体积在上述范围内的凝胶(气凝胶)。
特别合适的氧化硅包括用于制备市售氧化硅消光剂如W.R.Grace&Co.-Conn的消光剂的水凝胶。
本发明的含蜡消光剂可通过常规的共研磨方法来制备，其中将蜡熔化同时将氧化硅粉碎至约2至12微米的所需粒度。该方法可最有效地在气流式研磨机或超微粉碎机(microniser)比如Hosokawa Micro Limited的研磨机和NetzschInc.的通用研磨机中进行，。操作温度根据蜡的要求来变化。被供应到气流式研磨机中的空气的入口温度至少高到足以确保在粉碎设备的停留时间段内使蜡熔化。将蜡加入到研磨机中，以使最终产物具有15-30重量％的蜡含量。
根据本发明的另一个实施例涉及一种涂料配制剂，其用于制备包括无机氧化物颗粒和涂覆于无机氧化物颗粒上的蜡，和其它涂料配制剂组分的消光涂层，其中，蜡具有大约50％或以上的结晶度。
除了在这里描述的无机氧化物和蜡之外，该涂料配制剂还可以包括传统的涂料组分。例如，在使用有机材料制备消光剂时、一般加入的蜡的浓度为0.1-10％。传统组合物中的蜡为PE蜡、PP蜡、FT石蜡、天然蜡、褐煤蜡、粗晶或微晶石蜡、酰胺蜡以及它们的混合物。氧化硅和蜡的混合物以粉末混合物和熔体混合物的形式使用。这些蜡可以以薄片、球粒、粉末、分散体或微粉(micronisate)的形式添加，优选以细的微粉(micornizedpowder)添加。其它的涂料组分包括粘结剂，如硝化纤维、异氰化物、聚烯烃(polyole)、丙烯酸酯等；抗微生物剂；表面活性剂；消泡剂；增稠剂；光引发剂；紫外稳定剂；抗氧化剂；流变学改性剂；染料；多价螯合剂；抗微生物剂；分散剂；颜料，如二氧化钛、有机颜料、碳黑；填充剂，如碳酸钙、滑石、粘土、氧化硅和硅酸盐；填料，如玻璃或聚合微球、石英和沙；抗冻剂；增塑剂；粘结促进剂，如硅烷；聚结剂；润湿剂；滑动和防滑添加剂；交联剂；消泡剂；着色剂；增粘剂；蜡；防腐剂；冻结/解冻保护剂；防腐蚀剂；抗絮凝剂；和溶剂和稀释剂，如二甲苯、松香水、汽油、水等等。
本发明另一个实施例涉及包括无机氧化物颗粒，和涂覆于无机氧化物颗粒上或浸渍其中的蜡的消光涂层，其中，蜡具有大约50％或以上的结晶度。
涂层通过利用在这里描述的涂料配制剂得到。首先，本发明消光剂通过将无机氧化物和蜡在均匀混合氧化物-蜡混合物的混合器(如Henschel混合器)中以一定时间(如10至20分钟)和一定速率(如2000至3000rpm)混合来制备。然后混合物被放入研磨机(例如气流式研磨机，如从Alpine AG得到的AlpineAFG 100)，使蜡浸渍和涂覆氧化物，并且提供均一和所需的粒度。该研磨典型地是在50至200℃下以每600gr花费10至15分钟的时间完成。
在消光剂形成后，该涂料配制剂通过使用，混合器(例如从VMA-GetzmannGmbH得到的Dispermat CN10-F2混合器)以一定速度(如1000至5000rpm)和时间将消光剂分散在准备好的涂料中直到消光剂完全分散(如5至30分钟的时间)，所述准备好的涂料包括漆、油漆(paint)、清漆(varnish)或墨水。该涂层可以使用Erichsen涂布机，如从ErichsenGmbH&Co.KG得到的K-ControlK101，以典型的厚度(如25至100微米)施加在诸如木材、金属、塑料等的基底上。该涂层然后在室温下干燥一段时间(约24小时)。
根据本发明的消光剂提供与其它传统消光剂制备的涂层相比改善的抗磨性。例如，对于包括本发明消光剂的涂层，在涂层经过这里定义的磨蚀试验之后，光泽单位的减少在60°小于10个单位和在20°小于5个单位，优选在60°小于7个单位和在20°小于4个单位，更优选在60°小于5个单位和在20°小于3个单位，并且甚至更优选在60°小于3个单位和在20°小于2个单位。
此外，本发明的消光剂和传统消光剂相比，提供了相等的消光效率以及比传统消光剂提高的耐化学性。
虽然本发明描述了有限的实施例，但这些特定的实施例并不能限制本发明描述的和权利要求的范围，显然，对本领域技术人员而言，在评估这些示范性实施例的基础上对其做进一步改进和变形是可能的。这些实施例中的所有组成部分和百分含量，以及在说明书中其它部分，除非有特殊说明，均指重量。进而，说明书或权利要求中描述的数值范围，如颗粒的系列性质、测量单元、条件、物理状态或百分含量，将通过参见或其它方式以更清楚地引入，任何在此范围内的数值，包括所描述的范围内的任何数值子集。例如，当描述了一个数值范围的下限RL和上限RU，则在此范围内的任何数值R也被详细公开。特别地，在此范围内的下列数值R被具体描述为：R＝RL+k(RU－RL)，其中k从1％到100％以1％的增量变化，如k是1％，2％，3％，4％，5％，……50％，51％，52％……95％，96％，97％，98％，99％或100％。而且，由R的任意两个数值所代表的任何数值范围，如上面计算的那样被详细公开。本发明的任何变型，除了这里显示和描述的，根据前面的说明和附图对本领域技术人员而言也是显而易见。这些变型也落入附属的权利要求的范围内。而且，本申请中引证的任何出版物或专利将在这里被完全引入。
实施例
接下来的段落用于评价本发明的试验和配制剂。
A)氮表面积-孔体积
氮表面积是通过微晶粒学(Micromeritics)使用ASAP2400装置采用多点法，通过Brunauer、Emmett和Teller(BET)的标准氮吸附孔隙率测定法(standardnitrogenporosimetryadsorptionmethods)测定的。样品在100℃下真空脱气12小时。通过P/P00.967下吸附的氮气的体积计算表面积。该装置还可提供孔隙尺寸分布，从该分布可能得到孔体积尺寸(D10)，10％的孔隙都小于这一孔隙尺寸。同样地，可能得到50％(D50)和90％(D90)孔小于该尺寸的孔隙尺寸。另外，对于其给定范围的孔隙尺寸的孔体积(ml/g)能够从解吸曲线获得。
B)粘度
粘度是由布氏RVT DV2粘度计对储存溶液测量的或由Bohlin流变仪VOR对达到30单位光泽的配制剂测量的。该配制剂在测量之前被脱气24小时。
C)重量中值粒度
这里所指的重量中值粒度或“中值粒度”是通过使用100毫米光程长度的透镜的Malvern Mastersizer测定的。该仪器使用低功率He/Ne激光器，利用Frauenhoffer衍射原理。测量前，样品在水中超声分散10秒以形成水性悬浮体。MalvernMastersizer测量氧化硅的重量粒度分布。重量中值粒度(d50)、10-百分数值(d10)和98-百分数值(d98)容易从该仪器测定的数据获得。
D)碳含量
涂覆的氧化硅的碳含量是通过Leco Corpration的LECO SC44测定。使用感应电炉将所含的碳在高温下转化为氧化碳。然后通过红外检测系统检测气体。从所获得的碳的水平计算蜡含量(％重量/重量)。
E)光泽
由DIN67530测量使用本发明所得到的光泽和消光效果。该DIN标准的内容被引入本文供参考。
实施例1-5
根据以下工艺制备蜡涂覆的氧化硅消光剂。通过US4097302里阐述的工艺制备100份闪蒸干燥硅胶，其具有300m2/g的BET氮比表面积和2ml/g的孔体积，与20份的蜡在Henschel混合器中以2500rpm混合时间15分钟。接下来将混合物在AFG 100气流式研磨机(从Alpine获得)中，在130℃下以每600克10分钟粉碎进行。从100℃到140℃的温度足够高以确保蜡在磨碎设备中的停留时间内熔化。
实施例1-5中的不同消光剂，通过使用Getzmann的Disepmat VMA在3000rpm下分散10分钟，被分散在表1(如，漆1)中的漆和商购的2K-PU木材清漆(如，漆2)，从SircaSpAindustria获得的Sirca。
表1：漆1的组分
Ucecoat 7849(从Surface Specialties,Inc.获得)和Neocryl XK-15(DSMNeoResins)为低聚丙烯酸酯。Byk-025(从BYK-Chemie获得)为聚硅氧烷，Byk346(也从BYK-Chemie获得)为聚醚改性的聚二甲基硅氧烷。Irgacure 500(从CibaSpecialtyChemicals获得)为50％的二苯甲酮和50％的1羟基(hydroxi)-环己基-苯基甲酮。DowanolDPM为从TheDowChemical Company获得的二醇醚酯。Coqpur 6050(从Coatex SAS获得)为用于水溶性油漆/漆配制剂的聚氨酯增稠剂。
该漆用从Erichsen获得的K-Control涂布机“K101”在黑色检验卡片上形成100微米厚度的膜。然后将膜在从Heraeus获得的LUT6050干燥机中45℃干燥20分钟。接下来，再使用从IST获得的聚合设备TypM-20-2*1-TR-Ss-SLC，利用2紫外线灯辐照该膜10分钟。在室温下一星期之后，通过这里描述的Taber试验测试涂料的抗磨性。
通过使用从Erichsen获得的橡胶辊的Taber Abraiser 5131实施Taber Test。在该设备中，磨损是由两个研磨轮在施加于检验卡片的9N的压力下以60rpm的速度顺时针旋转而造成的。该轮上的磨损介质是3M Scotch纤维网CF-HP7498型(F-SFN)。该卡片承受500rpm。在Taber试验之前和之后，测量20°和60°的光泽水平，以确定光泽单位的变化。光泽单位的小的改变意味着抗磨性好。其结果示于表2和图2中。
下表中出现的缩写定义如下：
APS—重量中值粒度
PV－孔体积
SA－表面积
PE－聚乙烯
COMP－对比例
表2和图1中所示的结果表明，当粒度和蜡含量保持相对恒定时，本发明范围内具有高结晶度蜡的消光剂与本发明外的具有低结晶度蜡的消光剂相比具有更好的抗磨性。对比本发明1、2和对比例1-3，由本发明的消光剂得到的涂料的抗磨性至少是其它消光剂的两倍。
还出人意料的发现，当使用具有处于本发明所要求的粒度范围内的较低值端的较小APS的消光剂时，增强了抗磨性。参见图2，具有6微米的APS的涂层相比于具有8微米的APS的涂层，具有更低的抗磨性。
图3显示了本发明(红线)的消光剂提供的涂料其消光效率至少与传统消光剂得到的涂料相当。其样品混入上述实施例1-5的漆2中。浅蓝线显示了从Deuteron GmbH获得的商业有机消光剂Pergopak M3的消光效率。黄线显示了从Fuji Sylysia化学有限公司获得的商业凝胶基消光剂Fuji Sylysia 276，绿线显示了从W.R.Grace&Co.获得的商业硅胶消光剂SyloidED52。深蓝色线显示了从DegussaAG得到的商业沉淀氧化硅消光剂AcemattOK412的效率。
图4显示了在漆1中使用本发明(红线)的消光剂与其它商业消光剂的比较。其样品混入上述实施例1-5的漆1中。浅蓝线显示了从Deuteron GmbH获得的商业有机消光剂Pergopak M3的消光效率。黄线显示了从Fuji Sylysia化学有限公司获得的商业凝胶基消光剂Fuji Sylysia 276，绿线显示了从W.R.Grace&Co.获得的商业硅胶消光剂SyloidED52。深蓝色线显示了从DegussaAG得到的商业沉淀氧化硅消光剂AcemattOK412的效率。
这些不同消光剂的耐化学性是通过Getzmann的Dispermat VMA在3000rpm下将其在漆1中分散10分钟测量。消光剂用量依所达到的光泽而定，在表3中列出。该漆用从Erichsen获得的K-Control涂布机“K101”在黑色检验卡片上形成100微米厚度的膜。然后将膜在从Heraeus获得的LUT6050干燥机中在45℃下干燥20分钟。接下来，再使用从IST获得的聚合设备型号M-20-2*1-TR-Ss-SLC，利用2紫外线灯辐照该膜10分钟。在室温下一星期之后，通过图5中的不同液体测量涂层的耐化学性。所述方法在DINEN 12720，DIN68861-1中描述。
表3：消光剂％与光泽的关系
消光剂 图4说明 消光剂百分数 光泽 耐化学性
有机消光剂 浅蓝 2.6％ 光泽20° 差
凝胶基消光剂 黄 2.1％ 光泽20° 差
沉淀消光剂 深蓝 2.1％ 光泽20° 中等
SyloidED502 绿 1.9％ 光泽20° 好
本发明 红 1.9％ 光泽20° 优秀
图5表明，出人意料地发现本发明的消光剂提供的涂料相比于其它传统的消光剂具有提高的耐化学性。例如，非消光水溶性涂料导致与水、红葡萄酒和墨水形成气泡；对茶、咖啡和Na2CO3溶液的抵抗力良好。以SYLOID ED52作为消光剂形成的涂料对水、咖啡、茶和红葡萄酒的抵抗力很好；和对乙醇和墨水的抵抗力较差；仅与啤酒形成气泡；以及具有中等亮度(moderatebrightening)的污点。硅胶涂料表现出与大多数测试物质都形成气泡的一般趋势。由沉淀氧化硅消光剂得到的涂料导致通过咖啡、墨水、红葡萄酒和水的破坏；完整的膜被乙醇破坏；并形成很大的气泡。由煅制氧化硅消光剂得到的涂料对水、咖啡、茶叶和啤酒的抵抗力较差；其膜可被红葡萄酒、墨水和乙醇破坏；并形成大量气泡和白色污点。有机消光剂涂层对于大部分测试物质一般抵抗力较差；其膜被水、咖啡、红葡萄酒和啤酒破坏；并形成大量气泡和特别亮的污点。根据本发明的消光剂制备的涂料的性能得到了极大改善，包括对红葡萄酒和啤酒的高抵抗力；对水、咖啡、茶的良好抵抗力和对乙醇和墨水略小的抵抗力；没有气泡形成；以及具有中等亮度的污点。

Claims (18)

1.用于制备消光涂料的消光剂，包括无机氧化物颗粒；和涂覆于无机氧化物颗粒上的蜡，其中，蜡具有约50％或以上的结晶度。
2.根据权利要求1的消光剂，其中，所述的蜡具有约55％或以上的结晶度。
3.根据权利要求1的消光剂，其中，所述的蜡具有约60％或以上的结晶度。
4.根据权利要求1的消光剂，其中，所述的蜡具有约70％或以上的结晶度。
5.根据权利要求1的消光剂，其中，所述的蜡具有约80％或以上的结晶度。
6.根据权利要求1的消光剂，其中，所述的蜡包括聚烯烃。
7.根据权利要求1的消光剂，其中，所述的无机氧化物包括氧化硅、氧化铝、氧化镁、氧化钛、氧化锆、离子氧化物或它们的混合物。
8.根据权利要求1的消光剂，其中，所述的无机氧化物具有2-12微米的中值粒度。
9.用于制备消光涂料的涂料配制剂，包括无机氧化物颗粒；涂覆于无机氧化物颗粒上的蜡；和涂料配制剂组分；其中，蜡具有约50％或以上的结晶度。
10.根据权利要求9的涂料配制剂，其中，所述的蜡具有约60％或以上的结晶度。
11.根据权利要求9的涂料配制剂，其中，所述的蜡具有约70％或以上的结晶度。
12.根据权利要求9的涂料配制剂，其中，所述的蜡具有约80％或以上的结晶度。
13.根据权利要求9的涂料配制剂，其中，所述的蜡包括聚乙烯、聚丙烯或它们的混合物。
14.根据权利要求9的涂料配制剂，其中，所述的无机氧化物包括氧化硅、氧化铝、氧化镁、氧化钛、氧化锆、离子氧化物或它们的混合物。
15.根据权利要求9的涂料配制剂，其中，所述的无机氧化物具有2-12微米的中值粒度。
16.消光涂料，包括无机氧化物颗粒；和涂覆于无机氧化物颗粒上的蜡，其中，蜡具有约50％或以上的结晶度。
17.根据权利要求16的消光涂料，其中用Taber试验测试的所述涂料的抗磨性为在60°小于10个单位的光泽。
18.根据权利要求16的消光涂料，其中用Taber试验测试的所述涂料的抗磨性为在20°小于5个单位的光泽。
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008021007A1 (de) * 2008-04-25 2009-11-12 Byk-Chemie Gmbh Dispersionen von Wachsen und anorganischen Nanopartikeln sowie deren Verwendung
EP2640779B1 (de) * 2010-11-18 2015-08-05 BASF Coatings GmbH Polyurethan-beschichtungsmittel, daraus hergestellte mehrschichtlackierungen mit matter oberfläche sowie verfahren zur herstellung der mehrschichtlackierungen
EP2476733B2 (de) 2011-01-17 2017-01-18 Byk-Chemie GmbH Verwendung von Polyhydroxyalkanoaten als Additive in Beschichtungszusammensetzungen
US20140318003A1 (en) * 2011-08-24 2014-10-30 Brad A. Bucher Fuel Additive and Fuel Composition
US10093829B2 (en) * 2012-10-19 2018-10-09 Ppg Industries Ohio, Inc. Curable film-forming compositions demonstrating burnish resistance and low gloss, and methods of improving burnish resistance of a substrate
US9353271B2 (en) 2013-03-13 2016-05-31 Ppg Industries Ohio, Inc. Low gloss coatings
CN103923494B (zh) * 2014-03-26 2016-03-30 江西广源化工有限责任公司 灯箱广告膜专用超细水合硅酸镁粉的制备方法
KR101623512B1 (ko) 2014-06-12 2016-05-23 대한민국 X-선 촬영검사시의 방사선량 계산방법 및 방사선량 계산 프로그램을 기록한 기록매체
CN104212057A (zh) * 2014-08-25 2014-12-17 安徽嘉木橡塑工业有限公司 一种薄膜用消光母料
WO2018018106A1 (pt) * 2016-07-28 2018-02-01 Isogama Industria Quimica Ltda Emulsões de cera associadas a compostos inorgânicos
WO2018222960A1 (en) * 2017-06-02 2018-12-06 W. R. Grace & Co.-Conn. Coated particles and methods of making and using the same
EP3662007A4 (en) * 2017-08-03 2021-05-12 W. R. Grace & Co. - Conn. SILICA-BASED MATTING AGENTS AND PROCESS FOR THEIR PRODUCTION AND USE
SG11202108095VA (en) * 2019-02-01 2021-08-30 Grace W R & Co Silica-based matting agents and methods of making and using the same
CA3148857A1 (en) 2019-08-30 2021-03-04 Feng Gu Silica-based matting formulations and methods of making and using the same
WO2021181189A1 (en) * 2020-03-07 2021-09-16 ALIBAKHSHI Eiman A weathering-resistant nanocomposite coating
JP7439257B2 (ja) 2020-06-03 2024-02-27 東ソー・シリカ株式会社 塗料艶消し用表面処理含水ケイ酸及びその製造方法
CN111748234A (zh) * 2020-07-07 2020-10-09 威远达威木业有限公司 一种阳离子消光填料及其制备方法
CN113088141A (zh) * 2021-04-08 2021-07-09 广东必得星辉化学工业有限公司 一种复合哑光漆及其制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1488682A (zh) * 2002-09-06 2004-04-14 德古萨公司 基于沉淀二氧化硅的高效消光剂
KR20040071840A (ko) * 2003-02-07 2004-08-16 주식회사 라이온켐텍 자외선 경화형 도료에 적합한 무광처리제 및 이의 제조방법
CN1644632A (zh) * 1997-12-12 2005-07-27 德古萨股份公司 用聚乙烯蜡乳液包衣的沉淀二氧化硅及其制备方法

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2838413A (en) 1954-05-27 1958-06-10 Grace W R & Co Silica gel flatting agent, method of preparing same, and composition containing same
CH531989A (de) 1967-10-12 1972-12-31 Degussa Verfahren zur Herstellung von organisch modifizierten Kieselsäuren und Silikaten
US3816154A (en) 1973-05-18 1974-06-11 Goury T Mc Silica gel flatting agent
DE2521361A1 (de) 1975-05-14 1976-11-18 Basf Ag Verfahren zur herstellung von mattierungsmitteln fuer lacke
US4097302A (en) * 1976-02-17 1978-06-27 Scm Corporation Flatting agents
DE3904468A1 (de) * 1989-02-15 1990-08-16 Hoechst Ag Polypropylenwachs und verfahren zu seiner herstellung
EP0541359B1 (en) 1991-11-07 1995-07-19 Crosfield Limited Silica products
US5643846A (en) * 1993-04-28 1997-07-01 Fina Technology, Inc. Process for a isotactic/syndiotactic polymer blend in a single reactor
JPH07166091A (ja) * 1993-12-13 1995-06-27 Nippon Silica Ind Co Ltd 塗料用艶消し剤
DE19516253A1 (de) 1995-04-26 1996-10-31 Grace Gmbh Mattierungsmittel auf Basis von aggregiertem Siliciumdioxid mit verbesserter Effizienz
GB9517607D0 (en) 1995-08-29 1995-11-01 Unilever Plc Silica products and uv curable systems
IT1282364B1 (it) * 1996-01-16 1998-03-20 Enichem Spa Catalizzatore metallocenico supportato per la (co) polimerizzazione delle alfa-olefine
US6194341B1 (en) * 1996-06-17 2001-02-27 Exxon Chemical Patents Inc. Mixed transition metal catalyst systems for olefin polymerization
KR100564499B1 (ko) * 1997-02-07 2006-03-29 엑손모빌 케미칼 패턴츠 인코포레이티드 분지된 올레핀 공중합체로부터 제조된 열가소성 엘라스토머 조성물
ES2227747T3 (es) 1997-07-11 2005-04-01 Clariant Gmbh Utilizacion de ceras de poliolefinas.
US6395247B1 (en) * 1997-12-12 2002-05-28 Degussa Ag Precipitated silica
JP4671568B2 (ja) 1999-04-13 2011-04-20 グレース・ゲーエムベーハー・ウント・コムパニー・カーゲー 放射線硬化コーティング用の艶消剤
US6770128B1 (en) 1999-04-13 2004-08-03 Grace Gmbh & Co. Kg Matting agent radiation for curing coatings
JP2003532777A (ja) * 2000-05-12 2003-11-05 クラリアント・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング 塗料用ワックス混合物
DE60207340T2 (de) * 2001-09-05 2006-07-27 Eastman Kodak Co. Elektrofotografischer toner, der polyalkylenwachs hoher kristallinität enthält
GB0127220D0 (en) 2001-11-13 2002-01-02 Ineos Silicas Ltd Silica matting agents
JP2003192992A (ja) * 2001-12-26 2003-07-09 Kotobuki Kako Kk 塗料用艶消し剤、およびエネルギー線硬化型塗料用組成物
FR2859723B1 (fr) 2003-09-16 2005-10-21 Servier Lab Nouveaux derives de benzoindoline, leur procede de preparation et les compositions pharmaceutiques qui les contiennent

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1644632A (zh) * 1997-12-12 2005-07-27 德古萨股份公司 用聚乙烯蜡乳液包衣的沉淀二氧化硅及其制备方法
CN1488682A (zh) * 2002-09-06 2004-04-14 德古萨公司 基于沉淀二氧化硅的高效消光剂
KR20040071840A (ko) * 2003-02-07 2004-08-16 주식회사 라이온켐텍 자외선 경화형 도료에 적합한 무광처리제 및 이의 제조방법

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