JP4578315B2 - ウエーハ位置決め用治具及びウエーハ固定用スタンド並びにウエーハ分析方法 - Google Patents

ウエーハ位置決め用治具及びウエーハ固定用スタンド並びにウエーハ分析方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4578315B2
JP4578315B2 JP2005133846A JP2005133846A JP4578315B2 JP 4578315 B2 JP4578315 B2 JP 4578315B2 JP 2005133846 A JP2005133846 A JP 2005133846A JP 2005133846 A JP2005133846 A JP 2005133846A JP 4578315 B2 JP4578315 B2 JP 4578315B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
positioning jig
coordinates
fixing
pedestal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2005133846A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006310674A (ja
Inventor
和徳 萩本
博 寺嶋
秀幸 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd, Shin Etsu Handotai Co Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP2005133846A priority Critical patent/JP4578315B2/ja
Publication of JP2006310674A publication Critical patent/JP2006310674A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4578315B2 publication Critical patent/JP4578315B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、シリコンウエーハ、石英ウエーハ等の円形状のウエーハの表面上のパーティクル等を分析する技術に関し、特に、座標に基づいて分析することができる装置において分析すべきウエーハを位置決めするための治具及びこの治具にウエーハを固定する際に使用するスタンド並びにこの治具を用いたウエーハの分析方法に関する。
半導体ウエーハ等に付着しているパーティクルは、パーティクルカウンタにより輝点として測定することができる。しかし、これらの輝点について詳細に調べるには、他の分析機器、装置等を用いて個々に分析する必要がある。
そこで、パーティクルカウンタで輝点の座標を測定した後、他の分析装置の座標に変換し、変換された座標に基づいて分析すべき輝点の位置を特定して分析を行う方法が提案されている(特許文献1、2参照)。
電子基板のパーティクル等を詳細に分析する場合、例えば顕微ラマン分光装置を用いることができる。例えば「WPA(Wafer surface Particle Analyzer)100」(日本電子株式会社製)はフォトマスク基板等のガラス基板専用の顕微ラマン分光装置として使用されており、WPA100(以下、WPAと略す。)の試料ステージ上にフォトマスク基板をセットし、基板の表面に付着しているパーティクル等について座標に基づいて詳細な分析を行うことができる。
WPAのようなフォトマスク基板専用の顕微ラマン分光装置では、半導体ウエーハについても分析を行うことは可能である。
しかし、本来、分析対象であるフォトマスク基板が四角形状であるのに対し、半導体ウエーハは円形状であり、また、フォトマスク基板よりも厚さが薄いなどの相違があるため、ウエーハをステージ上に位置決めすることができない。そのため、シリコンウエーハや円形状の石英ウエーハの分析を行う場合、パーティクルカウンタでウエーハの表面の輝点を測定し、測定された輝点について上記のようなフォトマスク基板専用の顕微ラマン分光装置を用いて詳細に分析を行おうとしても、測定された輝点の座標に対応させた分析ができないという問題がある。
また、ウエーハ分析用の装置を別途用意するとなると、装置コストや管理コストが2倍になるなどの問題が生じる。
特開2003−130639号公報 特開2003−142541号公報
上記のような問題点に鑑み、本発明は、円形状のウエーハの分析に対応していない装置であっても、ウエーハを座標に基づいて分析することを可能にするウエーハ位置決め用治具を提供することを主な目的とする。
本発明によれば、ノッチ部又はオリエンテーションフラット部が形成された円形状のウエーハについて、座標に基づいて分析することができる分析装置を用いて分析する場合に前記ウエーハを前記分析装置の試料ステージに位置決めするための治具であって、少なくとも、前記ウエーハが載置される台座と、該台座上において、前記ウエーハのノッチ部の一点又はオリエンテーションフラット部の二点を支持する切り欠き部支持手段と、前記ウエーハの円弧部の一点を支持する円弧部支持手段と、前記台座に対して可動し、前記ウエーハの円弧部の他の一点を支持する可動支持手段とを有し、前記台座は中心部が外周部よりも低く形成されていることにより前記ウエーハの外周と接触して支持するものであり、前記台座に載置されたウエーハを前記切り欠き部支持手段及び円弧部支持手段で支持し、さらに前記可動支持手段で該ウエーハを支持することにより該ウエーハが前記台座上の所定の位置で固定され、該ウエーハが固定された治具を前記分析装置の試料ステージにセットすることにより該ウエーハが位置決めされるものであることを特徴とするウエーハ位置決め用治具が提供される。
分析装置が本来ウエーハを位置決めすることができない場合でも、上記のような位置決め用治具であれば、円形状のウエーハを各支持手段により固定し、分析装置の試料ステージにセットすることで、ウエーハを常に所定の位置に位置決めすることができる。従って、ウエーハの表面についてパーティクルカウンタで輝点を測定した後、上記治具を用いてウエーハを位置決めすることにより、輝点の座標に基づく詳細な分析が可能となる。
前記ウエーハ位置決め用治具が、前記可動支持手段に連結する弾性体と、該弾性体を介して前記可動支持手段に対向配置されている固定手段とをさらに有し、該固定手段により前記弾性体の張力を調整することで前記可動支持手段が前記台座上に載置されたウエーハを一定の押圧で支持するものとすることができる。
すなわち、可動支持手段が弾性体を介して固定手段と連結されていれば、固定手段により弾性体の張力を調整することで、可動支持手段によってウエーハを一定の押圧で支持することができ、より確実にかつ容易に所定の位置に固定することができる。
また、この場合、固定手段がフック又はネジ部を含み、該フック又はネジ部を介して該固定手段の位置が調整されるものとすることができる。
固定手段の位置をフック又はネジ部により調整することができれば、固定手段により可動支持手段を一層容易に制御することができる。
前記分析装置は、ラマン分光器とすることができる。
上記位置決め治具がラマン分光器に対応したものであれば、ラマン分光器のステージにウエーハを直接位置決めすることができない場合でも、本発明に係る治具を介してウエーハを位置決めすることができる。従って、例えばフォトマスク基板専用のラマン分光器であっても、フォトマスク基板だけでなく、半導体ウエーハ等の表面に付着している有機物や金属酸化物等の異物について詳細に分析することが可能となる。
また、本発明によれば、前記ウエーハ位置決め用治具にウエーハを固定するためのウエーハ固定用スタンドであって、少なくとも、前記ウエーハ位置決め用治具が載置されるスタンド本体と、該スタンド本体に載置された前記ウエーハ位置決め用治具の周囲の三点を支持する支持部及び一点を支持する可動部と、前記ウエーハ位置決め用治具の固定手段と連結される連結手段とを有し、前記ウエーハ位置決め用治具を前記支持部及び可動部によりスタンド本体に固定し、該ウエーハ位置決め用治具の台座に分析すべきウエーハを載置し、前記連結手段を前記ウエーハ位置決め用治具の固定手段に連結させて該固定手段を調整することにより前記ウエーハを前記ウエーハ位置決め用治具の可動支持手段で支持して該治具に固定することができるものであることを特徴とするウエーハ固定用スタンドが提供される。
このようなウエーハ固定用スタンドでは、本発明に係るウエーハ位置決め治具自体を固定することができるとともに、連結手段を治具の固定手段と連結させることでウエーハを容易にかつ確実に治具の所定の位置に固定することができる。また、ウエーハを治具に固定した後、治具をスタンドから取り外して分析を行うことができるのでスタンドが邪魔になることもない。
さらに、本発明によれば、ノッチ部又はオリエンテーションフラット部が形成された円形状のウエーハを分析する方法であって、パーティクルカウンターにより前記ウエーハ上の輝点の座標を測定する工程と、前記ウエーハを前記のウエーハ位置決め用治具に固定する工程と、前記ウエーハが固定されたウエーハ位置決め用治具を、座標に基づいて分析することができる他の装置の試料ステージにセットする工程と、前記パーティクルカウンタで測定した座標を前記他の装置の座標に変換する工程と、前記変換された座標に基づいて前記ウエーハ上の輝点の分析を行う工程を含むことを特徴とするウエーハ分析方法が提供される。
すなわち、パーティクルカウンタによりウエーハ上の輝点の座標を測定した後、本発明に係るウエーハ位置決め用治具にウエーハを固定する工程、分析を行う他の装置の座標に変換する工程等を経ることで、他の装置において輝点の座標に対応した詳細な分析を行うことができる。
この場合、前記パーティクルカウンターにより測定されたウエーハ上の輝点のうち、少なくとも2点に基づいて、前記パーティクルカウンタの座標と前記他の装置の座標を整合させる工程をさらに含むことができる。
選択した輝点に基づいて装置間の座標を整合させることで、座標変換の精度を向上させることができ、分析をより容易にかつ確実に行うことが可能となる。
また、前記パーティクルカウンターにより測定されたウエーハ上の輝点のうち、分析すべき輝点の周囲にマーキングを施す工程をさらに含むことができる。
分析すべき輝点の周囲にマーキングを施せば、他の装置で分析する際、輝点を見つけ易くなり、分析を一層容易に行うことが可能となる。
前記他の装置として、ラマン分光器を用いることができる。
例えばフォトマスク基板専用のラマン分光器であっても、本発明に係るウエーハ位置決め治具を用いることで、ウエーハの表面に付着している有機物や金属酸化物等の異物についても詳細に分析を行うことができる。
本発明のウエーハ位置決め用治具は、ノッチ部等が形成された円形状のウエーハを台座上の所定の位置で固定し、分析装置の試料ステージにセットすることができる。従って、ウエーハについてパーティクルカウンタで輝点の座標を測定した後、ウエーハを分析対象としていない、例えばフォトマスク基板専用のラマン分光器であっても、本発明に係る治具を用いることでウエーハを常に所定の位置に位置決めすることができ、パーティクルカウンタの座標をラマン分光器の座標に変換して、パーティクルの詳細な分析を行うことが可能となる。
以下、添付の図面を参照しつつ、本発明に係るウエーハ位置決め用治具について説明する。
図1は、本発明に係るウエーハ位置決め用治具の一例の概略を示している。この治具1は、オリエンテーションフラット部(オリフラ部)9が形成された円形状のウエーハWが載置される台座2を有し、この台座2はウエーハの表面上のパーティクル等について分析を行う装置の試料ステージに装着できるように対応した形状に形成されている。また、台座2の側面には、運搬等を容易にするため取っ手6が設けられている。
台座2は、より平坦であればウエーハWが載置されたときにウエーハWの反りの発生を防ぐことができる反面、台座と密着してウエーハWにパーティクルが付着し易くなり、また、ウエーハWと台座2がともに平坦度が高い場合、ウエーハWと台座2とが密着してウエーハWを外し難くなるおそれがある。従って、台座2は、例えば少なくともウエーハWの外周数mmの領域と接触して支持することができ、中心部が外周部よりも低く形成されているものとすれば、ウエーハの反りの発生、パーティクルの付着、及びウエーハの密着を効果的に防ぐことができる。
台座2の一部分には、ピンセット等の保持手段によりウエーハWを載置し易くするため、溝10が形成されている。
また、台座上には、ウエーハWの外周部を支持する手段として、切り欠き部(オリフラ部)支持手段(切り欠き部支持ピン)3a,3bと、円弧部支持手段(円弧部支持ピン)4と、可動支持手段(可動支持ピン)5とが設けられている。
切り欠き部支持手段3a,3bはウエーハWのオリフラ部9の二点を支持し、円弧部支持手段4はウエーハWの円弧部の一点を支持し、さらに可動支持手段5は台座2に対して可動してウエーハWの円弧部の他の一点を支持することができるように構成されている。
可動支持手段5は固定手段7と連結されており、固定手段7には位置を調整するためのネジ部(メスネジ)8が形成されている。固定手段7のネジ部8を回転させて固定手段7の位置を前後に調整することで、固定手段7に連動して可動支持手段5が台座2に対して可動し、図2に示されるようにウエーハWの円弧部の一点を支持することができる。
なお、各支持手段3a,3b,4,5は、ウエーハWに対して偏った位置に配置されていたり、円弧部支持手段4と可動支持手段5の位置が近過ぎると、ウエーハWを台座上に安定して固定することができないおそれがある。従って、各支持手段3a,3b,4,5は、ウエーハWの周囲をほぼ均等に支持するように配置されていることが好ましい。
また、各支持手段3a,3b,4,5はウエーハWと接触することになるため、少なくとも接触部をプラスチック材料、例えばPEEK(ポリエーテルエーテルケトン)樹脂で構成することにより金属汚染を防止することが好ましい。
図4は、本発明に係るウエーハ位置決め用治具の他の態様を示している。この治具21では、可動支持手段25が弾性体(バネ)23と連結されており、バネ23を介して可動支持手段25を固定するための固定手段として、フック26が対向配置されている。また、台座22の所定の位置にはフック26を係止するためのフック固定穴27が形成されている。フック26を台座22の固定穴27に係止するか否かによりフック26の位置が調整され、それによりバネ23の張力を調整することができる。このような構成とすれば、フック26を固定穴27に係止することにより、可動支持手段25が台座上に載置されたウエーハWを一定の押圧で支持することができる。なお、バネ23の代わりにゴムなどの他の弾性体を用いてもよい。
また、図5はノッチ部32が形成されているウエーハWに対して用いるウエーハ位置決め用治具の一例を示している。この治具31では、ノッチ部32の一点を支持する切り欠き部(ノッチ部)支持手段33が設けられている。なお、円弧部支持手段4、可動支持手段25、固定手段(フック)26等は図4に示したものと同様である。従って、この治具31では、ノッチ部32が形成されているウエーハWに対し、切り欠き部支持手段33と円弧部支持手段4で支持し、さらに可動支持手段25で支持することでウエーハWを台座上の所定の位置に固定することができる。
次に、好適な態様として、図1に示したウエーハ位置決め用治具1を用い、フォトマスク基板専用の顕微ラマン分光装置「WPA」(日本電子株式会社製)においてシリコンウエーハの分析を行う場合について説明する。
まず、パーティクルカウンタによりシリコンウエーハの表面上の輝点の座標を測定する。なお、パーティクルカウンタでは、表面に付着しているパーティクルのほか、表面に存在する欠陥等も輝点として検出される。ここで分析すべき輝点の周囲にマーキングを施してもよい。例えばレーザマーキング機能付きのパーティクルカウンタ若しくはビッカースマーキング機能付きのパーティクルカウンタを用いることで、分析すべき輝点の周囲にマークを付すことができる。このようなマーキングを施しておけば、WPAで分析する際、WPAに付属する顕微鏡で分析すべき輝点を認識し易くなる。
パーティクルカウンタによる測定後、ウエーハをウエーハ位置決め用治具1に固定する。このとき図3に示すようなウエーハ固定用スタンド11を好適に使用することができる。このウエーハ固定用スタンド11は、ウエーハ位置決め用治具1が載置されるスタンド本体12を備え、スタンド本体12には、ウエーハ位置決め用治具1の周囲の三点を支持する支持部(固定ピン)13a,13b,13cと、一点を支持する可動部(ストッパー)14が設けられている。ストッパー14は、専用のノブ15を回転させることによりスタンド本体上で軸回転するように構成されている。さらにスタンド本体12には、ウエーハ位置決め用治具1の固定手段7(ネジ部8)と連結される連結手段16が設けられている。
このようなウエーハ固定用スタンド11を用いてウエーハ位置決め用治具1にウエーハを固定するには、まず、治具1の台座2がスタンド11の固定ピン13a,13b,13cにより支持されるようにスタンド本体12に載置する。さらに、ノブ15を回してストッパー14で治具1の台座2を支持する。これにより、治具1がスタンド本体12の所定の位置に固定される。
ウエーハ位置決め用治具1をウエーハ固定用スタンド11に固定した後、分析すべきウエーハWが治具1の切り欠き部支持手段3a,3bと円弧部支持手段4により支持されるようにウエーハWを治具1の台座2に載置する。このときウエーハWの汚染を防ぐためウエーハWをピンセット等で保持して台座2に載置することが好ましい。
ウエーハWを台座2の所定の位置に載置した後、スタンド11の連結手段16を治具1の固定手段7のネジ部8に連結させ、ネジ部8を回転させることで可動支持手段5が連動し、一定の押圧でウエーハWを支持することができる。これにより、ウエーハWは、オリフラ部9の2点と、円弧部の2点が支持された状態となり、台座上の所定の位置で確実に固定される。特にオリフラ部9が2点で支持されるため、角度のずれも無く、位置再現性良くウエーハWを固定することができる。
また、ウエーハWを治具1に固定する際に使用する連結手段16はスタンド11に設けられているので、分析の際、連結手段16が邪魔になることもない。
なお、図4に示したウエーハ位置決め用治具21のように固定手段としてフック26を有する場合には、スタンド11にはフック26を係止することができる連結手段を設ければよい。連結手段を押し込んでフック26に引っ掛け、フック26を引出して台座22の固定穴27に係止する。これによりバネ23の張力によって可動支持手段25がウエーハWを一定の押圧で支持し、ウエーハWは台座上の所定の位置で固定されることになる。
ウエーハWを治具1の所定の位置に固定した後、スタンド11のストッパー14を解除する。これによりウエーハWが固定された状態でウエーハ位置決め用治具1をスタンド11から取り外すことができる。
そしてウエーハWが固定されたウエーハ位置決め用治具1を、WPAの試料ステージにセットする。治具1の台座2はステージに対応した形状となっているため、所定の位置に確実にセットすることができ、ステージ上でウエーハWが位置決めされることになる。
一方、パーティクルカウンタで測定した座標をWPAの座標に変換する。座標変換の方法は特に限定されるものではなく、例えば、以下のように行うことができる。
まず、いわゆる粗アライメント(粗リンク)として、オリフラ部の左右2点の角を含むウエーハの外周の5点の座標のうち、オリフラ部以外の3点の座標(x1,y1)、(x2,y2)、(x3,y3)の値を下記の式(1)に代入してα、β、rを決定する。これによりウエーハ(円)の中心点の座標が決定され、さらに、オリフラ部の位置からX軸とY軸の方向を決定することで、新たな座標を決定することができる。
Figure 0004578315
このような粗アライメントに基づく座標変換を行うことでWPAの座標に対応した分析を行うことができるが、さらに座標変換の精度を向上させるため、パーティクルカウンターにより測定されたウエーハ上の輝点のうち、少なくとも2点に基づいてパーティクルカウンタの座標とWPAの座標を整合させることにより座標変換の精度を高めることができる。
この精密アライメントでは、例えば、パーティクルカウンタにおける座標(x,y)からWPAの座標(x´,y´)への変換を行う際、以下の変換式(2)を用い、パーティクルカウンタで検出された大きめの輝点(異物等)である3点を用いてa、b、c、d、e、fの6個のパラメータを求め、算出されたこれら6個のパラメータを代入して任意の点の座標を変換する。
Figure 0004578315
なお、このような精密アライメントを行う場合、例えばウエーハの中心を基準として対称的な位置にある点や、ウエーハの半径よりも距離が大きい点など、できるだけ離れている点を選ぶことが好ましい。
上記のようにウエーハが固定された治具をWPAのステージにセットしてウエーハを位置決めするとともに、パーティクルカウンタで測定した輝点の座標をWPAの座標に変換することで、変換された座標に基づき、ウエーハ上の輝点についてWPAの座標に対応した分析を行うことができる。
以下、本発明の実施例について説明する。
(実施例1)
パーティクル検査装置を用いてシリコンウエーハ上の輝点の座標を測定し、測定した座標をCSV形式のデータで保存した。この座標データをWPAに取り込み、ウエーハ上のパーティクルのマップをWPAに認識させた。また、座標対応の精度を高めるため、ウエーハ上の輝点のうち任意の3点に基づいてアライメントを行った。
一方、図3に示したようなウエーハ固定用スタンドを用い、図1に示したようなウエーハ位置決め用治具にウエーハを固定した。治具をスタンドから取り外し、WPAのステージにセットしてウエーハを位置決めした。
上記のように変換した座標に基づいて分析すべき輝点の位置に合わせてラマン分光により分析を行ったところ、パーティクルカウンタで測定した座標に対応した輝点の分析を行うことができた。
(実施例2)
マーキング機能付きのパーティクル検査装置(MAGICS)を用いてシリコンウエーハ上の輝点の座標を測定し、分析すべき輝点の周囲に4点のマーキングを施した。MAGICSで測定したCSV形式の座標ファイルをWPAで読み込んでWPAの座標に変換した。
一方、実施例1と同様にウエーハを図1の治具に固定した後、WPAのステージにセットしてウエーハを位置決めした。
上記のように変換された座標に基づいてウエーハに付されたマークを容易に認識することができ、マークに囲まれたパーティクルについてラマン分光による分析を行うことができた。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は単なる例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
例えば、実施形態及び実施例では、分析装置としてラマン分光装置を使用したが、本発明に係るウエーハ位置決め用治具は、座標に基づいて分析することができる分析装置であれば特に限定されずに適用することができる。
また、ウエーハ位置決め用治具の台座上の支持手段の配置や数は図に示したものに限定されず、例えば円弧部支持手段を2つ以上設けてもよい。
さらに、ウエーハ固定用スタンドを用いてウエーハをウエーハ位置決め用治具に固定する場合について説明したが、必ずしも上記のようなスタンドを用いる必要はなく、ウエーハ位置決め用治具で直接ウエーハを固定してもよい。
本発明に係るウエーハ位置決め用治具の一例を示す概略図である。(A)平面図 (B)側面図 可動支持手段によりウエーハが支持されている状態を示す概略断面図である。 本発明に係るウエーハ固定用スタンドの一例を示す概略図である。(A)平面図 (B)正面図 本発明に係るウエーハ位置決め用治具の他の一例を示す概略平面図である。 ノッチ部が形成されたウエーハに対するウエーハ位置決め用治具の一例を示す概略平面図である。
符号の説明
1,21,31…ウエーハ位置決め用治具、 2…台座、 3a,3b…切り欠き部(オリフラ部)支持手段(切り欠き部支持ピン)、 4…円弧部支持手段(円弧部支持ピン)、 5…可動支持手段(可動支持ピン)、 6…取っ手、 7…固定手段、 8…ネジ部(メスネジ)、 9…オリエンテーションフラット部(オリフラ部)、 11…ウエーハ固定用スタンド、 12…スタンド本体、 13a,13b,13c…固定部(固定ピン)、 14…可動部(ストッパー)、 16…連結手段、 23…弾性体(バネ)、 26…固定手段(フック)、 27…固定穴、 33…切り欠き部(ノッチ部)支持手段、 W…ウエーハ。

Claims (7)

  1. ノッチ部又はオリエンテーションフラット部が形成された円形状のウエーハについて、座標に基づいて分析することができる分析装置を用いて分析する場合に前記ウエーハを前記分析装置の試料ステージに位置決めするための治具であって、少なくとも、前記ウエーハが載置される台座と、該台座上において、前記ウエーハのノッチ部の一点又はオリエンテーションフラット部の二点を支持する切り欠き部支持手段と、前記ウエーハの円弧部の一点を支持する円弧部支持手段と、前記台座に対して可動し、前記ウエーハの円弧部の他の一点を支持する可動支持手段とを有し、前記台座は中心部が外周部よりも低く形成されていることにより前記ウエーハの外周と接触して支持するものであり、前記台座に載置されたウエーハを前記切り欠き部支持手段及び円弧部支持手段で支持し、さらに前記可動支持手段で該ウエーハを支持することにより該ウエーハが前記台座上の所定の位置で固定され、該ウエーハが固定された治具を前記分析装置の試料ステージにセットすることにより該ウエーハが位置決めされるものであり、さらに、前記可動支持手段に連結する弾性体と、該弾性体を介して前記可動支持手段に対向配置されている固定手段とをさらに有し、該固定手段により前記弾性体の張力を調整することで前記可動支持手段が前記台座上に載置されたウエーハを一定の押圧で支持するもので、前記固定手段がフック又はネジ部を含み、該フック又はネジ部を介して該固定手段の位置が調整されるものであることを特徴とするウエーハ位置決め用治具。
  2. 前記分析装置が、ラマン分光器であることを特徴とする請求項1に記載のウエーハ位置決め用治具。
  3. 前記請求項1又は請求項2に記載のウエーハ位置決め用治具にウエーハを固定するためのウエーハ固定用スタンドであって、少なくとも、前記ウエーハ位置決め用治具が載置されるスタンド本体と、該スタンド本体に載置された前記ウエーハ位置決め用治具の周囲の三点を支持する支持部及び一点を支持する可動部と、前記ウエーハ位置決め用治具の固定手段と連結される連結手段とを有し、前記ウエーハ位置決め用治具を前記支持部及び可動部によりスタンド本体に固定し、該ウエーハ位置決め用治具の台座に分析すべきウエーハを載置し、前記連結手段を前記ウエーハ位置決め用治具の固定手段に連結させて該固定手段を調整することにより前記ウエーハを前記ウエーハ位置決め用治具の可動支持手段で支持して該治具に固定することができるものであることを特徴とするウエーハ固定用スタンド。
  4. ノッチ部又はオリエンテーションフラット部が形成された円形状のウエーハを分析する方法であって、パーティクルカウンターにより前記ウエーハ上の輝点の座標を測定する工程と、前記ウエーハを前記請求項1又は請求項2に記載のウエーハ位置決め用治具に固定する工程と、前記ウエーハが固定されたウエーハ位置決め用治具を、座標に基づいて分析することができる他の装置の試料ステージにセットする工程と、前記パーティクルカウンタで測定した座標を前記他の装置の座標に変換する工程と、前記変換された座標に基づいて前記ウエーハ上の輝点の分析を行う工程を含むことを特徴とするウエーハ分析方法。
  5. 前記パーティクルカウンターにより測定されたウエーハ上の輝点のうち、少なくとも2点に基づいて、前記パーティクルカウンタの座標と前記他の装置の座標を整合させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項4に記載のウエーハ分析方法。
  6. 前記パーティクルカウンターにより測定されたウエーハ上の輝点のうち、分析すべき輝点の周囲にマーキングを施す工程をさらに含むことを特徴とする請求項4又は請求項5に記載のウエーハ分析方法。
  7. 前記他の装置として、ラマン分光器を用いることを特徴とする請求項4ないし請求項6のいずれか1項に記載のウエーハ分析方法。
JP2005133846A 2005-05-02 2005-05-02 ウエーハ位置決め用治具及びウエーハ固定用スタンド並びにウエーハ分析方法 Active JP4578315B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005133846A JP4578315B2 (ja) 2005-05-02 2005-05-02 ウエーハ位置決め用治具及びウエーハ固定用スタンド並びにウエーハ分析方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005133846A JP4578315B2 (ja) 2005-05-02 2005-05-02 ウエーハ位置決め用治具及びウエーハ固定用スタンド並びにウエーハ分析方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006310674A JP2006310674A (ja) 2006-11-09
JP4578315B2 true JP4578315B2 (ja) 2010-11-10

Family

ID=37477196

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005133846A Active JP4578315B2 (ja) 2005-05-02 2005-05-02 ウエーハ位置決め用治具及びウエーハ固定用スタンド並びにウエーハ分析方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4578315B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4984259B2 (ja) * 2008-05-08 2012-07-25 株式会社テクノファイン サンプル保持機構
JP6337338B2 (ja) * 2014-06-06 2018-06-06 リンテック株式会社 シート剥離装置及びシート剥離方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0758041A (ja) * 1993-08-20 1995-03-03 Toshiba Ceramics Co Ltd サセプタ
JPH07302831A (ja) * 1994-05-10 1995-11-14 Hitachi Ltd 共用試料ホールダ
JP2000331919A (ja) * 1999-05-21 2000-11-30 Sony Corp 基板処理装置及び半導体装置の製造方法
JP2002181725A (ja) * 2000-12-11 2002-06-26 Mitsubishi Electric Corp 微小異物解析方法、分析装置、半導体装置の製造方法および液晶表示装置の製造方法
JP2003142541A (ja) * 2001-10-31 2003-05-16 Shin Etsu Handotai Co Ltd パーティクルの分析方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0758041A (ja) * 1993-08-20 1995-03-03 Toshiba Ceramics Co Ltd サセプタ
JPH07302831A (ja) * 1994-05-10 1995-11-14 Hitachi Ltd 共用試料ホールダ
JP2000331919A (ja) * 1999-05-21 2000-11-30 Sony Corp 基板処理装置及び半導体装置の製造方法
JP2002181725A (ja) * 2000-12-11 2002-06-26 Mitsubishi Electric Corp 微小異物解析方法、分析装置、半導体装置の製造方法および液晶表示装置の製造方法
JP2003142541A (ja) * 2001-10-31 2003-05-16 Shin Etsu Handotai Co Ltd パーティクルの分析方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006310674A (ja) 2006-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8770036B2 (en) Nanomechanical testing system
TWI553770B (zh) 兩基板之對準裝置
US20070108965A1 (en) Planarity diagnostic system, e.g., for microelectronic component test systems
US20100277195A1 (en) Modular Probe System
KR20000068713A (ko) 좌표 측정기의 측정 오차 보정 방법
IL104267A (en) A device that provides a permanent registration of a lead woofer
JP4578315B2 (ja) ウエーハ位置決め用治具及びウエーハ固定用スタンド並びにウエーハ分析方法
KR20170027268A (ko) 시료 홀더 및 시료 홀더군
KR100840732B1 (ko) 시편 제조 장치 및 방법
US20070201023A1 (en) Method for determining crystalline orientation using raman spectroscopy
JP2023011855A (ja) マークフィールドならびにポジションを特定する方法および装置
US6934920B2 (en) Specimen analyzing method
JP3858669B2 (ja) 表面検査用補助治具を用いた同点測定方法
JP2003142541A (ja) パーティクルの分析方法
KR20110016780A (ko) 웨이퍼 샘플링 장치 및 이를 이용한 웨이퍼 샘플링 방법
JP2009177166A (ja) 検査装置
JP2009122017A (ja) ラマン分光分析用冶具
KR100655580B1 (ko) 정전용량 현미경 시편의 제작 방법
KR20040037958A (ko) 커팅 각도 조절 장치 및 이를 이용한 투과 전자현미경분석용 시편 제조방법
JP2001147208A (ja) 試料ホルダおよび分析装置
US9464884B2 (en) Method for determining the position of a rotation axis
CN117616551A (zh) 四点倾斜对准晶片卡盘
JPH0528767Y2 (ja)
JP2003098131A (ja) 試料ホルダー
JPH10123068A (ja) 異物位置の検出方法、異物分析方法、および異物分析装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080220

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100318

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100323

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100430

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100525

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100720

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100811

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100824

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4578315

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250