JP4569818B2 - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
しかし、磁気ストライプ部分に、光輝性粒子と結着樹脂、及び必要に応じて着色顔料とを含有する光輝性塗膜層を適応させた場合、光輝性粒子自身が隠蔽性に劣るため、磁気記録層が元来持つ磁性粉由来の黒色や茶色を完全に隠蔽出来ずに彩度、明度を向上させることが出来ない。また、磁気記録層の色を隠蔽するため、光輝性塗膜層の着色顔料の含有量を増すと、入射光が減衰し易くなり光輝性粒子によるキラキラとした光輝感が失われる。このため光輝性粒子の光輝感を維持しつつ、背景色として任意の色相を用いたり、磁気ストライプの形成部分に係わらずカード全面に一様な光輝感を付与したりすることは困難で、カードに意匠を付与する際の自由度が制限されていた。
しかしながら、この方法においては、雲母を母材とした場合は、キラキラとした光輝感に乏しい上、磁気記録層の隠蔽が十分ではなく背景色に高い彩度を実現できない。また、雲母状酸化鉄を母材とした場合は、母材自身が赤色を呈しているため、赤色系の色相には適応可能であるが、他の色相に適応させることは出来ない。
また、転写用基材上に、転写用基材に近い側から、保護層、着色層、隠蔽層、磁気記録層、接着剤層が積層された転写型磁気テープを用いて、結着樹脂および金属薄膜細片を含有させた隠蔽層の塗膜厚を1μm以下とすることにより、記録再生特性を悪化させることなく磁気記録層の色合いを完全に隠蔽させる事が開示されている(特許文献2)。しかしながら、本引用文献に記載された隠蔽層の構成を用いて、さらにその上に光輝性塗膜層を形成させた場合、黒色または茶褐色の磁気記録層を隠蔽した上で、再生出力を低下させず、磁気ストライプにキラキラとした光輝感を持たせ、しかも背景色の高い明度、彩度及びそれらの広範囲な調整を実現できるか否かは不明であり検討されていなかった。
しかし、本引用文献に記載されたメタリック層は下地層を隠蔽するためにかなりの膜厚を要し、本層構成をそのまま磁気カードに適用したのでは、隠蔽層と光輝性塗膜層の膜厚が厚すぎて、磁気記録層の記録再生特性が大幅に低下することが避けられなかった。
本発明の光輝性粒子を含有する層を、リン片状金属粉末及び/または金属薄膜細片、ならびに結着樹脂を含有する光反射量調整層を介して、磁気カードの磁気記録層上に形成し、前記光輝性塗膜層を形成した領域の波長400〜700nmの入射光における拡散反射光の最大反射率が20〜70%であるようにすることにより、磁気記録層の記録再生特性を大幅に低下させることなく磁気記録層の色調を隠蔽することができ、種々の明度の背景色を背景に入射光の乱反射によるキラキラ感を有する外観を形成することができる。その結果磁気カードの意匠性を大幅に向上させることができる。
光反射量調整層の膜厚、もしくはリン片状金属粉末または金属薄膜細片の含有量を、磁気記録層を完全に隠蔽するのに必要な値より小さい方向へと変化させて形成することにより、前記光反射量調整層の反射率および明度を好適に調整することができ、その結果、その上に光輝性塗膜層を形成した領域の波長400〜700nmの入射光における拡散反射光の最大反射率が20〜70%であるように調整することができる。
本発明の転写用積層体を用いることによって、光輝性塗膜層によって意匠性を付与された磁気カードを、転写工程を経て容易に作製することができる。
また、本発明のカード状磁気記録媒体により、磁気カードとしての特性の点でも磁気記録再生特性が良好で、記録情報の読み出しエラーが発生しないカード状磁気記録媒体を得ることが可能になる。
また本発明の転写用積層体を用いて、これを磁気ストライプの幅に裁断して形成されうる転写型磁気テープは、クレジットカード、銀行カードなど高い意匠性を要求される磁気カードの製造に使用されて、キラキラとした光輝感を有するカードデザインを実現することができる。
まず初めに、本発明の転写用積層体と該積層体によって製造される本発明のカード用磁気記録媒体の一態様の例について図面をもとに詳細に説明する。
図1に示すように、本発明の転写用積層体は、転写用基材1、転写用基材1との剥離性を有し、かつ、カードに転写された後は磁気カードの最表面の層として磁気ストライプを保護する機能も有し、必要に応じて形成されうる保護層2、光輝性塗膜層3、光輝性塗膜層3上に設けられた光反射量調整層4、光反射量調整層4上に設けられた磁気記録層5、磁気記録層5上に必要に応じて設けられた接着剤層6を順次積層して製造される。
本発明のカード用磁気記録媒体は前記転写用積層体によって製造することができる。そのためには、図2に示すように、転写用積層体を裁断して形成した転写型磁気テープの接着剤層とカード基材とを向かい合わせて重ね、加熱、および加圧してカード基材と磁気記録層を含む積層体とを接着せしめ、その後、転写用基材を剥離、除去し、カード基材表面に保護層を最表層として転写用積層体(転写型磁気テープ)の層構成を転写する。その後必要に応じて熱圧プレスを行い、磁気記録層を含む層を図3に示すようにカード基材内に埋め込み、これを所定寸法に打ち抜くことにより磁気カードが完成する。
本発明において転写用基材としては公知慣用のフィルムがいずれも使用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリアミド等のプラスチックフィルムを挙げることができる。中でも抗張力や耐熱性を兼ね備えたポリエチレンテレフタレートが好ましい。また、転写用基材の厚さには特に制限はないが、通常3〜100μm、好ましくは5〜50μmである。
保護層を構成する結着樹脂は必要に応じて選択可能であるが、例えば、セルロース系樹脂、ブチラール樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、あるいは、それにさらにビニルアルコール、無水マレイン酸あるいはアクリル酸などを加えた共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、およびこれらの樹脂の混合物を挙げることができる。
保護層用塗布液に使用する溶剤は必要に応じて選択可能であるが、例えばアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、エタノール等のアルコール類、ヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素類を挙げることができ、これらの溶剤は、2種類以上を混合して使用することもできる。
さらに、保護層中には、必要に応じて、皮膜改質剤として大豆レシチン、マイクロシリカ、あるいはワックス等を添加することができる。また、ポリイソシアネート化合物などの硬化剤を添加して、樹脂バインダー分子間を架橋することは、保護層の耐久性を向上させるために好ましい。
保護層の乾燥塗膜厚は必要に応じて選択できるが、記録再生特性の点では薄いほど好ましい。強度、耐久性等とのバランスを考慮すると、0.1〜5μmが好ましく、0.3〜2μmがさらに好ましい。
前記塗料中にイソシアネート化合物を用いることにより熱硬化することもできる。なお光輝性塗膜層用塗料に使用する溶剤としては、公知慣用の溶剤が使用でき、例えば、既に保護層のところで述べた溶剤等が使用できる。
光輝性粒子がガラスまたは酸化アルミニウムを母材とするフレーク状基体の表面を金属または金属酸化物で被覆してなる粒子であると、母材の平滑性の点で高反射率が得られさらに好ましい。母材がガラスの場合、母材はSiO2 を主成分とし、ZnOやB2 O3 およびその他の成分を若干量含むこともある。
該フレーク状基体の表面を被覆する金属酸化物としては、Fe2 O3、TiO2、SnO2、ZrO2等が用いられる。酸化金属の好ましい被覆量(厚さ)は50〜200Åであって、当該光輝性粒子の得ようとする干渉色により異なる。ガラスを母材とする光輝性粒子には、日本板硝子社製「メタシャイン」シリーズ、酸化アルミニウムを母材とする光輝性粒子には、メルク株式会社製「シラリック」シリーズが有る。
これらを勘案して、光輝性塗膜層の膜厚は必要に応じて選択可能であるが、好ましくは2〜5μm、特には3〜4μmであることが好ましい。このような薄い膜厚で光輝性粒子の十分な乱反射光を得るためには光輝性塗膜層中の光輝性粒子は高濃度で含有されていることが好ましい。光輝性塗膜層用塗料の塗料固形分100重量部に対する光輝性粒子の固形分重量割合(PWC)は20〜45質量%が好ましく、25〜35質量%がさらに好ましい。45質量%を超えて含有されると光輝性塗膜層がもろくなりやすく、塗膜の表面粗さも低下する傾向にある。
リン片状金属粉、金属薄膜細片の金属としては共に、アルミニウム、金、銀、銅、真鍮、チタン、クロム、ニッケル、ニッケルクロム、ステンレス等を使用することができる。
リン片状金属粉の場合はボールミル等でリン片状に展延されて形成されるが、金属薄膜細片を製造する方法としては、アルミニウムのように融点の低い金属の場合は蒸着、アルミニウム、金、銀、銅など展性を有する場合は箔、融点が高く展性も持たない金属の場合は、スパッタリング等で薄膜を形成し、該薄膜より細片を製造する方法を挙げることができる。
これらリン片状金属粉や金属薄膜細片は磁気記録層の隠蔽力が高く、薄い膜厚で磁気記録層の色相を隠蔽することが可能である。
また、リン片状金属粉を使用した光反射量調整層の場合は、金属粉表面に凹凸が存在し、また粒子の膜厚が厚いため粒子が塗膜内に配向しにくく、形成された塗膜の光の反射率が低い。一方、金属薄膜細片を使用した場合は、表面が平滑であり金属薄膜細片が被塗物表面に対して平行方向に高度に配向する結果、従来のリン片状金属粉では得られない高い光反射率が得られる。
本発明においては、必要に応じてリン片状金属粉及び金属薄膜細片のどちらか一方を使用してもよく、また両方を使用してもよい。
光反射量調整層は、結着樹脂、リン片状金属粉及び/または金属薄膜細片、及び溶剤からなる光反射量調整層の形成用塗料を、公知の混練機や分散機を用いて作製し、公知慣用の塗布方式や印刷方式により塗布もしくは印刷することにより形成される。光反射層調整用層の形成用の塗料にはその他に添加剤、硬化剤を含有しても良い。
本発明で使用する光反射量調整層用塗料には、必要に応じて、従来の塗料、グラビアインキ、フレキソインキ、あるいはスクリーンインキ等に使用されている各種添加剤を使用することができる。このような添加剤としては、着色用顔料、染料、ワックス、可塑剤、レベリング剤、界面活性剤、分散剤、消泡剤等、を挙げることができる。
さらに耐熱性、耐溶剤性等の諸耐性向上を目的として、従来の塗料、グラビアインキ、フレキソインキ、あるいはスクリーンインキ等に使用されている各種硬化剤を使用することができる。このような硬化剤としては、チタン・アルミニウム・亜鉛系の金属キレート化剤、シラン・チタン系のカップリング剤、イソシアネート系硬化剤、エポキシ系硬化剤、エチレンイミン系硬化剤等を挙げることができる。
光反射量調整層用塗料に使用する溶剤もまた、従来の塗料、グラビアインキ、フレキソインキ、あるいはスクリーンインキ等に使われている公知慣用の溶剤を使用することができる。具体的には、例えば、保護層のところで述べた溶剤等が挙げられる。
光輝性粒子及び着色顔料を含む光輝性塗膜層に反射率の低い光反射量調整層を組み合わせた場合、光反射量調整層の下にある磁気記録層そのものの光反射率が低いため、磁気ストライプの外観における彩度と明度は低くなる。一方、上記と同一の光輝性塗膜層に反射率の高い光反射調整層を組み合わせた場合、光反射量調整層による光反射量が増加し、磁気ストライプ部分の外観における彩度と明度は高くなる。
さらに光反射量調整層で反射した光は、再度光輝性粒子との間で反射を繰り返すため、光輝性粒子からの反射光量も光反射量調整層の反射率が高い方が多くなる。しかし光反射量調整層の反射率を上げすぎると、背景光が明るくなり
すぎて、光輝性粒子のキラキラ感と背景色との高いコントラストが低下するため光輝感はむしろ減少する。
なお最大反射率は後述の実施例に記載される方法等により測定することができる。また本発明においては、磁気記録層を完全に隠蔽したかどうかの具体的な判断は、例えば磁気記録層の上に光反射量調整層を設けたときと、磁気記録層の無いカード用基材部分に設けたときとで、明度、彩度、色相の差の無いことを色差計で測定することにより判断することができる。また本発明では、光反射量調整層の膜厚や金属粉末及び/または薄膜細片の含有量を磁気記録層を完全に隠蔽するのに必要な値より小さい方向へと変化させることが好ましいが、上記のように変化させた層と光輝性塗膜層とを組み合わせて使用することにより、高輝度のキラキラ感を維持しつつ広い範囲で背景色の明度を調整することが可能となる。
また、光反射量調整層の塗膜厚みは必要に応じて選択できる。しかしながら、本発明における磁気記録層よりカード表面側に存在する、光揮性塗膜層と光反射量調整層を含む全ての層(磁気記録層は含まれない)の膜厚合計が好ましくは6μmを超えないように設計することが、磁気カードとしての良好な磁気記録再生特性を達成し、記録読み出し時のエラーを無くすために肝要である。さらに、本発明の光輝性塗膜層の膜厚が厚い方が良好な光輝感を得られることから、光反射量調整層の膜厚は出来るだけ薄いことが好ましく、光輝性塗膜層その他の膜厚を勘案すると、0.1μm以上が好ましく、2μm以下であることが好ましい。
また光反射量調整層を用いずに、磁気記録層の色相の隠蔽を酸化チタン等の白色顔料を用いた隠蔽層で行うと、隠蔽層の膜厚を厚くする必要があるため、再生出力、分解能の低下を招きやすい。また隠蔽層自体の反射率が低いため、光輝性粒子のキラキラ感を増す効果も小さい。
このような場合、背景色の調整を着色顔料の濃度や色相で行おうとすると、光輝性塗膜層による入射光の吸収率が変化するため、光輝性粒子による光輝感が大きく影響を受け、キラキラ感が減殺される場合もある。
リン片状金属粉末及び/または金属薄膜細片を含有する、本発明で用いる光反射量調整層は、通常の隠蔽層のように金属蒸着によって形成される膜に比べて光沢は出にくい傾向がある。光沢値が高すぎると光輝性粒子の光輝感が減殺される傾向があるため、この点でもリン片状金属粉末及び金属薄膜細片を用いる方が好ましい。
磁性粉末としては、γ−酸化鉄、マグネタイト、コバルト被着酸化鉄、2酸化クロム、鉄系メタル磁性粉、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト等の公知の磁性粉末を用いることができ、保磁力が20〜320kA/mの範囲のものが好ましい。
磁気記録層に用いる結着樹脂としては、公知慣用の結着樹脂が使用でき、例えば一般的に、光輝性塗膜層のところで述べた結着樹脂等を使用することができる。また、イソシアネート化合物を用いて熱硬化することもできる。また、磁気記録層用塗料に用いる溶剤としては、例えば一般的に保護層のところで述べた溶剤等を使用することができる。
磁気記録層の乾燥膜厚は必要に応じて選択できるが、好ましくは2〜50μmの範囲であり、さらに好ましくは5〜20μmの範囲である。
磁性塗料には、必要に応じて界面活性剤、シランカップリング剤、可塑剤、ワックス、シリコーンオイル等の助剤類、さらにはカーボンブラックその他のフィラー類を添加することもできる。
磁気記録層用塗料の塗布においては、特に制限はなく、公知慣用の塗布方式を使用して良い。磁気塗料を所定量塗布後、磁性粉末の磁化容易方向が磁気記録層の塗布長手方向になるように配向処理を行って乾燥を行う。塗布方式としては、例えばグラビア方式、リバース方式、トランスファロールコーター方式、キスコーター方式、ダイコーター方式等が使用できる。
また、上記塗布方式により塗布後は、塗膜が乾燥しないうちに磁場配向処理を行うことが記録再生特性の点で好ましい。磁場配向方法は、公知の方式、例えば反発対向永久磁石、ソレノイド型電磁石等を用いることができる。磁場強度としては1000〜6000Gの範囲が好ましい
感熱接着性を示す樹脂としては、例えば、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体、あるいは、上記にさらにビニルアルコール、無水マレイン酸あるいはアクリル酸などを加えた共重合体等の塩化ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂等を挙げることができる。また、接着剤層に用いる溶剤としては、例えば保護層のところで述べた溶剤を使用することができる。
接着剤層の膜厚は必要に応じて選択できるが、0.5〜15μmが好ましく、特に0.5〜5μmが好ましい。
このように、各層が実際のカード状磁気記録媒体とは逆の順番で転写用基材上に積層されて、転写用積層体が作製される。転写用基材が透明な場合は転写用基材側からカード用基体に実際に転写されたときの図柄を確認することができる。したがって透明な転写用基材側から図柄を確認したときに、前記光輝性塗膜層を形成した領域の波長400〜700nmの入射光における拡散反射光の最大反射率が20〜70%の範囲となるように転写用積層体を作製することが可能である。なお拡散反射光の最大反射率は25〜65%の範囲であるとより好ましく、30〜60%の範囲であるとさらに好ましい。以上、カード用基体に各層を転写工程を経て形成する場合の製造方法について詳細に記載した。なお本発明のカード状磁気記録媒体の製造においては、上述した各層を塗布工程によって製造することもできる。また、幾つかの層を転写工程で形成しその他の層を塗布工程を用いて形成してもよい。
実施例、比較例には以下に示す転写用基材および各塗料を使用する。
・保護層用塗料
ポリビニルブチラール樹脂 10部
(積水化学社製『エスレックBM−1』)
MEK 35部
トルエン 35部
エタノール 20部
ポリイソシアネート 4部
(大日本インキ化学工業社製『ハードナーNo.50(有効成分:50%)』)
上記の材料のうち、ポリイソシアネートを除く全てを、ディスパーにて攪拌し充分に溶解させた後に上記のポリイソシアネートを添加し、更にディスパーにて攪拌均一化を行い、保護層用塗料を作製した。
光輝性粒子 10部
(日本板硝子社製『メタシャインME2025PS』)
着色顔料A(イエロー色:イソインドリンイエロー) 2部
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 16部
(ユニオンカーバイド社製『VAGH』)
ポリウレタン樹脂 4部
(大日本インキ化学工業社製『TS−03』)
メチルエチルケトン 65部
トルエン 65部
シクロヘキサノン 15部
ポリイソシアネート 3部
(大日本インキ化学工業社製『ハードナーNo.50(有効成分:50%)』)
上記の材料のうち、光輝性粒子とポリイソシアネートを除く全てを、ディスパーにて攪拌し充分に溶解させた後に上記の光輝性粒子を添加し、更にディスパーにて攪拌均一化後、上記のポリイソシアネートを添加し、更にディスパーにて攪拌均一化を行い、光輝性塗膜層用塗料〔A〕を作製した。
光輝性塗膜層用塗料〔A〕の着色顔料A(イエロー色:イソインドリンイエロー)を着色顔料B(ブルー色:フタロシアニンブルー)にかえた以外は光輝性塗膜層用塗料〔A〕と同様にして光輝性塗膜層用塗料〔B〕を作製した。
光輝性塗膜層用塗料〔A〕の着色顔料A(イエロー色:イソインドリンイエロー)を着色顔料C(グリーン色:フタロシアニングリーン)にかえた以外は光輝性塗膜層用塗料〔A〕と同様にして光輝性塗膜層用塗料〔C〕を作製した。
光輝性塗膜層用塗料〔A〕の着色顔料A(イエロー色:イソインドリンイエロー)を着色顔料D(レッド色:ペリレンレッド)にかえた以外は光輝性塗膜層用塗料〔A〕と同様にして光輝性塗膜層用塗料〔D〕を作製した。
パール調光沢性粒子 10部
(メルク社製『Iriodin153』雲母型酸化鉄母材を酸化チタンで被覆したパール調顔料)
着色顔料A(イエロー色:イソインドリンイエロー) 2部
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 16部
(ユニオンカーバイド社製『VAGH』)
ポリウレタン樹脂 4部
(大日本インキ化学工業社製『TS−03』)
メチルエチルケトン 65部
トルエン 65部
シクロヘキサノン 15部
ポリイソシアネート 3部
(大日本インキ化学工業社製『ハードナーNo.50(有効成分:50%)』)
上記の材料を用い、光輝性塗膜層用塗料〔A〕と同様にして、パール調光沢塗膜層用塗料〔E〕を作製した。
パール調光沢塗膜層用塗料〔E〕の着色顔料A(イエロー色:イソインドリンイエロー)を着色顔料B(ブルー色:フタロシアニンブルー)にかえた以外はパール調光沢塗膜層用塗料〔E〕と同様にして光輝性塗膜層用塗料〔F〕を作製した。
パール調光沢塗膜層用塗料〔E〕の着色顔料A(イエロー色:イソインドリンイエロー)を着色顔料C(グリーン色:フタロシアニングリーン)にかえた以外はパール調光沢用塗料〔E〕と同様にして光輝性塗膜層用塗料〔G〕を作製した。
パール調光沢塗膜層用塗料〔E〕の着色顔料A(イエロー色:イソインドリンイエロー)を着色顔料D(レッド色:ペリレンレッド)にかえた以外はパール調光沢塗膜層用塗料〔E〕と同様にして光輝性塗膜層用塗料〔H〕を作製した。
パール調光沢性粒子 12部
(チタン工業社製『酸化鉄パール顔料AM−200』)
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 16部
(ユニオンカーバイド社製『VAGH』)
ポリウレタン樹脂 4部
(大日本インキ化学工業社製『TS−03』)
メチルエチルケトン 65部
トルエン 65部
シクロヘキサノン 15部
ポリイソシアネート 3部
(大日本インキ化学工業社製『ハードナーNo.50(有効成分:50%)』)
上記の材料を用い、光輝性塗膜層用塗料〔A〕と同様にして、パール調光沢塗膜層用塗料〔I〕を作製した。
パール調光沢性粒子 10部
(チタン工業社製『酸化鉄パール顔料AM−200』)
着色顔料B(ブルー色:フタロシアニンブルー) 2部
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 16部
(ユニオンカーバイド社製『VAGH』)
ポリウレタン樹脂 4部
(大日本インキ化学工業社製『TS−03』)
メチルエチルケトン 65部
トルエン 65部
シクロヘキサノン 15部
ポリイソシアネート 3部
(大日本インキ化学工業社製『ハードナーNo.50(有効成分:50%)』)
上記の材料を用い、光輝性塗膜層用塗料〔A〕と同様にして、パール調光沢塗膜層用塗料〔J〕を作製した。
リン片状金属粉:アルミニウム粉末 10部
(昭和アルミパウダー社製『210EA』)
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 20部
(ユニオンカーバイド社製『VAGH』)
ポリウレタン樹脂 5部
(大日本インキ化学工業社製『TS−03』)
メチルエチルケトン 75部
トルエン 75部
シクロヘキサノン 17部
ポリイソシアネート 15部
(大日本インキ化学工業社製『ハードナーNo.50(有効成分:50%)』)
上記の材料のうち、リン片状金属粉とポリイソシアネートを除く全てを、ディスパーにて攪拌し充分に溶解させた後に上記のリン片状金属粉を添加し、更にディスパーにて攪拌均一化後、上記のポリイソシアネートを添加し、更にディスパーにて攪拌均一化を行い、光反射量調整層用塗料〔A〕を作製した。
金属薄膜細片:蒸着アルミニウムフレーク顔料 10部
(東洋アルミニウム社製『Metasheen Slury KM−100』)
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 40部
(ユニオンカーバイド社製『VAGH』)
ポリウレタン樹脂 10部
(大日本インキ化学工業社製『TS−03』)
メチルエチルケトン 218部
トルエン 218部
シクロヘキサノン 49部
ポリイソシアネート 30部
(大日本インキ化学工業社製『ハードナーNo.50(有効成分:50%)』)
上記の材料を用い、光反射量調整層用塗料〔A〕と同様にして、光反射量調整層用塗料〔B〕を作製した。
金属薄膜細片:蒸着アルミニウムフレーク顔料 20部
(東洋アルミニウム社製『Metasheen Slury KM−100』)
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 40部
(ユニオンカーバイド社製『VAGH』)
ポリウレタン樹脂 10部
(大日本インキ化学工業社製『TS−03』)
メチルエチルケトン 218部
トルエン 218部
シクロヘキサノン 49部
ポリイソシアネート 30部
(大日本インキ化学工業社製『ハードナーNo.50(有効成分:50%)』)
上記の材料を用い、光反射量調整層用塗料〔A〕と同様にして、光反射量調整層用塗料〔C〕を作製した。
バリウムフェライト磁性粉 100部
(戸田工業社製『MC−127』;保磁力 220kA/m)
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 15部
(日本ゼオン社製『MR−110』)
ポリウレタン樹脂 10部
(大日本インキ化学工業社製『L7−750』)
MEK 50部
トルエン 50部
シクロヘキサノン 25部
ポリイソシアネート 10部
(大日本インキ化学工業社製『ハードナーNo.50(有効成分:50%)』)
上記材料を用い、特開平9−59541号公報に示す方法により磁気記録層用塗料を作製した。
ポリウレタン樹脂 1部
(大日本インキ化学工業社製『TS−03』)
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 4部
(日信化学社製『ソルバインC5』)
MEK 45部
トルエン 50部
上記の材料をディスパーにて攪拌し充分に溶解させ均一化を行い、接着剤層用塗料を作製した。
転写用基材として、厚さ24μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、このフィルムの片面上に上記の保護層用塗料、光輝性塗膜層用塗料〔A〕、光反射量調整層用塗料〔A〕、磁気記録層用塗料、および接着剤塗料をこの順に、いずれもリバースコーターを使用して塗布、乾燥し、それぞれ保護層、光輝性塗膜層、光反射量調整層、磁気記録層、および接着剤層を設けた。各層の乾燥後の膜厚は、保護層が1μm、光輝性塗膜層が3μm、光反射量調整層が0.3μm、磁気記録層が9μm、そして接着剤層が1.5μmとなるようにした。上記各層を設けたフィルムを1/2インチ幅に裁断して転写用積層体を作製した。
上記のように作製した転写用積層体(転写型磁気テープ)を使用し、カード作成機(インターライン社製『LX−EM4』)によりポリ塩化ビニル製のカード基体(太平化学社製)に積層物を転写した後、転写用基材を除去し、140℃、0.13MPaの条件下で熱プレス加工し、その後、カード状に打ち抜いてカード状磁気記録媒体を作製した。
以下表1の配合を用いた以外は実施例1と同様にして実施例2〜実施例25、及び比較例1〜比較例11の転写用積層体を作製し、カード基体に転写後、熱プレスしてカード状磁気記録媒体を作製した。
(彩度)
得られた磁気カードの磁気ストライプ部分について、日本電色工業社製『測色色差計SZ−Σ80』を用い、明度(L)、色度{a*、b*}を測定し、彩度C*=√(a*2+b*2)を求める。なお明度の値が大きいほど明るく、また彩度の値が大きいほど鮮やかな色であることを示す。
得られた磁気カードの磁気ストライプ部分、すなわち光輝性塗膜層を有する領域、について、島津製作所社製『島津自記分光光時計UV−3100』を用い積分球法により、波長400nm〜700nmの可視光範囲の入射光における拡散反射率を各波長で測定し、測定範囲における最大反射率を求める。
得られた磁気カードの磁気ストライプ部分の光輝性および色相を目視で評価した。光揮性については外観上のキラキラ感から判断し、色相については光反射量調整層が無い条件のときの色相を×として、彩度向上効果の認められたものを○とした。
光輝性について:○..高輝度の光輝性有り、△..光輝性の輝度が不十分、 ×..光輝性なし
色相について:○..彩度向上顕著、△..彩度向上小さい、×..彩度向上認められず
得られた磁気カードについてISO/IEC7811−6に準拠し、BARNES社製MAGTESTER2000を用いて、その記録再生特性の測定を行った。なお、この磁気カードサンプルを作成するために使用した転写型磁気テープに関しては、磁気記録層、磁気記録層以外の非磁性層の膜厚は単一ではない為、それぞれの測定は、再生出力値が標準出力サンプルの再生出力値と同じになるように磁気記録層の膜厚を調整した試料を作製し測定を行った。
○...90%以上、×...90%未満
一方、比較例1〜4は、本発明における磁気層と光輝性塗膜層の間の光反射量調整層を塗布しないため、彩度が低く磁気ストライプ外観の色相が不十分である。
また、比較例5〜8は、本発明の光輝性塗膜層に用いた光輝性粒子を雲母母材に酸化チタンを被覆した真珠光沢を呈するパール調光沢性粒子(パール調顔料)に置き換えたため、本発明の目的とするところのキラキラとした光輝感を得ることが出来ない。
また、比較例9は、本発明の光輝性塗膜層に用いた光輝性粒子と着色顔料をMIO(雲母形状酸化鉄)母材に酸化チタンを被覆したパール調光沢性粒子(酸化鉄パール調顔料)に置き換え、磁気層と光輝性塗膜層の間の光反射量調整層を塗布しないため、高い彩度が得られない。
表1からわかるように、光反所領調整層の膜厚を変化させることにより、光輝性粒子を含有する光輝性塗膜層の彩度と明度(拡散反射率)を好適に調整することができる。
特に彩度の調整は、光反射率調整層の反射率や、隠蔽度を変化させることにより、色相を変化させずに行うことが可能あって、顔料と組み合わせて背景色の色相を調整するときに極めて調整が容易である。
2 保護層
3 光輝性塗膜層
4 光反射量調整層
5 磁気記録層
6 接着剤層
7 カード基材
Claims (12)
- 非磁性支持体上の少なくとも一部に磁気記録層を含む層を積層したカード状磁気記録媒体であって、前記磁気記録層上には、リン片状金属粉末及び金属薄膜細片の少なくとも1つ、ならびに結着樹脂を含んだ膜厚2μm以下の光反射量調整層を有し、さらにその上に、光輝性粒子を含有する光輝性塗膜層を有し、前記光反射量調整層の光反射量の調整は、光反射量調整層の膜厚と、光反射量調整層用塗料の塗料固形分に対するリン片状金属粉末及び/または金属薄膜細片の固形分重量割合を調整して行われ、前記光輝性塗膜層を有する領域の波長400〜700nmの入射光における拡散反射光の最大反射率が20〜70%であることを特徴とするカード状磁気記録媒体。
- 前記光輝性塗膜層を形成した領域の波長400〜700nmの入射光における拡散反射光の反射率が30〜60%である請求項1に記載のカード状磁気記録媒体。
- 前記光反射量調整層用塗料の塗料固形分に対する、前記リン片状金属粉末及び/または金属薄膜細片の固形分質量割合は10〜50質量%である請求項1または2に記載のカード状磁気記録媒体。
- 前記光輝性粒子は、フレーク状基体を金属または金属酸化物で被覆してなる光輝性粒子である請求項1〜3のいずれか1項に記載のカード状磁気記録媒体。
- 前記フレーク状基体がガラスまたは酸化アルミニウムである請求項4記載のカード状磁気記録媒体。
- 前記光反射量調整層と前記光輝性塗膜層を含む磁気記録層上の全ての層の合計膜厚が6μm以下である請求項1〜3のいずれか1項に記載のカード状磁気記録媒体。
- 前記光輝性塗膜層に着色顔料を含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のカード状磁気記録媒体。
- 非磁性支持体上の少なくとも一部に形成された磁気記録層上に、背景色と該背景色中に一様分布する輝点とを有する図柄を形成するカード状磁気記録媒体の製造方法であって、
前記磁気記録層上に、リン片状金属粉末及び金属薄膜細片の少なくとも1つ、ならびに結着樹脂を含んだ膜厚2μm以下の光反射量調整層と、結着樹脂及び光輝性粒子を含有する光輝性塗膜層とをこの順に形成し、
かつ、前記光反射量調整層の膜厚、並びにリン片状金属粉末及び/又は金属薄膜細片の含有量の少なくとも1つを、前記磁気記録層を完全に隠蔽するのに必要な値より小さい方向へと変化させて、前記背景色の明度及び彩度を調整し、カード状磁気記録媒体の光輝性塗膜層を有する領域の波長400〜700nmの入射光における拡散反射光の最大反射率を20〜70%にすることを特徴とするカード状磁気記録媒体の製造方法。 - 前記光反射量調整層の膜厚及びリン片状金属粉末及び/又は金属薄膜細片の含有量の少なくとも一つを、前記磁気記録層を完全に隠蔽するのに必要な値より小さい方向へと変化させた、請求項1〜3のいずれか1項に記載のカード状磁気記録媒体。
- 前記光輝性塗膜層の膜厚が2〜5μmである、請求項1〜3のいずれか1項に記載のカード状磁気記録媒体。
- 前記光輝性塗膜層用塗料の塗料固形分100重量部に対する光輝性粒子の固形分重量割合が20〜45質量%である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のカード状磁気記録媒体。
- 前記背景色の明度及び彩度の調整は、光反射量調整層の膜厚と、光反射量調整層用塗料の塗料固形分に対するリン片状金属粉末及び/または金属薄膜細片の固形分重量割合を調整して行われる請求項8に記載のカード状磁気記録媒体の製造方法。
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