JP4563847B2 - 基板検査装置 - Google Patents

Description

この発明は、被検査基板の欠陥検査を行う基板検査装置に関するものである。

レーザ光源からのレーザ光をガラス基板の表面に対してＸ方向に走査し、ガラス基板表面からの散乱光を受光素子で受光すると共に、ガラス基板を載置したスライダーをレーザ光の走査方向と直交するＹ方向に移動させ、ガラス基板の表面全体に対して異物の検査を行う基板検査装置が知られている（例えば、特許文献１参照。）。

このスライダーの移動方向の一端には、基準指標板（基準基板）が設けられており、この基準指標板の表面には、異物の標準的な大きさと同程度でレーザ光のスポット径よりも小さい円形物質が形成されている。ガラス基板を検査する際には、予め基準指標板の表面から発生する散乱光を受光素子で取得し、その散乱光に応じた光量情報を記憶する。
この光量情報に基づいて、結像光学系の特性変化によるレーザスポット光のビーム幅変動、受光素子の感度変動、電気回路の経時変化等に起因する異物検出感度の変化を検出し、この異物検出感度が常に一定となるように、受光素子の受光感度を調整している。
特公平５−１１２５７号公報（第１図）

ところで、フラットパネルディスプレイ（以下、ＦＰＤと省略する）の画面は年々大型化する傾向にあり、ＦＰＤに使用するガラス基板のサイズも大きくなっているため、大型の基準指標板が撓むなどして精度の高い基準画像データを得ることができないという問題があった。
また、大型の基準指標板の製造は困難であり、製造コストも高くなるという問題があった。
この発明は上述した事情に鑑みてなされたものであって、基板の欠陥を検出する基板検査装置において、精度の高い基準画像データを取得でき、基準基板の製造を容易に行うことができる基板検査装置を提供することを目的としている。

上記目的を達成するために、この発明は、以下の手段を提供する。
本発明は、表面にパターンを形成した基板を水平状態に支持するステージ部と、前記基板を前記ステージ部の表面に沿って一方向に搬送する搬送機構と、前記搬送方向に直交する略直線状の照射光を前記基板の表面の照射領域に照射するライン照明ユニットと、前記照射領域からの反射光を受光して撮像するカメラユニットと、前記照射領域に対してその長手方向に移動可能な基準ユニットと、該基準ユニットに設けられ、前記照射領域を通過する表面に基準パターンを形成したキャリブレーション用の基準基板とを備えることを特徴とする基板検査装置を提供する。

この基板検査装置において、照射領域を通過する基板表面のパターンをカメラユニットにより撮像した検査画像データからライン照明ユニットの照明むら、カメラユニットの受光むら等のノイズを除去する基準画像データを取得する際には、基準ユニットを照射領域の長手方向に移動させながら、カメラユニットが基準基板の表面の基準パターンにおいて反射する反射光を撮像する。

本発明の基板搬送装置によれば、基準画像データを取得する際には、基準ユニットを移動させるため、撮像領域の長手方向に沿う基準基板の長さ寸法を基板の長さ寸法よりも小さく形成することができる。したがって、基準基板を容易に製造できると共に、その製造コストの削減を図ることができる。そして、基準基板の表面を精度の高い水平度に保持できるため、精度の高い基準画像データを得ることが可能となり、基板の欠陥を正確に検出することができる。

図１から図７は本発明に係る一実施形態を示しており、ここで説明する実施の形態は、この発明を大型の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のＦＰＤに使用されるガラス基板の欠陥検査に適用した場合のものである。図１〜３に示すように、基板検査装置１は、ベース３と、浮上ステージ部５と、搬送機構７と、検査部９とを備えている。
浮上ステージ部５は、ベース３上に設けられ、その表面５ａ側に透明なガラス基板Ｔを配するものである。ガラス基板Ｔの移動方向（ＡＢ方向）に直交する浮上ステージ部５の幅方向（ＣＤ方向）の寸法は、ガラス基板Ｔの幅寸法よりも短くなっている。この浮上ステージ部５の表面５ａには、エアー吹き上げ用の複数の空気孔１１が規則的に形成されている。これら空気孔１１から一定の圧力のエアーを吹き出すことにより、浮上ステージ部５とガラス基板Ｔとの間にはエアー層が形成され、ガラス基板Ｔが浮上ステージ部５の表面５ａから浮上し、略水平状態に支持される。

この浮上ステージ部５には、その中途部にガラス基板Ｔを高精度で水平に支持する精密エアー浮上ブロック（ステージ部）６がＣＤ方向にわたって配置されている。この精密エアー浮上ブロック６の表面６ａは、浮上ステージ部５の表面５ａと略同一平面を形成している。また、この精密エアー浮上ブロック６の表面６ａには、空気孔１４が規則的に形成されている。
この精密エアー浮上ブロック６は、ガラス基板Ｔを搬送する浮上ステージ部５に比べて、ガラス基板Ｔを高精度で水平状態に支持する機能を備えている。すなわち、この精密エアー浮上ブロック６では、例えば、空気孔１４の一部からエアーを吸引することによりガラス基板Ｔを水平に支持することができ、又は、各空気孔１４から吹き出すエアーの圧力を高精度制御してガラス基板Ｔを水平に支持することができる。

搬送機構７は、ベース３の両側面３ａ，３ｂのそれぞれに設けられたガイドレール１５，１７と、各ガイドレール１５，１７に設けられた吸着搬送ユニット１９，２１とを備えており、ガイドレール１５，１７は、ベース３の長手方向に延びて形成されている。これら一対の吸着搬送ユニット１９，２１は、リニアモータ等の駆動源により互いに同期してガイドレール１５，１７の形成方向（ＡＢ方向）に移動可能となっている。
また、各吸着搬送ユニット１９，２１は、浮上ステージ部５の両側面から突出するガラス基板Ｔの裏面の両端部をそれぞれ複数の吸着パッド１９ａ，２１ａで吸着保持するように構成されており、これにより、ガラス基板ＴをＡＢ方向に移動させることができる。なお、これら吸着搬送ユニット１９，２１は、後述する検査部９においてガラス基板Ｔの表面Ｔａをスキャンする速度に同期して移動するようになっている。

検査部９は、浮上ステージ部５の上方に配されており、ライン照明ユニット２３とカメラユニット２４とを備えている。
ライン照明ユニット２３は、ＣＤ方向に延びる直線状の照射光を精密エアー浮上ブロック６の表面６ａの照射領域（以下、検査領域とも呼ぶ）に照射するものであり、その光軸をガラス基板Ｔの表面Ｔａ（検査領域）に対して所定の傾斜角度θ１に傾けるように配置されている。このライン照明ユニット２３は、図示しない回転機構により、前述の検査領域の位置をずらすことなく、ガラス基板Ｔの表面Ｔａに対する照射光の傾斜角度θ１を所定の範囲内で調整可能となっている。

カメラユニット２４は、その光軸をガラス基板Ｔの表面Ｔａに対して所定の傾斜角度θ２に傾けるように配置されており、ラインセンサカメラ２５と結像レンズ２６とを備えている。ラインセンサカメラ２５は、前述したライン状の照射光がガラス基板Ｔの表面Ｔａにおいて反射した反射光を受光して画像データに変換するものである。このカメラユニット２４は、図示しない回転機構により、前述の検査領域の位置をずらすことなく、ガラス基板Ｔの表面Ｔａ（検査領域）に対する光軸の傾斜角度θ２を所定の範囲内で調整可能となっている。

なお、反射光は回折光や干渉光を示しており、ライン照明ユニット２３やカメラユニット２４の傾斜角度θ１，θ２を適宜調整することにより、ラインセンサカメラ２５において回折光や干渉光の画像データを得ることができる。また、これらの回折光や干渉光は、ライン照明ユニット２３及びカメラユニット２４の一方を回転させることにより得ることができるため、ライン照明ユニット２３及びカメラユニット２４の他方を回転不能に固定してもよい。すなわち、例えば、光路長の長いライン照明ユニット２３を固定し、カメラユニット２４を回転させて傾斜角度θ２を調整するようにしてもよい。

精密エアー浮上ブロック６の表面６ａの検査領域には、精密エアー浮上ブロック６の幅方向（ＣＤ方向）にわたって、内部が暗色、例えば黒色にコーティングされたライン状の検査用溝１３が形成されている。この検査用溝１３には、基準ユニット２７が設けられている。基準ユニット２７は、図４〜６に示すように、リニアガイド３０と可動テーブル３２とからなるリニアモータ３４等の駆動手段によって、精密エアー浮上ブロック６に対してＣＤ方向に移動可能となっている。この基準ユニット２７は、円柱状の中空部を形成したハウジング２９と、ハウジング２９の内部に設けられた円柱状の回転部材３１と、回転部材３１の周面３１ａに配される基準基板３３とを備えている。
ハウジング２９は、精密エアー浮上ブロック６の検査用溝１３に配置された状態において、その表面２９ａが精密エアー浮上ブロック６の表面６ａと同一平面を形成するように、若しくは、同表面６ａよりも若干下に位置するように構成されている。このハウジング２９の表面２９ａには、回転部材３１の周面３１ａの一部を精密エアー浮上ブロック６の表面６ａ側に露出させる開口部２９ｂが形成されている。

回転部材３１は、ボールベアリング等の一対の軸受２９ｄを介し、ハウジング２９の一対の側壁２９ｃに対してＣＤ方向に延びる軸線Ｌ１を中心に回転可能に支持されている。回転部材３１の周面３１ａには、基準基板取付部３５を介して、キャリブレーション用の基準基板（サンプル基板）３３が１つ若しくは複数取り付けられている。
すなわち、基準基板取付部３５には、平面視略矩形状の凹部３５ａが形成されており、この凹部３５ａにキャリブレーション用の基準基板３３を着脱自在に固定できるようになっている。ＡＢ方向に沿う基準基板取付部３５の凹部３５ａの幅寸法は、開口部２９ｂの幅寸法よりも狭くなっており、凹部３５ａが精密エアー浮上ブロック６の表面６ａ側に露出するよう設定されている。

したがって、この基準基板取付部３５を精密エアー浮上ブロック６の表面６ａ側に露出させた状態においては、基準基板３３が精密エアー浮上ブロック６の表面６ａ側に露出すると共に、同表面６ａから突出することになる。また、回転部材３１を回転させて凹部３５ａを精密エアー浮上ブロック６の表面６ａ側に露出させることにより、基準基板３３を基準基板取付部３５に対して着脱することができる。
なお、基準基板３３の高さ寸法及び凹部３５ａの深さ寸法は、この基準基板３３の表面３３ａが精密エアー浮上ブロック６上に浮上させたガラス基板Ｔの表面Ｔａと同じ高さに位置するように設定することが好ましい。また、凹部３５ａは、基準基板３３を透過した照射光がラインセンサカメラ２５に向けて反射しないように、暗色、例えば黒色にコーティングされ、かつ、ラインセンサカメラ２５の焦点深度よりも深い寸法に設定することが好ましい。

基準基板３３は、検査を行うガラス基板Ｔと同様の透過性を有する材質からなり、略直方体に形成されている。ＣＤ方向に沿う基準基板３３の長さ寸法は、ガラス基板Ｔの幅寸法と比較して非常に小さくでき、例えば、１５００ｍｍというガラス基板Ｔの幅寸法に対して基準基板３３の長さ寸法は４５ｍｍとなっている。そして、精密エアー浮上ブロック６の表面６ａ側に露出する基準基板３３の表面３３ａには、ガラス基板Ｔと同様のパターンが形成されている。
すなわち、基準基板３３の表面３３ａには、例えば、図７に示すように、反射率の異なる複数の背景領域Ｑ１〜Ｑ３が並べて形成されている。これら複数の背景領域Ｑ１〜Ｑ３は、その全体が照射光の照射領域に含まれる大きさとなっている。各背景領域Ｑ１〜Ｑ３には、背景領域Ｑ２と同様の反射率を有する基準パターンＰ１や、各背景領域Ｑ１〜Ｑ３と反射率の異なるラインを形成した基準パターンＰ２〜Ｐ６が形成されている。これら基準パターンＰ１〜Ｐ６のラインは、様々な太さや間隔を有している。なお、この基準基板３３の表面３３ａには欠陥を含んだ基準パターン（図示せず）も形成されている。

次に、上記のように構成された基板検査装置１の動作について説明する。
ガラス基板Ｔの検査を行う際には、予め基準基板３３の表面３３ａの画像データ（以下、基準画像データと呼ぶ）を取得しておく。すなわち、はじめに、基準ユニット２７の回転部材３１を軸線Ｌ１回りに回転させて所望の基準基板３３をハウジング２９の開口部２９ｂから外方に露出させる。次いで、ライン照明ユニット２３から検査領域に照射光を入射し、基準基板３３の表面３３ａからの反射光をラインセンサカメラ２５に入射する。また、この際には、基準ユニット２７を精密エアー浮上ブロック６の検査用溝１３内に沿ってＣＤ方向に移動させて、検査領域全体に基準基板３３の表面３３ａを通過させる。これにより、検査領域全体について基準基板３３のパターンＰ１〜Ｐ６を撮像した基準画像データを取得できる。

この基準画像データには、ライン照明ユニット２３による照明むら、ラインセンサカメラ２５における受光むら、検査領域の表面に塗布された黒色塗料の塗装むら等のノイズが含まれている。この基準画像データは、後述する検査画像データから上記ノイズを除去するためのキャリブレーションデータとなる。
基準画像データの取得が終了した後には、回転部材３１を軸線Ｌ１回りに回転させて基準基板３３をハウジング２９内部に格納し、基準ユニット２７を精密エアー浮上ブロック６の検査用溝１３内に沿って移動させ、ガラス基板Ｔよりも外側の退避位置まで戻す。

そして、ガラス基板Ｔの表面Ｔａに形成されたパターンの検査を以下のように行う。
はじめに、図示しない搬入用ロボット等によりガラス基板Ｔを浮上ステージ部５の表面５ａに載置する。次いで、浮上ステージ部５及び精密エアー浮上ブロック６の空気孔１１，１４から一定圧力のエアーを吹き出させてガラス基板Ｔを浮上させる。また、ガラス基板Ｔを浮上させて位置決めした後に、吸着搬送ユニット１９，２１を上昇させてガラス基板Ｔの裏面の両端部に吸着させる。
その後、吸着搬送ユニット１９，２１をガイドレール１５，１７に沿ってＡ方向に一定速度で移動させる。これにより、ガラス基板Ｔは、浮上ステージ部５及び精密エアー浮上ブロック６の表面５ａ，６ａに接触しない状態で、吸着搬送ユニット１９，２１により浮上ステージ部５及び精密エアー浮上ブロック６上をＡ方向に移動し、検査領域を通過することになる。

そして、この検査領域においてガラス基板Ｔの表面Ｔａの画像データ（以下、検査画像データと呼ぶ）を取得する。すなわち、Ａ方向に移動するガラス基板Ｔの表面Ｔａにライン照明ユニット２３の照射光を照射し、ガラス基板Ｔからの反射光をラインセンサカメラ２５に入射する。この際には、この照射光の一部がガラス基板Ｔを透過して精密エアー浮上ブロック６の表面６ａに設けられた検査用溝１３に入射するため、照射光が精密エアー浮上ブロック６の表面６ａにおいて反射することがない。
したがって、ガラス基板Ｔの表面からの反射光のみがラインセンサカメラ２５に入射され、ラインセンサカメラ２５では、ガラス基板Ｔの表面Ｔａの検査画像データのみを取得することができる。

そして、ガラス基板ＴをＡ方向に一定速度で移動させ、ガラス基板Ｔの表面Ｔａ全体に対してライン状の照射光の照射が終了すると、ガラス基板Ｔの表面Ｔａ全体の検査画像データが得られる。この検査画像データには、ガラス基板Ｔの表面Ｔａに形成されたパターン、及びこのパターンの乱れ、傷、塵埃等の欠陥に加えて、ライン照明ユニット２３の照明むら、ラインセンサカメラ２５の受光むら、検査領域の周辺に位置する精密エアー浮上ブロック６の表面６ａの塗装むら等のノイズが含まれている。
そこで、この検査画像データには、前述したキャリブレーションデータに基づいて照明むら、受光むら、塗装むら等のノイズを除去する画像処理が施される。この画像処理によって検査画像データは、ガラス基板Ｔの表面Ｔａに形成されたパターン、及びこのパターンの乱れ、傷、塵埃等の欠陥のみを含んだものとなる。最後に、この検査画像データを図示しない表示部において視認してパターンの乱れ、傷、塵埃等の欠陥の有無を検査する。
なお、検査画像データの取得が終了したガラス基板Ｔは、吸着搬送ユニット１９，２１の吸着を解除して、図示しない搬出用ロボット等により浮上ステージ部５の表面５ａから搬出される。これ以降、同じ種類のガラス基板Ｔに対して同様の欠陥検査が繰り返し行われる。

上記のように、この基板搬送装置１によれば、基準画像データを取得する際には、基準ユニット２７を小ユニットに構成することにより、検査対象となるガラス基板ＴよりもＣＤ方向に沿う基準基板３３の長さ寸法を十分小さく形成することができる。したがって、基準基板３３を容易に製造できると共に、その製造コストを低く抑えることができる。そして、基準基板３３の表面３３ａを精度の高い水平度に保つことができるため、精度の高い基準画像データを得ることが可能となり、ガラス基板Ｔの欠陥を正確に検出することができる。

また、基準ユニット２７が、浮上ステージ部５の表面５ａと共に同一平面を形成する精密エアー浮上ブロック６に設けられているため、浮上ステージ部５の表面５ａの位置を基準として、検査領域に対する基準基板３３の表面３３ａの位置決めを容易に行うことができるため、さらに精度の高い基準画像データを取得することができる。
さらに、軸線Ｌ１を中心に回転部材３１を回転させることにより、基準基板３３を精密エアー浮上ブロック６の表面６ａに対して出没させることができるため、ガラス基板Ｔが通過する検査領域に位置する精密エアー浮上ブロック６の表面６ａ側に基準基板３３を配することが可能となる。したがって、基板検査装置１をコンパクトに構成することが可能となる。

また、基準基板３３を精密エアー浮上ブロック６の表面６ａから突出させた状態で基準基板取付部３５から着脱する構成となっているため、検査するガラス基板Ｔの種類に応じて基準基板３３を短時間で交換して、ガラス基板Ｔの検査効率の向上を図ることができる。
さらに、回転部材３１の回転により基準基板３３を精密エアー浮上ブロック６の表面６ａに対して出没させるため、回転部材３１に対する基準基板３３の位置決めを行うだけで、精密エアー浮上ブロック６の表面６ａに対する基準基板３３の突出高さの位置決めを行うことができる。また、軸線Ｌ１を中心に回転部材３１を所定角度だけ回転させて基準基板３３を出没できるため、基準基板３３の出没動作を素早く行うことができる。

なお、上記の実施の形態においては、回転部材３１の周面３１ａに１つの基準基板３３を配するとしたが、これに限ることはなく、相互に周方向にずれて位置する周面３１ａに同様の基準基板３３を配するとしても構わない。ただし、この構成においては、１つの基準基板３３が精密エアー浮上ブロック６の表面６ａ側に露出している状態において、他の基準基板３３がハウジング２９の内部に格納されるように、複数の基準基板３３を周面３３ａに配する必要がある。この構成の場合には、予め複数種類の基準基板３３を回転部材３１に設けておくことにより、基準基板３３を回転部材３１から着脱することなく、基準画像データを取得する基準基板３３を交換することができる。

さらに、回転部材３１により基準基板３３を精密エアー浮上ブロック６の表面６ａに対して出没させるとしたが、これに限ることはなく、少なくとも基準基板３３を精密エアー浮上ブロック６の表面６ａに対して出没できればよい。すなわち、例えば、図８に示すように、精密エアー浮上ブロック６の表面６ａ側に基準基板３３の表面３３ａを向けた状態で基準基板３３を基準ユニット２８に固定し、図示しない出没機構により精密エアー浮上ブロック６の表面６ａに直交する方向に基準ユニット２８を移動させるとしても構わない。ただし、この構成の場合には、出没機構が精密エアー浮上ブロック６の表面６ａから突出する基準基板３３の表面３３ａの位置を精度よく調整できることが好ましい。

また、基準基板３３の表面３３ａには、検査するガラス基板Ｔのパターンと同様の基準パターンＰ１〜Ｐ６や欠陥を含んだ基準パターンを形成するとしたが、これに限ることはなく、例えば、鏡面状の基準パターンを形成するとしても構わない。この構成の場合には、ライン照明ユニット２３からの照射光が基準基板３３の表面３３ａにおいて全反射するため、ライン照明ユニット２３の照射光の明るさのみを示す基準画像データが得られる。したがって、この基準画像データに基づいて照射領域におけるライン照明ユニット２３の照明むらを調整できる。

さらに、ガラス基板Ｔは、空気孔１１，１４から吹き出すエアーにより浮上するとしたが、これに限ることはなく、例えば、静電方式により浮上するとしても良い。この構成の場合には、ガラス基板Ｔに対する除電を行うと良い。
また、ガラス基板Ｔを浮上させて吸着搬送ユニット１９，２１により搬送するとしたが、これに限ることはなく、例えば、ＡＢ方向に移動可能な載置台（ステージ部）の表面にガラス基板Ｔを載置するとしてもよい。この構成の場合には、ガラス基板を略水平状態に載置する必要があり、また、載置台を移動させる搬送機構を設ける必要がある。この構成においては、検査領域を通過する載置台の表面にＣＤ方向にわたってライン状の溝を形成しておき、この溝の内部に基準ユニット２７を設ければよい。

なお、上記実施形態における基板検査装置１は、ガラス基板Ｔの表面Ｔａ全体の検査画像データを視認して検査するマクロ検査装置としているが、これに限ることはなく、ガラス基板Ｔの表面Ｔａに存在するパターンやその欠陥の拡大画像を視認するミクロ検査装置であっても構わない。すなわち、例えば、複数のラインセンサカメラを並設し、各ラインセンサカメラを複数に分割した検査領域にそれぞれ割り当てて、解像度の高い画像を取得するように構成すればよい。

以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。

この発明の一実施形態に係る基板検査装置の概略構成を示す側面図である。 図１の基板検査装置の概略構成を示す平面図である。 図１の基板検査装置の概略構成を示す正面図である。 図１の基板検査装置において、基準ユニットを示す拡大平面図である。 図４のＧ−Ｇ矢視断面図である。 図４のＨ−Ｈ矢視断面図である。 図１の基板検査装置において、基準基板の表面の概略を示す拡大平面図である。 この発明の他の実施形態に係る基板検査装置において、基準ユニットの概略を示す拡大断面図である。

符号の説明

１ 基板検査装置
５ 浮上ステージ部
６ 精密エアー浮上ブロック（ステージ部）
６ａ 表面
７ 搬送機構
１３ 検査用溝
２３ ライン照明ユニット
２４ カメラユニット
２７，２８ 基準ユニット
３１ 回転部材
３１ａ 周面
３３ 基準基板
３３ａ 表面
Ｌ１ 軸線
Ｐ１〜Ｐ６ 基準パターン
Ｔ ガラス基板
Ｔａ 表面

Claims (7)

1. 表面にパターンを形成した基板を水平状態に支持するステージ部と、
   前記基板を前記ステージ部の表面に沿って一方向に搬送する搬送機構と、
   前記搬送方向に直交する略直線状の照射光を前記基板の表面の照射領域に照射するライン照明ユニットと、
   前記照射領域からの反射光を受光して撮像するカメラユニットと、
   前記照射領域に対してその長手方向に移動可能な基準ユニットと、
   該基準ユニットに設けられ、前記照射領域を通過する表面に基準パターンを形成したキャリブレーション用の基準基板とを備えることを特徴とする基板検査装置。
2. 前記ステージ部が、非接触状態に前記基板を浮上させる浮上ステージ部からなり、
   前記基板に対向し、前記ライン照明ユニットの照射光が入射する前記浮上ステージ部の表面に、前記照射領域の長手方向にわたる略直線状の溝が形成され、
   前記基準ユニットが、前記溝の内部を移動することを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
3. 前記基準ユニットが、前記照射領域の長手方向に沿う軸線を中心に回転自在な略円柱状の回転部材からなり、
   該回転部材の周面に前記基準基板が配され、該基準基板が前記回転部材の回転により前記ステージ部の表面に対して出没することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板検査装置。
4. 前記基準基板の基準パターンが鏡面であることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の基板検査装置。
5. 前記基準ユニットは、前記基準基板の表面を前記ステージ部の表面に向けた状態で固定され、出没機構により前記ステージ部の表面に直交する方向に移動させて前記ステージ部の表面に対して出没することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板検査装置。
6. 前記基準基板の表面の高さは、前記ステージ部に浮上させた基板の表面と同じ高さに位置することを特徴する請求項２から５のいずれか１項に記載の基板検査装置。
7. 前記基準ユニットの基準パターンは、反射率の異なる複数の領域またはラインが形成されていることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の基板検査装置。

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