JP5112650B2 - チャックに対する光ビームの位置のドリフトを決定する方法およびシステム - Google Patents
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Description
Claims (13)
- 試験体の検査中に試験体が配置されるチャックに対する光ビームの位置のドリフトを決定する方法であって、
照明中に前記チャックに対して所定の位置を有する表面を前記光ビームで照明することと、
前記照明に応答して信号を生成することと、
前記信号を使用して前記チャックに対する前記光ビームの前記位置の前記ドリフトを決定することを含み、
前記表面が基準を備え、前記基準が第1パターン化フィーチャと第2パターン化フィーチャを備え、前記第1パターン化フィーチャがy方向で横方向に延び、前記第2パターン化フィーチャがy方向に対して0°より大きく90°より小さい角度の方向で横方向に延び、
前記第1パターン化フィーチャから散乱された光と前記第2パターン化フィーチャから散乱された光との差は、チャックに対する光ビームの位置のドリフトを決定するために使用することが可能である
ことを特徴とする方法。 - 前記ドリフトが、x方向またはy方向での前記チャックに対する前記光ビームの前記位置のドリフトを含む請求項1に記載の方法。
- 前記ドリフトが、x方向とy方向での前記チャックに対する前記光ビームの前記位置のドリフトを含む請求項1に記載の方法。
- 前記光ビームと前記チャックを備える検査システムの較正の間に方法を実施することをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 前記光ビームが傾斜入射ビームを備える請求項1に記載の方法。
- 前記光ビームが垂直入射ビームを備える請求項1に記載の方法。
- 前記ドリフトに基づいて前記チャックに対する前記光ビームの前記位置を変更することをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 前記ドリフトに基づいて前記検査中に前記試験体上で検出された欠陥の位置を決定することをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 試験体を検査するように、また前記試験体の検査中に前記試験体が配置されるチャックに対する光ビームの位置のドリフトを決定するように構成されるシステムにおいて、
照明中に前記チャックに対して所定の位置を有する表面を前記光ビームで照明するように構成される照明サブシステムと、
前記照明に応答して信号を生成するように構成される検出器と、
前記チャックに対する前記光ビームの前記位置の前記ドリフトを決定するために、前記信号を使用するように構成されるプロセッサとを備え、
前記表面が基準を備え、前記基準が、第1パターン化フィーチャと第2パターン化フィーチャを備え、前記第1パターン化フィーチャがy方向で横方向に延び、前記第2パターン化フィーチャがy方向に対して0°より大きく90°より小さい角度の方向で横方向に延び、
前記第1パターン化フィーチャから散乱された光と前記第2パターン化フィーチャから散乱された光との差は、前記チャックに対する光ビームの位置のドリフトを決定するために使用することが可能である
ことを特徴とするシステム。 - 前記ドリフトが、x方向またはy方向での前記光ビームの前記位置のドリフトを含む請求項9に記載のシステム。
- 前記ドリフトが、x方向とy方向での前記光ビームの前記位置のドリフトを含む請求項9に記載のシステム。
- 前記プロセッサが、システムによって前記試験体上で検出された欠陥の位置を決定するために、前記ドリフトを使用するようにさらに構成される請求項9に記載のシステム。
- 前記プロセッサが、前記チャックに対する前記光ビームの前記位置を変更するために、前記ドリフトを使用するようにさらに構成される請求項9に記載のシステム。
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JPS57161641A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-05 | Olympus Optical Co Ltd | Inspecting device for defect of surface |
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JPH10160685A (ja) * | 1996-11-27 | 1998-06-19 | Advantest Corp | レーザビーム及び電子ビームの照射位置調整方法、レーザビームを用いた異物検出装置、走査型電子顕微鏡及び異物分析装置 |
JPH10294268A (ja) * | 1997-04-16 | 1998-11-04 | Nikon Corp | 投影露光装置及び位置合わせ方法 |
US6057921A (en) * | 1997-07-08 | 2000-05-02 | Etec Systems, Inc. | Two piece mirror arrangement for interferometrically controlled stage |
US6201601B1 (en) | 1997-09-19 | 2001-03-13 | Kla-Tencor Corporation | Sample inspection system |
JPH11304419A (ja) * | 1998-04-17 | 1999-11-05 | Advantest Corp | 試料検査装置の調整方法 |
WO2000033025A1 (fr) * | 1998-11-30 | 2000-06-08 | Olympus Optical Co., Ltd. | Instrument de mesure |
JP2002050560A (ja) * | 2000-08-02 | 2002-02-15 | Nikon Corp | ステージ装置、計測装置及び計測方法、露光装置及び露光方法 |
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