JP4553351B2 - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 - Google Patents

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Description

この発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法およびこの製造方法によって製造されるプラズマディスプレイパネルの構成に関する。
図1ないし3は、従来の面放電方式交流型プラズマディスプレイパネル(以下、PDPという)の構成を示している。
この図1ないし3に示される従来のPDPは、表示面である前面ガラス基板1の背面に、複数の行電極対(X,Y)が、前面ガラス基板1の行方向(図1の左右方向)に延びるように平行に配列されている。
行電極Xは、T字形状に形成されたITO等の透明導電膜からなる透明電極Xaと、前面ガラス基板1の行方向に延びて透明電極Xaの狭小の基端部に接続された金属膜からなるバス電極Xbとによって構成されている。
行電極Yも同様に、T字形状に形成されたITO等の透明導電膜からなる透明電極Yaと、前面ガラス基板1の行方向に延びて透明電極Yaの狭小の基端部に接続された金属膜からなるバス電極Ybとによって構成されている。
この行電極XとYは、前面ガラス基板1の列方向(図1の上下方向)に交互に配列されており、バス電極XbとYbに沿って並列されたそれぞれの透明電極XaとYaが、互いに対となる相手の行電極側に延びて、透明電極XaとYaの幅広部の頂辺が、それぞれ所要の幅の放電ギャップgを介して互いに対向されている。
前面ガラス基板1の背面には、列方向において隣接する行電極対(X,Y)の互いに背中合わせになったバス電極XbとYbの間に、このバス電極Xb,Ybに沿って行方向に延びる黒色または暗色の光吸収層(遮光層)2が形成されている。
さらに、前面ガラス基板1の背面には、行電極対(X,Y)を被覆するように誘電体層3が形成されており、この誘電体層3の背面には、互いに隣接する行電極対(X,Y)の背中合わせに隣り合うバス電極XbおよびYbに対向する位置およびこの隣り合うバス電極XbとYbの間の領域部分に対向する位置に、誘電体層3の背面側に突出する嵩上げ誘電体層4が、バス電極Xb,Ybと平行に延びるように形成されている。
そして、この誘電体層3と嵩上げ誘電体層4の背面側には、酸化マグネシウム(MgO)からなる保護層5が形成されている。
一方、前面ガラス基板1と放電空間Sを介して平行に配置された背面ガラス基板6の表示側の面上には、列電極Dが、各行電極対(X,Y)の互いに対になっている透明電極XaおよびYaに対向する位置において行電極対(X,Y)と直交する方向(列方向)に延びるように、互いに所定の間隔を開けて平行に配列されている。
背面ガラス基板6の表示側の面上には、列電極Dを被覆する白色の列電極保護層(誘電体層)7が形成され、この列電極保護層7上に、隔壁8が形成されている。
この隔壁8は、各行電極対(X,Y)のバス電極XbとYbに対向する位置においてそれぞれ行方向に延びる一対の横壁8Aと、隣接する列電極Dの間の中間位置において一対の横壁8A間を列方向に延びる縦壁8Bとによって略梯子形状に形成されており、各隔壁8が、隣接する他の隔壁8の互いに背中合わせに対向する横壁8Aの間において行方向に延びる隙間SLを挟んで、列方向に並設されている。
そして、この梯子状の隔壁8によって、前面ガラス基板1と背面ガラス基板6の間の放電空間Sが、各行電極対(X,Y)において互いに対になっている透明電極XaとYaに対向する部分に形成される放電セルC毎に、それぞれ方形に区画されている。
各放電セルC内において、隔壁8の横壁8Aおよび縦壁8Bの側面と列電極保護層7の表面には、これらの五つの面を全て覆うように蛍光体層9が形成されており、この蛍光体層9の色は、各放電セルC毎に赤,緑,青の三原色に色分けされて、これらが行方向に順に並ぶように配列されている。
そして、嵩上げ誘電体層4の表面を被覆している部分の保護層5が隔壁8の横壁8Aの表示側の面に当接されていて(図2参照)、これにより、放電セルCと隙間SLの間がそれぞれ閉じられているが、縦壁8Bの表示側の面と保護層5との間には隙間rが形成されていて、この隙間rを介して、行方向において隣接する放電セルC間が互いに連通されている。
前面ガラス基板1と背面ガラス基板6との間の放電空間S内には、キセノンガスを含む放電ガスが封入されている。
上記のPDPは、放電セルC内において各行電極対(X,Y)の透明電極XaとYaの間でリセット放電が行われ、行電極Yの透明電極Yaと列電極Dとの間で選択的にアドレス放電が行われ、そして、アドレス放電によって選択された放電セル(発光セル)C内において透明電極XaとYaの間で維持放電が行われることによって、パネル面に映像信号に対応した画像を形成する(例えば特許文献1参照)。
このような構成のPDPの製造工程において、前面ガラス基板1上への行電極対(X,Y)等の構造物の形成は、以下のような工程によって行われる。
すなわち、前面ガラス基板1上に、透明導電材料の蒸着またはスパッタリングによって薄膜透明導電層が形成され、次に、この薄膜透明導電層がフォトリソ法によるパターニングによって、それぞれ独立した島状の透明電極Xa,Yaが形成される。
次に、前面ガラス基板1上に感光性銀ぺ−ストが塗布され、フォトリソ法によるパターニングが行われて、行方向に延びるとともにそれぞれ透明電極Xa,Yaに接続されたバス電極Xb,Ybが形成されて、焼成される。
次いで、前面ガラス基板1の行電極対(X,Y)が形成された面上に、ガラスペーストが一様に塗布されて焼成されることによって、または、ガラスペースト・フイルムが積層されて焼成されることによって、誘電体層3が形成される。
そして、さらに、この誘電体層3の表面に酸化マグネシウムが蒸着またはスパッタリングされることによって、保護層5が形成される。
このようなPDPの製造工程における行電極X,Yの形成工程において、形成される透明電極Xa,Yaに、欠落や欠損などの欠陥があった場合には、その部分の放電セルCで放電が発生しなかったり、放電が発生してもその放電状態が不十分だったり安定しないために、パネル面に形成される画像の品質が悪化する。
このため、前面ガラス基板1への構造物の形成工程の終了後、行電極X,Yに欠陥の数が多い場合には、その前面ガラス基板1は不良品として廃棄されており、このことが、PDPの製造コストを上昇させる要因の一つになっている。
特開2000−311612号公報
この発明は、上記のような従来のPDPの製造工程における問題点を解決することをその解決課題の一つとしている。
第1の発明(請求項1に記載の発明)によるプラズマディスプレイパネルは、上記目的を達成するために、放電空間を介して互いに対向される一対の基板の一方の基板に行方向に延びる複数の行電極対が形成され、この行電極対を構成する各行電極が、行方向に延びる電極本体部とこの電極本体部に沿って並設されて単位発光領域毎に電極本体部から対になっている他の行電極の側に列方向に突出して互いに放電ギャップを介して対向する突出電極部とを有しているプラズマディスプレイパネルにおいて、前記行電極対の突出電極部が蒸着またはスパッタリングによって形成され、前記単位発光領域毎の放電ギャップを介して対向する一対の突出電極部のうち、欠損した前記突出電極部全体に対して、電極形成材料を塗布し、焼成することにより補修用突出電極部が形成し、かつ前記補修用突出電極部の膜厚が、前記突出電極部の膜厚よりも厚いことを特徴としている。
第2の発明(請求項2に記載の発明)によるプラズマディスプレイパネルは、上記目的を達成するために、放電空間を介して互いに対向される一対の基板の一方の基板に行方向に延びる複数の行電極対が形成され、この行電極対を構成する各行電極が、行方向に延びる電極本体部とこの電極本体部に沿って並設されて単位発光領域毎に電極本体部から対になっている他の行電極の側に列方向に突出して互いに放電ギャップを介して対向する突出電極部とを有しているプラズマディスプレイパネルにおいて、前記行電極対の突出電極部が蒸着またはスパッタリングによって形成され、前記単位発光領域毎の放電ギャップを介して対向する一対の突出電極部のうち、欠損した前記突出電極部全体に対して、電極形成材料を塗布し、焼成することにより補修用突出電極部が形成し、前記補修用突出電極部の放電ギャップの距離が、前記突出電極部の放電ギャップの距離よりも小さいことを特徴としている。
第3の発明(請求項3に記載の発明)によるプラズマディスプレイパネルは、上記目的を達成するために、放電空間を介して互いに対向される一対の基板の一方の基板に行方向に延びる複数の行電極対が形成され、この行電極対を構成する各行電極が、行方向に延びる電極本体部とこの電極本体部に沿って並設されて単位発光領域毎に電極本体部から対になっている他の行電極の側に列方向に突出して互いに放電ギャップを介して対向する突出電極部とを有しているプラズマディスプレイパネルにおいて、前記行電極対の突出電極部が蒸着またはスパッタリングによって形成され、前記単位発光領域毎の放電ギャップを介して対向する一対の突出電極部のうち、欠損した前記突出電極部全体に対して、電極形成材料を塗布し、焼成することにより補修用突出電極部が形成し、前記補修用突出電極部の行方向の幅が、前記突出電極部の行方向の幅よりも大きいことを特徴としている。
この発明は、PDPが、その製造工程において、基板上に行電極対の各行電極を構成するそれぞれ独立した透明電極が形成された後に、この透明電極の欠落および欠損部分の検査工程が行われ、この検査工程によって透明電極の欠落または欠損部分が検出されると、リペア工程において、基板上の欠落部分に透明導電性材料のペーストが所要の範囲に塗布され、この後、この塗布された透明導電性材料ペーストの層がレーザ光で局所焼成された後、レーザ光によってカットされて、補修用の透明電極の形状に成形される実施形態を、その最良の実施形態としている。
この実施形態によるPDPおよびその製造方法によれば、従来はPDPの製造工程においてリペア不能でパネル面において滅点となっていた部分をリペアすることが可能になり、パネルの品質向上を図ることができるとともに、透明電極の欠落範囲が広い場合には、不良品として廃棄処理されていたものが、リペアによって製品とすることができるので、製品の製造コストの低下を図ることが出来るようになる。
そして、透明電極をリペアするペーストに透明な導電性材料が使用されるため、放電セルからの発光を妨げる虞がなく、連続した欠落などの広い範囲でのリペアが可館となる。
以下、図面に基づいて、この発明によるPDPの製造方法の実施形態における一実施例について説明を行う。
図4は、PDPの製造工程において、前面ガラス基板1上に透明電極Xa,Yaを形成する工程が終了したときに、部分Aに透明電極Xa,Yaの欠落が生じている場合を示しており、図5は、この透明電極Xa,Yaの欠落部分Aの拡大図である。
PDPの製造工程において、前面ガラス基板1上に、透明導電材料が蒸着またはスパッタリングされることによって、薄膜透明導電層が形成され、この薄膜透明導電層がフォトリソ法によりパターニングされることによって、T字形状の透明電極Xa,Yaがそれぞれ形成された後、この透明電極Xa,Yaの透明電極パターンの欠落部分の検査工程が行われる。
この検査工程によって、図4および5のような透明電極パターンの欠落部分Aが検出されると、リペア工程において、図6に示されるように、前面ガラス基板1上の欠落部分Aに透明導電性材料のペーストpがディスペンサや射出針などによって塗布される。
この後、この欠落部分Aに塗布された透明導電性材料ペーストpの層がレーザ光で局所焼成され、次に、図7に示されるように、局部焼成された透明導電性材料ペーストpの層が、レーザ光によってカットされ、不安部分が溶融除去されることによって、補修用透明電極Xa1,Ya1の形状に成形される。
このとき、上記のように、透明導電性材料ペーストpが塗布され焼成されてパターニングにより形成された厚膜の補修用透明電極Xa1,Ya1の抵抗値は、正規の工程において透明導電材料が蒸着またはスパッタリングされてパターニングによって形成された薄膜の透明電極Xa,Yaに比べて、非常に大きくなる。
このため、欠落部分Aの補修用透明電極Xa1,Ya1を正規工程による透明電極Xa,Yaと同様の形状や位置に形成した場合には、放電電圧が上昇し、輝度特性が悪化する。
これに対処するために、上記透明電極のリペア工程においては、図8に示されるように、補修用透明電極Xa1とYa1が、その間の放電ギャップg1が正規工程による透明電極XaとYa間の放電ギャップgよりも小さくなるように、形成される。
これによって、補修用透明電極Xa1とYa1間での放電電圧が、正規工程による透明電極XaとYa間と同じ放電電圧となるように設定される。
また、補修用透明電極Xa1とYa1間での放電電圧の上昇を抑制するために、図9に示されるように、正規工程による透明電極Xa,Yaの厚さt1よりも、補修用透明電極Xa1,Ya1の厚さt2が大きくなるように、補修用透明電極Xa1,Ya1を形成するようにしても良い。
また、図10に示されるように、正規工程による透明電極Xa,Yaの行方向の幅(例えば、透明電極が図示のようなT字形状のものであればその脚部分の幅)w1よりも、補修用透明電極Xa1,Ya1の行方向の幅w2が大きくなるように、補修用透明電極Xa1,Ya1を形成することによって、対応する放電セルCでの輝度低下を抑制することが出来る。
上記のようにして、透明電極Xa,Yaの欠落部分Aでのリペアが行われた後、バス電極Xb,Ybの形成工程および誘電体層3の形成工程等が行われる。
以上のように、上記PDPの製造方法によれば、従来はリペア不能でパネル面において滅点となっていた部分をリペアすることが可能になり、パネルの品質向上を図ることができるとともに、透明電極の欠落範囲が広い場合には、不良品として廃棄処理されていたものが、リペアによって製品とすることができるので、製品の製造コストの低下を図ることが出来るようになる。
そして、透明電極をリペアするペーストに透明な導電性材料が使用されるため、放電セルからの発光を妨げる虞がなく、連続した欠落などの広い範囲でのリペアが可館となる。
また、リペアされた透明電極の放電ギャップが正規工程において形成された透明電極の放電ギャップよりも小さくされたり、また、リペアされた透明電極の厚さが正規工程において形成された透明電極の厚さよりも大きくされたりすることによって、リペアされた透明電極での放電電圧の上昇が防止され、パネル電圧マージンが確保される。
さらに、リペアされた透明電極の幅が正規工程において形成された透明電極の幅よりも大きくされることによって、放電電流の値が増加されて、リペアされた透明電極に対応する放電セルにおける輝度の低下が防止される。
なお、上記PDPの製造方法は、図示されているようなT字形状の透明電極をリペアする場合に限らず、様々な形状の透明電極のリペアにも適当することが出来る。
さらに、上記PDPの製造方法は、図1ないし3に示されているような前面ガラス基板に行電極対が形成され背面ガラス基板に列電極が形成されている形式のPDPに限らず、一方のガラス基板に行電極対と列電極が互いに離間した状態で交差するように形成される形式のPDPについても適用することが出来る。
従来のプラズマディスプレイパネルの構成を示す正面図である。 図1のV−V線における断面図である。 図1のW−W1線における断面図である。 この発明によるプラズマディスプレイパネルの製造方法を説明するための透明電極の欠損部分を示す説明図である。 図4の透明電極の欠落部分の拡大図である。 この発明による製造方法の実施形態における透明導電性材料ペーストの塗布工程を示す説明図である。 同実施例における補修用透明電極の成形工程を示す説明図である。 同実施例において形成される補修用透明電極の形態の一例を示す正面図である。 同実施例において形成される補修用透明電極の形態の他の例を示す正面図である。 同実施例において形成される補修用透明電極の形態の他の例を示す正面図である。
符号の説明
1 …前面ガラス基板(前面基板)
3 …誘電体層
X,Y …行電極
Xa,Ya …透明電極
Xa1,Ya1 …補修用透明電極
A …欠落部分
p …透明導電性材料ペースト

Claims (3)

  1. 放電空間を介して互いに対向される一対の基板の一方の基板に行方向に延びる複数の行電極対が形成され、この行電極対を構成する各行電極が、行方向に延びる電極本体部とこの電極本体部に沿って並設されて単位発光領域毎に電極本体部から対になっている他の行電極の側に列方向に突出して互いに放電ギャップを介して対向する突出電極部とを有しているプラズマディスプレイパネルにおいて、
    前記行電極対の突出電極部が蒸着またはスパッタリングによって形成され、
    前記単位発光領域毎の放電ギャップを介して対向する一対の突出電極部のうち、欠損した前記突出電極部全体に対して、電極形成材料を塗布し、焼成することにより補修用突出電極部を形成し、
    かつ前記補修用突出電極部の膜厚が、前記突出電極部の膜厚よりも厚いことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
  2. 放電空間を介して互いに対向される一対の基板の一方の基板に行方向に延びる複数の行電極対が形成され、この行電極対を構成する各行電極が、行方向に延びる電極本体部とこの電極本体部に沿って並設されて単位発光領域毎に電極本体部から対になっている他の行電極の側に列方向に突出して互いに放電ギャップを介して対向する突出電極部とを有しているプラズマディスプレイパネルにおいて、
    前記行電極対の突出電極部が蒸着またはスパッタリングによって形成され、
    前記単位発光領域毎の放電ギャップを介して対向する一対の突出電極部のうち、欠損した前記突出電極部全体に対して、電極形成材料を塗布し、焼成することにより補修用突出電極部を形成し、
    前記補修用突出電極部の放電ギャップの距離が、前記突出電極部の放電ギャップの距離よりも小さいことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
  3. 放電空間を介して互いに対向される一対の基板の一方の基板に行方向に延びる複数の行電極対が形成され、この行電極対を構成する各行電極が、行方向に延びる電極本体部とこの電極本体部に沿って並設されて単位発光領域毎に電極本体部から対になっている他の行電極の側に列方向に突出して互いに放電ギャップを介して対向する突出電極部とを有しているプラズマディスプレイパネルにおいて、
    前記行電極対の突出電極部が蒸着またはスパッタリングによって形成され、
    前記単位発光領域毎の放電ギャップを介して対向する一対の突出電極部のうち、欠損した前記突出電極部全体に対して、電極形成材料を塗布し、焼成することにより補修用突出電極部を形成し、
    前記補修用突出電極部の行方向の幅が、前記突出電極部の行方向の幅よりも大きいことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
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