JP4550466B2 - 除害装置 - Google Patents

除害装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4550466B2
JP4550466B2 JP2004113488A JP2004113488A JP4550466B2 JP 4550466 B2 JP4550466 B2 JP 4550466B2 JP 2004113488 A JP2004113488 A JP 2004113488A JP 2004113488 A JP2004113488 A JP 2004113488A JP 4550466 B2 JP4550466 B2 JP 4550466B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
furnace
gas
cooling
circulating water
circulation tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2004113488A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005296732A (ja
Inventor
弘 押部
敦 永島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosetz Inc
Original Assignee
Tosetz Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tosetz Inc filed Critical Tosetz Inc
Priority to JP2004113488A priority Critical patent/JP4550466B2/ja
Publication of JP2005296732A publication Critical patent/JP2005296732A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4550466B2 publication Critical patent/JP4550466B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Incineration Of Waste (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)

Description

本発明は、半導体及び液晶製造ライン等から排出される、有害ガスを処理するための除害装置に関するものであり、更に述べると、非常用冷却手段を備えた除害装置に関するものである。
半導体及び液晶製造ライン等から排出される、有害ガスは多量の有害成分を含んでいるため、そのままの状態で器外に排出することはできない。そこで、有害ガス中の有害成分を分解して無害化するために、加熱式又は燃焼式除害装置が用いられている。
この除害装置は、有害ガスが供給される炉と、該炉の下端部に連通路を介して連結された冷却装置と、該冷却装置の下端部に連通する循環タンクと、該循環タンクに循環ポンプを介して連結された冷却室用循環水噴霧手段と、前記炉の下端部に設けられ、前記循環ポンプと連通する炉用循環水噴霧手段と、外部の水源に連通する冷却室用新水噴霧手段と、循環タンクに排水ポンプを介して連結されたドレーン配管と、が接続されている。
この除害装置は、安全のため、必ず非常停止ボタンが設けられている。このボタンは、循環タンクの水漏れ、ポンプの加熱等が発生して、危険状態に陥ったときに押されるが、該ボタンを押すと、全ての電源が切れ、除害装置の運転が緊急停止する。
従来例では、非常停止ボタンを押すと、全ての電源がオフとなり、電気ヒータ、循環環ポンプ、排水ポンプ等が停止する。この時、冷却室用新水噴霧手段への給水を制御する電磁弁も自動的に閉じるので、循環タンクから水が溢れ出ることはない。
電気ヒータ又はバーナーが止まり有害ガスの加熱を中止しても、炉自体はかなりの高温で温まっているため、かなりの潜熱があるので、該有害ガスは、該潜熱により加熱される。
除害装置に連続する排気システムは、該除害装置の運転が停止されても運転を停止しないので、排気システムからの有害ガスの吸引は継続される。そのため、炉内の有害ガスは、潜熱により加熱されるが、前記噴霧手段により冷却されることがないので、高温の状態で連通路及び冷却装置を通り排気される。前記連通路や冷却室は、耐腐食を考慮してプラスチック類で形成したり、又は、表面にフッ化樹脂(「テフロン」商標)系のコーテングをしているが、前記高温ガスの熱により、破損、又は、重大な損傷を引き起こすことがある。
この発明は、非常時又は停電時に、高温ガスにより連通路や冷却室等が破損、又は、損傷しないようにすることを目的とする。
この発明は、有害ガスが供給される炉と、該炉の下端部に連通路を介して連結された冷却装置と、該冷却装置の下端部に連通する循環タンクと、前記冷却装置の冷却室に設けられ、かつ、該循環タンクに循環ポンプを介して連結された冷却室用循環水噴霧手段と、前記炉の下端部に設けられ、前記循環ポンプと連通する炉用循環水噴霧手段と、非常停止ボタンと、を備えた除害装置において; 前記非常停止ボタンを押した時又は停電時に、前記除害装置の全ての電源が切れると自動的に開となる電磁弁を備えた気体圧送管と、一端が該気体圧送管の吸引部に連結され、他端が前記循環タンクに連結された吸引管とを備えた、エジェクターが設けられている非常用冷却手段であって、前記非常停止ボタンを押した時又は停電時に、前記エジェクターに圧送される気体により前記循環タンク内の循環水を吸引して前記炉の下端部内に噴霧せしめる非常用冷却手段、を設けたことを特徴とする。
この発明のエジェクターは、炉の下端部に連通していることを特徴とする。前記気体圧送管には、空気、又は、Nガスが供給されることを特徴とする。除害装置が、加熱式、又は、燃焼式除害装置であることを特徴とする。
この発明は、非常時冷却手段を備えているので、非常停止ボタンを押した時又は停電時に全ての電源がオフになっても、該非常用冷却手段起動させ、循環タンク内の循環水を炉内に噴霧することができる。そのため、炉内の高温ガスが冷却されるので、連通路や冷却室が高熱により破壊又は損傷するのを防止することができる。
非常停止ボタンを押した時又は停電時に全ての電源がオおフになると、開弁するエジェクターの電磁弁を設けているので、前記非常停止ボタンを押した時又は停電時には自動的に非常用冷却手段が起動し、炉内に循環水が噴霧される。又、噴霧された循環水は、再び循環タンク内に戻り、冷却水として再使用されるので、排水ポンプが停止していても、循環タンクの水が溢れ出ることはない。
本件発明者は、前記課題を解決するためには、全ての電源がオフとなっても、独自に駆動できる非常用冷却手段を設ければ良いと考えるとともに、排水ポンプが停止しているので、外部から新しい水を供給して噴霧すると、循環タンクに貯蔵しきれなくなり、溢れ出してしまうことに気がついた。そこで、この問題を解決するため、前記冷却水として循環タンク内の循環水を利用することにした。本発明は、上記知見に基づいてなされたものである。
この発明の実施の形態を図1、図2により説明する。
加熱式除害装置Tの炉1の外周には、電気ヒータ3が設けられ、その上端部には排ガス(有害ガス)のポート5が設けられている。
炉1の下端部1aには、炉用循環水噴霧手段7と非常用冷却手段12とが設けられている。炉用循環水噴霧手段7は、電磁バルブ8付き噴霧パイプ9を備えており、このパイプ9の一端は炉1の下端部1a内に突出し、その他端は循環パイプ10に接続されている。なお、前記一端には、循環水を噴霧するための噴霧部9fが設けられている。
非常用冷却手段12は、エジェクター20を備えているが、このエジェクター20は、電磁弁13付き気体圧送管15と、一端が気体圧送管15の吸引部15aに連結され、他端が循環タンク17に連結された吸引管18と、を備えている。電磁弁13は、非常時又は停電時に、全ての電源が切れると自動的に開弁する。前記エジェクター20の先端部には、循環水を噴霧するための噴霧部20fが設けられている。
炉1の下端部1aは、連通路23を介して冷却装置25の下端部25dに接続されている。冷却装置25の上端部には、メイン排気ダクト26に接続され、又、その下端部25dは戻しパイプ27を介して循環タンク17に連通している。
冷却装置の冷却室25aには、冷却室用循環水噴霧手段29と新水噴霧手段31が設けられている。冷却室用循環水噴霧手段29は、循環ポンプ33を有する循環パイプ10を備えている。このパイプ10の基端部は、循環タンク17に接続され、その自由端部は、冷却室25a内に位置している。この自由端部には、噴霧部10fが設けられている。35は、前記循環パイプ10に設けられた電磁バルブ、である。
新水噴霧手段31は、流量計37を有する新水供給パイプ40を備えている。前記パイプ40の基端は、新水の水源に接続され、その自由端は冷却室25a内に位置している。この自由端には、噴霧部が設けられている。41,42は、前記パイプ40に設けられたバルブである。
循環タンク17の下部には、排水ポンプ44の付いた排水パイプ45が設けられており、該排水パイプ45はバルブを介してメインドレーン配管49に接続されている。なお、図1において、50はバルブVの付いた反応用エアの供給管、51はバルブVの付いたパージ用N2ガスの供給管、をそれぞれ示す。
又、図3において、56は主電源スイッチ、57は非常停止ボタン、58は制御盤59のオンオフボタン、60は各センサーの情報が入力され、その情報に基づいて各スイッチSW1〜SW4を制御するシーケンサー、をそれぞれ示す。なお、SW1は、循環ポンプ34のスイッチ、SW2は排水ポンプ44のスイッチ、SW3はバルブ42のスイッチ、SW4はその他の機器のスイッチ、をそれぞれ示す。
次に本実施の形態の作動について説明する。
通常時:
主電源スイッチ56をオンにし、オンオフボタン58を押すと、シーケンサー60が始動し、各スイッチSW1〜SW4の制御を開始するので、電気ヒータ3,ポンプ33,34等の電源が入り、除害装置Tは運転を開始する。この時、電磁弁13は閉状態を維持している。
半導体製造ガス等の排ガス(有害ガス)Gは、ポート5から炉1内に導入され、所定温度、例えば、850°Cに加熱され、有害成分の分解が行われる。そのため、前記有害ガスGは、無害ガスG0となる。
循環ポンプ33は駆動しているので、循環パイプ10、噴霧パイプ9には循環タンク17の循環水Wが供給されている。又、新水供給パイプ40には新水W0が供給されている。
炉用循環水噴霧手段7は、循環タンク17内の循環水Wを噴霧部9f介して、炉の下端部1a内に噴霧するので、前記下端部1a内の無害ガスG0は、冷却される。この冷却されたガスG0は連通路23を通り、冷却室25aに流入する。
冷却室用循環水噴霧手段29の噴霧部10fからは、循環水Wが噴霧され、又、新水噴霧手段31からは、新水W0が噴霧されているので、前記ガスG0は、冷却室25a内で更に冷却された後、メイン排気ダクト26に排出される。
冷却室25a内に噴霧された水W、W0は、戻しパイプ27を介して循環タンク17に流入する。循環タンク17内の循環水Wの一部は、排水ポンプ44によりメインドレーン配管49に排水される。なお、新水噴霧手段31に供給される水量は、流量計37による計測結果に基づいて、適切に制御される。
非常時又は停電時:
除害装置Tの運転中に非常事態が発生した時には、非常停止ボタン57を押す。そうすると、全ての電源がオフとなり、除害装置Tの運転は停止する。この時、電磁弁13が自動的に開く。
電磁弁13が開くと、非常用循環水噴霧手段12の気体圧送管15に、気体、例えば、エアA、又は、N2ガス、が圧送されるので、循環タンク17内の循環水Wは、所謂エジェクター効果により、吸引管18を介してエジェクター20に流入し、噴霧部20fから炉の下端部1a内に向かって噴霧される。そのため、前記下端部1a内の有害ガスGは、冷却されるので、温度が低下する。
除害装置Tを急激に停止しても、排気システムが稼働している関係上、炉1内の有害ガスGは、メイン排気ダクト26に向かって吸引されるが、前述の様に、該ガスGは冷却されて温度が低下しているので、連通路23,冷却室25aに熱損傷を与えることはない。そのため、除害装置Tの使用寿命を長くすることができる。なお、炉1内に循環水Wと一緒に噴霧された空気Aは、メイン排気ダクト26から排出される。なお、停電時に於いては、非常停止ボタン57を押さなくても、前記非常時と同様に作動する。
この発明の実施の形態は、前記に限定されるものではない。例えば、この発明は、電気ヒータを用いる加熱式除害装置の代わりに、バーナーを用いる燃焼式除害装置に用いることができることは勿論である。
この発明の実施の形態を示す概略図である。 エジェクターの詳細を示す拡大図である。 電源関係を示す図である。
符号の説明
1 炉
7 炉用循環水噴霧手段
12 非常用冷却手段
13 電磁弁
17 循環タンク
20 エジェクター
23 連通路
25 冷却装置
29 冷却室用循環水噴霧手段
31 新水噴霧手段
T 除害装置

Claims (4)

  1. 有害ガスが供給される炉と、該炉の下端部に連通路を介して連結された冷却装置と、該冷却装置の下端部に連通する循環タンクと、前記冷却装置の冷却室に設けられ、かつ、該循環タンクに循環ポンプを介して連結された冷却室用循環水噴霧手段と、前記炉の下端部に設けられ、前記循環ポンプと連通する炉用循環水噴霧手段と、非常停止ボタンと、を備えた除害装置において;
    前記非常停止ボタンを押した時又は停電時に、前記除害装置の全ての電源が切れると自動的に開となる電磁弁を備えた気体圧送管と、一端が該気体圧送管の吸引部に連結され、他端が前記循環タンクに連結された吸引管とを備えた、エジェクターが設けられている非常用冷却手段であって、前記非常停止ボタンを押した時又は停電時に、前記エジェクターに圧送される気体により前記循環タンク内の循環水を吸引して前記炉の下端部内に噴霧せしめる非常用冷却手段、
    を設けたことを特徴とする除害装置。
  2. 前記エジェクターは、炉の下端部側に連通していることを特徴とする請求項1記載の除害装置。
  3. 前記気体圧送管に、空気、又は、N ガスが供給されることを特徴とする請求項1記載の除害装置。
  4. 前記除害装置が、加熱式、又は、燃焼式除害装置であることを特徴とする請求項1、2、又は、3記載の除害装置。
JP2004113488A 2004-04-07 2004-04-07 除害装置 Expired - Lifetime JP4550466B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004113488A JP4550466B2 (ja) 2004-04-07 2004-04-07 除害装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004113488A JP4550466B2 (ja) 2004-04-07 2004-04-07 除害装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005296732A JP2005296732A (ja) 2005-10-27
JP4550466B2 true JP4550466B2 (ja) 2010-09-22

Family

ID=35328930

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004113488A Expired - Lifetime JP4550466B2 (ja) 2004-04-07 2004-04-07 除害装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4550466B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011105375A (ja) * 2009-11-20 2011-06-02 Aura Tec:Kk 循環タンク及び液注入混合装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11104446A (ja) * 1997-10-02 1999-04-20 Babcock Hitachi Kk 湿式排煙脱硫装置
JP2003042431A (ja) * 2001-07-26 2003-02-13 Takuma Co Ltd ガス減温装置
JP2004095643A (ja) * 2002-08-29 2004-03-25 Seiko Epson Corp 半導体装置の製造方法及び半導体装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11104446A (ja) * 1997-10-02 1999-04-20 Babcock Hitachi Kk 湿式排煙脱硫装置
JP2003042431A (ja) * 2001-07-26 2003-02-13 Takuma Co Ltd ガス減温装置
JP2004095643A (ja) * 2002-08-29 2004-03-25 Seiko Epson Corp 半導体装置の製造方法及び半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005296732A (ja) 2005-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI614407B (zh) 排放氣體除害裝置及真空泵裝置
JP4550466B2 (ja) 除害装置
TWI429477B (zh) A gas treatment device, a gas treatment system using the apparatus, and a gas treatment method
KR101621491B1 (ko) 연속 사용이 가능한 교육용 소화기
JP2017124345A (ja) 排ガス除害装置
KR20090011467A (ko) 반도체 배기 가스 처리 장치
US6799539B2 (en) System and method for utilization of waste heat of semiconductor equipment and heat exchanger used for utilization of waste heat of semiconductor equipment
JP7021730B1 (ja) 半導体製造排ガスの処理装置
JP4612363B2 (ja) ミストサウナ装置
JP2010119935A (ja) 排ガス処理装置及び半導体装置の製造方法
KR101825693B1 (ko) 배관 부생가스 제거장치
JP6814183B2 (ja) 歯科用窯ならびに歯科用窯の動作方法
KR100708369B1 (ko) 폐가스 배기 제어시스템
JP4809647B2 (ja) ミストサウナ装置
JP2008045762A (ja) 弁および蓄熱式脱臭装置
WO2017068609A1 (ja) 排ガス処理装置
WO2022208848A1 (ja) PFCs含有排ガス処理装置
JP3937232B2 (ja) 炭化装置
JP4584238B2 (ja) 排ガスの冷却方法及びその装置
WO2022101981A1 (ja) ガス処理炉及びこれを用いた排ガス処理装置
KR100992752B1 (ko) 반도체 제조 공정의 폐가스 처리장치
JP4071200B2 (ja) アンモニア冷凍装置
KR101601665B1 (ko) 기판식각장치 및 기판식각방법
CN118235231A (zh) 基片处理系统和基片处理方法
JP2589208Y2 (ja) 高圧噴霧燃焼装置用バーナ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070309

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100208

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100223

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100421

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100629

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100708

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4550466

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130716

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term