JP2010119935A - 排ガス処理装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】除害用加熱部において発生する熱を利用しながら排ガス処理を行う排ガス処理装置及びその排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る排ガス処理装置は、半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプ1と、前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部3と、前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管2と、前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバー5と、を具備し、前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管2を加熱することを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】本発明に係る排ガス処理装置は、半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプ1と、前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部3と、前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管2と、前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバー5と、を具備し、前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管2を加熱することを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、排ガス処理装置及び半導体装置の製造方法に係わり、特に、CVD(chemical vapor deposition)装置やドライエッチング装置などの半導体製造装置から排出される排ガスに含まれる人体や環境へ悪影響を及ぼすガスや、代替フロン等の温室効果ガスの分解処理を、可燃性ガスを用いた燃焼式又はヒータ加熱方式による排ガス処理装置及びそれを用いた半導体装置の製造方法に関するものである。
半導体、液晶、太陽光パネルなどの製造を行う製造装置では、CVD工程でシランやTEOSなどのプロセスガスや、ドライエッチング工程で代替フロン等の温室効果ガスを用いて処理を行う。この際、CVD工程やドライエッチング工程で消費されないガスが製造装置から排出される。この排出されるガスを処理せずに大気へ放出すると、人体や環境へ悪影響を及ぼしたり地球温暖化へ影響を及ぼす。このため、この排出ガスには燃焼式又はヒータ加熱方式による排ガス処理装置によって分解され無害化される処理が行われる。
排ガスにシラン系のガスが含まれる場合、前記製造装置から排ガスの排気を行う真空ポンプの最も圧力の高くなる出口側及びそれに接続される排ガス処理装置の配管内で、前記排ガスの温度が低下すると、排ガス中の成分が固化して生成物となって付着しやすい状態となる。そして、前記製造装置の継続運転によって前記生成物が成長することにより、前記出口側及び前記配管内が閉塞されてしまい、前記製造装置を稼動できない状態が発生する。
このような製造装置が稼動できなくなるのを防止するために、前記出口側及び前記配管内に電熱ヒータを巻きつけ、その電熱ヒータに電源から電力を供給して前記出口側及び前記配管を加熱することで、前記生成物の付着を抑制している。
また、燃焼式又はヒータ加熱方式による排ガス処理装置では、処理後のガスに含まれる生成物の除去と排ガスの温度を下げることを目的として、水スクラバーを設置して運転する方法が主流となっている。この排ガス処理装置は従来より提案されており、例えば特許文献1,2において開示されている。
ところで、上述した電熱ヒータを用いた従来の排ガス処理装置では、電熱ヒータに供給する電力を必要とし、その電力消費量が大きいため、装置の稼動コストが大きくなる要因となっていた。
また、上述した特許文献2に記載された水スクラバーを設置して運転する排ガス処理装置では、除害処理部から排出される排ガスの熱を熱交換器によって不活性ガスに移し、加熱された不活性ガスによって真空ポンプ及び配管を加熱する方法が提案されている。しかし、前記熱交換器内における前記排ガスが流される配管にピンホールや亀裂が発生した場合には不活性ガスが排ガス処理装置内へ流れ込む可能性がある。その場合は、排ガス処理装置において圧力異常による緊急停止が発動されることがあり、装置の稼働率が低下する原因となる。
また、前記熱交換器によって熱交換された後の排ガスは水スクラバーへ配管を通して導入されるが、その排ガスは熱交換によって温度低下しているため、前記配管に生成物が付着しやすい状態となる。従って、生成物の付着による配管の詰まりが発生する可能性がある。
排ガス処理装置には、排ガスを除害する際に発生する熱を効率良く利用することにより省エネルギー化を図ることが求められている。
本発明に係る幾つかの態様は、除害用加熱部において発生する熱を利用しながら排ガス処理を行う排ガス処理装置及びその排ガス処理装置を用いた半導体装置の製造方法である。
上記課題を解決するため、本発明に係る排ガス処理装置は、半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする。
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする。
上記排ガス処理装置によれば、除害用加熱部において加熱された排ガスの熱を水スクラバーにて水に熱交換し、得られた温水によって配管を加熱しながら排ガス処理を行うことができる。
本発明に係る排ガス処理装置は、半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記真空ポンプにパージ用N2ガスを供給する配管と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする。
前記真空ポンプにパージ用N2ガスを供給する配管と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする。
本発明に係る排ガス処理装置は、半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記真空ポンプに冷却水を供給する配管と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする。
前記真空ポンプに冷却水を供給する配管と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする。
本発明に係る排ガス処理装置は、半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
前記水スクラバーに水を供給する配管と、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする。
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
前記水スクラバーに水を供給する配管と、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする。
本発明に係る排ガス処理装置は、半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
前記水スクラバーで冷却された排ガスを工場排気設備へ送る配管と、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする。
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
前記水スクラバーで冷却された排ガスを工場排気設備へ送る配管と、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする。
また、本発明に係る排ガス処理装置において、前記温水が前記配管の周囲に導かれた後に前記水スクラバーに戻されるような循環経路を形成する循環用配管をさらに具備することが好ましい。また、前記水スクラバーに接続された供給配管をさらに具備し、前記供給配管は、前記循環用配管を前記温水が所定回数又は所定時間循環した後に新しい水を前記水スクラバーに供給する配管であることが好ましい。これにより、水の使用量を低減することができる。
本発明に係る排ガス処理装置は、半導体製造装置の真空チャンバーから排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記真空チャンバーを加熱することを特徴とする。
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記真空チャンバーを加熱することを特徴とする。
上記排ガス処理装置によれば、除害用加熱部において加熱された排ガスの熱を水スクラバーにて水に熱交換し、得られた温水によって真空チャンバーを加熱しながら排ガス処理を行うことができる。
本発明に係る排ガス処理装置は、半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガス中に含まれる生成物を除去する生成物トラップと、
前記生成物トラップによって生成物が除去された排ガスを前記配管の周囲に導くための加熱用配管と、
前記加熱用配管を通過した排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記配管は、前記加熱用配管内を通る前記排ガスによって加熱されることを特徴とする。
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガス中に含まれる生成物を除去する生成物トラップと、
前記生成物トラップによって生成物が除去された排ガスを前記配管の周囲に導くための加熱用配管と、
前記加熱用配管を通過した排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記配管は、前記加熱用配管内を通る前記排ガスによって加熱されることを特徴とする。
上記排ガス処理装置によれば、除害用加熱部において加熱された排ガスの熱によって配管を加熱しながら排ガス処理を行うことができる。
また、本発明に係る排ガス処理装置において、前記生成物トラップと前記水スクラバーとを繋ぐバイパス配管をさらに具備し、前記生成物トラップのメンテナンス時に、前記排ガスを前記加熱用配管を通さずに前記バイパス配管を通して前記水スクラバーに送ることも可能である。これにより、排ガス処理装置の稼動を停止することなく生成物トラップのメンテナンスが可能となる。
本発明に係る排ガス処理装置は、半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記配管内を通る排ガスを加熱する電熱ヒータと、
前記除害用加熱部から発生する熱を電気エネルギーに変換する熱電変換素子と、
前記熱電変換素子で変換された電気エネルギーを前記電熱ヒータに供給する供給ラインと、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備することを特徴とする。
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記配管内を通る排ガスを加熱する電熱ヒータと、
前記除害用加熱部から発生する熱を電気エネルギーに変換する熱電変換素子と、
前記熱電変換素子で変換された電気エネルギーを前記電熱ヒータに供給する供給ラインと、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備することを特徴とする。
上記排ガス処理装置によれば、除害用加熱部から発生する熱を熱電変換素子によって電気エネルギーに変換し、この電気エネルギーを供給ラインによって電熱ヒータに供給することにより配管を加熱しながら排ガス処理を行うことができる。
本発明に係る半導体装置の製造方法は、半導体製造装置によって半導体処理を行い、前記半導体製造装置から排出される排ガスを排ガス処理装置によって処理する工程を有する半導体装置の製造方法において、
前記排ガス処理装置は、
前記半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする。
前記排ガス処理装置は、
前記半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする。
本発明に係る半導体装置の製造方法は、半導体製造装置によって半導体処理を行い、前記半導体製造装置から排出される排ガスを排ガス処理装置によって処理する工程を有する半導体装置の製造方法において、
前記排ガス処理装置は、
半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガス中に含まれる生成物を除去する生成物トラップと、
前記生成物トラップによって生成物が除去された排ガスを前記配管の周囲に導くための加熱用配管と、
前記加熱用配管を通過した排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記配管は、前記加熱用配管内を通る前記排ガスによって加熱されることを特徴とする。
前記排ガス処理装置は、
半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガス中に含まれる生成物を除去する生成物トラップと、
前記生成物トラップによって生成物が除去された排ガスを前記配管の周囲に導くための加熱用配管と、
前記加熱用配管を通過した排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記配管は、前記加熱用配管内を通る前記排ガスによって加熱されることを特徴とする。
本発明に係る半導体装置の製造方法は、半導体製造装置によって半導体処理を行い、前記半導体製造装置から排出される排ガスを排ガス処理装置によって処理する工程を有する半導体装置の製造方法において、
前記排ガス処理装置は、
半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記配管内を通る排ガスを加熱する電熱ヒータと、
前記除害用加熱部から発生する熱を電気エネルギーに変換する熱電変換素子と、
前記熱電変換素子で変換された電気エネルギーを前記電熱ヒータに供給する供給ラインと、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備することを特徴とする。
前記排ガス処理装置は、
半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記配管内を通る排ガスを加熱する電熱ヒータと、
前記除害用加熱部から発生する熱を電気エネルギーに変換する熱電変換素子と、
前記熱電変換素子で変換された電気エネルギーを前記電熱ヒータに供給する供給ラインと、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備することを特徴とする。
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1による排ガス処理装置を模式的に示す構成図である。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1による排ガス処理装置を模式的に示す構成図である。
図1に示す排ガス処理装置は、CVD装置やドライエッチング装置などの半導体製造装置からPFCs(perfluoro-compounds)ガスを含む排ガスの排気を行う真空ポンプ1を有している。この真空ポンプの出口側は配管2を介して除害装置加熱部(除害用加熱部)3に接続されている。除害装置加熱部3は、前記半導体製造装置から排出される排ガスに含まれるPFCガスを燃焼式又はヒータ加熱方式によって加熱分解して無害化するものである。
除害装置加熱部3の出口側は配管4を介して水スクラバー5に接続されている。この配管4はメンテナンス期間を延ばすためにSUS製のものを用いることが好ましい。水スクラバー5は、除害装置加熱部3で加熱分解された排ガス中のフッ素及び熱を市水によって除去するものである。水スクラバー5には市水を供給する供給配管8が接続されている。また、水スクラバー5には前記排ガスによって加熱された市水(即ち温水)を溜める循環水タンク10が設置されており、この循環水タンク10内の温水が真空ポンプ1の出口側の配管2の周囲を通る温水配管(循環用配管)6によって循環するように構成されている。
水スクラバー5には配水管9が接続されている。この排水管9は、温水配管6を温水が所定回数(例えば3回程度)又は所定時間循環したら前記供給配管8から新しい市水が水スクラバー5に供給され、循環水タンク10より溢れた水を水スクラバー5から排水するためのものである。また、水スクラバー5には排気配管7が接続されている。この排気配管7は、水スクラバー5によってフッ素及び熱が除去された排ガスを工場排気設備へ導入するための配管である。
次に、図1の排ガス処理装置の動作について説明する。
まず、CVD装置やドライエッチング装置などの半導体製造装置によって成膜やエッチングなどの半導体処理を行う。そして、前記半導体製造装置から真空ポンプ1によってPFCガスを含む排ガスの排気を行い、この排ガスを真空ポンプ1の出口側の配管2を通して除害装置加熱部3に送る。この除害装置加熱部3において排ガスを1000℃以上(好ましくは1400〜1500℃)に加熱することにより排ガス中のPFCガス中のフッ素が分解される。この加熱分解された排ガスは配管4を通して水スクラバー5に送られる。この水スクラバー5において前記排ガスにシャワー状の市水がかけられ熱交換される。これにより、前記シャワー状の市水は排ガスの熱で加熱されて温水とされ、排ガスの温度は低下する。なお、この熱交換の際に排ガス中の成分が固化して生成物が発生したらトラップされるようになっている。
まず、CVD装置やドライエッチング装置などの半導体製造装置によって成膜やエッチングなどの半導体処理を行う。そして、前記半導体製造装置から真空ポンプ1によってPFCガスを含む排ガスの排気を行い、この排ガスを真空ポンプ1の出口側の配管2を通して除害装置加熱部3に送る。この除害装置加熱部3において排ガスを1000℃以上(好ましくは1400〜1500℃)に加熱することにより排ガス中のPFCガス中のフッ素が分解される。この加熱分解された排ガスは配管4を通して水スクラバー5に送られる。この水スクラバー5において前記排ガスにシャワー状の市水がかけられ熱交換される。これにより、前記シャワー状の市水は排ガスの熱で加熱されて温水とされ、排ガスの温度は低下する。なお、この熱交換の際に排ガス中の成分が固化して生成物が発生したらトラップされるようになっている。
水スクラバー5において前記排ガスによって加熱された温水が循環水タンク10に溜められる。この循環水タンク10内の温水が温水配管6によって真空ポンプ1の出口側の配管2の周囲に供給され、この配管2及び真空ポンプ1の出口側が例えば60〜70℃程度の温水によって加熱される。これにより、真空ポンプ1の出口側から排出される100℃以上の排ガスが配管2内で温度低下するのを抑制でき、真空ポンプ1の出口側及び配管2に生成物が付着するのを抑制することができる。
配管2の加熱に使用された温水は、温水配管6を通り、水スクラバー5へ戻されてシャワー状の水として排ガスの冷却に再利用される。これにより、水スクラバー5で使用される水の量を少なくすることができ、水コストを低減することができる。
温水配管6を温水が所定回数又は所定時間循環した後に、新しい市水が供給配管8から水スクラバー5に供給され、シャワー状の市水として排ガスの冷却に使用される。そして、循環水タンク10より溢れた水は排水管9によって水スクラバー5から排水される。また、水スクラバー5においてPFCガスからフッ素及び熱が除去された後の40℃程度の排ガスは、排気配管7を通して工場排気設備へ送られる。
上記実施形態1によれば、除害装置加熱部3において発生する熱を真空ポンプ1の出口側の配管2の加熱に利用しながら排ガス処理を行うことができる。従って、真空ポンプの出口側の配管を電熱ヒータによって加熱して生成物の配管への付着を抑制している従来の排ガス処理装置に比べて省エネルギー化を図ることができる。
(実施形態2)
図2は、本発明の実施形態2による排ガス処理装置を模式的に示す構成図であり、図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
図2は、本発明の実施形態2による排ガス処理装置を模式的に示す構成図であり、図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
真空ポンプ1にはN2配管19が接続されており、このN2配管19は真空ポンプ1へパージ用N2ガスを供給する配管である。実施形態1では、温水配管が真空ポンプ1の出口側の配管2の周囲を通っているが、実施形態2では温水配管(循環用配管)18がN2配管19の周囲を通るように配置されている。
上記実施形態2によれば、温水配管18を通る温水によってN2配管19を通るパージ用N2ガスを加熱することができる。その結果、加熱されたパージ用N2ガスが真空ポンプ1へ供給されるため、真空ポンプ1内を通る100℃以上の排ガスが真空ポンプ1内で温度低下するのを抑制でき、真空ポンプ1内に生成物が付着するのを抑制することができる。従って、排ガスを除害する際に発生する熱を効率良く利用することにより省エネルギー化を図ることができる。
(実施形態3)
図3は、本発明の実施形態3による排ガス処理装置を模式的に示す構成図であり、図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
図3は、本発明の実施形態3による排ガス処理装置を模式的に示す構成図であり、図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
真空ポンプ1には冷却水配管20が接続されており、この冷却水配管20は真空ポンプ1へ冷却水を供給する配管である。実施形態1では、温水配管が真空ポンプ1の出口側の配管2の周囲を通っているが、実施形態3では温水配管(循環用配管)21が冷却水配管20の周囲を通るように配置されている。
一般的に半導体製造装置の冷却水は、プロセス装置要求仕様に合わせてある為、20℃設定であることが多い。しかしながら温度低下による生成物発生が懸念される真空ポンプへの冷却用として使用するには、20℃の冷却水では温度が低い場合がある。
上記実施形態3によれば、温水配管21を通る温水によって冷却水配管20を通る例えば20℃程度の冷却水を加熱することができる。その結果、例えば30℃〜32℃程度に加熱された冷却水が真空ポンプ1へ供給されるため、真空ポンプ1内を通る排ガスが真空ポンプ1内で温度低下するのを抑制でき、真空ポンプ1内に生成物が付着するのを抑制することができる。従って、排ガスを除害する際に発生する熱を効率良く利用することにより省エネルギー化を図ることができる。
上記実施形態3によれば、温水配管21を通る温水によって冷却水配管20を通る例えば20℃程度の冷却水を加熱することができる。その結果、例えば30℃〜32℃程度に加熱された冷却水が真空ポンプ1へ供給されるため、真空ポンプ1内を通る排ガスが真空ポンプ1内で温度低下するのを抑制でき、真空ポンプ1内に生成物が付着するのを抑制することができる。従って、排ガスを除害する際に発生する熱を効率良く利用することにより省エネルギー化を図ることができる。
(実施形態4)
図4は、本発明の実施形態4による排ガス処理装置を模式的に示す構成図であり、図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
図4は、本発明の実施形態4による排ガス処理装置を模式的に示す構成図であり、図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
半導体製造装置の真空チャンバー22と真空ポンプ1とは真空配管23によって接続されている。真空ポンプ1は真空チャンバー22から真空配管23を介して排ガスを吸引するポンプである。実施形態1では、温水配管が真空ポンプ1の出口側の配管2の周囲を通っているが、実施形態4では温水配管(循環用配管)24が真空チャンバー23の周囲を通るように配置されている。
上記実施形態4によれば、温水配管24を通る例えば60℃程度の温水によって真空チャンバー23を加熱することができ、その結果、真空チャンバー23が処理に必要な温度に調整される。従って、排ガスを除害する際に発生する熱を効率良く利用することにより省エネルギー化を図ることができる。
(実施形態5)
図5は、本発明の実施形態5による排ガス処理装置を模式的に示す構成図であり、図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
図5は、本発明の実施形態5による排ガス処理装置を模式的に示す構成図であり、図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
実施形態1では、温水配管が真空ポンプ1の出口側の配管2の周囲を通っているが、実施形態5では温水配管(循環用配管)25が供給配管8の周囲を通るように配置されている。
水スクラバー5に供給される水は、排ガス中に含まれるフッ素成分を除去するためにカルシウム成分を含む水が好ましいため、市水又は工業用水が使用される。市水又は工業用水は、季節による気温の変化で温度が大きく変動し、冬場は温度が10℃程度まで低下して供給配管8などで結露が発生し、その結露が垂れて漏水センサーを作動させて排ガス処理装置が停止する事態を引き起こすことがある。
これに対し、上記実施形態5によれば、温水配管25を通る温水によって供給配管8内の市水を加熱することができ、その結果、冬場でも結露の発生を抑制できる。従って、排ガスを除害する際に発生する熱を効率良く利用することにより省エネルギー化を図ることができる。
(実施形態6)
図6は、本発明の実施形態6による排ガス処理装置を模式的に示す構成図であり、図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
図6は、本発明の実施形態6による排ガス処理装置を模式的に示す構成図であり、図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
実施形態1では、温水配管が真空ポンプ1の出口側の配管2の周囲を通っているが、実施形態6では温水配管(循環用配管)26が排気配管7の周囲を通るように配置されている。
水スクラバー5で処理された排ガスは、水分を多く含んでおり、工場排気設備へ供給される排気配管7で結露して液溜まりが発生することがある。
これに対し、上記実施形態6によれば、温水配管26を通る温水によって排気配管7内を通る排ガスを加熱することができ、その結果、排気配管7内で結露が発生するのを抑制することができる。従って、排ガスを除害する際に発生する熱を効率良く利用することにより省エネルギー化を図ることができる。
(実施形態7)
図7は、本発明の実施形態7による排ガス処理装置を模式的に示す構成図であり、図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
図7は、本発明の実施形態7による排ガス処理装置を模式的に示す構成図であり、図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
除害装置加熱部(除害用加熱部)3の出口側は配管4を介して生成物トラップ11に接続されている。生成物トラップ11は、除害装置加熱部3で加熱分解された排ガス中に含まれる生成物を除去するものであり、例えば公知の生成物トラップフィルターなどが用いられる。
生成物トラップ11の出口側は配管13を介して水スクラバー5に接続されている。この配管13は、生成物トラップ11にて生成物が除去された熱を保有する排ガスを、真空ポンプ1の出口側の配管2の周囲を通って水スクラバー5に送るものである。この配管13内に熱を保有する排ガスを通すことにより、真空ポンプ1の出口側及び配管2が加熱される。その結果、真空ポンプ1の出口側から排出される100℃以上の排ガスが配管2内で温度低下するのを抑制でき、真空ポンプ1の出口側及び配管2に生成物が付着するのを抑制することができる。
また、生成物トラップ11の出口側はバイパス配管12を介して水スクラバー5に接続されており、このバイパス配管12は次のように使用される。
生成物トラップ11に排ガス中より除去した生成物が溜まるため、その溜まった生成物を除去する定期的なメンテナンスが必要となる。そのメンテナンス時には、排ガスが配管13を通して水スクラバー5へ送られるのではなく、バイパス配管12を通して水スクラバー5へ送られる。これにより、排ガス処理装置の稼動を停止することなく生成物トラップ11のメンテナンスが可能となり、その結果、メンテナンスによる排ガス処理装置の稼働率低下を抑制することができる。
生成物トラップ11に排ガス中より除去した生成物が溜まるため、その溜まった生成物を除去する定期的なメンテナンスが必要となる。そのメンテナンス時には、排ガスが配管13を通して水スクラバー5へ送られるのではなく、バイパス配管12を通して水スクラバー5へ送られる。これにより、排ガス処理装置の稼動を停止することなく生成物トラップ11のメンテナンスが可能となり、その結果、メンテナンスによる排ガス処理装置の稼働率低下を抑制することができる。
配管13によって水スクラバー5に送られた排ガスには、水スクラバー5によってシャワー状の市水がかけられ熱交換される。これにより、前記シャワー状の市水は排ガスの熱で加熱されて温水とされ、排ガスの温度は低下する。また、水スクラバー5においてフッ素及び熱が除去された後の排ガスは、排気配管7を通して工場排気設備へ送られる。
上記実施形態7においても実施形態1と同様の効果を得ることができる。
また、生成物トラップ11で排ガス中に含まれる生成物を除去することにより、配管13の内部で生成物による詰まりを抑制するという効果が得られる。
また、生成物トラップ11で排ガス中に含まれる生成物を除去することにより、配管13の内部で生成物による詰まりを抑制するという効果が得られる。
なお、上記実施形態7と実施形態2〜6それぞれを適宜組み合わせて実施することも可能である。詳細には、上記実施形態7では、熱を保有する排ガスを通す配管13を、真空ポンプ1の出口側の配管2の周囲を通るように配置しているが、配管13をN2配管19の周囲を通るように配置することも可能であり、また、配管13を冷却水配管20の周囲を通るように配置することも可能であり、また、配管13を真空チャンバー22の周囲を通るように配置することも可能であり、また、配管13を供給配管8の周囲を通るように配置することも可能であり、また、配管13を排気配管7の周囲を通るように配置することも可能である。
(実施形態8)
図8は、本発明の実施形態8による排ガス処理装置を模式的に示す構成図であり、図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
図8は、本発明の実施形態8による排ガス処理装置を模式的に示す構成図であり、図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
真空ポンプ1の出口側には出口側ヒータ(電熱ヒータ)15が取り付けられており、この出口側ヒータ15は真空ポンプ1の出口側から排出される排ガスを加熱するものである。また、配管2には配管ヒータ(電熱ヒータ)14が取り付けられており、この配管ヒータ14は配管2内を通る排ガスを加熱するものである。
除害装置加熱部(除害用加熱部)3では、1000℃以上の高温で排ガスの加熱分解処理がされるため、除害装置加熱部3の表面より放熱が生じる。そこで、除害装置加熱部3に熱電変換素子16が配置される。この熱電変換素子16は除害装置加熱部3において生じる熱を電気エネルギーに変換する素子である。この熱電変換素子16と配管ヒータ14及び出口側ヒータ15それぞれとは電気供給ライン17によって電気的に接続されている。電気供給ライン17は、熱電変換素子16によって変換された電気エネルギーを配管ヒータ14及び出口側ヒータ15それぞれに供給するためのものである。
熱電変換素子16により変換された電気を、電気供給ライン17により配管ヒータ14及び出口側ヒータ15それぞれの電源として供給する。これにより、配管2及び真空ポンプ1の出口側の周囲が加熱され、その結果、真空ポンプ1の出口側から排出される100℃以上の排ガスが配管2内で温度低下するのを抑制でき、真空ポンプ1の出口側及び配管2に生成物が付着するのを抑制することができる。
図8中には示していないが、除害装置加熱部3の出口側は配管4を介して図1と同様に動作する水スクラバー5に接続され、この水スクラバー5には市水を供給する供給配管8、配水管9及び排気配管7それぞれが接続されている。
上記実施形態8においても実施形態1と同様の効果を得ることができる。
なお、上記実施形態8と実施形態2〜6それぞれを適宜組み合わせて実施することも可能である。詳細には、上記実施形態8では、配管ヒータ14,15を配管2及び真空ポンプ1の出口側の周囲に配置しているが、配管ヒータをN2配管19の周囲に配置することも可能であり、また、配管ヒータを冷却水配管20の周囲に配置することも可能であり、また、配管ヒータを真空チャンバー22の周囲に配置することも可能であり、また、配管ヒータを供給配管8の周囲に配置することも可能であり、また、配管ヒータを排気配管7の周囲に配置することも可能である。
また、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することが可能である。例えば、除害装置加熱部3を除害装置薬剤式吸着部に変更して実施することも可能である。この除害装置薬剤式吸着部は、排ガスを薬剤と反応させることによって排ガスを分解するものである。薬剤との反応時に反応熱が発生し、排ガスや薬剤塔が熱を保有するため、その熱を利用することにより上述した実施形態と同様の作用効果を得ることが可能である。
また、上記実施形態では、供給配管8から水スクラバー5に市水を供給しているが、供給配管8から水スクラバー5に工業用水を供給しても良い。
1…真空ポンプ、2…配管、3…除害装置加熱部、4…配管、5…水スクラバー、6,18,21,24,25,26…温水配管(循環用配管)、7…排気配管、8…供給配管、9…排水管、10…循環水タンク、11…生成物トラップ、12…バイパス配管、13…配管、14…配管ヒータ(電熱ヒータ)、15…出口側ヒータ(電熱ヒータ)、16…熱電変換素子、17…電気供給ライン、19…N2配管、20…冷却水配管、22…真空チャンバー、23…真空配管
Claims (14)
- 半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする排ガス処理装置。 - 半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記真空ポンプにパージ用N2ガスを供給する配管と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする排ガス処理装置。 - 半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記真空ポンプに冷却水を供給する配管と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする排ガス処理装置。 - 半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
前記水スクラバーに水を供給する配管と、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする排ガス処理装置。 - 半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
前記水スクラバーで冷却された排ガスを工場排気設備へ送る配管と、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする排ガス処理装置。 - 請求項1乃至5のいずれか一項において、前記温水が前記配管の周囲に導かれた後に前記水スクラバーに戻されるような循環経路を形成する循環用配管をさらに具備することを特徴とする排ガス処理装置。
- 請求項6において、前記水スクラバーに接続された供給配管をさらに具備し、前記供給配管は、前記循環用配管を前記温水が所定回数又は所定時間循環した後に新しい水を前記水スクラバーに供給する配管であることを特徴とする排ガス処理装置。
- 半導体製造装置の真空チャンバーから排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記真空チャンバーを加熱することを特徴とする排ガス処理装置。 - 半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガス中に含まれる生成物を除去する生成物トラップと、
前記生成物トラップによって生成物が除去された排ガスを前記配管の周囲に導くための加熱用配管と、
前記加熱用配管を通過した排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記配管は、前記加熱用配管内を通る前記排ガスによって加熱されることを特徴とする排ガス処理装置。 - 請求項9において、前記生成物トラップと前記水スクラバーとを繋ぐバイパス配管をさらに具備し、前記生成物トラップのメンテナンス時に、前記排ガスを前記加熱用配管を通さずに前記バイパス配管を通して前記水スクラバーに送ることを特徴とする排ガス処理装置。
- 半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記配管内を通る排ガスを加熱する電熱ヒータと、
前記除害用加熱部から発生する熱を電気エネルギーに変換する熱電変換素子と、
前記熱電変換素子で変換された電気エネルギーを前記電熱ヒータに供給する供給ラインと、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備することを特徴とする排ガス処理装置。 - 半導体製造装置によって半導体処理を行い、前記半導体製造装置から排出される排ガスを排ガス処理装置によって処理する工程を有する半導体装置の製造方法において、
前記排ガス処理装置は、
前記半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記水スクラバーで前記排ガスによって加熱された温水により前記配管を加熱することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体製造装置によって半導体処理を行い、前記半導体製造装置から排出される排ガスを排ガス処理装置によって処理する工程を有する半導体装置の製造方法において、
前記排ガス処理装置は、
半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記除害用加熱部によって分解された排ガス中に含まれる生成物を除去する生成物トラップと、
前記生成物トラップによって生成物が除去された排ガスを前記配管の周囲に導くための加熱用配管と、
前記加熱用配管を通過した排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備し、
前記配管は、前記加熱用配管内を通る前記排ガスによって加熱されることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体製造装置によって半導体処理を行い、前記半導体製造装置から排出される排ガスを排ガス処理装置によって処理する工程を有する半導体装置の製造方法において、
前記排ガス処理装置は、
半導体製造装置から排ガスを吸引する真空ポンプと、
前記排ガスを加熱して分解する除害用加熱部と、
前記真空ポンプによって吸引された前記排ガスを前記除害用加熱部に送るための配管と、
前記配管内を通る排ガスを加熱する電熱ヒータと、
前記除害用加熱部から発生する熱を電気エネルギーに変換する熱電変換素子と、
前記熱電変換素子で変換された電気エネルギーを前記電熱ヒータに供給する供給ラインと、
前記除害用加熱部によって分解された排ガスを水で冷却する水スクラバーと、
を具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008294531A JP2010119935A (ja) | 2008-11-18 | 2008-11-18 | 排ガス処理装置及び半導体装置の製造方法 |
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JP2008294531A JP2010119935A (ja) | 2008-11-18 | 2008-11-18 | 排ガス処理装置及び半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
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Family
ID=42321755
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008294531A Withdrawn JP2010119935A (ja) | 2008-11-18 | 2008-11-18 | 排ガス処理装置及び半導体装置の製造方法 |
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JP (1) | JP2010119935A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2390151A2 (en) | 2010-05-25 | 2011-11-30 | Toyoda Iron Works Co., Ltd. | Operating pedal device for vehicle |
CN104180621A (zh) * | 2014-08-14 | 2014-12-03 | 石家庄元兴亮化工科技有限公司 | 一种碱式碳酸锌干燥装置 |
WO2017045363A1 (zh) * | 2015-09-18 | 2017-03-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 剥离装置和显示基板生产线 |
JP2017526163A (ja) * | 2014-06-04 | 2017-09-07 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 試薬供給システムの凍結防止用の熱交換器 |
-
2008
- 2008-11-18 JP JP2008294531A patent/JP2010119935A/ja not_active Withdrawn
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