JP4549753B2 - ボグリボースの製造法 - Google Patents
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Description
本発明は、ボグリボースを製造するための中間体及び該中間体の製造方法、並びに該中間体からボグリボースを製造する方法に関する。
ボグリボースは、グルコシダーゼ阻害作用を持つ擬似アミノ糖であるバリオールアミンのＮ−置換誘導体で、より強いグルコシダーゼ阻害作用を持つことから抗糖尿病薬として利用されている。ボグリボースは、バリオールアミンと１，３−ジヒドロキシアセトン二量体との還元的アミノ化反応によって得られる（特許文献１）ことから種々の合成法が報告されている。しかし、従来報告された合成法は、多くの合成工程を要する。例えば、イノソース誘導体を原料とする合成法（特許文献２）では１３工程を要し、キナ酸を原料とする合成法（非特許文献１）では１６工程を要し、グルコースからFerrier転位反応を利用して得られる[2S-（2a,3a,4a,5a)]-5-ヒドロキシ-2,3,4-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキサノンを中間体にした合成法（特許文献３）では１７工程を要する。
また、Ｄ−グルコノ−１，５−ラクトン誘導体を原料とし、擬似ハロ糖誘導体を経由する合成法（特許文献４）は短工程で効率のよい合成法であるが、脱ハロゲンの工程で有機スズ試薬を用いており安全性、環境の面で問題がある。同様の出発原料から擬似チオ糖誘導体を経由する合成法（特許文献５）は、この問題を解決しているが、使用したジチアンの脱保護工程で生じるジチオールの臭気が問題となる。バリオールアミンをストレプトミセス・ハイグロスコピクス・サブスピーシス・リモネウス（Streptomyces hygroscopicus subsp. Limoneus)培養物から単離する方法（特許文献６）は最も簡潔な方法であるが、収量の面で工業的方法としては問題がある。また、バリダマイシンを酵素反応に付して得られるバリエナミンの製法（特許文献７、特許文献８）は副生成物が利用されないため効率的とは言えない。
本発明は上記の事情に鑑みなされたもので、ボグリボースを短い工程で効率的に製造するための中間体、及びこの中間体からボグリボースを製造する方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意研究を行った結果、一般式（５）：
（式中、Ｒ1及びＲ2は、炭素数１〜６の低級アルキル基、又は共同して ＝O 基を表わす。Ｒ1及びＲ2が低級アルキル基の場合は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、またＲ1とＲ2とで共同して炭素数４〜７のシクロアルキル環を形成してもよい。Ｂnはベンジル基を表わす。なお、以下の化学式においても、化学式中のＢnはベンジル基を表わす。）
で表される化合物を中間体とするボグリボースの製造法を見出し、本発明を完成するに至った。
で表される化合物を中間体とするボグリボースの製造法を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、上記の一般式（５）で示される化合物である。
また、本発明は、次式（１）：
また、本発明は、次式（１）：
で示されるケトン化合物を、イソプロポキシジメチルシリルメチルグリニヤール試薬を用いて次式（２）
で示されるシリル体を合成し、このシリル体を酸化して次式（３）
で示されるトリオールとなし、その後アセタール化又はカーボネート化して次式の一般式（４）
（式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ。）
で示されるスピロ型二環式化合物となし、その後酸化することを特徴とする一般式（５）
で示されるスピロ型二環式化合物となし、その後酸化することを特徴とする一般式（５）
（式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ。）
で示される化合物の製造方法である。
で示される化合物の製造方法である。
更に、本発明は、上記の一般式（５）で示される化合物を、２−アミノ−１，３−プロパンジオールと還元的アミノ化反応させて次式の一般式（６）
（式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ。）
となし、次いで脱保護基することを特徴とする次式（７）
となし、次いで脱保護基することを特徴とする次式（７）
で示されるボグリボースの製造方法である。
また、本発明は、上記の一般式（５）で示される化合物にヒドロキシアミンを反応させて次式の一般式（８）
（式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ。）
で示されるオキシムに変換し、還元して次式（９）
で示されるオキシムに変換し、還元して次式（９）
（式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ。）
で示されるアミンに変換後、次式（１０）
で示されるアミンに変換後、次式（１０）
で示される１,３ージヒロキシアセトン二量体と還元的アミノ化反応させて次式の一般式（６）となし、
次いで,脱保護することを特徴とする次式（７）
で示されるボグリボースの製造方法である。
本発明によると、ボグリボースを短い工程で効率的に製造することができる。
本発明は、上記の一般式（５）で示される新規な化合物を中間体とし、ボグリボースを製造する方法である。この中間体は、次に示す反応スキームで製造できる。
（式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ。）
すなわち、文献（Tetrahedron lett.,1996,37,649)記載の入手容易なケトン（１）を出発原料として、工程Ａ〜工程Ｄを経て製造する。
すなわち、文献（Tetrahedron lett.,1996,37,649)記載の入手容易なケトン（１）を出発原料として、工程Ａ〜工程Ｄを経て製造する。
工程Ａ（グリニャール反応工程)
出発原料であるケトン（１）に、Org.Synth.,1990,69,96-105に記載されるように、イソプロポキシシリルジメチルグリニャール試薬（１１）を用いて立体選択的なグリニャール反応を行ないシリル体（２）を得る工程である。この反応は通常不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、塩化メチレン、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは０℃から室温である。
出発原料であるケトン（１）に、Org.Synth.,1990,69,96-105に記載されるように、イソプロポキシシリルジメチルグリニャール試薬（１１）を用いて立体選択的なグリニャール反応を行ないシリル体（２）を得る工程である。この反応は通常不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、塩化メチレン、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは０℃から室温である。
工程Ｂ（酸化反応工程)
シリル体（２）を、Org.Synth.,1990,69,96-105に記載されるように、フッ化カリウム、炭酸水素カリウム存在下３０％過酸化水素水によって酸化し、トリオール（３）を得る工程である。他にJ.Am.Chem.Soc.,2004,126,84に記載されているように、テトラフルオロホウ酸を加え、ｍ−クロロ過安息香酸で酸化する方法を用いてもよい。この反応は通常不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、塩化メチレン、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、メタノール、エタノール等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは室温から３５℃である。
シリル体（２）を、Org.Synth.,1990,69,96-105に記載されるように、フッ化カリウム、炭酸水素カリウム存在下３０％過酸化水素水によって酸化し、トリオール（３）を得る工程である。他にJ.Am.Chem.Soc.,2004,126,84に記載されているように、テトラフルオロホウ酸を加え、ｍ−クロロ過安息香酸で酸化する方法を用いてもよい。この反応は通常不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、塩化メチレン、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、メタノール、エタノール等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは室温から３５℃である。
工程Ｃ（スピロ型二環式化合物合成工程）
トリオール（３）の３個のアルコールの内、１級と３級アルコールをスピロ型二環式化合物（４）に変換する工程である。この反応は、通常の１，２−ジオールを同一環状保護基で保護する方法を用いて行なうことができる。例えばトリオール（３）を、カンファースルホン酸の存在下、アセトン又はアセトンジメチルアセタールと反応させることによって、Ｒ1、Ｒ2がいずれもメチルのスピロ型二環化合物（４）（＝イソプロピリデンアセタール）を得ることができる。アセトンジメチルアセタールの代わりにベンズアルデヒドを用いた場合は、Ｒ1、Ｒ2のいずれかがフェニルのスピロ型二環化合物（４）（＝ベンジリデンアセタール）を得ることができる。また、シクロヘキサノンを用いた場合は、Ｒ1、Ｒ2が共同して炭素数６のシクロアルキル環を形成したスピロ型二環化合物（４）（＝シクロヘキシリデンアセタール）を得ることができる。これらの反応は酸の存在下で行うが、酸としては、上記のカンファースルホン酸の他に、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、p-トルエンスルホン酸、又はアンバーライト等の強酸性イオン交換樹脂等が挙げられる。また、トリオール（３）のトルエン溶液に１，１'−カルボニルジイミダゾールを作用させると、Ｒ1、Ｒ2が共同して＝Ｏを形成したスピロ型二環化合物（４）（＝カーボネート）を得ることができる。この反応に用いられる溶媒としては、上記の他にテトラヒドロフラン、塩化メチレン、アセトニトリル、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは室温である。
トリオール（３）の３個のアルコールの内、１級と３級アルコールをスピロ型二環式化合物（４）に変換する工程である。この反応は、通常の１，２−ジオールを同一環状保護基で保護する方法を用いて行なうことができる。例えばトリオール（３）を、カンファースルホン酸の存在下、アセトン又はアセトンジメチルアセタールと反応させることによって、Ｒ1、Ｒ2がいずれもメチルのスピロ型二環化合物（４）（＝イソプロピリデンアセタール）を得ることができる。アセトンジメチルアセタールの代わりにベンズアルデヒドを用いた場合は、Ｒ1、Ｒ2のいずれかがフェニルのスピロ型二環化合物（４）（＝ベンジリデンアセタール）を得ることができる。また、シクロヘキサノンを用いた場合は、Ｒ1、Ｒ2が共同して炭素数６のシクロアルキル環を形成したスピロ型二環化合物（４）（＝シクロヘキシリデンアセタール）を得ることができる。これらの反応は酸の存在下で行うが、酸としては、上記のカンファースルホン酸の他に、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、p-トルエンスルホン酸、又はアンバーライト等の強酸性イオン交換樹脂等が挙げられる。また、トリオール（３）のトルエン溶液に１，１'−カルボニルジイミダゾールを作用させると、Ｒ1、Ｒ2が共同して＝Ｏを形成したスピロ型二環化合物（４）（＝カーボネート）を得ることができる。この反応に用いられる溶媒としては、上記の他にテトラヒドロフラン、塩化メチレン、アセトニトリル、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは室温である。
工程Ｄ（酸化反応工程)
スピロ型二環式化合物（４）の水酸基を酸化してケトンにする工程である。この酸化によって、本発明の中間体（５）が得られる。この反応は、オキサリルクロリドージメチルスルホキシドを酸化剤として用いるSwern酸化などの方法を用いることができる。他に用いられる酸化剤としてはピリジニウムクロロクロマート、ピリジニウムジクロロクロマート、トリフルオロ酢酸無水物-ジメチルスルホキシド、無水酢酸-ジメチルスルホキシド、三酸化硫黄-ジメチルスルホキシド、Dess-Martin's periodinane等が挙げられ、好ましくはトリフルオロ酢酸無水物-ジメチルスルホキシドである。この反応は通常不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としては塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは−６０℃〜０℃である。
次に、本発明の一般式（５）で示される中間体からボグリボースを製造する方法を説明する。次の反応スキームはその一方法を示したものである。
スピロ型二環式化合物（４）の水酸基を酸化してケトンにする工程である。この酸化によって、本発明の中間体（５）が得られる。この反応は、オキサリルクロリドージメチルスルホキシドを酸化剤として用いるSwern酸化などの方法を用いることができる。他に用いられる酸化剤としてはピリジニウムクロロクロマート、ピリジニウムジクロロクロマート、トリフルオロ酢酸無水物-ジメチルスルホキシド、無水酢酸-ジメチルスルホキシド、三酸化硫黄-ジメチルスルホキシド、Dess-Martin's periodinane等が挙げられ、好ましくはトリフルオロ酢酸無水物-ジメチルスルホキシドである。この反応は通常不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としては塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは−６０℃〜０℃である。
次に、本発明の一般式（５）で示される中間体からボグリボースを製造する方法を説明する。次の反応スキームはその一方法を示したものである。
（式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ。）
以下に各反応工程を説明する。
以下に各反応工程を説明する。
工程Ｅ（還元的アミノ化工程)
本発明の中間体（５）を還元剤の存在下、２−アミノ−１，３−プロパンジオールと反応させて、ボグリボースに変換可能なアミン（６）を得る工程である。用いられる還元剤としては、シアン化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム等がある。この反応は通常不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはメタノール、エタノール、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは室温〜３５℃である。
本発明の中間体（５）を還元剤の存在下、２−アミノ−１，３−プロパンジオールと反応させて、ボグリボースに変換可能なアミン（６）を得る工程である。用いられる還元剤としては、シアン化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム等がある。この反応は通常不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはメタノール、エタノール、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは室温〜３５℃である。
工程Ｆ（ボグリボースへの変換工程）
上記アミン（６）のアルコールの保護基、すなわちアセタール又はカーボネートとベンジルとを脱保護して、目的化合物のボグリボース（７）を得る工程である。アセタールの除去は水と塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、p-トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、アンバーライト等の強酸性イオン交換樹脂等の酸を用いた加水分解によって行われる。カーボネートの除去は水と水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンバーライト等の強塩基性イオン交換樹脂等の塩基を用いる加水分解、又は水素化リチウムアルミニウム、シアン化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム等を用いた還元によって行われる。ベンジル基の除去はパラジウム炭素、水酸化パラジウム、パラジウム黒、ラネーニッケル等を触媒とし、水素ガス、ギ酸などを還元剤とする水素化分解反応によって行われる。
この反応は通常不活性溶媒中で行われ、好適なものとしてはメタノール、エタノール、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは０℃〜室温である。
この合成法を用いると、出発原料のケトン化合物（１）から６工程でボグリボース（７）が得られる。
上記アミン（６）のアルコールの保護基、すなわちアセタール又はカーボネートとベンジルとを脱保護して、目的化合物のボグリボース（７）を得る工程である。アセタールの除去は水と塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、p-トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、アンバーライト等の強酸性イオン交換樹脂等の酸を用いた加水分解によって行われる。カーボネートの除去は水と水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンバーライト等の強塩基性イオン交換樹脂等の塩基を用いる加水分解、又は水素化リチウムアルミニウム、シアン化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム等を用いた還元によって行われる。ベンジル基の除去はパラジウム炭素、水酸化パラジウム、パラジウム黒、ラネーニッケル等を触媒とし、水素ガス、ギ酸などを還元剤とする水素化分解反応によって行われる。
この反応は通常不活性溶媒中で行われ、好適なものとしてはメタノール、エタノール、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは０℃〜室温である。
この合成法を用いると、出発原料のケトン化合物（１）から６工程でボグリボース（７）が得られる。
更に、本発明の一般式（５）で示される中間体からボグリボースを製造する他の方法を、次の反応スキームで説明する。
（式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ。）
以下に各反応工程を説明する。
以下に各反応工程を説明する。
工程Ｇ（オキシム合成工程)
本発明の中間体（５）にヒドロキシルアミンを反応させてオキシム（８）を得る工程である。この反応は通常不活性溶媒中で行われる。好適な溶媒としてはメタノール、エタノール、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは０〜２０℃である。
本発明の中間体（５）にヒドロキシルアミンを反応させてオキシム（８）を得る工程である。この反応は通常不活性溶媒中で行われる。好適な溶媒としてはメタノール、エタノール、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは０〜２０℃である。
工程Ｈ（還元工程)
オキシム（８）を還元剤してアミン（９）を得る工程である。パラジウム炭素、水酸化パラジウム、パラジウム黒、ラネーニッケル等を触媒とし、水素ガス、ギ酸などを還元剤とする水素添加反応によりオキシムを還元する。またこの反応は還元剤を用いて同様の還元を行ってもよく、還元剤としては水素化リチウムアルミニウム、シアン化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム-塩化ニッケル等が挙げられる。この反応は通常不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはメタノール、エタノール、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは０〜２０℃である。
オキシム（８）を還元剤してアミン（９）を得る工程である。パラジウム炭素、水酸化パラジウム、パラジウム黒、ラネーニッケル等を触媒とし、水素ガス、ギ酸などを還元剤とする水素添加反応によりオキシムを還元する。またこの反応は還元剤を用いて同様の還元を行ってもよく、還元剤としては水素化リチウムアルミニウム、シアン化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム-塩化ニッケル等が挙げられる。この反応は通常不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはメタノール、エタノール、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは０〜２０℃である。
工程Ｉ（還元的アミノ化工程)
アミン（９）と１，３−ジヒドロキシアセトン二量体（１０）とを還元的アミノ化反応させてボグリボースに変換可能なアミン(６)を得る工程である。用いられる還元剤はシアン化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウムなどである。この反応は、通常不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはメタノール、エタノール、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは室温〜３５℃である。
アミン（９）と１，３−ジヒドロキシアセトン二量体（１０）とを還元的アミノ化反応させてボグリボースに変換可能なアミン(６)を得る工程である。用いられる還元剤はシアン化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウムなどである。この反応は、通常不活性溶媒中で行われ、好適な溶媒としてはメタノール、エタノール、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、好ましくは室温〜３５℃である。
工程Ｊ（ボグリボースにする工程）
先に述べた工程Ｆと同様にして、アミン（６）のアルコールの保護基、すなわちアセタール又はカーボネートとベンジルとを脱保護して、目的化合物のボグリボース（７）を得る工程である。
以下、実施例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
先に述べた工程Ｆと同様にして、アミン（６）のアルコールの保護基、すなわちアセタール又はカーボネートとベンジルとを脱保護して、目的化合物のボグリボース（７）を得る工程である。
以下、実施例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
本発明の中間体化合物（５）を製造する実施例である。
Ａ．（3S,4S,6S,1R,5R)-1-（イソプロポキシジメチルシリルメチル)-4,5,6-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキサン-1,3-ジオールの合成
アルゴン気流下、文献（J.Org.Chem.,1994,59,3135,Tetrahedron lett.,1996,37,649)に記載の製造方法に従ってグルコースから得た（2S,4S,5S,3R)-5-ヒドロキシ-2,3,4-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキサン-1-オン４．５ｇをテトラヒドロフラン２１．０ｍｌ溶液とし、氷冷下調整したイソプロポキシシリルジメチルグリニャール試薬０．４８Ｍ、５４．２ｍｌ（Org.Synth.,1990,69,96-105）を２０分かけて滴下し、さらに同温度で１時間撹拌した。同温度で飽和塩化アンモニア水溶液を加え,１０分撹拌した後反応液を減圧下濃縮した。残渣を酢酸エチル１５０ｍｌで抽出し、有機層を飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシウム乾燥し減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）にて精製し（3S,4S,6S,1R,5R)-1-（イソプロポキシジメチルシリルメチル)-4,5,6-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキサン-1,3-ジオール２．８ｇ（４７．７％）を無色油状物として得た。
1H-NMR（CDCl3)δ: 0.16(s, 3H), 0.16(s, 3H), 0.62(d, 1H, J=14.8Hz), 1.13(d, 3H, J=2.0Hz), 1.14(d, 3H, J=2.0Hz), 1.38(d, 1H, J=14.8Hz), 1.43(dd, 1H, J=2.0, 15.2Hz), 2.35(dd, 1H, J=3.2, 15.2Hz), 3.22(d, 1H, J=9.6Hz), 3.41(dd, 1H, J=2.8, 10.0Hz), 3.74(s, 1H), 3.98(quin, 1H, J=6.0Hz), 4.05-4.15(m, 3H), 4.65-4.85(m, 4H), 5.01(d, 1H, J=11.2Hz), 5.04(d, 1H, J=11.6Hz), 7.25-7.40(m, 15H).
ESI（positive）: 587（M+Na）+, ESI（negative）: 563（M-H）-．
Ａ．（3S,4S,6S,1R,5R)-1-（イソプロポキシジメチルシリルメチル)-4,5,6-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキサン-1,3-ジオールの合成
アルゴン気流下、文献（J.Org.Chem.,1994,59,3135,Tetrahedron lett.,1996,37,649)に記載の製造方法に従ってグルコースから得た（2S,4S,5S,3R)-5-ヒドロキシ-2,3,4-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキサン-1-オン４．５ｇをテトラヒドロフラン２１．０ｍｌ溶液とし、氷冷下調整したイソプロポキシシリルジメチルグリニャール試薬０．４８Ｍ、５４．２ｍｌ（Org.Synth.,1990,69,96-105）を２０分かけて滴下し、さらに同温度で１時間撹拌した。同温度で飽和塩化アンモニア水溶液を加え,１０分撹拌した後反応液を減圧下濃縮した。残渣を酢酸エチル１５０ｍｌで抽出し、有機層を飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシウム乾燥し減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）にて精製し（3S,4S,6S,1R,5R)-1-（イソプロポキシジメチルシリルメチル)-4,5,6-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキサン-1,3-ジオール２．８ｇ（４７．７％）を無色油状物として得た。
1H-NMR（CDCl3)δ: 0.16(s, 3H), 0.16(s, 3H), 0.62(d, 1H, J=14.8Hz), 1.13(d, 3H, J=2.0Hz), 1.14(d, 3H, J=2.0Hz), 1.38(d, 1H, J=14.8Hz), 1.43(dd, 1H, J=2.0, 15.2Hz), 2.35(dd, 1H, J=3.2, 15.2Hz), 3.22(d, 1H, J=9.6Hz), 3.41(dd, 1H, J=2.8, 10.0Hz), 3.74(s, 1H), 3.98(quin, 1H, J=6.0Hz), 4.05-4.15(m, 3H), 4.65-4.85(m, 4H), 5.01(d, 1H, J=11.2Hz), 5.04(d, 1H, J=11.6Hz), 7.25-7.40(m, 15H).
ESI（positive）: 587（M+Na）+, ESI（negative）: 563（M-H）-．
Ｂ．（1S,3S,4S,6S,5R)-1-（ヒドロキシメチル)-4,5,6-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキサン-1,3-ジオールの合成
（3S,4S,6S,1R,5R)-1-（イソプロポキシジメチルシリルメチル)-4,5,6-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキサン-1,3-ジオール２．８ｇをテトラヒドロフラン２５．０ｍｌ溶液とし、室温で炭酸水素カリウム５５１ｍｇ、フッ化カリウム４０５ｍｇ、３０％過酸化水素水１．９ｇを加え２時間撹拌した後３５℃に昇温し１．５時間撹拌した。反応液に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え２時間撹拌し、減圧下半濃縮した反応液を酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。有機層を飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシウム乾燥し減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル:塩化メチレン＝２：１：１）にて精製し（1S,3S,4S,6S,5R)-1-（ヒドロキシメチル)-4,5,6-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキサン-1,3-ジオール１．９ｇ（８２．６％）を無色結晶として得た。
1H-NMR（CDCl3)δ: 1.38(m, 1H), 1.53(dd, 1H, J=2.4, 15.2Hz), 2.12(dd, 1H, J=3.2, 15.6Hz), 3.25-3.45(m, 2H), 3.47(dd, 1H, J=3.2, 9.6Hz), 3.75(s, 1H), 4.15-4.25(m, 2H), 4.65-5.05(m, 4H), 4.74(s, 2H), 7.25-7.40(m, 15H).
ESI(positive): 465（M+H）+, 482（M+NH4）+, ESI（negative）: 463（M-H）-．
（3S,4S,6S,1R,5R)-1-（イソプロポキシジメチルシリルメチル)-4,5,6-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキサン-1,3-ジオール２．８ｇをテトラヒドロフラン２５．０ｍｌ溶液とし、室温で炭酸水素カリウム５５１ｍｇ、フッ化カリウム４０５ｍｇ、３０％過酸化水素水１．９ｇを加え２時間撹拌した後３５℃に昇温し１．５時間撹拌した。反応液に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え２時間撹拌し、減圧下半濃縮した反応液を酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。有機層を飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシウム乾燥し減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル:塩化メチレン＝２：１：１）にて精製し（1S,3S,4S,6S,5R)-1-（ヒドロキシメチル)-4,5,6-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキサン-1,3-ジオール１．９ｇ（８２．６％）を無色結晶として得た。
1H-NMR（CDCl3)δ: 1.38(m, 1H), 1.53(dd, 1H, J=2.4, 15.2Hz), 2.12(dd, 1H, J=3.2, 15.6Hz), 3.25-3.45(m, 2H), 3.47(dd, 1H, J=3.2, 9.6Hz), 3.75(s, 1H), 4.15-4.25(m, 2H), 4.65-5.05(m, 4H), 4.74(s, 2H), 7.25-7.40(m, 15H).
ESI(positive): 465（M+H）+, 482（M+NH4）+, ESI（negative）: 463（M-H）-．
Ｃ．（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカン-7-オールの合成
（1S,3S,4S,6S,5R)-1-（ヒドロキシメチル)-4,5,6-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキサン-1,3-ジオール１．０ｇをアセトンジメチルアセタール４．０ｍｌ懸濁液とし、室温でカンファースルホン酸５０ｍｇを加え１時間撹拌した。反応液を１％水酸化ナトリウム水溶液に注ぎ酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。有機層を飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシウム乾燥し減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）にて精製し（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ）スピロ[4.5]デカン-7-オール１．０ｇ（９７．２％）を無色結晶として得た。
1H-NMR（CDCl3)δ: 1.40-1.50(m, 1H), 1.41(s, 3H), 1.48(s, 3H), 2.21(dd, 1H, J=3.6, 14.4Hz), 3.24(d, 1H, J=8.8Hz), 3.41(dd, 1H, J=2.8, 9.2Hz), 3.62(d, 1H, J=8.4Hz), 3.90-3.95(m, 1H), 3.97(d, 1H, J=8.4Hz), 4.05-4.15(m, 2H), 4.60-4.85(m, 4H), 4.98(m, 2H), 7.25-7.40(m, 15H).
ESI（positive): 505（M+H)+, 522（M+NH4)+, 527（M+Na)+.
（1S,3S,4S,6S,5R)-1-（ヒドロキシメチル)-4,5,6-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキサン-1,3-ジオール１．０ｇをアセトンジメチルアセタール４．０ｍｌ懸濁液とし、室温でカンファースルホン酸５０ｍｇを加え１時間撹拌した。反応液を１％水酸化ナトリウム水溶液に注ぎ酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。有機層を飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシウム乾燥し減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）にて精製し（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ）スピロ[4.5]デカン-7-オール１．０ｇ（９７．２％）を無色結晶として得た。
1H-NMR（CDCl3)δ: 1.40-1.50(m, 1H), 1.41(s, 3H), 1.48(s, 3H), 2.21(dd, 1H, J=3.6, 14.4Hz), 3.24(d, 1H, J=8.8Hz), 3.41(dd, 1H, J=2.8, 9.2Hz), 3.62(d, 1H, J=8.4Hz), 3.90-3.95(m, 1H), 3.97(d, 1H, J=8.4Hz), 4.05-4.15(m, 2H), 4.60-4.85(m, 4H), 4.98(m, 2H), 7.25-7.40(m, 15H).
ESI（positive): 505（M+H)+, 522（M+NH4)+, 527（M+Na)+.
Ｄ．（5S,9S,10S,8R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカン-7-オン（中間体（５））の合成
アルゴン気流下ジメチルスルホキシド２．３ｍｌの塩化メチレン７０ｍｌ溶液を−７８℃に冷却し、トリフルオロ酢酸３．０ｍｌの塩化メチレン２０ｍｌ溶液を１５分かけて滴下し、同温度で４５分撹拌した。（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカン-7-オール２．６ｇの塩化メチレン２０ｍｌ溶液を２０分かけて滴下し、同温度で１時間撹拌した。トリエチルアミン６ｍｌの塩化メチレン２０ｍｌ溶液を１５分かけて滴下し、同温度から終夜撹拌し、室温まで昇温した。反応液を水に注ぎ、有機層を分液し減圧下濃縮した。残渣を酢酸エチル溶液とし、水、飽和食塩水洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥し減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：塩化メチレン＝４：１：２）で精製し、目的の中間体化合物である（5S,9S,10S,8R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカン-7-オン２．６ｇ（定量的)を無色結晶として得た。
1H-NMR（CDCl3)δ: 1.36(s, 3H), 1.41(s, 3H), 2.47(d, 1H, J=14.0Hz), 2.65(d, 1H, J=14.0Hz), 3.60-3.70(m, 2H), 4.04(d, 1H, J=8.4Hz), 4.05-4.10(m, 2H), 4.57 4.96(ABq, 2H, J=11.2Hz), 4.76, 4.91(ABq, 2H, J=10.8Hz), 7.20-7.45(m, 15H).
ESI（positive）: 520（M+NH4)+.
アルゴン気流下ジメチルスルホキシド２．３ｍｌの塩化メチレン７０ｍｌ溶液を−７８℃に冷却し、トリフルオロ酢酸３．０ｍｌの塩化メチレン２０ｍｌ溶液を１５分かけて滴下し、同温度で４５分撹拌した。（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカン-7-オール２．６ｇの塩化メチレン２０ｍｌ溶液を２０分かけて滴下し、同温度で１時間撹拌した。トリエチルアミン６ｍｌの塩化メチレン２０ｍｌ溶液を１５分かけて滴下し、同温度から終夜撹拌し、室温まで昇温した。反応液を水に注ぎ、有機層を分液し減圧下濃縮した。残渣を酢酸エチル溶液とし、水、飽和食塩水洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥し減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：塩化メチレン＝４：１：２）で精製し、目的の中間体化合物である（5S,9S,10S,8R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカン-7-オン２．６ｇ（定量的)を無色結晶として得た。
1H-NMR（CDCl3)δ: 1.36(s, 3H), 1.41(s, 3H), 2.47(d, 1H, J=14.0Hz), 2.65(d, 1H, J=14.0Hz), 3.60-3.70(m, 2H), 4.04(d, 1H, J=8.4Hz), 4.05-4.10(m, 2H), 4.57 4.96(ABq, 2H, J=11.2Hz), 4.76, 4.91(ABq, 2H, J=10.8Hz), 7.20-7.45(m, 15H).
ESI（positive）: 520（M+NH4)+.
中間体化合物（５）よりボグリボースを製造する実施例である。
Ａ．2-{[（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカ-7-イル]アミノ}プロパン-1,3-ジオールの合成
（5S,9S,10S,8R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカン-7-オン（中間体化合物（５））１０８ｍｇのメタノール０．７ｍｌ、テトラヒドロフラン０．７ｍｌ溶液に２−アミノ−１，３−プロパンジオール２３ｍｇを加え室温で４時間撹拌し、シアン化ホウ素ナトリウム２９ｍｇを加えて２０時間撹拌し３５℃に昇温し５時間撹拌した。反応液に水５ｍｌを加え、塩化メチレン５０ｍｌで抽出した。有機層を水、飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシウム乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝３９：１）で精製し、2-{[（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカ-7-イル]アミノ}プロパン-1,3-ジオール２．０ｍｇ（１．７％）を無色結晶として得た。
1H-NMR（CDCl3)δ: 1.32(d, 1H, J=14.0Hz), 1.41(s, 3H), 1.52(s, 3H), 1.75(m, 1H), 1.90(m, 1H), 2.34(d, 1H, J=14.0Hz), 2.39(brd, 1H, J=6.4Hz), 2.87(m, 1H), 3.25-3.45(m, 1H), 3.28(d, 1H, J=10.0Hz), 3.37(d, 1H, J=10.0Hz), 3.50-3.60(m, 1H), 3.54(d, 1H, J=8.0Hz), 3.75-3.85(m, 1H), 3.91(d, 1H, J=8.4Hz), 4.22(dd, 1H, J=0.4, 9.6Hz), 4.64, 5.03(ABq, 2H, J=11.2Hz), 4.73, 5.10(ABq, 2H, J=12.0Hz), 4.93(s, 2H), 7.25-7.40(m, 15H).
ESI（positive): 578（M+H)+.
Ａ．2-{[（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカ-7-イル]アミノ}プロパン-1,3-ジオールの合成
（5S,9S,10S,8R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカン-7-オン（中間体化合物（５））１０８ｍｇのメタノール０．７ｍｌ、テトラヒドロフラン０．７ｍｌ溶液に２−アミノ−１，３−プロパンジオール２３ｍｇを加え室温で４時間撹拌し、シアン化ホウ素ナトリウム２９ｍｇを加えて２０時間撹拌し３５℃に昇温し５時間撹拌した。反応液に水５ｍｌを加え、塩化メチレン５０ｍｌで抽出した。有機層を水、飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシウム乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝３９：１）で精製し、2-{[（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカ-7-イル]アミノ}プロパン-1,3-ジオール２．０ｍｇ（１．７％）を無色結晶として得た。
1H-NMR（CDCl3)δ: 1.32(d, 1H, J=14.0Hz), 1.41(s, 3H), 1.52(s, 3H), 1.75(m, 1H), 1.90(m, 1H), 2.34(d, 1H, J=14.0Hz), 2.39(brd, 1H, J=6.4Hz), 2.87(m, 1H), 3.25-3.45(m, 1H), 3.28(d, 1H, J=10.0Hz), 3.37(d, 1H, J=10.0Hz), 3.50-3.60(m, 1H), 3.54(d, 1H, J=8.0Hz), 3.75-3.85(m, 1H), 3.91(d, 1H, J=8.4Hz), 4.22(dd, 1H, J=0.4, 9.6Hz), 4.64, 5.03(ABq, 2H, J=11.2Hz), 4.73, 5.10(ABq, 2H, J=12.0Hz), 4.93(s, 2H), 7.25-7.40(m, 15H).
ESI（positive): 578（M+H)+.
Ｂ．（1S,2S,4S,5S,3R)-5-{[2-ヒドロキシ-1-（ヒドロキシメチル)エチル]アミノ}-1-（ヒドロキシメチル)シクロヘキサン-1,2,3,4-テトラオール（ボグリボース（７）)の合成
2-{[（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカ-7-イル]アミノ}プロパン-1,3-ジオール８ｍｇを酢酸０．４ｍｌ、水０．１ｍｌ溶液とし、室温でトリフルオロ酢酸０．１ｍｌを加え３．５時間撹拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウムに注ぎ、１０％水酸化ナトリウムを用いてｐＨ１１とし、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシウム乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝９：１）で精製し、2-{[（1S,3S,4S,6S)-3-ヒドロキシ-3-（ヒドロキシメチル)-4,5,6-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキシル]アミノ}プロパン-1,3-ジオール５ｍｇ（６２．５％）を無色油状物として得た。
1H-NMR（CDCl3）δ: 1.23(dd, 1H, J=2.0, 15.2Hz), 1.25(m, 1H), 1.95(m, 1H), 2.12(dd, 1H, J=3.2, 15.2Hz), 2.35(m, 1H), 2.72(m, 1H), 2.77(m, 1H), 3.20(d, 1H, J=10.8Hz), 3.32(d, 1H, J=9.2Hz), 3.42(d, 1H, J=3.2Hz), 3.50(dd, 1H, J=3.2, 11.2Hz), 3.61(dd, 1H, J=4.4, 9.6Hz), 3.71(m, 4H), 4.14(dd, 1H, J=0.4, 9.2Hz), 4.63, 4.73(ABq, 2H, J=11.2Hz), 4.63, 4.93(ABq, 2H, J=11.2Hz), 4.84, 4.95(ABq, 2H, J=10.8Hz), 7.07(m, 1H), 7.25-7.40(m, 15H)．
ESI（positive）: 538（M+H）+, 536（M-H）-．
2-{[（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカ-7-イル]アミノ}プロパン-1,3-ジオール８ｍｇを酢酸０．４ｍｌ、水０．１ｍｌ溶液とし、室温でトリフルオロ酢酸０．１ｍｌを加え３．５時間撹拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウムに注ぎ、１０％水酸化ナトリウムを用いてｐＨ１１とし、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシウム乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝９：１）で精製し、2-{[（1S,3S,4S,6S)-3-ヒドロキシ-3-（ヒドロキシメチル)-4,5,6-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキシル]アミノ}プロパン-1,3-ジオール５ｍｇ（６２．５％）を無色油状物として得た。
1H-NMR（CDCl3）δ: 1.23(dd, 1H, J=2.0, 15.2Hz), 1.25(m, 1H), 1.95(m, 1H), 2.12(dd, 1H, J=3.2, 15.2Hz), 2.35(m, 1H), 2.72(m, 1H), 2.77(m, 1H), 3.20(d, 1H, J=10.8Hz), 3.32(d, 1H, J=9.2Hz), 3.42(d, 1H, J=3.2Hz), 3.50(dd, 1H, J=3.2, 11.2Hz), 3.61(dd, 1H, J=4.4, 9.6Hz), 3.71(m, 4H), 4.14(dd, 1H, J=0.4, 9.2Hz), 4.63, 4.73(ABq, 2H, J=11.2Hz), 4.63, 4.93(ABq, 2H, J=11.2Hz), 4.84, 4.95(ABq, 2H, J=10.8Hz), 7.07(m, 1H), 7.25-7.40(m, 15H)．
ESI（positive）: 538（M+H）+, 536（M-H）-．
2-{[（1S,3S,4S,6S)-3-ヒドロキシ-3-（ヒドロキシメチル)-4,5,6-トリス（フェニルメトキシ)シクロヘキシル]アミノ}プロパン-1,3-ジオール5mgをメタノール１．０ｍｌに溶解させ、水酸化パラジウム３１ｍｇを加え、水素置換し室温で１５時間撹拌した。反応液をセライトろ過し、ろ液を減圧下濃縮し、残渣を水３０ｍｌに溶解させDowex50WX8を１０ｍｌ加え室温で１．５時間撹拌した。反応液をろ過し、Dowex50WX8を水洗した後、１％アンモニア水３０ｍｌに加え１時間撹拌した。反応液をろ過し、ろ液を減圧下濃縮し淡黄色油状物を得た。残渣を３％含水エタノールで再結晶し、目的化合物である（1S,2S,4S,5S,3R)-5-{[2-ヒドロキシ-1-（ヒドロキシメチル)エチル]アミノ}-1-（ヒドロキシメチル)シクロヘキサン-1,2,3,4-テトラオール（ボグリボース)１ｍｇ（２０．０％）を無色結晶として得た。
1H-NMR(D2O+DSS)δ: 1.49(dd, 1H, J=4.0, 15.2Hz), 2.40(dd, 1H, J=2.0, 15.2Hz), 2.84 (m, 1H), 3.35-3.90(m, 10H).
ESI（positive）: 538（M+H）+, 536（M-H）-．
1H-NMR(D2O+DSS)δ: 1.49(dd, 1H, J=4.0, 15.2Hz), 2.40(dd, 1H, J=2.0, 15.2Hz), 2.84 (m, 1H), 3.35-3.90(m, 10H).
ESI（positive）: 538（M+H）+, 536（M-H）-．
中間体化合物（５）よりボグリボースを製造する実施例である。
Ａ．（5S,8S,10S,9R)-7-（ヒドロキシイミノ)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカンの合成
（5S,9S,10S,8R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカン-7-オン（中間体化合物（５））１０５ｍｇのメタノール５．７ｍｌ、テトラヒドロフラン３．７ｍｌ溶液に室温で酢酸ナトリウム１１５ｍｇ、ヒドロキシルアミンの塩酸塩２２３ｍｇを加え３０℃で１４時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシウム乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン:酢酸エチル=１：１)で精製し（5S,8S,10S,9R)-7-（ヒドロキシイミノ)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカン１５０ｍｇ（定量的）を無色油状物として得た.
1H-NMR（CDCl3)δ: 1.36(s, 3H), 1.48(s, 3H), 2.57(d, 1H, J=13.6Hz), 3.18(d, 1H, J=13.6Hz), 3.49(d, 1H, J=5.6Hz), 3.73(d, 1H, J=8.8Hz), 3.90-4.10(m, 3H), 4.45-4.55(m, 2H), 4.65-4.85(m, 4H), 7.15-7.40(m, 15H), 7.54(m, 1H).
ESI（positive): 518（M+H)+, 535（M+NH4)+.
Ａ．（5S,8S,10S,9R)-7-（ヒドロキシイミノ)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカンの合成
（5S,9S,10S,8R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカン-7-オン（中間体化合物（５））１０５ｍｇのメタノール５．７ｍｌ、テトラヒドロフラン３．７ｍｌ溶液に室温で酢酸ナトリウム１１５ｍｇ、ヒドロキシルアミンの塩酸塩２２３ｍｇを加え３０℃で１４時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシウム乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン:酢酸エチル=１：１)で精製し（5S,8S,10S,9R)-7-（ヒドロキシイミノ)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカン１５０ｍｇ（定量的）を無色油状物として得た.
1H-NMR（CDCl3)δ: 1.36(s, 3H), 1.48(s, 3H), 2.57(d, 1H, J=13.6Hz), 3.18(d, 1H, J=13.6Hz), 3.49(d, 1H, J=5.6Hz), 3.73(d, 1H, J=8.8Hz), 3.90-4.10(m, 3H), 4.45-4.55(m, 2H), 4.65-4.85(m, 4H), 7.15-7.40(m, 15H), 7.54(m, 1H).
ESI（positive): 518（M+H)+, 535（M+NH4)+.
Ｂ．（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デク-7-イルアミンの合成
アルゴン気流下、（5S,8S,10S,9R)-7-（ヒドロキシイミノ)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカン１５０ｍｇのテトラヒドロフラン４ｍｌ溶液に氷冷下水素化リチウムアルミニウム６８ｍｇを加え室温で３０時間撹拌した。反応液を氷冷し、テトラヒドロフラン１０ｍｌ、１０％水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温で２時間撹拌し、硫酸マグネシウムを加え１時間撹拌した。反応液をろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１９：１）で精製し（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デク-7-イルアミン３０ｍｇ（２９．９％）を微黄色油状物として得た。
1H-NMR（CDCl3）δ: 1.41(s, 6H), 1.45-1.50(m, 1H), 2.20(dd, 1H, J=3.2, 14.8Hz), 2.30(m, 2H), 3.22(d, 1H, J=9.2Hz), 3.28(m, 1H), 3.43(dd, 1H, J=4.0, 8.8Hz), 3.63(dd, 1H, J=4.8, 8.4Hz), 3.90-4.00(m, 2H), 4.60-5.60(m, 6H), 7.20-7.35(m, 15H)． ESI（positive）: 504（M+H）+．
アルゴン気流下、（5S,8S,10S,9R)-7-（ヒドロキシイミノ)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカン１５０ｍｇのテトラヒドロフラン４ｍｌ溶液に氷冷下水素化リチウムアルミニウム６８ｍｇを加え室温で３０時間撹拌した。反応液を氷冷し、テトラヒドロフラン１０ｍｌ、１０％水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温で２時間撹拌し、硫酸マグネシウムを加え１時間撹拌した。反応液をろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１９：１）で精製し（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デク-7-イルアミン３０ｍｇ（２９．９％）を微黄色油状物として得た。
1H-NMR（CDCl3）δ: 1.41(s, 6H), 1.45-1.50(m, 1H), 2.20(dd, 1H, J=3.2, 14.8Hz), 2.30(m, 2H), 3.22(d, 1H, J=9.2Hz), 3.28(m, 1H), 3.43(dd, 1H, J=4.0, 8.8Hz), 3.63(dd, 1H, J=4.8, 8.4Hz), 3.90-4.00(m, 2H), 4.60-5.60(m, 6H), 7.20-7.35(m, 15H)． ESI（positive）: 504（M+H）+．
Ｃ．２−{[(5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカ-7-イル]アミノ}プロパンー１，３−ジオールの合成
（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デク-7-イルアミン１０１ｍｇのメタノール０．７ｍｌ、テトラヒドロフラン０・７ｍｌ溶液に、１，３−ジヒドロキシアセトン二量体２１ｍｇ、１０％ＨＣｌの１０μｌを加え室温で４時間攪拌し、シアン化ホウ素ナトリウム２８ｍｇを加えて１５時間攪拌し、３５℃に昇温して５時間攪拌した。反応液に水１０ｍｌを加え、塩化メチレン５０ｍｌで抽出した。有機層を飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシウム乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝３９：１）で精製し、２−{[(5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカ-7-イル]アミノ}プロパンー１，３−ジオールの５．０ｍｇ（５．０％）を無色結晶として得た。
（5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デク-7-イルアミン１０１ｍｇのメタノール０．７ｍｌ、テトラヒドロフラン０・７ｍｌ溶液に、１，３−ジヒドロキシアセトン二量体２１ｍｇ、１０％ＨＣｌの１０μｌを加え室温で４時間攪拌し、シアン化ホウ素ナトリウム２８ｍｇを加えて１５時間攪拌し、３５℃に昇温して５時間攪拌した。反応液に水１０ｍｌを加え、塩化メチレン５０ｍｌで抽出した。有機層を飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシウム乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝３９：１）で精製し、２−{[(5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカ-7-イル]アミノ}プロパンー１，３−ジオールの５．０ｍｇ（５．０％）を無色結晶として得た。
Ｄ．（1S,2S,4S,5S,3R)-5-{[2-ヒドロキシ-1-（ヒドロキシメチル)エチル]アミノ}-1-（ヒドロキシメチル)シクロヘキサン-1,2,3,4-テトラオール（ボグリボース（７）)の合成
上記の２−{[(5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカ-7-イル]アミノ}プロパンー１，３−ジオールを用い、実施例２に記載の方法に従ってボグリボース（７）を合成した。
上記の２−{[(5S,7S,8S,10S,9R)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサ-8,9,10-トリス（フェニルメトキシ)スピロ[4.5]デカ-7-イル]アミノ}プロパンー１，３−ジオールを用い、実施例２に記載の方法に従ってボグリボース（７）を合成した。
Claims (4)
- 次式の一般式（５）
で示される化合物。 - 次式（１）：
で示されるケトン化合物を、イソプロポキシジメチルシリルメチルグリニヤール試薬を用いて次式（２）
（式中、Ｂnは前記と同じ。）
で示されるシリル体を合成し、このシリル体を酸化して次式（３）
で示されるトリオールとなし、その後アセタール化又はカーボネート化して次式の一般式（４）
で示されるスピロ型二環式化合物となし、その後酸化することを特徴とする請求項１記載の一般式（５）
で示される化合物の製造方法。 - 請求項１記載の一般式（５）で示される化合物を、２−アミノ−１，３−プロパンジオールと還元的アミノ化反応させて次式の一般式（６）
となし、次いで脱保護基することを特徴とする次式（７）
- 請求項１記載の一般式（５）で示される化合物にヒドロキシアミンを反応させて次式の一般式（８）
で示されるオキシムに変換し、還元して次式（９）
で示されるアミンに変換後、次式（１０）
次いで脱保護することを特徴とする次式（７）
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