JP4540034B2 - Treatment of soot / preform with reducing agent - Google Patents

Treatment of soot / preform with reducing agent Download PDF

Info

Publication number
JP4540034B2
JP4540034B2 JP2002552867A JP2002552867A JP4540034B2 JP 4540034 B2 JP4540034 B2 JP 4540034B2 JP 2002552867 A JP2002552867 A JP 2002552867A JP 2002552867 A JP2002552867 A JP 2002552867A JP 4540034 B2 JP4540034 B2 JP 4540034B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
preform
furnace
fiber
atmosphere
attenuation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2002552867A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2004523454A (en
JP2004523454A5 (en
Inventor
エル ジェイムズ,ティファニー
エル レイシー,クロード
ビー マシューズ,ヘイゼル
ビー オヌー,チェクウエメカ
エル シーフェルベイン,スーザン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Corning Inc
Original Assignee
Corning Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Corning Inc filed Critical Corning Inc
Publication of JP2004523454A publication Critical patent/JP2004523454A/en
Publication of JP2004523454A5 publication Critical patent/JP2004523454A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4540034B2 publication Critical patent/JP4540034B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01446Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/14Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
    • C03B19/1453Thermal after-treatment of the shaped article, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/14Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
    • C03B19/1469Means for changing or stabilising the shape or form of the shaped article or deposit
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00Re-forming shaped glass
    • C03B23/04Re-forming tubes or rods
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/06Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
    • C03B2201/12Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Abstract

A silica soot preform (12) is inserted into a furnace (30). The preform is then treated with heat and carbon monoxide gas (32) so as to reduce impurities that could effect the final product.

Description

関連出願の説明Explanation of related applications

本出願人の譲受人に譲渡された、いずれも「還元剤を用いたスート・プリフォームの処理」との名称により出願された、同時係属中の米国特許出願第60/295,052号(2001年5月31日出願)および米国特許出願第60/258,061号(2000年12月22日出願)を引用することにより、優先権を主張する。   Co-pending US Patent Application No. 60 / 295,052 (2001), both assigned to the assignee of the present applicant and filed under the name “Treatment of Soot Preforms with Reducing Agents”. Priority is claimed by reference to U.S. Patent Application No. 60 / 258,061 (filed on Dec. 22, 2000).

本発明は一般に、スート・プリフォームの製造、特に還元剤を用いたスート・プリフォームの処理に関する。   The present invention relates generally to the manufacture of soot preforms, and in particular to the treatment of soot preforms with reducing agents.

スート・プリフォームから製造可能な光ファイバ(以後「ファイバ」と呼ぶ)および他の製品の製造において、プリフォームに種々の不純物が含まれていると、最終製品に各種の欠陥を招く可能性がある。これらの欠陥の影響は、ファイバの中を伝搬される信号の減衰や、得られたガラス物品の中での特定の波長の光信号の透過率の著しい低下などに表れやすい。光ファイバを製造する場合、減衰を最小に抑える、したがって減衰の原因となる欠陥を排除することが望ましい。ファイバに不純物が含まれているのが表面化するのは、そのファイバを長く使用するにつれて、特定の波長でのファイバの減衰が大きくなってくる現象である。減衰が大きくなるというこの影響は、波長が少なくとも1200nmの付近で最も表れやすい。
米国特許第5,534,994号明細書 米国特許出願第60/208342号明細書 米国特許出願第60/217967号明細書 米国特許出願第60/193080号明細書 米国特許出願第60/119,805号明細書 米国特許出願第60/123,861号明細書 米国特許出願第60/135,270号明細書 米国特許出願第60/159,076号明細書 米国特許出願第09/397,577号明細書 米国特許出願第09/397,573号明細書 米国特許出願第09/397,572号明細書 FOTP−78 FOTP−67 FOTP−20A TIA455−67 スチュワート・E・ミラー(Stewart E.Miller)およびアラン・G・キノウェス(Alan G.Chynoweth)編『光ファイバ通信(Optical Fiber Telecommunications)』、p.214〜218 FOTP−61
In the manufacture of optical fiber (hereinafter referred to as “fiber”) and other products that can be manufactured from soot preforms, if the preform contains various impurities, the final product may cause various defects. is there. The effects of these defects are likely to appear in the attenuation of the signal propagated through the fiber and a significant decrease in the transmission of optical signals of specific wavelengths in the resulting glass article. When manufacturing optical fibers, it is desirable to minimize attenuation and thus eliminate defects that cause attenuation. The fact that impurities are contained in the fiber is a phenomenon that the attenuation of the fiber at a specific wavelength increases as the fiber is used for a long time. This effect of increasing attenuation is most likely to appear at wavelengths near at least 1200 nm.
US Pat. No. 5,534,994 US Patent Application No. 60/208342 US Patent Application No. 60/217967 US Patent Application No. 60/193080 US Patent Application No. 60 / 119,805 US Patent Application No. 60 / 123,861 US Patent Application No. 60 / 135,270 US Patent Application No. 60 / 159,076 US patent application Ser. No. 09 / 397,577 US patent application Ser. No. 09 / 397,573 US patent application Ser. No. 09 / 397,572 FOTP-78 FOTP-67 FOTP-20A TIA455-67 “Optical Fiber Telecommunications” edited by Stewart E. Miller and Alan G. Chynoweth, “Optical Fiber Telecommunications”, p. 214-218 FOTP-61

ファイバが上記のような減衰増となる可能性を最小限にとどめるために、従来試みられてきた方法の中には、プリフォームを塩素ガスを用いて乾燥させる方法がある。通常は、プリフォームを炉にいれてから、固結化を行う。その炉に約2%の塩素(Cl)を含むヘリウムガス流れを導入して、炉の温度を約1000℃に上げ、最高約2時間加熱する。しかしながら、スート・プリフォームを塩素ガスで処理しても、上記のようなファイバに表れる減衰増加を、充分には抑えることはできなかった。 In order to minimize the possibility of the fiber having the above attenuation increase, among the methods that have been attempted in the past, there is a method of drying the preform using chlorine gas. Usually, the preform is placed in a furnace and then consolidated. A helium gas stream containing about 2% chlorine (Cl 2 ) is introduced into the furnace, raising the furnace temperature to about 1000 ° C. and heating for up to about 2 hours. However, even if the soot preform was treated with chlorine gas, the increase in attenuation appearing in the fiber as described above could not be sufficiently suppressed.

スート・プリフォームを塩素で処理することにおける別の制約は、それが塩素処理に対して比較的不活性なガラス組成に限定されるところにある。塩素処理に対して比較的不活性なガラス組成の例としては、シリカガラスまたはゲルマニウムでドープしたシリカガラスがある。しかしながら、ケイ酸塩ガラス組成のすべてが、上記の塩素処理に不活性であるわけではないであろう。上記の塩素処理に不活性ではないそのようなケイ酸塩ガラス組成の例としては、アルミナ、アンチモン、アルカリ酸化物類、ホウ素酸化物類、リン酸化物類、またはアルカリ土類酸化物類などを含む組成がある。上記の塩素処理により、プリフォームから、アルミナ、アンチモン、アルカリまたはアルカリ土類含有化合物が除去されてしまうことが見出されている。   Another limitation in treating soot preforms with chlorine is that it is limited to glass compositions that are relatively inert to chlorination. Examples of glass compositions that are relatively inert to chlorination are silica glass or silica glass doped with germanium. However, not all silicate glass compositions will be inert to the chlorination described above. Examples of such silicate glass compositions that are not inert to chlorination include alumina, antimony, alkali oxides, boron oxides, phosphorus oxides, or alkaline earth oxides. There are compositions to include. It has been found that the above chlorination removes alumina, antimony, alkali or alkaline earth containing compounds from the preform.

さらに上記の塩素処理では、塩素処理後にフッ素化するようなある種のガラス製品には不適当であることも判明したが、その理由は、そのプリフォームをフッ素でドープした後でもプリフォーム中に塩素処理が原因の塩素が幾分か残るためである。塩素が残存すると、最終のガラス製品の光学的特性に影響がでる可能性がある。たとえば、塩素が混入しては好ましくないガラス製品としては、リソグラフィ用フォトマスクプレートがある。たとえば、リソグラフィ用フォトマスクプレート中に塩素が存在すると、重要な各種の波長での透過率が低下する。そのような波長の1つが157nmである。フォトマスクプレート中に塩素が約75ppm存在するだけで、約157nmの波長を有する光の透過率が少なくとも約50%は低下することが判っている。少なくとも以上のような理由からも、スート・プリフォームを処理するための新規な方法が必要である。   Furthermore, the above chlorination has also proved unsuitable for certain glass products that fluorinate after chlorination, because the preform is still in the preform even after the preform is doped with fluorine. This is because some chlorine remains due to chlorination. Chlorine remaining can affect the optical properties of the final glass product. For example, as a glass product which is not preferable when chlorine is mixed, there is a photomask plate for lithography. For example, the presence of chlorine in a lithographic photomask plate reduces the transmittance at various important wavelengths. One such wavelength is 157 nm. It has been found that the presence of about 75 ppm chlorine in the photomask plate reduces the transmission of light having a wavelength of about 157 nm by at least about 50%. For at least the above reasons, a new method for processing soot preforms is needed.

その上に、フッ素でドープした光ファイバは、いくつかの波長でも減衰の増加を示した。フッ素でドープした光ファイバの減衰スペクトルには、1440nm、1546nm、1583nmおよび1610nmなど、各種の波長に吸収ピークがある。少なくとも、1583nmの波長はLバンドの透過窓(transmission window)であるため、フッ素でドープした領域を有する光ファイバでは、1583nmの波長またはその他の上述の波長では、吸収ピークを持たないようにする必要がある。   Moreover, fluorine doped optical fibers showed increased attenuation at several wavelengths. The attenuation spectrum of an optical fiber doped with fluorine has absorption peaks at various wavelengths such as 1440 nm, 1546 nm, 1583 nm, and 1610 nm. At least the 1583 nm wavelength is an L-band transmission window, so an optical fiber with a fluorine-doped region should not have an absorption peak at the 1583 nm wavelength or any of the other wavelengths mentioned above There is.

本発明は、光学製品を製造するために使用できるスート・プリフォームおよび、そのスート・プリフォームの処理に関する。本発明の一実施の形態は、スート・プリフォームを処理する方法である。この方法は、炉中に存在している過剰の酸素を消費するための少なくとも1種の還元剤を含み、実質的に塩素を含まない雰囲気下で、スート・プリフォームを炉中に暴露する工程を含む。好適な還元剤は一酸化炭素である。   The present invention relates to soot preforms that can be used to produce optical products and the processing of the soot preforms. One embodiment of the present invention is a method of processing a soot preform. The method includes exposing at least one reducing agent to consume excess oxygen present in the furnace and exposing the soot preform to the furnace in a substantially chlorine-free atmosphere. including. A preferred reducing agent is carbon monoxide.

本発明の上記の方法を実施する利点は、この方法を、明らかに酸化性の環境ではない環境中で、スート・プリフォームを固結化させるのに使用できるところにある。本発明の方法ではさらに、プリフォームから過剰な酸素を除去し、長期にわたって良好な減衰性が維持できる光ファイバを製造することが可能となる。上記の方法を実施することにより得られるさらなる利点は、ファイバの線引き速度を上げることが可能となることである。本発明の1つの優れた具体的な用途は、上記の方法を非ゼロ分散シフト光ファイバを製造するプロセスに使用することである。   An advantage of implementing the above method of the present invention is that it can be used to consolidate the soot preform in an environment that is clearly not an oxidizing environment. Furthermore, the method of the present invention makes it possible to produce an optical fiber that can remove excess oxygen from the preform and maintain good attenuation over a long period of time. A further advantage obtained by implementing the above method is that it makes it possible to increase the drawing speed of the fiber. One excellent specific application of the present invention is to use the above method in a process for producing non-zero dispersion shifted optical fibers.

本発明を実施する第2の方法においては、プリフォームを約1000℃未満の温度に加熱して、プリフォームを還元性の雰囲気に暴露する。好適な還元性雰囲気には、一酸化炭素を含む。本発明の上記の方法を実施する利点は、上記の方法に従って製造したプリフォームでは、塩素を含まないガラスを作ることができる点である。塩素を含まないガラスとは、少なくとも、製造過程において塩素に暴露されたことのないプリフォームを意味する。塩素を含まないガラスは、リソグラフィ用フォトマスクプレートとして優れた用途を有しており、塩素を含まないフォトマスクは、約160nm未満の波長の光を充分に透過させることが可能である。本発明の上記の実施の形態を実施するその他の利点は、塩素と反応して蒸発してしまったり結晶性の塩化物に転化されたりするような、アルミナ、アンチモン、アルカリ酸化物、アルカリ土類酸化物、その他の化合物を含むスート・プリフォームを処理するのに、この態様を使用できることである。本発明の上記の実施の形態のさらなる利点は、低温すなわち約1000℃未満の温度でそれを実施することが可能なことである。   In a second method of practicing the invention, the preform is heated to a temperature below about 1000 ° C. to expose the preform to a reducing atmosphere. A suitable reducing atmosphere includes carbon monoxide. An advantage of carrying out the above method of the present invention is that a preform produced according to the above method can produce a chlorine-free glass. Chlorine-free glass means at least a preform that has not been exposed to chlorine during the manufacturing process. Chlorine-free glass has an excellent use as a photomask plate for lithography, and a photomask that does not contain chlorine can sufficiently transmit light having a wavelength of less than about 160 nm. Other advantages of implementing the above embodiments of the present invention include alumina, antimony, alkali oxides, alkaline earths that react with chlorine to evaporate or convert to crystalline chlorides. This embodiment can be used to process soot preforms containing oxides and other compounds. A further advantage of the above embodiment of the present invention is that it can be carried out at low temperatures, i.e. below about 1000 ° C.

本発明を実施する第3の方法は、光ファイバ用プリフォームを製造する方法である。この方法には、一酸化炭素および少なくとも1種の一般式C2n+2を有するフッ素含有化合物を含んだ雰囲気中で、スート本体をドープする工程を含む。「n」は正の整数であるのが好ましい。フッ素含有領域を有する光ファイバを製造するためのプロセスに本発明の上記の方法を組み込む1つの利点は、このファイバが、約1440nm、約1546nm、約1583nmまたは約1610nmの波長の所に吸収ピークを示さないことである。 The third method for carrying out the present invention is a method for manufacturing a preform for optical fiber. The method includes doping the soot body in an atmosphere containing carbon monoxide and at least one fluorine-containing compound having the general formula C n F 2n + 2 . “N” is preferably a positive integer. One advantage of incorporating the above-described method of the present invention into a process for manufacturing an optical fiber having a fluorine-containing region is that the fiber has an absorption peak at a wavelength of about 1440 nm, about 1546 nm, about 1583 nm, or about 1610 nm. It is not shown.

本発明のさらなる特徴および利点を、以下の詳細な説明で述べるが、当業者には本明細書からある程度明らかであろうし、以下の説明、特許請求項および添付の図面を含めて本明細書の記載にしたがって本発明を実施することにより理解されることであろう。   Additional features and advantages of the invention will be set forth in the detailed description that follows and will be apparent to those skilled in the art from this specification, and may be found in the specification, including the description, claims, and accompanying drawings. It will be understood by carrying out the invention according to the description.

これまでの一般的説明および以下における詳細な説明は、本発明のあくまでも例示に過ぎず、特許請求しているような本発明の性質と特徴を理解させるための概観または骨子を提供することを目的としたにすぎない。添付の図面は、本発明のさらなる理解をもたらすために加えたものであり、本明細書に組込み、その一部をなすものである。これらの図面は、本発明の各種の実施の形態を示し、明細書の記載と合わせて、本発明の原理と運用を説明するのに役立つことであろう。   The foregoing general description and the following detailed description are merely illustrative of the invention and are intended to provide an overview or framework for understanding the nature and characteristics of the invention as claimed. It was just. The accompanying drawings have been added to provide a further understanding of the invention and are incorporated in and constitute a part of this specification. These drawings illustrate various embodiments of the invention and, together with the description, will serve to explain the principles and operation of the invention.

ここで、本発明の現在の好適な実施の形態に関して詳細に説明するが、その例を添付の図面の中に示している。各図を通じて、同一または類似の部品に関しては可能な限り同一の参照番号を使用する。スート・プリフォームを還元剤を用いて処理する、本発明の方法の例示的な実施の形態を図1に示し、全体を参照番号10と名付ける。   Reference will now be made in detail to the presently preferred embodiments of the invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings. Wherever possible, the same reference numbers will be used throughout the drawings to refer to the same or like parts. An exemplary embodiment of the method of the present invention in which a soot preform is treated with a reducing agent is shown in FIG.

本明細書に記載する本発明は、スート・プリフォームおよび、そのスート・プリフォームを処理する革新的な方法に関する。このプリフォームは還元剤を用いて処理する。このプリフォームは、COまたはSOを含み塩素を含まない化合物で処理するのが好ましい。 The invention described herein relates to a soot preform and an innovative method of processing the soot preform. This preform is treated with a reducing agent. This preform is preferably treated with a compound containing CO or SO 2 and no chlorine.

スート・プリフォーム
参照番号10で表した図1には、炉30中にあるスート・プリフォーム12を示している。スート・プリフォーム12では、スート本体を形成するためにどのような公知の技術を用いていてもよい。そのような技術にはたとえば、外付け気相蒸着法(OVD)、軸付け気相蒸着法(VAD)、改良化学気相蒸着法(MCVD)、プラズマ化学気相蒸着法(PCVD)、その他公知の方法、たとえばゾルゲル加工法などがあるが、これらに限定される訳ではない。OVD、VAD、MCVDおよびPCVDは、一般に化学蒸着(CVD)法と呼ばれているものである。スートを出発部材に堆積させてプリフォーム12を形成させるのが好ましい。出発部材の上に堆積させるスート粒子の粒径は典型的には、約20ミクロン未満、好ましくは約10ミクロン未満、より好ましくは約0.1〜約1.0ミクロン、最も好ましくは約0.1〜約0.3ミクロンである。
Soot Preform FIG. 1, represented by reference numeral 10, shows a soot preform 12 in a furnace 30. The soot preform 12 may use any known technique for forming the soot body. Such techniques include, for example, external vapor deposition (OVD), axial vapor deposition (VAD), modified chemical vapor deposition (MCVD), plasma enhanced chemical vapor deposition (PCVD), and others. However, the method is not limited to these methods. OVD, VAD, MCVD and PCVD are what are commonly referred to as chemical vapor deposition (CVD) methods. Preferably, soot is deposited on the starting member to form preform 12. The particle size of the soot particles deposited on the starting member is typically less than about 20 microns, preferably less than about 10 microns, more preferably about 0.1 to about 1.0 microns, and most preferably about 0.00. 1 to about 0.3 microns.

プリフォーム12にはコア領域14とクラッド領域16とが含まれる。プリフォーム12には任意に近クラッド領域(near cladding region)が存在していてもよい(図示せず)。コア14には中央流路18が設けてある。クラッド16がコア14の周りに配されている。コア14は典型的にはシリカまたはドープしたシリカでできている。コア14は、コア14の屈折率を上げるために任意にゲルマニウムでドープされていてもよい。コア14には任意に、フッ素のような第2のドーパントを含んでいてもよいし、またはより好ましくは円環状にフッ素でドープした領域を有していてもよい。その他有用なスートのドーパントとしては、アルカリ金属酸化物類、アルカリ土類酸化物、遷移金属、アルミナ、酸化アンチモン、ホウ素酸化物、酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化スズ、酸化鉛、リン酸化物、酸化ヒ素、酸化ビスマス、酸化テルル、酸化セレン、酸化チタン、およびそれらの混合物がある。コア14では、スートに複数のドープした領域とドープしていない領域とがあっても構わない。   The preform 12 includes a core region 14 and a cladding region 16. The preform 12 may optionally have a near cladding region (not shown). A central flow path 18 is provided in the core 14. A clad 16 is disposed around the core 14. The core 14 is typically made of silica or doped silica. The core 14 may optionally be doped with germanium to increase the refractive index of the core 14. The core 14 may optionally include a second dopant such as fluorine or, more preferably, may have an annularly doped region with fluorine. Other useful soot dopants include alkali metal oxides, alkaline earth oxides, transition metals, alumina, antimony oxide, boron oxide, gallium oxide, indium oxide, tin oxide, lead oxide, phosphorus oxide, oxide There are arsenic, bismuth oxide, tellurium oxide, selenium oxide, titanium oxide, and mixtures thereof. In the core 14, there may be a plurality of doped regions and undoped regions in the soot.

クラッド16には典型的には、少なくともシリカを含む。クラッド16はコア14の屈折率よりは低い屈折率にするのがよい。本発明でコア14およびコア16に使用されるのは、上記の材料に限定される訳ではない。プリフォーム12は、どのような酸化物系のガラスで構成されていてもよい。   The cladding 16 typically includes at least silica. The clad 16 should have a refractive index lower than that of the core 14. The materials used for the core 14 and the core 16 in the present invention are not limited to the above materials. The preform 12 may be made of any oxide glass.


図1に見られるように、プリフォーム12にはハンドル20が備わっていて、それには標準のボールジョイントハンドル22が融着されているのが好ましい。コア14の、ハンドル20とは反対側の端に、プラグ24があり、それには任意に毛細管26が付属していてもよい。プリフォーム12は、ハンドル20によって炉30中に吊り下げられる。

As can be seen in FIG. 1, the preform 12 is provided with a handle 20 to which a standard ball joint handle 22 is fused. At the end of the core 14 opposite the handle 20, there is a plug 24, which may optionally have a capillary 26 attached thereto. The preform 12 is suspended in the furnace 30 by the handle 20.

スート・プリフォームの処理方法
少なくとも温度約1000℃での処理
スート・プリフォームを処理する第1の方法は、ファイバを長く使用するにつれて、1200nm以上の波長での減衰が増加するのを抑えることを目的としている。上記の減衰の増加は加工後に表れる欠陥で、その原因は、線引きされたファイバの中で、過剰な酸素と、少なくとも1種の還元されたゲルマニウム化合物との両方が互いに直ぐ近傍の位置に存在するためである。還元されたゲルマニウムは、ファイバ中のゲルマニウム元素で、ファイバ中の酸素元素との間に4つの結合を持たないものである。ファイバ中に存在しうる還元されたゲルマニウム化合物を列挙してみると、Ge+2、GeO+1、Ge−Geなどがあるが、これで全てではない。「近傍に」という用語は、過剰な酸素が還元されたゲルマニウム化合物から約5nm以内、好ましくは還元されたゲルマニウム化合物から約1nm以内、最も好ましくは還元されたゲルマニウム化合物から約0.5nm以内に存在するということを意味している。線引きされたファイバ中に過剰の酸素が存在する有力な理由の一つは、過剰の酸素の存在する環境でスート・プリフォームを固結化させたことにある。固結化とは、プリフォーム12を約800℃を超える温度に加熱して、スート・プリフォームをたとえば、以下のことに限定される訳ではないが、乾燥、ドーピング、焼結など各種のプロセスを実施することであると定義する。過剰の酸素とは、これらの固結化の工程を実施するために存在している必要がある量を超えて、雰囲気中に存在する酸素の量と定義する。過剰な酸素の原因となる可能性があるものをいくつか上げてみると、混入酸素、固結化炉への漏れ込み、それに固結化プロセス中に発生する酸素などがある。本発明のこの方法では、スート・プリフォーム12には少なくとも1カ所のゲルマニウムでドープした領域、好ましくは少なくとも2カ所のゲルマニウムでドープした領域を含んでいるのが好ましい。プリフォーム12を、炉30中の雰囲気から過剰な酸素をすべて除去する還元剤を用いて、炉30の中で処理する。この還元剤は、矢印32の方向に流してプリフォーム12と接触させ、過剰な酸素を除去する。好ましい還元剤の例としてはCOがある。この還元剤は過剰な酸素と反応して、安定な反応生成物を形成し、過剰な酸素を消費するのが好ましい。たとえば、COは過剰な酸素と反応してCOを形成する。好適な還元剤の他の例としては、CO/CO混合ガスのような、COの作用が抑えられた還元剤がある。
Soot / Preform Processing Method
The first method of processing a treated soot preform at a temperature of at least about 1000 ° C. aims to reduce the attenuation at wavelengths above 1200 nm as the fiber is used longer. The increase in attenuation described above is a defect that appears after processing and is caused by the presence of both excess oxygen and at least one reduced germanium compound in the vicinity of each other in the drawn fiber. Because. The reduced germanium is a germanium element in the fiber and does not have four bonds with the oxygen element in the fiber. A list of reduced germanium compounds that may be present in the fiber includes Ge +2 , GeO +1 , Ge—Ge, but not all. The term “in the vicinity” means that excess oxygen is present within about 5 nm from the reduced germanium compound, preferably within about 1 nm from the reduced germanium compound, and most preferably within about 0.5 nm from the reduced germanium compound. It means to do. One major reason for the presence of excess oxygen in the drawn fiber is the consolidation of the soot preform in an environment where there is excess oxygen. Consolidation refers to heating the preform 12 to a temperature above about 800 ° C. and the soot preform, for example, but not limited to, various processes such as drying, doping, and sintering. Is defined as Excess oxygen is defined as the amount of oxygen present in the atmosphere beyond the amount that must be present to perform these consolidation steps. Some of the things that can cause excess oxygen include mixed oxygen, leakage into the consolidation furnace, and oxygen generated during the consolidation process. In this method of the invention, the soot preform 12 preferably includes at least one germanium doped region, preferably at least two germanium doped regions. Preform 12 is treated in furnace 30 using a reducing agent that removes any excess oxygen from the atmosphere in furnace 30. This reducing agent flows in the direction of arrow 32 to contact the preform 12 and removes excess oxygen. An example of a preferred reducing agent is CO. The reducing agent preferably reacts with excess oxygen to form a stable reaction product and consumes excess oxygen. For example, CO to form a CO 2 reacts with excess oxygen. Another example of a suitable reducing agent is a reducing agent with reduced CO action, such as a CO / CO 2 gas mixture.

還元剤に加えて炉中の雰囲気には、不活性物質、たとえば、ヘリウム、アルゴン、窒素またはそれらの混合物を任意に加えておくこともできる。この不活性物質は、上記のものだけに限定されない。この雰囲気には、塩素含有化合物は実質的に一切含まないのが好ましい。処理雰囲気に一酸化炭素と不活性物質とがあって、プリフォーム12をフッ素でドープしない場合には、一酸化炭素の濃度は少なくとも約100ppmでかつ約3000ppm以下、より好ましくは少なくとも約200ppm、最も好ましくは約300〜約600ppmである。   In addition to the reducing agent, an inert substance such as helium, argon, nitrogen or a mixture thereof may be optionally added to the atmosphere in the furnace. This inert material is not limited to the above. This atmosphere preferably contains substantially no chlorine-containing compound. If the treatment atmosphere includes carbon monoxide and an inert material and the preform 12 is not doped with fluorine, the concentration of carbon monoxide is at least about 100 ppm and not more than about 3000 ppm, more preferably at least about 200 ppm, most preferably Preferably it is about 300 to about 600 ppm.

還元剤は、プリフォーム12の乾燥操作の間またはプリフォーム12の焼結の間に、炉30に供給すればよい。乾燥操作の間に還元剤を炉30に供給する場合には、プリフォーム12を乾燥温度の約1000〜約1200℃に加熱する。プリフォーム12を約1100〜約1200℃に加熱するのが好ましい。プリフォーム12をその乾燥温度に約1〜約6時間維持する。プリフォーム12をその乾燥温度に約4時間維持するのが好ましい。乾燥操作の間の炉30の雰囲気は、ハロゲン化物を含まない雰囲気とするのが好ましい。本発明を実施すれば、顕著に不純物濃度が低下したプリフォーム(別称、ブランク)、および前述のような減衰増加を示さないファイバを製造することができる。   The reducing agent may be supplied to the furnace 30 during the drying operation of the preform 12 or during the sintering of the preform 12. When supplying the reducing agent to the furnace 30 during the drying operation, the preform 12 is heated to a drying temperature of about 1000 to about 1200 ° C. Preform 12 is preferably heated to about 1100 to about 1200 ° C. Preform 12 is maintained at its drying temperature for about 1 to about 6 hours. Preform 12 is preferably maintained at its drying temperature for about 4 hours. The atmosphere of the furnace 30 during the drying operation is preferably an atmosphere containing no halide. By carrying out the present invention, it is possible to manufacture a preform (also referred to as a blank) having a significantly reduced impurity concentration, and a fiber that does not exhibit an increase in attenuation as described above.

乾燥または焼結の間に任意に、プリフォーム12をフッ素でドープすることもできる。フッ素ドーピングは、プリフォーム12を約1000℃〜約1600℃のドーピング温度に加熱して実施する。プリフォーム12を加熱し適切なドーピング温度になったら、プリフォーム12をドーピングガスに暴露する。そのドーピングガスには以下の、CF、SiF、C、SF、F、C、NF、ClF、BF、クロロフルオロカーボン、およびそれらの混合物からなるフッ素含有ガスの内の少なくとも1種を含んでいるのが好ましい。プリフォーム12をそのドーピングガスに約1〜約6時間暴露する。還元剤を、ドーピング雰囲気中に存在させるのが好ましい。その他の任意工程としては、プリフォーム12をフッ素ドーピングする前か、プリフォーム12をフッ素ドーピングとプリフォーム12の還元剤処理との両方を実施する前かのいずれかのタイミングで、スート・プリフォーム12をハロゲン化物含有化合物、たとえばClまたはGeClで処理することを含む。炉30の雰囲気からハロゲン化物含有化合物をパージした後で、還元剤を炉30に供給するのが好ましい。このハロゲン化物含有ガスはハロゲン化金属含有化合物またはジハロゲン化化合物であるのが好ましい。プリフォーム12をハロゲン化物含有化合物で処理する時の温度は、好ましくは約800℃〜約1200℃であり、より好ましくは温度を約1000℃〜約1100℃とする。プリフォーム12のハロゲン化物処理は、好ましくは約1時間〜約4時間、より好ましくは約2時間続ける。ハロゲン化物処理の間、炉30内の雰囲気には、先に述べたように、ヘリウム、アルゴンまたは窒素のような不活性物質が含まれていてもよい。プリフォーム12をハロゲン化物処理した後は、不活性ガスを用いて炉30の雰囲気を少なくとも約5分から約2時間までの間パージするのが好ましい。 Optionally, the preform 12 can be doped with fluorine during drying or sintering. The fluorine doping is performed by heating the preform 12 to a doping temperature of about 1000 ° C. to about 1600 ° C. When the preform 12 is heated to an appropriate doping temperature, the preform 12 is exposed to a doping gas. The doping gas includes the following fluorine containing CF 4 , SiF 4 , C 2 F 6 , SF 6 , F 2 , C 3 F 8 , NF 3 , ClF 3 , BF 3 , chlorofluorocarbon, and mixtures thereof. It preferably contains at least one of the gases. Preform 12 is exposed to the doping gas for about 1 to about 6 hours. It is preferred that the reducing agent be present in the doping atmosphere. As other optional steps, the soot / preform is performed either before the preform 12 is fluorine-doped or before the preform 12 is subjected to both the fluorine doping and the reducing agent treatment of the preform 12. Treatment of 12 with a halide-containing compound such as Cl 2 or GeCl 4 . It is preferable to supply the reducing agent to the furnace 30 after purging the halide-containing compound from the atmosphere of the furnace 30. The halide-containing gas is preferably a metal halide-containing compound or a dihalogenated compound. The temperature when the preform 12 is treated with the halide-containing compound is preferably about 800 ° C to about 1200 ° C, more preferably about 1000 ° C to about 1100 ° C. The halide treatment of preform 12 is preferably continued for about 1 hour to about 4 hours, more preferably about 2 hours. During halide processing, the atmosphere in the furnace 30 may contain an inert material such as helium, argon or nitrogen, as described above. After the preform 12 is halide treated, the atmosphere of the furnace 30 is preferably purged with an inert gas for at least about 5 minutes to about 2 hours.

プリフォーム12を還元剤で処理した後は、中央流路18を閉じてもよく、プリフォーム12を焼結する。流路18を閉じる任意の一つの方法は、中央流路18を真空にすることである。プリフォーム12を焼結するためには、必要に応じて還元剤を炉30から追い出して、炉30を加熱しその温度を約1200〜約1600℃、より好ましくは約1400℃以上とする。焼結の間の炉30内の雰囲気に、必要に応じて還元剤を加えてもよい。少なくとも1種の不活性ガス、たとえばヘリウム、アルゴン、または上述のその他の不活性物質を雰囲気中で焼結するのが好ましい。プリフォーム12を焼結するのに好適な時間は、約0.5時間〜約6時間である。好適な実施の形態では、焼結時間は約4〜約6時間である。しかしながら焼結に要する時間は、焼結温度、プリフォームの大きさと密度、および、プリフォームの化学組成に応じて変化させるのがよい。焼結を実施するのは、乾燥の場合と同一の炉でも、別な炉でもよい。   After the preform 12 is treated with the reducing agent, the central flow path 18 may be closed, and the preform 12 is sintered. One optional way to close the flow path 18 is to evacuate the central flow path 18. In order to sinter the preform 12, if necessary, the reducing agent is expelled from the furnace 30 and the furnace 30 is heated to a temperature of about 1200 to about 1600 ° C, more preferably about 1400 ° C or higher. You may add a reducing agent to the atmosphere in the furnace 30 during sintering as needed. It is preferred to sinter at least one inert gas, such as helium, argon, or other inert materials described above in the atmosphere. A suitable time for sintering the preform 12 is from about 0.5 hours to about 6 hours. In a preferred embodiment, the sintering time is about 4 to about 6 hours. However, the time required for sintering should be varied according to the sintering temperature, the size and density of the preform, and the chemical composition of the preform. Sintering may be performed in the same furnace as in the case of drying or in another furnace.

コア領域14にゲルマニウムのようなドーパントを含む場合には、ゲルマニウムを過剰に堆積させて、還元剤と堆積させた二酸化ゲルマニウムとの間で起きる可能性のある副反応に備えるのが好ましい。   If the core region 14 includes a dopant such as germanium, it is preferable to deposit germanium in excess to provide for side reactions that may occur between the reducing agent and the deposited germanium dioxide.

全体を参照番号40と名付け、図2に示したように、焼結したプリフォーム42を線引きしてファイバ44とすることができる。焼結したプリフォーム42を加熱して温度約1800℃以上とし、線引きしてファイバ44にする。好ましくは、焼結したプリフォーム42を線引き炉46に移して、プリフォーム42を線引きしてファイバ44とする。マッフル炉を線引き炉46の出口に配置するのが好ましい。ファイバ44はトラクタ50により引き出され、スプール52に巻き取られる。トラクタ50は矢印54の方向に回転している。スプール52は軸Aの周りを矢印56の方向に回転している。典型的な線引き速度は、約10m/秒以上、好ましくは約20m/秒以上である。ファイバを線引きする際には、好ましくは約75〜約200g、より好ましくは約90〜約150gの張力をかける。この方法での他の実施の形態においては、還元剤処理を焼結の間だけに実施する。そのスートはフッ素以外のものでドープしたスートであるのが好ましい。この実施の形態においては、還元剤を炉30の中に供給し、炉を加熱して焼結温度の約1200〜約1600℃、より好ましくは温度約1400℃以上とする。焼結工程にかける時間は、少なくとも約0.5時間〜約6時間である。焼結雰囲気中での還元剤の濃度は、約300〜約600ppmとするのが好ましい。焼結工程の最後に必要に応じて、プリフォーム12を不活性ガスに約0.5時間暴露してもよい。上述の方法に追加される実施の形態においては、図1に示したようなプリフォーム12がコア・ケーン・プリフォームであって、このプリフォームを延伸してコア・ケーンにすることも可能である。この実施の形態では、プリフォーム12を延伸してコア・ケーンとした後で、追加のスートをプリフォーム12の上に堆積させる。最も高い屈折率を有するコア領域の屈折率よりは、この追加のスートの屈折率が高くないことが好ましい。このコア・ケーンの上に堆積させるのに好ましい物質の例としてはシリカ(SiO)がある。このシリカは、屈折率増加用ドーパントまたは屈折率減少用ドーパントを用いてドープすることができる。このようにスートで被覆したコア・ケーンは、オーバークラッディッド・プリフォームまたはオーバークラッディッド・コア・ケーンとも呼ばれている。 The whole is designated as reference numeral 40, and the sintered preform 42 can be drawn into a fiber 44 as shown in FIG. The sintered preform 42 is heated to a temperature of about 1800 ° C. or higher, and drawn into a fiber 44. Preferably, the sintered preform 42 is transferred to a drawing furnace 46 and the preform 42 is drawn into a fiber 44. A muffle furnace is preferably located at the outlet of the draw furnace 46. The fiber 44 is drawn by the tractor 50 and wound on the spool 52. The tractor 50 rotates in the direction of the arrow 54. Spool 52 rotates about axis A in the direction of arrow 56. A typical drawing speed is about 10 m / second or more, preferably about 20 m / second or more. In drawing the fiber, a tension of preferably about 75 to about 200 g, more preferably about 90 to about 150 g is applied. In another embodiment of this method, the reducing agent treatment is performed only during sintering. The soot is preferably a soot doped with something other than fluorine. In this embodiment, the reducing agent is supplied into the furnace 30 and the furnace is heated to a sintering temperature of about 1200 to about 1600 ° C., more preferably about 1400 ° C. or higher. The time for the sintering process is at least about 0.5 hours to about 6 hours. The concentration of the reducing agent in the sintering atmosphere is preferably about 300 to about 600 ppm. Optionally, the preform 12 may be exposed to an inert gas for about 0.5 hours at the end of the sintering process. In an embodiment added to the above-described method, the preform 12 as shown in FIG. 1 is a core cane preform, and the preform can be stretched into a core cane. is there. In this embodiment, additional soot is deposited on the preform 12 after the preform 12 is stretched into a core cane. The refractive index of this additional soot is preferably not higher than the refractive index of the core region having the highest refractive index. An example of a preferred material to deposit on the core cane is silica (SiO 2 ). The silica can be doped with a refractive index increasing dopant or a refractive index decreasing dopant. Such a core cane coated with soot is also referred to as an overcladded preform or overcladded core cane.

このオーバークラッディッド・プリフォームは、全体を参照番号60と名付け、図3に示したように、炉の中に配置して還元剤で処理することができる。オーバークラッディッド・プリフォーム62には、コア・ケーン64と、ケーン64の上に堆積させたスート66の少なくとも1層の追加の層とが含まれる。ケーン64は焼結されてガラスになっているのが好ましい。還元剤は先に述べたものと同じである。この炉を、前述の温度範囲(約800〜約1200℃または約1200〜約1600℃)で、前述の時間(約0.5〜約6時間)加熱する。プリフォーム62を、焼結の間は、還元剤に暴露するのが好ましい。   This overcladded preform is generally designated as reference numeral 60 and can be placed in a furnace and treated with a reducing agent as shown in FIG. The overcladded preform 62 includes a core cane 64 and at least one additional layer of soot 66 deposited on the cane 64. The cane 64 is preferably sintered into glass. The reducing agent is the same as described above. The furnace is heated in the aforementioned temperature range (about 800 to about 1200 ° C. or about 1200 to about 1600 ° C.) for the aforementioned time (about 0.5 to about 6 hours). The preform 62 is preferably exposed to a reducing agent during sintering.

本発明の前述の方法ならば、固結化の際に炉30の中に過剰な酸素が存在する可能性を最小にとどめることができる。したがって、上述のように処理したプリフォームから線引きしたファイバは、前述のような減衰増加を示すことはないであろう。   With the above-described method of the present invention, the possibility of excess oxygen being present in the furnace 30 during consolidation can be minimized. Thus, a fiber drawn from a preform treated as described above will not show the attenuation increase described above.

還元剤を用いてスート・プリフォームを処理する上述の方法はノンゼロ分散シフト光ファイバの製造などにおいて優れた用途を有しているが、そのようなファイバとしては、たとえばコーニング(Corning)(登録商標)サブマリンLEAF(Submarine LEAF)(登録商標)(コーニング社(Corning Incorporated)、ニューヨーク州、コーニング)などがある。ノンゼロ分散シフト光ファイバとは、表Aに列記した性質(各種の定義は表の後ろに記載)を有する、ファイバ、好ましくはセグメンティッドコアファイバである。

Figure 0004540034
The above-described method of treating a soot preform using a reducing agent has excellent applications in the production of non-zero dispersion shifted optical fibers, and examples of such fibers include Corning (registered trademark). ) Submarine LEAF (Submarine LEAF) (registered trademark) (Corning Incorporated, Corning, NY). A non-zero dispersion shifted optical fiber is a fiber, preferably a segmented core fiber, having the properties listed in Table A (various definitions appear after the table).
Figure 0004540034

上記の性質を規定するために、以下の定義を用いる。   The following definitions are used to define the above properties.

定義
以下の定義は当該技術分野で通常に使用されているものと同じである。
Definitions The following definitions are the same as those commonly used in the art.

「屈折率プロファイル」は、屈折率と導波ファイバ半径との間の関係である。   “Refractive index profile” is the relationship between refractive index and waveguide fiber radius.

「セグメンティッドコア」とは、少なくとも第1および第2の導波ファイバコア部分またはセグメントに分割されているコアである。それぞれの部分またはコアは、特定の放射状の距離に位置し、導波ファイバの中心線のまわりに実質的に対称的であって、関連した屈折率プロファイルを有している。   A “segmented core” is a core that is divided into at least first and second waveguide fiber core portions or segments. Each portion or core is located at a specific radial distance, is substantially symmetrical about the waveguide centerline, and has an associated refractive index profile.

「有効面積」は、次式で表され、

Figure 0004540034
“Effective area” is expressed by the following formula:
Figure 0004540034

ここで、積分の範囲は0から無限大までで、Eは導波路内を伝搬する光に伴う電場である。有効直径、Deffは次式で定義できる。 Here, the range of integration is from 0 to infinity, and E is an electric field accompanying light propagating in the waveguide. The effective diameter, D eff , can be defined by the following equation.

eff=π(Deff/2)
有効面積が大きいという場合には、ファイバの有効面積が約60μmより大きい、より好ましくはファイバの有効面積が約65μmより大きい、最も好ましくはファイバの有効面積が70μmより大きいことを意味する。有効面積が約80〜90μmより大きいファイバを得ることも可能であり、そのようなファイバが好ましい。「相対屈折率パーセント」は、Δ%=100×(n −n )/2n であって、ここでnは、特に断らない限り、領域iにおける最大屈折率であり、nは、特に断らない限り、クラッド領域の平均屈折率である。
A eff = π (D eff / 2) 2
If that the effective area is large, the effective area of greater than about 60 [mu] m 2 of fiber, more preferably the effective area is greater than about 65 .mu.m 2 of fiber, and most preferably the effective area of the fiber means that greater than 70 [mu] m 2 . It is possible to obtain fibers with an effective area greater than about 80-90 μm 2 , and such fibers are preferred. “Relative Refractive Index Percent” is Δ% = 100 × (n i 2 −n c 2 ) / 2n i 2 , where ni is the maximum refractive index in region i, unless otherwise noted, n c, unless otherwise indicated, the average refractive index of the cladding region.

「α−プロファイル」という用語は屈折率プロファイルに関するもので、Δ(b)%で表されるが、ここでbは半径であって、次式にしたがうが、
Δ(b)%=Δ(b)(1−[|b−b|]/(b−b)]α
ここで、bはΔ(b)%が最大となる点であり、bはΔ(b)%がゼロとなる点であり、bはb≦b≦bの範囲にあり、ここでデルタは上で定義したもの、bはα−プロファイルの開始点、bはα−プロファイルの終了点であり、αは実数の指数である。α−プロファイルの開始点および終了点を選択して、コンピュータモデルに組み入れる。本明細書で使用する場合、α−プロファイルがステップ・インデックス・ファイルまたは他のファイル形に先行されている場合には、α−プロファイルの開始点は、α−プロファイルとステッププロファイルまたは他のプロファイルとの交点とする。
The term “α-profile” relates to the refractive index profile, expressed as Δ (b)%, where b is the radius, according to the following equation:
Δ (b)% = Δ (b 0 ) (1- [| b−b 0 |] / (b 1 −b 0 )] α ,
Here, b 0 is a point where Δ (b)% is maximum, b 1 is a point where Δ (b)% is zero, and b is in a range of b i ≦ b ≦ b f , where Where delta is as defined above, b i is the start point of the α-profile, b f is the end point of the α-profile, and α is a real exponent. The start and end points of the α-profile are selected and incorporated into the computer model. As used herein, if the α-profile is preceded by a step index file or other file type, the starting point of the α-profile is the α-profile and the step profile or other profile. The intersection of

上記の減衰は、1996年7月9日発行の特許文献1にしたがって測定できるが、その特許の明細書は本明細書に取り入れたものとみなす。減衰を測定するのに使用可能なその他の操作手順としては、非特許文献1〜4がある。   The above attenuation can be measured in accordance with US Pat. No. 6,047,028 issued on July 9, 1996, the specification of which is deemed to be incorporated herein. Other operating procedures that can be used to measure attenuation include Non-Patent Documents 1-4.

本発明の方法は、少なくとも1つのゲルマニウムでドープした領域と少なくとも1つのフッ素でドープした領域とを有するファイバにも、適用することができる。その方法のこの実施の形態においては、プリフォーム12には、好ましくはスート堆積の段階の間に形成された少なくとも1つのゲルマニウムでドープした領域と、フッ素でドープした領域とが含まれる。プリフォーム12には少なくとも1つのフッ素でドープした領域が含まれているのが好ましい。このフッ素でドープした領域は、先に述べたようにフッ素ドーピング工程の間に形成してもよいし、またはスートの堆積の間に形成してもよい。フッ素ドーピング工程は、温度約1100℃以上で実施することができる。ゲルマニウムでドープした領域とフッ素でドープした領域は、プリフォーム12の中では全然別の領域であってもよいし、それらの領域が重なっていて、プリフォーム12中の少なくとも1つの領域がゲルマニウムとフッ素の両方を含んでいてもよいし、あるいは、前記のフッ素領域とゲルマニウム領域が組み合わさっていてもよい。   The method of the invention can also be applied to fibers having at least one germanium doped region and at least one fluorine doped region. In this embodiment of the method, the preform 12 preferably includes at least one germanium doped region and a fluorine doped region formed during the soot deposition stage. Preform 12 preferably includes at least one fluorine doped region. This fluorine doped region may be formed during the fluorine doping process as described above, or may be formed during soot deposition. The fluorine doping process can be performed at a temperature of about 1100 ° C. or higher. The region doped with germanium and the region doped with fluorine may be completely different regions in the preform 12, or the regions overlap, and at least one region in the preform 12 is made of germanium. Both fluorine may be included, or the fluorine region and the germanium region may be combined.

この実施の形態においては、プリフォーム12を焼結の間に還元剤で処理するのが好ましい。しかしながら、本発明のこの実施の形態では、プリフォーム12を処理するのは、焼結の間だけに限定される訳ではない。プリフォーム12を、焼結とフッ素ドーピング工程の間に任意に処理してもよい。還元剤雰囲気の温度は、好ましくは少なくとも約1100℃、より好ましくは少なくとも約1300℃である。先に述べたように、この還元剤雰囲気には、塩素含有化合物または元素は実質的に一切含まないのが好ましい。   In this embodiment, the preform 12 is preferably treated with a reducing agent during sintering. However, in this embodiment of the invention, processing the preform 12 is not limited to only during sintering. Preform 12 may optionally be treated between the sintering and fluorine doping steps. The temperature of the reducing agent atmosphere is preferably at least about 1100 ° C, more preferably at least about 1300 ° C. As stated above, it is preferred that the reducing agent atmosphere be substantially free of any chlorine-containing compounds or elements.

フッ素でドープしたプリフォームの場合には、雰囲気中の還元剤の濃度は、ドーピング雰囲気中でのフッ素ドーピング剤の濃度と同じオーダ(order of magnitude)でよい。本明細書で「同じオーダ」という場合、還元性雰囲気中での還元剤の濃度が、フッ素ドーピング雰囲気中でのフッ素の濃度の、少なくとも約1/10から約3倍以下までであることを意味している。たとえば、ドーピング雰囲気中のCF濃度が約1重量%であるなら、CO還元剤の濃度は好ましくは少なくとも約0.5重量%、より好ましくは少なくとも約1.0重量%である。本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 In the case of a preform doped with fluorine, the concentration of the reducing agent in the atmosphere may be on the same order as the concentration of the fluorine doping agent in the doping atmosphere. As used herein, “same order” means that the concentration of the reducing agent in the reducing atmosphere is at least about 1/10 to less than about 3 times the concentration of fluorine in the fluorine doping atmosphere. is doing. For example, if the CF 4 concentration in the doping atmosphere is about 1% by weight, the concentration of the CO reducing agent is preferably at least about 0.5% by weight, more preferably at least about 1.0% by weight. The present invention is not limited to the following examples.

フッ素でドープしたプリフォームを還元剤で処理することが有利である理由の一つは、フッ素ドーピングプロセスでドーピング雰囲気中で過剰の酸素が生成するからである。フッ素がプリフォーム12の中に取り込まれるには、以下の化学反応が関与している。

Figure 0004540034
One of the reasons that it is advantageous to treat a fluorine-doped preform with a reducing agent is that the fluorine doping process produces excess oxygen in the doping atmosphere. The following chemical reaction is involved in the incorporation of fluorine into the preform 12.
Figure 0004540034

還元剤は、フッ素ドーピング反応で生成した酸素と反応して、COを形成する。雰囲気中の還元剤の量は、フッ素ドーピング反応の間に生成する酸素に対する化学量論量よりも多くするのが好ましく、それによって、余剰の還元剤が固結化プロセスの間に存在する過剰の酸素との反応に利用できるようになる。過剰な酸素を生成源として可能性のあるものを挙げてみると、混入酸素、固結化プロセスへの酸素の漏れ込み、固結化プロセスの間に発生する酸素、それに固結化ガス中の残存酸素などがあるが、これで全てではない。上記のような還元剤処理をすることで、炉の中に存在する過剰の酸素がすべて消費される。 The reducing agent reacts with oxygen generated by the fluorine doping reaction to form CO 2 . The amount of reducing agent in the atmosphere is preferably greater than the stoichiometric amount for oxygen produced during the fluorine doping reaction, so that excess reducing agent is present in excess excess that is present during the consolidation process. It becomes available for reaction with oxygen. Examples of possible sources of excess oxygen include mixed oxygen, oxygen leakage into the consolidation process, oxygen generated during the consolidation process, and in the consolidated gas. There are residual oxygen, but this is not all. By performing the reducing agent treatment as described above, all excess oxygen present in the furnace is consumed.

プリフォーム12を任意に、フッ素ドーピングまたは還元処理をする前に、塩素含有雰囲気で処理してもよい。好適な塩素処理工程は、先に述べたのと同じである。本発明のこの方法を実施する上では、塩素処理工程は必要ない。   Preform 12 may optionally be treated in a chlorine-containing atmosphere prior to fluorine doping or reduction treatment. The preferred chlorination process is the same as described above. In carrying out this method of the invention, no chlorination step is necessary.

上記の方法によって作製されてフッ素でドープした領域を有するファイバは、ファイバを長く使用するにつれて減衰が増加するという前述のような現象を示すことはない。このファイバは先に述べた方法によって、プリフォーム12から線引きする。   A fiber made by the above method and having a fluorine doped region does not exhibit the aforementioned phenomenon of increased attenuation as the fiber is used longer. This fiber is drawn from the preform 12 in the manner described above.

本発明はさらに、フッ素でドープしたファイバの減衰スペクトル上での、吸収ピークを除去することにも使用できる。吸収ピークとは、スペクトル中で、減衰がベースラインの減衰から偏差が生じてくる領域のことである。この偏差では典型的には、減衰が増加する。図11には、従来法により製造した、フッ素でドープした領域を有する光ファイバの減衰スペクトルを示していて、全体を110と名付けている。スペクトル測定結果は線112で示されている。この分析110では、吸収ピーク114が約1440nmに、第2の吸収ピーク116が約1546nmに、第3の吸収ピーク118が約1580に、第4の吸収ピーク119が約1610nmに存在する。これらの吸収ピーク、114、116、118および119は、図11の上では、検出された減衰と、分析110のベースラインとの間の偏差として示され、ベースラインはそれぞれ、点線で示した120、122、124および126である。吸収というのは、光信号の光学的エネルギーが熱に転化されて生じる減衰の部分である。   The present invention can also be used to remove absorption peaks on the attenuation spectrum of fluorine doped fibers. An absorption peak is a region in the spectrum where the attenuation deviates from the baseline attenuation. This deviation typically increases the attenuation. FIG. 11 shows an attenuation spectrum of an optical fiber having a fluorine-doped region manufactured by a conventional method, and is designated as 110 as a whole. The spectrum measurement result is shown by line 112. In this analysis 110, the absorption peak 114 is at about 1440 nm, the second absorption peak 116 is at about 1546 nm, the third absorption peak 118 is at about 1580, and the fourth absorption peak 119 is at about 1610 nm. These absorption peaks, 114, 116, 118, and 119, are shown as deviations between the detected attenuation and the baseline of analysis 110 in FIG. 11 and each baseline is shown as a dotted line 120. , 122, 124 and 126. Absorption is the portion of attenuation that occurs when the optical energy of an optical signal is converted to heat.

光ファイバの減衰スペクトルは種々の方法を用いて測定できる。公知の技術を記載してあるものの一つが非特許文献5である。非特許文献5の第214〜218ページは、ここに引用することにより、本明細書に取り入れたものとする。上述の測定をするために使用できるタイプの装置の例としては、GN ネッテスト社(GN Nettest、マサチューセッツ州、ホプキントン)から入手可能なPK減衰ベンチがある。好適なPKベンチの1例が、PK−2500である。   The attenuation spectrum of an optical fiber can be measured using various methods. One of the known techniques is Non-Patent Document 5. Pages 214 to 218 of Non-Patent Document 5 are incorporated herein by reference. An example of a type of apparatus that can be used to make the above measurements is a PK attenuation bench available from GN Nettest, Hopkinton, Massachusetts. One example of a suitable PK bench is PK-2500.

フッ素でドープした部分を有する多くの光ファイバを分析したところ、このファイバには少なくとも4つの異なった吸収ピークがあることが見出された。吸収ピークが存在する波長は、公称約1440nm(好ましくは少なくとも約1400nm、より好ましくは少なくとも約1410nm、最も好ましくは少なくとも約1420nm、かつ、好ましくは約1470nm以下、より好ましくは約1460nm以下、最も好ましくは約1450nm以下)、公称約1546nm(好ましくは少なくとも約1520nm、より好ましくは少なくとも約1530nm、最も好ましくは少なくとも約1540nm、かつ好ましくは約1560nm以下、より好ましくは約1555nm以下、最も好ましくは約1550nm以下)、公称約1583(好ましくは少なくとも約1565nm、より好ましくは少なくとも約1570nm、最も好ましくは少なくとも約1575nm、かつ好ましくは約1595nm以下、より好ましくは約1590nm以下、最も好ましくは約1585nm以下)、および公称約1610nm(好ましくは少なくとも約1595nm、より好ましくは少なくとも約1600nm、最も好ましくは少なくとも約1605nm、かつ好ましくは約1625nm以下、より好ましくは約1620nm以下、最も好ましくは約1615nm以下)である。   Analysis of many optical fibers having portions doped with fluorine has found that the fibers have at least four different absorption peaks. The wavelength at which the absorption peak is present is nominally about 1440 nm (preferably at least about 1400 nm, more preferably at least about 1410 nm, most preferably at least about 1420 nm, and preferably about 1470 nm or less, more preferably about 1460 nm or less, most preferably About 1450 nm), nominally about 1546 nm (preferably at least about 1520 nm, more preferably at least about 1530 nm, most preferably at least about 1540 nm, and preferably about 1560 nm or less, more preferably about 1555 nm or less, most preferably about 1550 nm or less) , Nominally about 1583 (preferably at least about 1565 nm, more preferably at least about 1570 nm, most preferably at least about 1575 nm, and preferably about 1595 m or less, more preferably about 1590 nm or less, most preferably about 1585 nm or less), and nominally about 1610 nm (preferably at least about 1595 nm, more preferably at least about 1600 nm, most preferably at least about 1605 nm, and preferably about 1625 nm or less, More preferably, it is about 1620 nm or less, and most preferably about 1615 nm or less.

本発明者らが見出したところでは、上述の吸収ピークの原因は、固結化の間に、プリフォーム12を一般式C2n+2(ここでnは正の整数)を有するフッ素化合物でドープしたことにある。上述の吸収ピークがスペクトル分析に現れるのは、光ファイバ中に以下の化合物、すなわち、CO、CO、COF、COClF、C2n+2およびそれらの混合物、の少なくとも1種が存在するためであることが判った。上記の化合物類がどのようにして形成されるかを、CFの場合について一般式の例で挙げると次のようになる(この式では、化学量論的関係は無視されている)。

Figure 0004540034
As found by the inventors, the cause of the above-described absorption peak is that during consolidation, the preform 12 is doped with a fluorine compound having the general formula C n F 2n + 2 (where n is a positive integer). It is to have done. The above-mentioned absorption peak appears in the spectral analysis because at least one of the following compounds is present in the optical fiber: CO, CO 2 , COF 2 , COClF, C n F 2n + 2 and mixtures thereof. It turns out that there is. The way in which the above compounds are formed is given as an example of the general formula for the case of CF 4 (in this formula, the stoichiometric relationship is ignored):
Figure 0004540034

添字「x」は、約1〜約4、好ましくは約1〜約3の数である。 The subscript “x” is a number from about 1 to about 4, preferably from about 1 to about 3.

この吸収ピークの大きさが、デルタ%(Δ%)が約−0.35%以下、好ましくは−0.38%以下の光ファイバの場合に大きくなることもさらに判明した。デルタ%は相対屈折率パーセントであって、Δ%=100×(n −n )/2n の関係で、ここで、nは、特に断らない限り、領域iにおける最大屈折率であり、nは、特に断らない限り、クラッド領域の平均屈折率である。上に記したデルタ%の数値は、ファイバの低下した屈折率の領域での最大降下を示している。その例を、全体を140として表して、図14で説明する。図14は、半径の関数としてデルタ%で表した光ファイバの屈折率プロファイルである。屈折率プロファイル140では、最大のデルタ%が142で示した約−0.4未満のところにある。上述の吸収ピークを消失させるための方法の1つの態様は、光ファイバプリフォームを作製する方法である。この方法には、一酸化炭素および少なくとも1種の一般式C2n+2(ここで「n」は正の整数)を有するフッ素含有化合物を含んだ雰囲気中で、スート本体をドープする工程を含む。ドーピング雰囲気にはフッ素含有化合物を、好ましくは少なくとも約5容積%、より好ましくは少なくとも約10容積%、さらにより好ましくは少なくとも約15容積%、最も好ましくは少なくとも約20容積%含む。また、その雰囲気中にフッ素含有化合物が約50容積%以下であるのも好ましい。このスート本体は、図1に示したスート本体12の上述の実施の形態のどれであっても構わない。本発明のこの方法の実施の形態を図12に示す。図12が図1と異なっている点は、一酸化炭素およびフッ素含有化合物を含むガス32を、矢印32の方向に流すが、プリフォーム12の外側に沿ってだけ流し、プリフォーム12の中心部を通しては流さないところにある。しかしながら、本発明は図12に示した実施の形態に限定されるものではない。全てを挙げる訳にはいかないが、好適なフッ素含有化合物には、CF、CまたはCなどがあり、より好ましい化合物はCFである。 It has further been found that the magnitude of this absorption peak increases for optical fibers having a delta% (Δ%) of about −0.35% or less, preferably −0.38% or less. Delta% is the relative refractive index percentage, and Δ% = 100 × (n i 2 −n c 2 ) / 2n i 2 , where n i is the maximum refraction in region i unless otherwise noted. a rate, n c, unless otherwise indicated, the average refractive index of the cladding region. The Delta% number noted above indicates the maximum drop in the region of the reduced refractive index of the fiber. An example of this will be described with reference to FIG. FIG. 14 is a refractive index profile of an optical fiber expressed in delta% as a function of radius. In the refractive index profile 140, the maximum delta% is less than about −0.4, indicated by 142. One aspect of the method for eliminating the above-described absorption peak is a method of making an optical fiber preform. The method includes doping the soot body in an atmosphere containing carbon monoxide and at least one fluorine-containing compound having the general formula C n F 2n + 2 (where “n” is a positive integer). . The doping atmosphere preferably contains at least about 5%, more preferably at least about 10%, even more preferably at least about 15%, and most preferably at least about 20% by volume of fluorine-containing compounds. It is also preferred that the fluorine-containing compound is about 50% by volume or less in the atmosphere. The soot body may be any of the above-described embodiments of the soot body 12 shown in FIG. An embodiment of this method of the invention is shown in FIG. 12 differs from FIG. 1 in that a gas 32 containing carbon monoxide and a fluorine-containing compound is flowed in the direction of the arrow 32 but only along the outside of the preform 12. There is no flow through. However, the present invention is not limited to the embodiment shown in FIG. Although not all of them, suitable fluorine-containing compounds include CF 4 , C 2 F 6 or C 3 F 8 , and a more preferred compound is CF 4 .

好ましくは上記の方法にさらに追加の工程を加えて、スート本体を、一酸化炭素を含有し実質的にハロゲン化物を含まない雰囲気に暴露する。この暴露工程はドーピング工程より前に実施するのが好ましい。任意にこの暴露工程を、任意の塩素処理工程の後に実施してもよい。塩素処理工程とこの任意の暴露工程との間で、炉をパージするのが好ましい。さらに、最終の塩素処理温度からフッ素ドーピング温度まで、スート・プリフォームを昇温させる工程の間に、この暴露工程を実施しても差支えない。塩素工程およびドーピング工程の温度と時間は、本明細書に先に記したのと同様である。本発明のこの方法の一つの実施の形態においては、暴露工程の間の雰囲気は、実質的に塩素を含まない雰囲気とする。暴露工程の間のプリフォームの温度は、好ましくは少なくとも約1000℃、より好ましくは少なくとも約1100℃、最も好ましくは少なくとも約1200℃とする。   Preferably, additional steps are added to the above method to expose the soot body to an atmosphere containing carbon monoxide and substantially free of halides. This exposure step is preferably performed prior to the doping step. Optionally, this exposure step may be performed after any chlorination step. It is preferred to purge the furnace between the chlorination step and this optional exposure step. Furthermore, this exposure step can be performed during the step of raising the soot preform from the final chlorination temperature to the fluorine doping temperature. The temperature and time of the chlorine process and the doping process are the same as described earlier in this specification. In one embodiment of this method of the invention, the atmosphere during the exposure step is a substantially chlorine-free atmosphere. The temperature of the preform during the exposure step is preferably at least about 1000 ° C, more preferably at least about 1100 ° C, and most preferably at least about 1200 ° C.

暴露工程で昇温させていく場合には、炉の中の温度を好ましくは、約1000℃より上から約1200℃より上まで、より好ましくは少なくとも約1000℃から少なくとも約1200℃まで、最も好ましくは少なくとも約1000℃から少なくとも約1300℃まで昇温させる。   When raising the temperature in the exposure step, the temperature in the furnace is preferably from above about 1000 ° C. to above about 1200 ° C., more preferably from at least about 1000 ° C. to at least about 1200 ° C., most preferably Is raised from at least about 1000 ° C to at least about 1300 ° C.

この暴露工程にかける時間は、約15分から約60分までの間であればよいが、暴露工程のために好適な時間は、約30分、約45分、約60分である。炉の温度は、毎分約2℃〜約10℃の速度で昇温させる。暴露工程の間の昇温速度は変化させることもできる。また、暴露工程加熱の間の温度は、暴露工程の全部の時間にわたって連続的に昇温させねばならないということではない。しかしながら本発明は、暴露工程の間に炉の温度を上昇させることに限定される訳ではない。暴露工程を等温条件下で実施してもよいし、あるいは、暴露工程の一部で等温条件としてもよい。   The time for this exposure step may be between about 15 minutes and about 60 minutes, but suitable times for the exposure step are about 30 minutes, about 45 minutes, about 60 minutes. The furnace temperature is raised at a rate of about 2 ° C. to about 10 ° C. per minute. The heating rate during the exposure process can also be varied. Also, the temperature during the exposure process heating does not mean that the temperature must be raised continuously over the entire time of the exposure process. However, the present invention is not limited to raising the furnace temperature during the exposure process. The exposure process may be performed under isothermal conditions, or may be isothermal conditions as part of the exposure process.

暴露工程の間の炉の雰囲気には不活性物質および一酸化炭素を含み、一酸化炭素の不活性物質に対する比が少なくとも約0.0012であるのが好ましい。その比が約0.48以下であればさらに好ましい。不活性物質はどのような不活性ガスでもよく、たとえば、アルゴン、窒素、ヘリウム、およびそれらの混合物などであるが、これらに限定される訳ではない。さらに、暴露工程のどの過程においても炉の中での一酸化炭素の濃度は、好ましくは少なくとも約300ppm、より好ましくは少なくとも約600ppm、最も好ましくは少なくとも約1200ppmである。さらに、その濃度は、好ましくは約4800ppmまで、より好ましくは約4000ppmまで、最も好ましくは約3000ppmまでである。   Preferably, the furnace atmosphere during the exposure step includes inert material and carbon monoxide, and the ratio of carbon monoxide to inert material is at least about 0.0012. More preferably, the ratio is about 0.48 or less. The inert material may be any inert gas, such as, but not limited to, argon, nitrogen, helium, and mixtures thereof. Furthermore, the concentration of carbon monoxide in the furnace during any of the exposure steps is preferably at least about 300 ppm, more preferably at least about 600 ppm, and most preferably at least about 1200 ppm. Further, the concentration is preferably up to about 4800 ppm, more preferably up to about 4000 ppm, and most preferably up to about 3000 ppm.

ドーピング工程の間の炉の一酸化炭素の濃度は、暴露工程に関する上述の濃度いずれかと同様でよい。ドーピング工程の間の炉の一酸化炭素の濃度は、暴露工程の間の炉の一酸化炭素の濃度と同じである必要はない。暴露工程に関する上述の一酸化炭素の不活性物質に対する比は、ドーピング工程で実施する比で実施してもよいが、その比は、ドーピング工程と同一にしなければならないという訳ではない。   The concentration of carbon monoxide in the furnace during the doping process may be similar to any of the concentrations described above for the exposure process. The concentration of furnace carbon monoxide during the doping process need not be the same as the furnace carbon monoxide concentration during the exposure process. Although the ratio of carbon monoxide to inert material described above for the exposure process may be performed at the ratio performed in the doping process, the ratio does not have to be the same as in the doping process.

この方法では、先にも述べたように、プリフォームを焼結する工程をさらに含めてもよい。別な方法として本発明には、一酸化炭素を含む雰囲気中でプリフォームを焼結する工程が含まれていてもよい。焼結雰囲気に一酸化炭素を添加すること以外は、プリフォームは先に開示したのと同じ方法で焼結する。その一酸化炭素の濃度は暴露工程に関して先に記載したのと同じでよいが、焼結雰囲気中での一酸化炭素の濃度は、他の工程での炉中の一酸化炭素の濃度と同じである必要はない。   In this method, as described above, a step of sintering the preform may be further included. Alternatively, the present invention may include a step of sintering the preform in an atmosphere containing carbon monoxide. The preform is sintered in the same manner as previously disclosed, except that carbon monoxide is added to the sintering atmosphere. The concentration of carbon monoxide may be the same as described above for the exposure process, but the concentration of carbon monoxide in the sintering atmosphere is the same as the concentration of carbon monoxide in the furnace in the other processes. There is no need.

さらに本発明には、プリフォームを線引きして光ファイバにする工程も含む。炉からファイバを線引きする際には、好ましくは、ファイバが炉を出してから、熱伝導率がヘリウムより低いガスで充満させたチャンバを通過させる。そのガスの温度は、線引きされたファイバの温度よりは低くしておくのが好ましい。ガスの温度がほぼ室温またはそれ以下であれば、より好ましい。熱伝導率が低いガスの例を挙げれば、窒素、アルゴン、空気、およびそれらの混合物がある。そのチャンバの位置は、線引き炉からのファイバ出口の直ぐそばでもよいし、線引き炉からのファイバ出口からかなり下流であってもよい。このチャンバは、処理炉とか、低温拡張マッフル炉(lower extended muffle、LEM)とも呼ばれている。LEMに関するさらなる詳細は、2001年5月30日頃に出願された、「光ファイバを形成するための方法と装置(Methods and Apparatus for Forming Optical Fiber)」と題する米国特許出願に記載があるが、この特許出願はここに引用することにより、本明細書に取り入れたものとする。   The present invention further includes a step of drawing the preform into an optical fiber. When drawing the fiber from the furnace, the fiber preferably exits the furnace and then passes through a chamber filled with a gas having a lower thermal conductivity than helium. The temperature of the gas is preferably lower than the temperature of the drawn fiber. More preferably, the gas temperature is about room temperature or lower. Examples of gases with low thermal conductivity include nitrogen, argon, air, and mixtures thereof. The location of the chamber may be right next to the fiber exit from the draw furnace or may be significantly downstream from the fiber exit from the draw furnace. This chamber is also called a processing furnace or a low temperature extended muffle furnace (LEM). Further details regarding LEM can be found in a US patent application entitled “Methods and Apparatus for Forming Optical Fiber” filed around May 30, 2001. Patent applications are incorporated herein by reference.

本発明の1つの具体的な実施の形態においては、既に炉の中にあるプリフォーム12と共に、炉を約10分、好ましくは約5分、より好ましくは約3分間ウォームアップする。炉には2つのゾーン、すなわちゾーン1(別称、固結化ゾーン)とゾーン2(別称、焼結ゾーン)があって、それぞれのゾーンが独立して温度調節できるようにしてあるのが好ましい。炉のゾーン1は、温度を約1200℃以上、好ましくは約1225℃以上に加熱する。炉のゾーン2は、約1300℃以上、好ましくは約1325℃以上、より好ましくは1350℃以上、最も好ましくは約1380℃以上に加熱する。ウォームアップの間、炉には不活性ガスを約10slpm(standard liters per minute=1分あたり標準リットル)、好ましくは約15slpm、より好ましくは約20slpm流す。   In one specific embodiment of the invention, the furnace is warmed up with the preform 12 already in the furnace for about 10 minutes, preferably about 5 minutes, more preferably about 3 minutes. The furnace preferably has two zones, namely zone 1 (also called consolidation zone) and zone 2 (also called sintering zone), each of which can be independently temperature controlled. Furnace zone 1 heats the temperature to about 1200 ° C or higher, preferably about 1225 ° C or higher. Furnace zone 2 is heated to about 1300 ° C. or higher, preferably about 1325 ° C. or higher, more preferably 1350 ° C. or higher, and most preferably about 1380 ° C. or higher. During warm-up, the furnace is flushed with inert gas at about 10 slpm (standard liters per minute = standard liters per minute), preferably about 15 slpm, more preferably about 20 slpm.

プリフォームを、炉のゾーン1において約2.2%の塩素雰囲気下で、少なくとも約30分間、より好ましくは約45分間、最も好ましくは少なくとも約60分間処理するのが好ましい。炉の温度は、ウォームアップ工程の間は同じにしておくのが好ましい。塩素化工程の間、炉の中には約20slpmのヘリウムと約0.45slpmの塩素を流す。塩素化工程が終了したら、炉の中の雰囲気を炉から排出するのが好ましかった。   Preferably, the preform is treated in a furnace zone 1 under a chlorine atmosphere of about 2.2% for at least about 30 minutes, more preferably for about 45 minutes, and most preferably for at least about 60 minutes. The furnace temperature is preferably kept the same during the warm-up process. During the chlorination process, about 20 slpm of helium and about 0.45 slpm of chlorine are passed through the furnace. When the chlorination process was completed, it was preferable to exhaust the atmosphere in the furnace from the furnace.

次いで、プリフォーム12を上記の温度で、ヘリウムおよび一酸化炭素の雰囲気に暴露する。この暴露は、約15分から約45分までの間続ければよい。この暴露雰囲気にはヘリウムと一酸化炭素とを含み、約19.00slpmのヘリウム、好ましくは約19.24slpm(より好ましくは約19.48slpm、最も好ましくは少なくとも約19.76)と、約1.00slpmの一酸化炭素(より好ましくは約0.76slpm、最も好ましくは少なくとも約0.52slpm、最も好ましくは約0.45slpm以下)を炉に導入する。一酸化炭素とヘリウムの10%混合物であるのが好ましい。   The preform 12 is then exposed to an atmosphere of helium and carbon monoxide at the above temperature. This exposure may last between about 15 minutes and about 45 minutes. The exposure atmosphere includes helium and carbon monoxide, about 19.00 slpm helium, preferably about 19.24 slpm (more preferably about 19.48 slpm, most preferably at least about 19.76), and about 1. 00 slpm carbon monoxide (more preferably about 0.76 slpm, most preferably at least about 0.52 slpm, most preferably about 0.45 slpm or less) is introduced into the furnace. A 10% mixture of carbon monoxide and helium is preferred.

この実施の形態にはさらに、ヘリウム、一酸化炭素およびCFを含む雰囲気でのプリフォーム12のドーピングを含む。炉へのヘリウムの流量は、約14.00slpm、好ましくは約14.5slpm、より好ましくは約15.0slpm、最も好ましくは約15.76slpmである。炉へのCFの流量は、少なくとも約2slpm、好ましくは少なくとも約3slpm、最も好ましくは少なくとも約4slpmである。炉への一酸化炭素の流量は、少なくとも約0.020slpm、好ましくは少なくとも約0.024slpmである。ドーピング工程にかける時間は、少なくとも約30分、好ましくは少なくとも約45分、より好ましくは少なくとも約60分、最も好ましくは少なくとも約90分である。 This embodiment further includes doping the preform 12 in an atmosphere containing helium, carbon monoxide and CF 4 . The flow rate of helium to the furnace is about 14.00 slpm, preferably about 14.5 slpm, more preferably about 15.0 slpm, and most preferably about 15.76 slpm. The flow rate of CF 4 to the furnace is at least about 2 slpm, preferably at least about 3 slpm, and most preferably at least about 4 slpm. The flow rate of carbon monoxide to the furnace is at least about 0.020 slpm, preferably at least about 0.024 slpm. The time for the doping step is at least about 30 minutes, preferably at least about 45 minutes, more preferably at least about 60 minutes, and most preferably at least about 90 minutes.

この実施の形態にはさらに、炉からドーピング雰囲気を脱気することを含む。脱気工程の間、炉のゾーン2における温度を、少なくとも約1400℃、好ましくは少なくとも約1420℃、より好ましくは少なくとも約1440℃に上げる。脱気工程の間の炉の雰囲気には、ヘリウムおよび一酸化炭素を含んでいる。好ましくは少なくとも約19.0slpm、より好ましくは少なくとも約19.5slpm、最も好ましくは少なくとも19.76slpmのヘリウムを炉に注入する。炉への一酸化炭素の流量は、好ましくは少なくとも約0.020slpm、より好ましくは少なくとも約0.024slpmである。ドーピング雰囲気の脱気にかける時間は、好ましくは少なくとも約10分、より好ましくは少なくとも約20分、最も好ましくは少なくとも約30分である。   This embodiment further includes degassing the doping atmosphere from the furnace. During the degassing step, the temperature in zone 2 of the furnace is increased to at least about 1400 ° C, preferably at least about 1420 ° C, more preferably at least about 1440 ° C. The furnace atmosphere during the deaeration process contains helium and carbon monoxide. Preferably at least about 19.0 slpm helium is injected into the furnace, more preferably at least about 19.5 slpm, and most preferably at least 19.76 slpm. The flow rate of carbon monoxide to the furnace is preferably at least about 0.020 slpm, more preferably at least about 0.024 slpm. The time for degassing the doping atmosphere is preferably at least about 10 minutes, more preferably at least about 20 minutes, and most preferably at least about 30 minutes.

次にプリフォームを焼結するが、プリフォームを炉のゾーン2の中に少なくとも約4mm/分の速度で移動させる。この速度は約12mm/分まで上げてもよいが、好ましくは約8mm/分とするのがよい。炉のゾーン2における温度を、少なくとも約1400℃、好ましくは少なくとも約1420℃、より好ましくは少なくとも約1440℃に保持する。プリフォームを焼結するための時間は、少なくとも約120分、好ましくは少なくとも約150分、より好ましくは少なくとも約170分である。焼結工程の間は、一酸化炭素およびヘリウムの雰囲気を炉の中に供給する。好ましくは少なくとも約19.0slpm、より好ましくは少なくとも約19.5slpm、最も好ましくは少なくとも19.76slpmのヘリウムを炉に注入する。炉への一酸化炭素の流量は、好ましくは少なくとも約0.020slpm、より好ましくは少なくとも約0.024slpmである。   The preform is then sintered, but the preform is moved into the furnace zone 2 at a speed of at least about 4 mm / min. This speed may be increased to about 12 mm / min, but preferably about 8 mm / min. The temperature in zone 2 of the furnace is maintained at least about 1400 ° C, preferably at least about 1420 ° C, more preferably at least about 1440 ° C. The time for sintering the preform is at least about 120 minutes, preferably at least about 150 minutes, more preferably at least about 170 minutes. During the sintering process, an atmosphere of carbon monoxide and helium is fed into the furnace. Preferably at least about 19.0 slpm helium is injected into the furnace, more preferably at least about 19.5 slpm, and most preferably at least 19.76 slpm. The flow rate of carbon monoxide to the furnace is preferably at least about 0.020 slpm, more preferably at least about 0.024 slpm.

プリフォームを完全に炉のゾーン2の中に移動させたら、焼結工程は完了で、プリフォームを炉のゾーン2に保持し、その時間はヘリウム雰囲気中で、約5分未満、好ましくは約3分未満、より好ましくは約2分未満、最も好ましくは約1分未満とする。この工程の間、炉へ供給するヘリウムは20slpmであれば好ましい。   Once the preform has been completely moved into furnace zone 2, the sintering process is complete and the preform is held in furnace zone 2 for a period of less than about 5 minutes, preferably about 5 minutes in a helium atmosphere. Less than 3 minutes, more preferably less than about 2 minutes, and most preferably less than about 1 minute. During this process, the helium supplied to the furnace is preferably 20 slpm.

本発明のこの具体的な実施の形態の最後は、仕上げ工程である。仕上げ工程の間、炉のゾーン2の温度を下げて、約1400℃未満、好ましくは約1390℃未満、最も好ましくは約1380℃とする。仕上げ工程の間の炉の中の雰囲気にはアルゴンを含んでいるのが好ましい。炉中に供給するアルゴンは好ましくは約10slpm、より好ましくは約15slpmより多くする。最も好ましくは少なくとも約20slpmとする。得られるファイバの減衰スペクトルで、約1565nm〜約1595nmの波長範囲で示される減衰の偏差が約0.012dB/km以下であるのが好ましい。より好ましくは、この偏差が約0.006dB/km以下、より好ましくは約0.003dB/km以下、最も好ましくは偏差がゼロの場合である。この波長の範囲は、好ましくは約1570nm〜約1590nm、最も好ましくは約1575nm〜約1585nmの範囲である。   The last of this specific embodiment of the present invention is a finishing process. During the finishing process, the temperature in zone 2 of the furnace is reduced to less than about 1400 ° C, preferably less than about 1390 ° C, and most preferably about 1380 ° C. The atmosphere in the furnace during the finishing process preferably contains argon. The argon fed into the furnace is preferably about 10 slpm, more preferably more than about 15 slpm. Most preferably at least about 20 slpm. In the attenuation spectrum of the resulting fiber, it is preferred that the attenuation deviation shown in the wavelength range of about 1565 nm to about 1595 nm is about 0.012 dB / km or less. More preferably, this deviation is about 0.006 dB / km or less, more preferably about 0.003 dB / km or less, and most preferably the deviation is zero. This wavelength range is preferably in the range of about 1570 nm to about 1590 nm, most preferably about 1575 nm to about 1585 nm.

得られるファイバの減衰スペクトルで、約1400nm〜約1470nmの波長範囲で示される減衰の偏差が約0.012dB/km以下であるのが好ましい。より好ましくは、この偏差が約0.006dB/km以下、より好ましくは約0.003dB/km以下、最も好ましくは偏差がゼロの場合である。この波長の範囲は、好ましくは約1410nm〜約1460nm、最も好ましくは約1420nm〜約1450nmの範囲である。   In the attenuation spectrum of the resulting fiber, it is preferred that the attenuation deviation shown in the wavelength range of about 1400 nm to about 1470 nm is about 0.012 dB / km or less. More preferably, this deviation is about 0.006 dB / km or less, more preferably about 0.003 dB / km or less, and most preferably the deviation is zero. This wavelength range is preferably in the range of about 1410 nm to about 1460 nm, most preferably about 1420 nm to about 1450 nm.

得られるファイバの減衰スペクトルで、約1520nm〜約1560nmの波長範囲で示される減衰の偏差が約0.010dB/km以下であるのが好ましい。より好ましくは、この偏差が約0.006dB/km以下、より好ましくは約0.003dB/km以下、最も好ましくは偏差がゼロの場合である。この波長の範囲は、好ましくは約1530nm〜約1555nm、最も好ましくは約1540nm〜約1550nmの範囲である。   The attenuation spectrum of the resulting fiber preferably has an attenuation deviation of about 0.010 dB / km or less shown in the wavelength range of about 1520 nm to about 1560 nm. More preferably, this deviation is about 0.006 dB / km or less, more preferably about 0.003 dB / km or less, and most preferably the deviation is zero. This wavelength range is preferably from about 1530 nm to about 1555 nm, most preferably from about 1540 nm to about 1550 nm.

得られるファイバの減衰スペクトルで、約1595nm〜約1625nmの波長範囲で示される減衰の偏差が約0.012dB/km以下であるのが好ましい。より好ましくは、この偏差が約0.006dB/km以下、より好ましくは約0.003dB/km以下、最も好ましくは偏差がゼロの場合である。この波長の範囲は、好ましくは約1660nm〜約1620nm、最も好ましくは約1605nm〜約1615nmの範囲である。   The attenuation spectrum of the resulting fiber preferably has an attenuation deviation of about 0.012 dB / km or less shown in the wavelength range of about 1595 nm to about 1625 nm. More preferably, this deviation is about 0.006 dB / km or less, more preferably about 0.003 dB / km or less, and most preferably the deviation is zero. This wavelength range is preferably in the range of about 1660 nm to about 1620 nm, and most preferably about 1605 nm to about 1615 nm.

線引きされたファイバのスペクトルが、上述の吸収ピーク類(公称約1440nm、約1543nm、約1583nmおよび約1610nm)の少なくとも1つを示さないのが好ましい。スペクトルが上述の吸収ピークの少なくとも2つを示さなければより好ましく、スペクトルが上述の吸収ピークの全部を示さなければ最も好ましい。   Preferably, the spectrum of the drawn fiber does not show at least one of the aforementioned absorption peaks (nominal about 1440 nm, about 1543 nm, about 1583 nm and about 1610 nm). It is more preferred if the spectrum does not show at least two of the aforementioned absorption peaks, and most preferred if the spectrum does not show all of the aforementioned absorption peaks.

最大偏差はさらに、平方2乗平均(以後RMSと表す)の形で測定することができる。RMSを計算するための方法は、以下の式にしたがう。

Figure 0004540034
The maximum deviation can further be measured in the form of a root mean square (hereinafter referred to as RMS). The method for calculating the RMS follows the following equation:
Figure 0004540034

ここで「n」は、与えられた波長範囲内の区間の数であり、「λn」は波長の上限、「λ1」は波長の下限であり、「attn」はnと1との間の任意の波長「i」でファイバによって示される減衰である。たとえば、1583吸収ピークの場合、その波長範囲には、約1565nm〜約1595nmが含まれる。好ましくはRMSが約0.0090以下、より好ましくは約0.0088以下、最も好ましくは約0.0086以下である。 Here, “n” is the number of sections within a given wavelength range, “λn” is the upper limit of wavelength, “λ1” is the lower limit of wavelength, and “attn i ” is between n and 1 The attenuation exhibited by the fiber at any wavelength “i”. For example, for the 1583 absorption peak, the wavelength range includes from about 1565 nm to about 1595 nm. Preferably, the RMS is about 0.0090 or less, more preferably about 0.0088 or less, and most preferably about 0.0086 or less.

上述の方法は、光ファイバを製造するためのプロセスにも取り込むことができる。たとえば、上述の方法は、大有効面積光ファイバまたは分散制御光ファイバを製造するためのプロセスに取り入れることができる。この分散制御ファイバは、屈折率低下ドーパントを含む少なくとも1つの領域を有しているのが好ましく、その領域の最大Δ%は、好ましくは約−0.35%以下、より好ましくは約−0.38%以下、さらにより好ましくは約−0.40%以下、最も好ましくは約−0.42%以下である。分散制御光ファイバのさらなる詳細については以下の、特許文献2(2000年5月31日に出願)、特許文献3(2000年5月31日に出願)および特許文献4(2000年3月30日に出願)に記載があり、これらはここに引用することにより、本明細書に取り入れたものとする。   The method described above can also be incorporated into a process for manufacturing an optical fiber. For example, the methods described above can be incorporated into a process for manufacturing large effective area optical fibers or dispersion controlled optical fibers. The dispersion control fiber preferably has at least one region containing a refractive index reducing dopant, and the maximum Δ% of the region is preferably about −0.35% or less, more preferably about −0. 38% or less, even more preferably about -0.40% or less, and most preferably about -0.42% or less. For further details of the dispersion control optical fiber, Patent Document 2 (filed on May 31, 2000), Patent Document 3 (filed on May 31, 2000), and Patent Document 4 (March 30, 2000) are described below. Which are incorporated herein by reference.

約1000℃以下の温度での処理
この方法では、炉30に懸架させたプリフォーム12を、約1000℃未満の温度に加熱する。スート・プリフォーム12の加熱温度は、好ましくは約800℃未満、より好ましくは約25℃〜約600℃、最も好ましくは約400℃以下である。
Treatment at a temperature below about 1000 ° C. In this method, the preform 12 suspended in the furnace 30 is heated to a temperature below about 1000 ° C. The heating temperature of the soot preform 12 is preferably less than about 800 ° C, more preferably about 25 ° C to about 600 ° C, and most preferably about 400 ° C or less.

図1に示すように、炉30には還元剤を供給する。この還元剤は矢印32の方向に流れ、プリフォーム12と接触する。この還元剤は、式Mの形の酸化物と反応する化合物であるのが好ましいが、ここで「M」は、周期律表で原子番号が21〜30、39〜47、57〜79、89〜107の少なくとも1種の元素およびそれらの混合物であり、「O」は酸素、「x」と「y」は1以上の整数である。より好ましくは「M」は、Zr、Ni、Fe、Ti、V、Cr、Mn、Co、Cu、Znおよびそれらの混合物からなる元素の群より選択される少なくとも1つの元素である。 As shown in FIG. 1, a reducing agent is supplied to the furnace 30. This reducing agent flows in the direction of arrow 32 and contacts the preform 12. The reducing agent is preferably a compound that reacts with an oxide of the form M x O y , where “M” is the periodic table with atomic numbers 21-30, 39-47, 57- 79, 89 to 107, and a mixture thereof, “O” is oxygen, “x” and “y” are integers of 1 or more. More preferably, “M” is at least one element selected from the group of elements consisting of Zr, Ni, Fe, Ti, V, Cr, Mn, Co, Cu, Zn, and mixtures thereof.

好適な還元剤は一酸化炭素である。この還元剤がM化合物と反応して、少なくとも1種のカルボニル錯体(−CO)を含む反応生成物が得られれば、より好ましい。たとえば、プリフォーム12に酸化ニッケルが含まれている場合には、酸化ニッケルが一酸化炭素還元剤と反応して、Ni(CO)が生成する。カルボニル錯体反応生成物が大気圧条件下で約200℃未満の温度で揮発するようならば、最も好ましい。代わりに使用できる還元剤にはSOがある。還元剤に加えて、不活性ガス、たとえばヘリウム、窒素、アルゴンまたはそれらの混合物を還元剤と同時に炉30の中に供給するのが好ましい。本発明は、ここに記載した不活性ガスだけに限定されない。プリフォーム12を還元剤に、約1〜約4時間暴露するのが好ましい。 A preferred reducing agent is carbon monoxide. It is more preferable if this reducing agent reacts with the M x O y compound to obtain a reaction product containing at least one carbonyl complex (—CO). For example, when the preform 12 contains nickel oxide, the nickel oxide reacts with the carbon monoxide reducing agent to produce Ni (CO) 4 . Most preferably, the carbonyl complex reaction product will volatilize at temperatures below about 200 ° C. under atmospheric pressure conditions. Reducing agents that can be used in place there is SO 2. In addition to the reducing agent, an inert gas such as helium, nitrogen, argon or a mixture thereof is preferably fed into the furnace 30 simultaneously with the reducing agent. The present invention is not limited to the inert gases described herein. Preferably, the preform 12 is exposed to the reducing agent for about 1 to about 4 hours.

スート・プリフォーム12は、アルカリ金属酸化物類、アルカリ土類酸化物類、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、およびそれらの混合物からなる群より選択される少なくとも1種の成分を含む、ケイ酸塩体であるのが好ましい。プリフォーム12には、Sb、Al、B、Ga、In、Ti、Ge、Sn、Pb、P、As、Bi、Te、Seおよびそれらの混合物からなる元素の群からの少なくとも1種の元素を含む酸化物が含まれているのがより好ましい。プリフォーム12は任意に、ガラス溶融のための粉体バッチ材料から製造してもよい。好適な粉体バッチ材料の例には、シリカ、アルミナ、アルカリ酸化物類、および少なくとも上記のその他の酸化物が含まれる。   The soot preform 12 is a silicate body comprising at least one component selected from the group consisting of alkali metal oxides, alkaline earth oxides, aluminum oxide, antimony oxide, and mixtures thereof. Preferably there is. The preform 12 contains at least one element from the group of elements consisting of Sb, Al, B, Ga, In, Ti, Ge, Sn, Pb, P, As, Bi, Te, Se, and mixtures thereof. More preferably, the oxide is contained. Preform 12 may optionally be manufactured from a powder batch material for glass melting. Examples of suitable powder batch materials include silica, alumina, alkali oxides, and at least the other oxides described above.

プリフォーム12を還元剤に暴露させたあとで任意に、プリフォーム12をフッ素でドープする。フッ素ドーピングは、プリフォーム12を約1000℃〜約1600℃のドーピング温度に加熱して実施する。プリフォーム12が加熱されて適切なドーピング温度になったら、プリフォーム12をドーピングガスに暴露する。そのドーピングガスには以下の、CF、SiF、C、SF、F、C、NF、ClF、クロロフルオロカーボン、およびそれらの混合物から選択されたフッ素含有ガスの内の少なくとも1種を含んでいるのが好ましい。プリフォーム12をそのドーピングガスに約1〜約6時間暴露する。 Optionally, after the preform 12 is exposed to the reducing agent, the preform 12 is doped with fluorine. The fluorine doping is performed by heating the preform 12 to a doping temperature of about 1000 ° C. to about 1600 ° C. When the preform 12 is heated to an appropriate doping temperature, the preform 12 is exposed to a doping gas. The doping gas includes the following fluorine-containing gas selected from CF 4 , SiF 4 , C 2 F 6 , SF 6 , F 2 , C 3 F 8 , NF 3 , ClF 3 , chlorofluorocarbon, and mixtures thereof. It is preferable that at least one of them is included. Preform 12 is exposed to the doping gas for about 1 to about 6 hours.

プリフォーム12を焼結温度の約1200℃〜約1600℃に加熱して、スート・プリフォーム12を焼結してガラスにする。フッ素でドープしたプリフォームの場合には、プリフォームをフッ素ドーピングの間または後に焼結することができる。プリフォーム12はその焼結温度に、約1〜約6時間、好ましくは約4〜約6時間維持する。焼結の間は、そのプリフォームは不活性雰囲気に暴露するのがよい。好適な不活性雰囲気とは、He、Ar、Nまたはそれらの混合物からなるものである。図4および5の管状のプリフォームを形成させるためには、先にも述べたように穴18は閉じなかった。 The preform 12 is heated to a sintering temperature of about 1200 ° C. to about 1600 ° C. to sinter the soot preform 12 into glass. In the case of a fluorine doped preform, the preform can be sintered during or after fluorine doping. The preform 12 is maintained at its sintering temperature for about 1 to about 6 hours, preferably about 4 to about 6 hours. During sintering, the preform should be exposed to an inert atmosphere. Suitable inert atmospheres are those consisting of He, Ar, N 2 or mixtures thereof. To form the tubular preform of FIGS. 4 and 5, the hole 18 was not closed as previously described.

図4および図5に示すように、焼結したプリフォーム12は縦方向の長さがLで、切れ目を入れたプリフォーム12では、この縦方向の長さに沿って切れ目を入れ、縦方向の切れ目25を形成している。好ましい実施の形態においては、プリフォーム12には切れ目を1つだけしか入れず、その結果、切れ目25によって得られるガラスは1つであり、非常に口の狭い「C」の形に似た横切りしたプリフォームが得られる。切れ目を入れたプリフォーム12を次に平らにする。   As shown in FIGS. 4 and 5, the sintered preform 12 has a length L in the longitudinal direction, and in the preform 12 with a cut, a cut is made along the length in the longitudinal direction. A cut 25 is formed. In the preferred embodiment, the preform 12 has only one cut, so that the cut 25 results in a single glass, a cross-section that resembles a very narrow “C” shape. A preform is obtained. The cut preform 12 is then flattened.

別の実施の形態においては、プリフォーム12に少なくとも2つの縦方向の切れ目を入れて、少なくとも2つの縦方向の断片に切断するが、好ましくはこの切れ目をプリフォーム12の円周方向で均等な距離を開けて入れる。プリフォーム12の内周が所望のフォトマスクの幅の2倍、3倍または4倍ある場合には、プリフォーム12を切断して、1/2、1/3または1/4の大きさの複数の断片にするのが好ましい。プリフォーム12の内周が所望のフォトマスクブランクの幅よりも実質的に大きい場合には、いくつかの切片に切断するのが好ましい方法である。   In another embodiment, the preform 12 is cut into at least two longitudinal cuts and cut into at least two longitudinal pieces, but preferably the cuts are even in the circumferential direction of the preform 12. Enter a distance. When the inner circumference of the preform 12 is twice, three times, or four times the desired photomask width, the preform 12 is cut to have a size of 1/2, 1/3, or 1/4. Preferably it is a plurality of fragments. If the inner circumference of the preform 12 is substantially larger than the desired photomask blank width, it is a preferred method to cut into several sections.

図6に示すように、プリフォーム12のC形の断片23は、平坦化して平面状のフォトマスクブランク部材にすることができるが、それには、張力をかけて伸ばし、さらにサギングさせるが、それは単一の切れ目25を有するプリフォーム12を平坦化するのと同様である。別な方法として、半分にしたプリフォームを直接炉の中でサギングさせることもできる。同様にして、プリフォーム12の1/3の断片やプリフォーム12の1/4の断片も、炉31の中で直接サギングすることができる。平坦化させるためには、プリフォームの切片は曲面を上にして置くのが好ましい。   As shown in FIG. 6, the C-shaped piece 23 of the preform 12 can be flattened into a planar photomask blank member that is stretched under tension and further sagged, Similar to flattening a preform 12 having a single cut 25. Alternatively, the halved preform can be sagged directly in the furnace. Similarly, 1/3 of the preform 12 and 1/4 of the preform 12 can be directly sagged in the furnace 31. In order to flatten, it is preferable to place the preform section with the curved surface facing up.

固結化させたガラスプリフォーム12は、所望の内径と壁厚にしてから、切れ目を入れて平坦化するのが好ましい。そのような内径と壁厚は、たとえばコアドリルなどの機械加工を行って調整するのが好ましい。   The consolidated glass preform 12 is preferably flattened with a cut after having a desired inner diameter and wall thickness. Such inner diameter and wall thickness are preferably adjusted by machining such as a core drill.

固結化させたプリフォーム12の断片23を平坦化させるには、断片23を加熱し、加熱した断片23に変形のための力を加える。図6に示すように、断片23を平坦化させる工程としては、加熱したガラス細工炉31の中に断片23を吊り下げて、たとえば錘をとりつけて、断片23に下向きの力を加えるのが好ましい。吊り下げ留め具51に留めることによって、炉31の天井近くから断片23を吊り下げる。吊り下げ留め具51の白金製の針金を、断片23の切れ目25の近傍に取り付けるのが好ましい。この白金製の針金は、断片23に穴を開け、針金を通すことで取り付けることができる。吊り具51と白金製の針金は直接炉31の天井に取り付けてもよいし、間接的に炉31に付けてもよい。   In order to flatten the consolidated piece 23 of the preform 12, the piece 23 is heated and a force for deformation is applied to the heated piece 23. As shown in FIG. 6, as the step of flattening the piece 23, it is preferable to hang the piece 23 in a heated glasswork furnace 31 and attach a weight, for example, to apply a downward force to the piece 23. . The piece 23 is suspended from near the ceiling of the furnace 31 by being fastened to the hanging fastener 51. It is preferable to attach the platinum wire of the hanging fastener 51 in the vicinity of the cut 25 of the fragment 23. This platinum wire can be attached by making a hole in the piece 23 and passing the wire through. The hanger 51 and the platinum wire may be directly attached to the ceiling of the furnace 31 or may be indirectly attached to the furnace 31.

同様にして、平坦化のための下向きの力は、白金製の針金を同様に断片23に取り付けて、錘、好ましくはシリカ製の錘をプリフォーム12の断片23の反対側の切れ目の端に吊り下げる。力を加えるための部材53が断片23に平坦化のための力を与え、加熱した断片23の曲げを延ばすように働く。炉31は少なくとも約1480℃に加熱するのが好ましく、それによって力を加えるための部材53が断片23をほぼ平坦にする。この吊り下げ伸張によって曲げを延ばすための、炉31の中の断片23の加熱に適した温度は、約1480〜約1580℃の範囲、好ましくは約1600℃未満で、たとえば約1500℃である。   Similarly, the downward force for flattening can be achieved by attaching a platinum wire to the piece 23 in the same way and placing a weight, preferably a silica weight, at the end of the cut opposite the piece 23 of the preform 12. Be suspended. A member 53 for applying a force provides a force for flattening the piece 23 and acts to extend the bending of the heated piece 23. The furnace 31 is preferably heated to at least about 1480 ° C. so that a member 53 for applying a force makes the piece 23 substantially flat. A suitable temperature for heating the piece 23 in the furnace 31 to extend the bend by this hanging extension is in the range of about 1480 to about 1580 ° C., preferably less than about 1600 ° C., for example about 1500 ° C.

そのような吊り下げ法に加えて、断片23をさらに平坦化させるのは、断片23をサギング温度に加熱して、加熱した断片23に変形力を加える。図7に示すように、図6に示した吊り下げ法によって得られる巻きを戻した切断片23をさらに、ガラス細工炉31中でサギングさせてさらに平坦にすることができる。断片23をサギングさせて平坦な切断片にするこの好適な工程では、炉31を充分に高い温度に加熱し、それによって、切断片23の浮き上がっている部分の重量が充分な変形力として働いて、この切開させた管をサギングさせて、平坦な表面を有するガラス部材が得られるようにする。   In addition to such a suspending method, further flattening the piece 23 heats the piece 23 to a sagging temperature and applies a deformation force to the heated piece 23. As shown in FIG. 7, the cut piece 23 that has been unwound by the suspension method shown in FIG. 6 can be further sagged in a glasswork furnace 31 to be further flattened. In this preferred process of sagging the piece 23 into a flat cut piece, the furnace 31 is heated to a sufficiently high temperature so that the weight of the raised part of the cut piece 23 acts as a sufficient deformation force. The incised tube is sagged to obtain a glass member having a flat surface.

炉31を切断片23をサギングさせるのに充分な程高い軟化温度まで加熱して、流動温度より低い温度に保つのが好ましく、それによって断片23を平坦化させながら、しかもガラスが流動したり薄くなったりすることを実質的に抑制する。サギング温度は、好ましくは約1700〜約1800℃の範囲、より好ましくは約1720〜約1760℃、最も好ましくは約1730℃である。吊り下げおよび/またはサギングなどの方法で断片23に変形力を加えて平坦化させるのに加えて、炉で加熱した断片23にプレスによって変形力を与えることもできる。   It is preferable to heat the furnace 31 to a softening temperature high enough to sag the cut piece 23 and keep it below the flow temperature, thereby allowing the glass to flow or thin while flattening the piece 23. It is substantially suppressed that it becomes. The sagging temperature is preferably in the range of about 1700 to about 1800 ° C, more preferably about 1720 to about 1760 ° C, and most preferably about 1730 ° C. In addition to applying a deformation force to the piece 23 by a method such as suspending and / or sagging and flattening the piece 23, it is also possible to apply a deformation force to the piece 23 heated in the furnace by pressing.

断片自体の重みに加えて、断片23にプレス力を加える場合には、使用する変形温度を下げることができる。プレス力を加える場合には、管を温度約1550〜約1650℃で処理することができ、プレス力は、平坦な平面状加圧部材を用いて断片23に加え、分散させることができる。圧力をかける断片23の表面は、ガラスのプリフォームから単離させるために白金箔で覆う。その代わりに使用できる平坦な平面状部材としては、高純度高密度のグラファイトスラブがある。高純度高密度グラファイトスラブは、本発明の実施においては、有用な配置材(setter)や炉の表面材にも使用することができる。   When a pressing force is applied to the piece 23 in addition to the weight of the piece itself, the deformation temperature to be used can be lowered. If a pressing force is applied, the tube can be treated at a temperature of about 1550 to about 1650 ° C., and the pressing force can be applied to the piece 23 and dispersed using a flat planar pressure member. The surface of the piece 23 under pressure is covered with platinum foil for isolation from the glass preform. A flat planar member that can be used instead is a high-purity, high-density graphite slab. High purity high density graphite slabs can also be used as useful setters and furnace surface materials in the practice of the present invention.

断片23を平坦化させることに加えて、断片23の加熱は水素ゼロの加熱環境で実施するのが好ましく、それによって、ガラスに水素が混入してくるのを防ぎ、ガラス中に捕捉されているH分子をすべて逃して脱気し、その結果として検出可能な水素を含まないフォトマスクブランクが得られる。 In addition to flattening the piece 23, the piece 23 is preferably heated in a hydrogen-free heating environment, thereby preventing hydrogen from entering the glass and being trapped in the glass. All the H 2 molecules are missed and degassed, resulting in a photomask blank containing no detectable hydrogen.

断片23の加熱には、断片23をガラス変形軟化点温度にまで加熱することが含まれ、そこではガラスの粘度が低下して、変形力を加えるとガラスの管が変形する。   Heating the piece 23 includes heating the piece 23 to the glass deformation softening point temperature, where the viscosity of the glass is reduced and the glass tube is deformed when a deformation force is applied.

固結化させたプリフォームからフォトマスク基材を形成するプロセスに関してのさらに詳しい開示は、以下の米国特許出願にあり、これらの出願の全体をここに引用することにより、本明細書に取り入れたものとする。特許文献5(1999年2月12日に出願)、特許文献6(1999年3月12日に出願)、特許文献7(1999年5月21日に出願)、特許文献8(1999年10月12日に出願)、特許文献9(1999年、9月16日に出願)、特許文献10(1999年9月16日に出願)および特許文献11(1999年9月16日に出願)。   More detailed disclosure regarding the process of forming a photomask substrate from a consolidated preform can be found in the following US patent applications, which are incorporated herein by reference in their entirety: Shall. Patent Document 5 (filed on February 12, 1999), Patent Document 6 (filed on March 12, 1999), Patent Document 7 (filed on May 21, 1999), Patent Document 8 (October 1999) No. 12 (filed on Sep. 16, 1999), Patent Document 9 (filed Sep. 16, 1999), and Patent Document 11 (filed Sep. 16, 1999).

本発明の前記の方法は、塩素を含まないフォトマスクを作製するプロセスにも取り入れることができる。塩素を含まないフォトマスクは、波長約157nmの光の少なくとも約90%を透過、より好ましくは波長約157nmの光の約100%を透過することが可能であるという利点を有している。   The method of the present invention can also be incorporated into a process for making a photomask that does not contain chlorine. A chlorine-free photomask has the advantage that it can transmit at least about 90% of light with a wavelength of about 157 nm, more preferably about 100% of light with a wavelength of about 157 nm.

本発明について以下の実施例を用いてさらに詳しく説明するが、これらの実施例の目的は本発明を例示することにある。   The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, and the purpose of these examples is to illustrate the present invention.

参考例
石英管および石英ボートからなるプリフォームアセンブリーで、管の中には、平均粒子径が10ミクロン未満のシリカサンドのイオタ−6(Iota−6、ユニミン社(UNIMIN、コネチカット州、ニューケーナン)より入手可能)およびγ−Al粉体(アルファ・アエザル社(Alfa Aesar、マサチューセッツ州、ワードヒル)より入手可能)が充填されているものを、水平管状炉中で約200℃で約4時間加熱した。この加熱の間、プリフォームはCO還元剤に暴露させた。COガスを約1リットル/分の流量で連続的にボートの一端から供給した。このCOガスは純度約99.7%で、BOCガス(BOC gas、ニュージャージー州、マレーヒル)から入手したものである。
Reference Example A preform assembly consisting of a quartz tube and a quartz boat, in which the silica sand Iota-6 (Iota-6, UNIMIN, UNIMIN, N.C. And γ-Al 2 O 3 powder (available from Alfa Aesar, Ward Hill, Mass.) In a horizontal tube furnace at about 200 ° C. Heated for about 4 hours. During this heating, the preform was exposed to a CO reducing agent. CO gas was continuously supplied from one end of the boat at a flow rate of about 1 liter / min. The CO gas has a purity of about 99.7% and was obtained from BOC gas (BOC gas, Murray Hill, NJ).

γ−Alの遷移金属含量を、CO処理の前および後に測定した。この遷移金属含量は、シバ・テクノロジーズ社(Shiva Technologies、ニューヨーク州、シラキュース)で製作された誘導結合プラズマ質量分析(ICP−MS)により測定した。測定結果を以下の表1−1に示す。

Figure 0004540034
The transition metal content of γ-Al 2 O 3 was measured before and after CO treatment. The transition metal content was measured by inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS) manufactured by Shiva Technologies (Syracuse, NY). The measurement results are shown in Table 1-1 below.
Figure 0004540034

CO処理によって、それぞれの元素の濃度が少なくとも1/3にまで減少した。   The CO treatment reduced the concentration of each element to at least 1/3.

実施例
ファイバを作製するための、プリフォームを還元剤で処理した効果を試験した。サブマリンLEAF(Submarine LEAF)(登録商標)ファイバ(コーニング社(Corning Incorporated、ニューヨーク州、コーニング)から入手可能)を製造するための2つのプリフォームを、塩素含有雰囲気で処理した後に、焼結の間にCOで約2時間処理した。還元性雰囲気中のCO濃度を変化させた。1つのプリフォームは、COを約300ppm含む雰囲気で処理し、もう1つのプリフォームはCOを約600ppm含む雰囲気で処理した。これらのプリフォームを線引きして、サブマリンLEAF(Submarine LEAF、登録商標)ファイバとした。ファイバの試料の線引きは、図8に示したように、2種類の異なった線引き速度で行い、張力も低張力の約90gと高張力の約150gのいずれかとした。既定の線引き速度で線引きしたそれぞれのファイバにおける減衰を、それぞれの2kmの長さのファイバ試料について、波長約1550nmで測定した。この長さ2kmのファイバを加熱して、環境チャンバ内で温度約200℃で約20時間保持した。使用した環境チャンバは、ヤマト(Yamato)DKN600型(VWR社(ペンシルバニア州、ウェストチェスター)から入手可能)であった。減衰の変化を測定した。対照のファイバも測定した。この対照ファイバが、試験したファイバと違う点は、コントロールファイバを線引きするためのプリフォームをClで処理し、COでは処理していないところである。それぞれの試料の減衰を、PK−8スペクトル減衰ベンチ(フォトン・カイネティックス社(Photon Kinetics、オレゴン州、ビーバートン)から入手可能)を用いて測定したが、PK−8ベンチの操作手順にしたがった。
Example 1
The effect of treating the preform with a reducing agent to make a fiber was tested. Two preforms for manufacturing submarine LEAF (R) fiber (available from Corning Incorporated, Corning, NY) were treated in a chlorine-containing atmosphere before sintering. Treated with CO for about 2 hours. The CO concentration in the reducing atmosphere was changed. One preform was treated in an atmosphere containing about 300 ppm CO and the other was treated in an atmosphere containing about 600 ppm CO. These preforms were drawn into submarine LEAF (Submarine LEAF®) fibers. As shown in FIG. 8, the fiber sample was drawn at two different drawing speeds, and the tension was either about 90 g of low tension or about 150 g of high tension. The attenuation in each fiber drawn at a predetermined draw speed was measured at a wavelength of about 1550 nm for each 2 km long fiber sample. This 2 km long fiber was heated and held in an environmental chamber at a temperature of about 200 ° C. for about 20 hours. The environmental chamber used was a Yamato DKN600 model (available from VWR (West Chester, Pa.)). The change in attenuation was measured. A control fiber was also measured. This control fiber differs from the tested fiber in that the preform for drawing the control fiber was treated with Cl 2 and not with CO. The attenuation of each sample was measured using a PK-8 spectral attenuation bench (available from Photon Kinetics, Beaverton, Oreg.), Following the operating procedure for the PK-8 bench. It was.

この試料についての結果を図8に示す。図からわかるように、ファイバを還元剤で処理するプロセスによって、誘導減衰が減少する。このことが最も顕著にあらわれるのが、少なくとも約10m/秒の速度で、低張力で線引きしたファイバの場合である。本発明にしたがって作製したファイバでは、誘導減衰の顕著な減少が認められた。   The results for this sample are shown in FIG. As can be seen, the process of treating the fiber with a reducing agent reduces the induced attenuation. This is most noticeable in the case of a fiber drawn with low tension at a speed of at least about 10 m / sec. A significant reduction in inductive attenuation was observed for fibers made in accordance with the present invention.

実施例
フッ素でドープしたプリフォームを上述の還元剤で処理した時の効果を試験した。3つのプリフォームを、温度約1000℃で、塩素含有化合物を用いて処理した。次いで炉の温度を4℃/分で昇温していって、温度約1450℃とした。それぞれのプリフォームを表3−1に示した条件で、約1時間、フッ素含有雰囲気中で処理した。表3−1にも記してあるように、この試験用ファイバのためのフッ素ドーピング雰囲気には、COも含まれていた。このプリフォームを線引きして、フッ素でドープした円環状領域を有する、セントラルコアステップインデクスのシングルモードファイバとした。ファイバ試料は、同じ速度、同じ張力で線引きした。それぞれのファイバで2kmの長さの試料についての減衰を、PK−2500スペクトル減衰ベンチ(フォトン・カイネティックス社(Photon Kinetics、オレゴン州、ビーバートン)から入手可能)を用いて波長約1550nmで測定したが、PK−2500ベンチの操作手順にしたがった。このファイバ試料を、温度約200℃で約20時間保持した。減衰の変化を測定した。対照のファイバも、同じ方法で試験した。対照のファイバが試験のファイバと違う点は、対照のファイバは、上述の本発明の還元剤およびフッ素含有化合物の代わりに、Clで乾燥させてからCFを用いて処理しているところにある。

Figure 0004540034
Example 2
The effect of treating the fluorine-doped preform with the reducing agent described above was tested. Three preforms were treated with a chlorine-containing compound at a temperature of about 1000 ° C. Next, the temperature of the furnace was increased at 4 ° C./min to a temperature of about 1450 ° C. Each preform was treated in a fluorine-containing atmosphere for about 1 hour under the conditions shown in Table 3-1. As also noted in Table 3-1, the fluorine doping atmosphere for this test fiber also contained CO. This preform was drawn into a single-core fiber with a central core step index having an annular region doped with fluorine. Fiber samples were drawn with the same speed and the same tension. Attenuation for a 2 km long sample in each fiber was measured using a PK-2500 spectral attenuation bench (available from Photon Kinetics, Beaverton, Oreg.) At a wavelength of about 1550 nm. However, the operation procedure of the PK-2500 bench was followed. The fiber sample was held at a temperature of about 200 ° C. for about 20 hours. The change in attenuation was measured. A control fiber was also tested in the same manner. The difference between the control fiber and the test fiber is that the control fiber is dried with Cl 2 and treated with CF 4 instead of the reducing agent and fluorine-containing compound of the present invention described above. is there.
Figure 0004540034

本発明で開示された還元剤を用いて作製したファイバでは、減衰の増加は最小限か、全く認められなかった。対称的に、対照のファイバでは減衰の顕著な増加が認められた。   For fibers made using the reducing agents disclosed in the present invention, the increase in attenuation was minimal or not observed at all. In contrast, a significant increase in attenuation was observed for the control fiber.

実施例
焼結の間プリフォームをCOで処理した場合の効果を、水素環境に対する抵抗性の改良の面からさらに調べた。2つのプリフォームを、ヘリウムと約4重量%までのClの雰囲気下で乾燥させた。このプリフォームを温度約1000℃〜約1150℃で、約4時間乾燥させた。プリフォームの1つは、COおよびヘリウムを少なくとも約200ppm含む雰囲気下で、約1100℃以上約1600℃までの温度で、焼結した。もう1つのプリフォームは不活性雰囲気下で焼結した。これらのプリフォームを線引きして、コーニング社からのSMF−28(商標)光ファイバとした。
Example 3
The effect of treating the preform with CO during sintering was further investigated in terms of improving resistance to the hydrogen environment. Two preforms, dried in an atmosphere of Cl 2 to helium and about 4 wt%. The preform was dried at a temperature of about 1000 ° C. to about 1150 ° C. for about 4 hours. One of the preforms was sintered at a temperature of about 1100 ° C. to about 1600 ° C. in an atmosphere containing at least about 200 ppm of CO and helium. The other preform was sintered under an inert atmosphere. These preforms were drawn into SMF-28 ™ optical fibers from Corning.

それぞれのファイバの2kmの試料を、水素を1%含む雰囲気に、室温常圧で、約144時間暴露した。ファイバの減衰を、水素暴露前と、144時間の暴露で認められる最大の減衰について測定した。減衰は、フォトン・カイネティックス社(Photon Kinetics)PK−6減衰ベンチを用い、非特許文献6にしたがって測定した。   A 2 km sample of each fiber was exposed to an atmosphere containing 1% hydrogen at room temperature and atmospheric pressure for about 144 hours. Fiber attenuation was measured for maximum attenuation observed before hydrogen exposure and 144 hours of exposure. Attenuation was measured according to Non-Patent Document 6 using a Photon Kinetics PK-6 attenuation bench.

ハロゲン化物による乾燥工程の後でCOで処理したプリフォームから線引きしたファイバは、図9にみられるように対照のファイバに比較すると、水素誘導減衰を受けにくく、どのファイバ線引き張力の場合でも減衰の変化が少なかった。   Fiber drawn from a preform treated with CO after the halide drying process is less susceptible to hydrogen induced attenuation compared to the control fiber, as seen in FIG. 9, and the attenuation of any fiber draw tension is There was little change.

実施例
フッ素でドープしたプリフォームを還元剤で処理した時の効果をこの実施例で試験した。それぞれのプリフォームには、ゲルマニウムでドープした中央コア領域、ゲルマニウム中央コアに隣接したフッ素でドープした領域、および少なくともフッ素でドープした領域で中央コアから隔てられたゲルマニウム環状領域を存在させた。フッ素でドープした領域による周縁凹地(moat depression)があるので、このプリフォームを線引きすれば、デルタ%が約−0.5%以下のフッ素でドープした領域を有するシングルモードのファイバが得られる。
Example 4
The effect of treating a fluorine-doped preform with a reducing agent was tested in this example. Each preform had a central core region doped with germanium, a fluorine doped region adjacent to the germanium central core, and a germanium annular region separated from the central core by at least a fluorine doped region. Since there is a moat depression due to the fluorine doped region, drawing this preform will result in a single mode fiber having a fluorine doped region with a delta% of about -0.5% or less.

第1のプリフォームは固結化の前に、一酸化炭素を用いて温度約1000℃で処理した。第2のプリフォームは、COおよびClの雰囲気で温度約1125℃で処理し、第3のプリフォームはClの雰囲気で処理した。それぞれのプリフォームを、少なくとも約10m/秒の線引き速度で線引きしてシングルモードファイバを作製した。 The first preform was treated with carbon monoxide at a temperature of about 1000 ° C. prior to consolidation. The second preform was treated in a CO and Cl 2 atmosphere at a temperature of about 1125 ° C., and the third preform was treated in a Cl 2 atmosphere. Each preform was drawn at a drawing speed of at least about 10 m / sec to produce a single mode fiber.

所定の線引き速度で線引きしたそれぞれのファイバにおける減衰を、それぞれ2kmの長さのファイバ試料について、波長約1550nmで測定した。この長さ2kmのファイバを加熱して、環境チャンバ内で温度約200℃で約20時間保持した。使用した環境チャンバは、ヤマト(Yamato)DKN600型(VWR社(ペンシルバニア州、ウェストチェスター)から入手可能)であった。減衰の変化を測定した。対照のファイバも測定した。この対照ファイバが、試験したファイバと違う点は、対照のファイバを線引きするためのプリフォームをClで処理し、COでは処理していないところにある。それぞれの試料の減衰を、PK−8スペクトル減衰ベンチ(フォトン・カイネティックス社(Photon Kinetics、オレゴン州、ビーバートン)から入手可能)を用いて測定したが、PK−8ベンチの操作手順にしたがった。 The attenuation in each fiber drawn at a predetermined drawing speed was measured at a wavelength of about 1550 nm for a fiber sample of 2 km length. This 2 km long fiber was heated and held in an environmental chamber at a temperature of about 200 ° C. for about 20 hours. The environmental chamber used was a Yamato DKN600 model (available from VWR (West Chester, Pa.)). The change in attenuation was measured. A control fiber was also measured. The difference between this control fiber and the tested fiber is that the preform for drawing the control fiber is treated with Cl 2 and not with CO. The attenuation of each sample was measured using a PK-8 spectral attenuation bench (available from Photon Kinetics, Beaverton, Oreg.), Following the operating procedure for the PK-8 bench. It was.

試料についての結果を図10に示す。図からわかるように、ファイバを還元剤で処理するプロセスによって、誘導減衰が顕著に減少する。塩素のみまたは、還元剤と同時に使用して処理したファイバは、誘導減衰が高めとなった。塩素処理したプリフォームから線引きしたファイバで誘導減衰が増加するこの現象は、ファイバの線引き速度が大きくなると一層顕著になった。本発明にしたがって作製したファイバでは、誘導減衰の顕著な減少が認められた。   The results for the sample are shown in FIG. As can be seen, the induced attenuation is significantly reduced by the process of treating the fiber with a reducing agent. Fibers treated with chlorine alone or at the same time as the reducing agent had higher induced attenuation. This phenomenon of increased inductive attenuation in fibers drawn from chlorinated preforms became more pronounced as the fiber drawing speed increased. A significant reduction in inductive attenuation was observed for fibers made in accordance with the present invention.

実施例
バスキュール(Vascule(商標))ファイバ(コーニング社、ニューヨーク州、コーニングから入手可能)のような分散制御光ファイバを形成させるために使用することを目的として、上述の吸収ピークを除去するためにプリフォームを一酸化炭素で処理した場合の効果を試験した。4つのプリフォームについて試験した。それぞれのプリフォームを形成するプロセス工程は、以下に特に記す点以外は、すべて同じであった。対照のプリフォームは、すべてのプロセス工程において、一酸化炭素での処理は行わなかった。対照のプリフォームを作製するためのプロセス条件は以下のとおりである。
Example 5
In order to be used to form dispersion controlled optical fibers such as Vascule ™ fiber (available from Corning, Corning, NY), a process is used to remove the aforementioned absorption peaks. The effect of treating the reform with carbon monoxide was tested. Four preforms were tested. The process steps for forming each preform were all the same except as noted below. The control preform was not treated with carbon monoxide at all process steps. The process conditions for making the control preform are as follows.

1.対照のプリフォームは、塩素およびヘリウムの雰囲気下で約90分間、温度約1150℃で処理したが、炉への塩素の流量は約0.825slpm、炉へのヘリウムの流量は約20slpmであった;
2.対照のプリフォームをヘリウムの不活性雰囲気に暴露したが、その間に炉の温度を約1150℃から約1225℃に昇温し、その昇温時間は約30分であった;
3.この対照のプリフォームを15%CFおよびヘリウムを含む雰囲気下で温度約1225℃で約120分間ドープしたが、炉へのCFおよびヘリウムの流量はそれぞれ、3slpm(CF)および17slpm(ヘリウム)であった;
4.対照のプリフォームを約1490℃で焼結した。追加のスートをこの焼結したプリフォームの上に堆積させた。こうしてスートをコーティングさせたプリフォームを焼結してから、線引きしてファイバにした。このファイバを張力約200g、線引き速度約9m/秒で線引きした。
1. The control preform was treated in a chlorine and helium atmosphere for about 90 minutes at a temperature of about 1150 ° C. with a chlorine flow rate of about 0.825 slpm to the furnace and a helium flow rate of about 20 slpm to the furnace. ;
2. The control preform was exposed to an inert atmosphere of helium, during which the furnace temperature was raised from about 1150 ° C. to about 1225 ° C., and the heating time was about 30 minutes;
3. This control preform was doped for about 120 minutes at a temperature of about 1225 ° C. in an atmosphere containing 15% CF 4 and helium, but the flow rates of CF 4 and helium to the furnace were 3 slpm (CF 4 ) and 17 slpm (helium), respectively. )Met;
4). A control preform was sintered at about 1490 ° C. Additional soot was deposited on the sintered preform. The soot-coated preform was sintered and then drawn into a fiber. The fiber was drawn at a tension of about 200 g and a drawing speed of about 9 m / sec.

この対照のプリフォームに加えて、3つの試験プリフォームを作製した。この試験プリフォームが異なっているのは、プリフォームを形成させるプロセスの間に、プロセス工程に一酸化炭素を使用した点にある。一酸化炭素を使用するプロセス工程ではいずれも、一酸化炭素の濃度は1200ppm一定に保った。一酸化炭素の使用で変化させたのは、第1のプリフォームでは、昇温工程およびドーピング工程の間、炉中に一酸化炭素を存在させて作製した。第2のプリフォームでは、昇温工程、ドーピング工程および焼結の間、炉中に一酸化炭素を存在させた。最後の試験プリフォームでは、昇温工程、ドーピング工程、およびドーピング後の脱気工程の間、一酸化炭素を存在させた。乾燥、昇温およびドーピング工程は、試験プリフォームのそれぞれで条件は一定で、次の通りであった。   In addition to this control preform, three test preforms were made. The test preform differs in that carbon monoxide was used in the process steps during the process of forming the preform. In all process steps using carbon monoxide, the concentration of carbon monoxide was kept constant at 1200 ppm. The change in the use of carbon monoxide was made in the first preform in the presence of carbon monoxide in the furnace during the heating and doping steps. In the second preform, carbon monoxide was present in the furnace during the heating step, doping step and sintering. In the final test preform, carbon monoxide was present during the temperature raising step, the doping step, and the post-doping degassing step. The drying, temperature raising, and doping steps were as follows under the same conditions for each test preform.

1.試験プリフォームは、塩素およびヘリウムの雰囲気下で約90分間、温度約1150℃で処理したが、炉への塩素の流量は約1slpm、炉へのヘリウムの流量は約40slpmであった;
2.試験プリフォームをヘリウムおよび二酸化炭素の不活性雰囲気に暴露したが、その間に炉の温度を約1150℃から約1225℃に昇温し、その昇温時間は約30分であった;
3.この試験プリフォームを15%CFおよびヘリウムを含む雰囲気下で温度約1225℃で約90分間ドープしたが、炉へのCFおよびヘリウムの流量はそれぞれ、3slpm(CF)および17slpm(ヘリウム)であった;
4.試験プリフォームを約1490℃で焼結した。追加のスートをそれぞれの焼結したプリフォームの上に堆積させた。こうしてスートをコーティングさせたプリフォームを焼結してから、線引きしてファイバにした。このファイバを張力約200g、線引き速度約9m/秒で線引きした。
1. The test preform was treated in a chlorine and helium atmosphere for about 90 minutes at a temperature of about 1150 ° C., with a chlorine flow to the furnace of about 1 slpm and a helium flow of about 40 slpm to the furnace;
2. The test preform was exposed to an inert atmosphere of helium and carbon dioxide, during which the furnace temperature was raised from about 1150 ° C. to about 1225 ° C., and the temperature rise time was about 30 minutes;
3. This test preform was doped for about 90 minutes at a temperature of about 1225 ° C. in an atmosphere containing 15% CF 4 and helium, but the flow rates of CF 4 and helium to the furnace were 3 slpm (CF 4 ) and 17 slpm (helium), respectively. Met;
4). The test preform was sintered at about 1490 ° C. Additional soot was deposited on each sintered preform. The soot-coated preform was sintered and then drawn into a fiber. The fiber was drawn at a tension of about 200 g and a drawing speed of about 9 m / sec.

4つのプリフォームのそれぞれを線引きして、光ファイバにした。約1420nm〜約1620nmの波長範囲におけるそれぞれのファイバの減衰スペクトルを測定したが、それらを図13に示し、全体を130として表した。このファイバをフォトン・カイネティックス(Photon Kinetics、以後「PK」と略す)ベンチ減衰測定装置で試験した。好適な装置は2500型の光ファイバ分析システムで、GN ネッテスト社(GN Nettest、マサチューセッツ州、ホプキントン)から入手可能である。その型の使用者マニュアルは、ここに引用することにより、本明細書に取り入れたものとする。2500型を使用して、減衰測定する方法はそのマニュアル中に説明されている。この実施例では1nmのステップサイズを使用した。試験に用いたファイバ試料それぞれの長さは約2kmで、それぞれの試料はルーズコイルの形で用いた。   Each of the four preforms was drawn into an optical fiber. The attenuation spectra of each fiber in the wavelength range of about 1420 nm to about 1620 nm were measured and are shown in FIG. The fiber was tested on a Photon Kinetics (hereinafter “PK”) bench attenuation measurement device. A suitable device is a 2500 type fiber optic analysis system available from GN Nettest, Hopkinton, Massachusetts. That type of user manual is incorporated herein by reference. A method for measuring attenuation using the 2500 model is described in that manual. In this example, a step size of 1 nm was used. The length of each fiber sample used for the test was about 2 km, and each sample was used in the form of a loose coil.

図13に示したように、この対照のファイバでは、先に述べた約1440nm、約1543nm、約1580nmおよび約1610nmの上述のピークが認められた(線132参照)。対照のファイバに認められるそれぞれの吸収ピークは、0.012dB/kmよりも大きかった。試験プリフォームのそれぞれでは、上述の吸収ピークはいずれも測定可能な大きさでは認められなかった(線134、136および138参照)。   As shown in FIG. 13, in this control fiber, the aforementioned peaks at about 1440 nm, about 1543 nm, about 1580 nm, and about 1610 nm described above were observed (see line 132). Each absorption peak observed in the control fiber was greater than 0.012 dB / km. In each of the test preforms, none of the above-mentioned absorption peaks were observed in measurable magnitude (see lines 134, 136 and 138).

本発明の精神と範囲から逸脱することなく、本発明に各種の修正や変法を実施することが可能であることは当業者には明らかであろう。したがって、付属の特許請求の範囲およびそれと等価物の範囲内にあるかぎり、本発明の修正および変法は本発明に含まれるものとする。   It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made to the present invention without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, it is intended that the present invention include modifications and variations of this invention provided they come within the scope of the appended claims and their equivalents.

本発明により炉中に置いたプリフォームを示す断面概略図である。1 is a schematic cross-sectional view showing a preform placed in a furnace according to the present invention. 固結化させたプリフォームを線引きして光ファイバとしているところを示す、部分断面概略図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional schematic view showing a state where an optical fiber is formed by drawing a consolidated preform. 本発明により炉中においた、スートで覆ったコア・ケーンの部分断面概略図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional schematic view of a soot-covered core cane placed in a furnace according to the present invention. 本発明により作製した、管状の固結化させたプリフォームの斜視図である。1 is a perspective view of a tubular consolidated preform made according to the present invention. FIG. 本発明により作製した管状の固結化させたプリフォームで、長手方向に切れ目を入れたものの斜視図である。1 is a perspective view of a tubular solidified preform made according to the present invention with a cut in the longitudinal direction. FIG. 管状の固結化させたプリフォームの断片を拡張している斜視図である。FIG. 5 is an enlarged perspective view of a piece of tubular consolidated preform. 固結化させたプリフォームの断片のサギングを示す側面図である。It is a side view which shows the sagging of the piece of the solidified preform. 本発明により作製したファイバと対照のファイバとを、200℃で20時間暴露させた後の、1550nmでの誘導減衰の棒グラフである。FIG. 2 is a bar graph of induced attenuation at 1550 nm after exposure of a fiber made according to the present invention and a control fiber at 200 ° C. for 20 hours. 1530nmでの減衰の水素誘導による変化とファイバの線引き張力との関係を表すグラフで、ハロゲン化物処理した後でCO処理したプリフォームから作製したファイバと、ハロゲン化物処理した後でCO処理をしなかったプリフォームから作製した対照としてのファイバとを用いたものである。A graph showing the relationship between hydrogen induced change in attenuation at 1530 nm and fiber drawing tension, fiber made from preform treated with CO after halide treatment, and no CO treatment after halide treatment. And a control fiber made from a preform. 本発明により作製したファイバと対照のファイバとを、200℃で20時間暴露させた後の、1550nmでの誘導減衰のグラフである。FIG. 4 is a graph of induced attenuation at 1550 nm after exposure of a fiber made according to the present invention and a control fiber at 200 ° C. for 20 hours. フッ素でドープした部分を有する光ファイバで見られる、減衰と波長の関係を示すスペクトルである。この光ファイバは従来プロセスにより作製したものである。It is the spectrum which shows the relationship between attenuation | damping and a wavelength seen with the optical fiber which has the part doped with the fluorine. This optical fiber is manufactured by a conventional process. 本発明の1つの方法により炉中においたプリフォームを示す断面概略図である。1 is a schematic cross-sectional view showing a preform placed in a furnace by one method of the present invention. 本発明の少なくとも1種の方法により作製した3つのプリフォームと、対照のプリフォームにおける、減衰と波長の関係を示すスペクトル図である。FIG. 4 is a spectral diagram showing the relationship between attenuation and wavelength for three preforms made by at least one method of the present invention and a control preform. 半径の関数としてのデルタ%を表した光ファイバの屈折率プロファイルで、屈折率が抑制されている領域を示している。A refractive index profile of an optical fiber representing delta% as a function of radius, showing the region where the refractive index is suppressed.

Claims (3)

スート・プリフォームを炉中で、一酸化炭素を含むが実質的に塩素を含まない雰囲気に暴露し、
一酸化炭素および一般式C2n+2(ここで、nは正の整数)で示される少なくとも1種のフッ素含有化合物を含む雰囲気中で前記スート・プリフォームをドープする、
各工程を有してなり、
前記暴露する工程およびドープする工程の間、それぞれの雰囲気を少なくとも1100℃の温度にし、前記暴露する工程の雰囲気の一酸化炭素の濃度が、前記ドープする工程の雰囲気のフッ素の濃度の1/10から3倍の範囲にあることを特徴とする光ファイバのプリフォームを作製する方法。
Exposing the soot preform in an oven to an atmosphere containing carbon monoxide but substantially free of chlorine,
Doping the soot preform in an atmosphere comprising carbon monoxide and at least one fluorine-containing compound represented by the general formula C n F 2n + 2, where n is a positive integer;
Having each process,
During the exposing step and the doping step, each atmosphere is brought to a temperature of at least 1100 ° C., and the concentration of carbon monoxide in the exposing step atmosphere is 1 / of the fluorine concentration in the doping step atmosphere. method of making a preform of an optical fiber, characterized in range near Rukoto three times from 10.
一酸化炭素を含む雰囲気中で前記スート・プリフォームを焼結して焼結体を形成する工程をさらに有することを特徴とする請求項1記載の方法。  The method according to claim 1, further comprising the step of sintering the soot preform in an atmosphere containing carbon monoxide to form a sintered body. 前記暴露する工程において前記実質的に塩素を含まない雰囲気を昇温させていくことを特徴とする請求項1記載の方法。The method according to claim 1, wherein the atmosphere containing substantially no chlorine is heated in the exposing step.
JP2002552867A 2000-12-22 2001-11-16 Treatment of soot / preform with reducing agent Expired - Fee Related JP4540034B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US25806100P 2000-12-22 2000-12-22
PCT/US2001/043889 WO2002051762A1 (en) 2000-12-22 2001-11-16 Treating soot preforms with a reducing agent

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2004523454A JP2004523454A (en) 2004-08-05
JP2004523454A5 JP2004523454A5 (en) 2006-01-05
JP4540034B2 true JP4540034B2 (en) 2010-09-08

Family

ID=22978936

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002552867A Expired - Fee Related JP4540034B2 (en) 2000-12-22 2001-11-16 Treatment of soot / preform with reducing agent

Country Status (7)

Country Link
EP (1) EP1351897A4 (en)
JP (1) JP4540034B2 (en)
KR (1) KR100819581B1 (en)
CN (1) CN1284738C (en)
BR (1) BR0116382A (en)
CA (1) CA2432729A1 (en)
WO (1) WO2002051762A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9395485B2 (en) 2012-03-23 2016-07-19 Fujikura Ltd. Method of manufacturing glass preform

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK1576400T3 (en) * 2002-12-24 2012-07-30 Prysmian Spa PROCEDURE FOR MANUFACTURING AN OPTICAL FIBER WITH LOW SPLET LOSS
US8062986B2 (en) 2007-07-27 2011-11-22 Corning Incorporated Fused silica having low OH, OD levels and method of making
KR101006988B1 (en) * 2008-06-05 2011-01-12 이선구 temporal bathtub
CN102153283B (en) * 2010-11-16 2013-01-16 浙江工业大学 Method for preparing PbSe quantum dot doped fiber material
US9650281B2 (en) * 2014-07-09 2017-05-16 Corning Incorporated Optical fiber with reducing hydrogen sensitivity
US9586853B2 (en) * 2014-07-09 2017-03-07 Corning Incorporated Method of making optical fibers in a reducing atmosphere
JP5995923B2 (en) 2014-08-06 2016-09-21 古河電気工業株式会社 Optical fiber preform and optical fiber manufacturing method
CN109052972B (en) * 2018-08-31 2021-07-30 北京涑水科技有限公司 Bismuth-doped quartz optical fiber preform and preparation method thereof
CN109970335B (en) * 2019-03-11 2020-11-17 江苏永鼎股份有限公司 Large-size low-attenuation optical fiber preform and preparation method thereof
CN110927866B (en) * 2019-12-17 2021-01-22 华南理工大学 High-gain rare earth doped germanate glass core composite glass optical fiber and device

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57183331A (en) * 1981-05-06 1982-11-11 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Manufacturing of transparent glass preform
JPS59232928A (en) * 1983-06-13 1984-12-27 Furukawa Electric Co Ltd:The Treatment of porous base material for optical fiber
JPS63225543A (en) * 1987-03-13 1988-09-20 Furukawa Electric Co Ltd:The Production of base material for optical fiber
JP2612871B2 (en) * 1987-11-09 1997-05-21 信越化学工業株式会社 Method of manufacturing graded-in-desk type optical fiber preform
JPH01160840A (en) * 1987-12-16 1989-06-23 Sumitomo Electric Ind Ltd Preform for dispersion-shift optical fiber and production thereof
JPH01164740A (en) * 1987-12-22 1989-06-28 Sumitomo Electric Ind Ltd Production of optical fiber preform
JPH01275442A (en) * 1988-04-27 1989-11-06 Furukawa Electric Co Ltd:The Production of optical fiber preform
JPH03109223A (en) * 1989-09-22 1991-05-09 Asahi Glass Co Ltd Quartz glass and production thereof
JPH0450130A (en) * 1990-06-20 1992-02-19 Sumitomo Electric Ind Ltd Production of preform for optical fiber
JPH08133753A (en) * 1994-10-31 1996-05-28 Tosoh Corp Optical synthetic quartz glass, its production and application thereof
DE69601749T3 (en) * 1995-06-07 2004-04-29 Corning Inc. Process for the thermal treatment and consolidation of silicon dioxide preforms to reduce laser-induced optical defects
US6131415A (en) * 1997-06-20 2000-10-17 Lucent Technologies Inc. Method of making a fiber having low loss at 1385 nm by cladding a VAD preform with a D/d<7.5
US6376401B1 (en) * 1998-09-07 2002-04-23 Tosoh Corporation Ultraviolet ray-transparent optical glass material and method of producing same
EP1337483A1 (en) * 2000-09-27 2003-08-27 Corning Incorporated Process for drying porous glass preforms

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9395485B2 (en) 2012-03-23 2016-07-19 Fujikura Ltd. Method of manufacturing glass preform

Also Published As

Publication number Publication date
WO2002051762A1 (en) 2002-07-04
EP1351897A4 (en) 2005-06-15
CA2432729A1 (en) 2002-07-04
WO2002051762A9 (en) 2003-05-01
JP2004523454A (en) 2004-08-05
BR0116382A (en) 2004-02-25
KR100819581B1 (en) 2008-04-04
CN1483007A (en) 2004-03-17
CN1284738C (en) 2006-11-15
EP1351897A1 (en) 2003-10-15
KR20030069191A (en) 2003-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5059229A (en) Method for producing optical fiber in a hydrogen atmosphere to prevent attenuation
US7805039B2 (en) Single mode optical fiber with improved bend performance
RU2736023C2 (en) Bromine-doped optical fiber
US6813908B2 (en) Treating an optical fiber preform with carbon monoxide
JP4540034B2 (en) Treatment of soot / preform with reducing agent
US7546750B2 (en) Method for fabricating optical fiber using deuterium exposure
EP3041801B1 (en) Method of making updoped cladding by using silicon tertrachloride as the dopant
JP6185560B2 (en) Method for manufacturing a cylindrical part made of synthetic quartz glass containing fluorine
US20170371096A1 (en) Optical fiber
US11577984B2 (en) Method for manufacturing optical fiber preform, optical fiber preform, method for manufacturing optical fiber, and optical fiber
EP1270522B1 (en) Method for fabricating optical fiber from preforms, using control of the partial pressure of oxygen during preform dehydration
JP2021534059A (en) Method for manufacturing halogen-doped silica preform for optical fiber
EP1337483A1 (en) Process for drying porous glass preforms
JP2002047013A (en) Method of manufacturing glass article
JPH0798671B2 (en) Method for manufacturing preform for optical fiber
JPH0425212B2 (en)
JP2002114522A (en) Method for producing fluorine added glass article
JPS63248732A (en) Production of optical fiber base material

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041116

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041116

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050406

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071204

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080229

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080307

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080425

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081202

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20090302

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090312

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20090312

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100202

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100506

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100601

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100618

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4540034

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130702

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees