JP4535502B2 - 物質検出素子 - Google Patents

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Description

本発明は、物質検出素子に関するものである。
水素センサは、水素を燃料源とする燃料電池システムの安全性を確保するために必要なセンサであり、今後普及が期待されている。水素センサは、水素の漏れを低濃度の段階で確実に検知し、システムの停止や警報を行うために使用される。水素センサは、接触燃焼方式、半導体方式、熱電式、光ファイバ式など種々の検知方式が採用されているが、いずれも、ガス種の選択性、コスト、耐久性に問題がある。
パラジウム膜をつけた水晶振動子を利用した水素センサが提案されている(特許文献1)。パラジウムは、原子間の隙間に水素が吸蔵される性質を有している。この原子間の隙間に炭化水素や一酸化炭素が入ることは不可能であるので、この水素センサはガス種の選択性が高い。
特公平3−40817号公報
特許文献1記載の水素センサでは、水晶振動板の両面に電極を設け、電極を被覆するようにパラジウム膜を形成する。そして、電極に交流電圧を供給して振動板を振動させる。このときの振動周波数は振動板と電極の固有共振周波数によって定まる。このパラジウム膜に水素が吸着すると、振動板の周波数が若干変化するので、この周波数変化から水素濃度を算出する。
しかし、特許文献1記載の水素センサでは、ごく微量の付着水素に基づく周波数の変化はごく僅かであり、この周波数変化から精度よく水素濃度を検出することは困難である。水素ガスは大気中では濃度4%程度で爆発するので、できるだけ低濃度で検出する必要があり、少なくとも0.1〜1%で検知することが必要である。できれば100ppm程度の濃度で検出可能であることが望ましい。
特許文献1記載のような水素センサにおいて、水素の検出感度を向上させるためには、単位面積当たりの水素吸着量を増加させる必要があり、このためにはパラジウム膜の膜厚を大きくする必要がある。しかしパラジウム膜の膜厚を大きくすると、高価なパラジウムの量が増えることからコストが増加する。また、膜内に水素が浸透するまでに必要な時間が長くなるので、水素濃度変化に対する応答性が悪くなる。
なお、本出願人は、振動子の振動変位の変化によって物質の吸着量を測定する素子を提案している(特許文献2)。
特開2005−98986
このため、本出願人は、特許文献3において、振動子上の吸着膜への水素吸着による振動状態変化を利用して水素濃度を測定する水素センサにおいて、駆動手段と検出手段とを分離し、駆動手段によってセンサに基本振動を励起し、検出手段によって水素吸着による振動状態の変化を検出することを開示した。このように駆動手段と検出手段とを分離することによって、振動状態を反映する所望の振動を精度よく検出しやすくなり、駆動手段と検出手段とをそれぞれ最も効果的な部位に設けることが可能となる。この結果、センサにおける水素濃度の検出感度を向上させることが可能となった。
特願2004−310379
しかし、このような振動子を実際に製造していく過程で、新たな問題点が生じてくることが判明した。即ち、水素センサを製造するためにはパラジウム膜を振動子表面に成膜する必要がある。パラジウム膜は電極膜としても機能する。しかし、パラジウムは高価であるので、振動子上の電極膜の全体をパラジウムによって形成することは高コストとなり、現実的ではない。従って、振動子を駆動するための電極膜は主として金等の貴金属によって形成する。
しかし、振動子は水晶等の圧電性単結晶からなることが好ましい。ここで水晶などの圧電性単結晶と金膜等の金属膜とは密着性が悪いので、金属膜と水晶振動子との間にはクロム膜等の下地膜を形成している。このように振動子表面に下地膜と電極膜とを形成した後、電極膜上にパラジウム膜やパラジウム合金膜を形成することを試みたところ、パラジウム膜やパラジウム合金膜の電極膜に対する密着性が悪く、剥離しやすいことが判明した。これを防止するためには、パラジウム膜やパラジウム合金膜と電極膜との間に更にクロム膜等の下地膜を設けることも検討したが、パラジウム膜等の電極膜に対する密着性を改善することかできず、剥離を防止できないことが判明した。
本出願人は、これを防止するために、電極膜とパラジウム膜とが重ならないように成膜する構造を開示した(特許文献4)。
特願2005−99489
しかし、特許文献4記載のような構造では、成膜工程が複雑になり、製造コストが高く、製造歩留りも低い。
本発明の課題は、目的物質と相互作用する駆動電極膜を有する物質検出素子において、同等の膜数を有する素子において成膜工程を容易にできるような構造を提供することである。
発明は、電圧印加によって駆動可能な振動子
振動子上に設けられ、振動子に対して電圧を印加するための駆動電極膜、
振動子上に設けられ、振動子の振動を検出する検出電極膜、および
駆動電極膜の周縁部上に設けられた被膜であって、この被膜によって被覆されていない露出部分を形成する被膜
を備えており、
露出部分への目的物質の吸着による振動子の振動状態の変化に基づいて目的物質を検出することを特徴とする。
本発明者は、振動子上に、目的物質と相互作用する材質からなる電極膜を設け、次いで電極膜上に被膜を設け、被膜の一部を開けることで電極膜の所定領域を素子表面に露出させることを想到した。この構造によって、電極膜の所定領域を目的物質と接触させ、相互作用させることができ、この相互作用によって電圧駆動素子の駆動状態を制御することができる。そして、ホトリソグラフィー時の電極膜の成形は、一種類のマスクで実施可能であるので、成膜が容易である。
振動子とは、基板が種々の振動モードで振動することを意味する。
振動子の材質は特に限定するものではない。一例では圧電単結晶や圧電セラミックスを利用できる。圧電単結晶としては、水晶、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム−タンタル酸リチウム固溶体(Li(Nb,Ta)O3)単結晶、ホウ酸リチウム単結晶、ランガサイト単結晶を例示できる。水晶は量産技術が確立されており、水素センサの製造コストを低減できる。ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム−タンタル酸リチウム固溶体は、キュリー点が高いので、高温まで使用可能である。圧電セラミックスとしては、チタン酸ジルコン酸鉛、チタン酸鉛やそれに添加物を加えたいわゆるPZT系の圧電セラミックスや、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、ビスマス層状化合物などを例示できる。
また、AlNからなる振動子を利用できる。AlNは、還元性雰囲気中では1000℃程度まで動作可能である。更に、シリコンのマイクロマシニングによって形成した基板も利用できる。また、ランガサイトからなる基板を利用できる。例えばランガサイト振動子は、融点が1470℃と高く、1000℃程度まで動作可能である。
発明における、目的物質と相互作用する電極膜の材質は、特に限定されないが、パラジウム、パラジウム合金が好ましい。このパラジウム中には不純物が含有されていてもよい。このパラジウム合金を構成する金属としては、銀、白金、金、ルテニウム、鉄、モリブデン、コバルト、錫、銅、ニッケル、イットリウム、ロジウム、亜鉛、バナジウムを例示できる。
電極膜に吸着する物質としては、以下を例示できる。
イソアミルアセテート、フェニルエチルアルコール、p-アニスアルデヒド、シトラール、ゲラニオール、フェニルエチルアルコール、α-テルピネオール等のにおい物質、ダイオキシンなどの環境ホルモン、たんぱく質、DNA、抗原抗体などの生体物質、グリコース、アルコール、尿素、尿酸、乳酸などの化学物質、水素、アンモニア
また、電極膜と目的物質が化学反応する場合の検出膜および目的物質の材質の組み合わせとしては、以下を例示できる。
下に示す各対は、目的物質と検出膜材質との組み合わせを示す対である。従って、各対から、一方を目的物質として選択すると、他方が検出膜の材質となる。
抗体−抗原、ホルモン−ホルモンレセプター、アビジン/ストレプトアビジン−ビオチン、酵素−酵素基質または酵素インヒビター、レクチン−カルボキシハイドレート、脂質−脂質結合タンパク質または膜会合タンパク質、レセプター−伝達物質、タンパク質−タンパク質、タンパク質−ポリヌクレオチド、DNA−DNA、DNA−RNA、RNA−RNA
目的物質と相互作用する電極膜の厚さは、特に限定されないが、検出素子、例えば水素センサの検出感度を一層向上させるという観点からは、90オングストローム以上であることが好ましく、500オングストローム以上であることが更に好ましい。この膜が厚くなり過ぎると、濃度変化に対する検出素子の応答性が低下する傾向があるので、応答性の観点からは、膜厚は5ミクロン以下であることが好ましく、1ミクロン以下であることが更に好ましい。
電極膜は基板表面に直接設けることもできるが、電極膜と基板との間に下地膜を設けることができる。こうした下地膜としては、チタン膜、クロム膜、チタン膜とクロム膜との積層膜を例示できる。
被膜は好ましくは絶縁性である。また、被膜の材質としては、以下を例示できる。
SiO2、Al2O3、Ta2O5、DLC(Diamond like carbon)
電極膜、下地膜、被膜の形成方法は特に限定されず、物理堆積法(PVD法)や化学堆積法(CVD法)が薄膜の成膜に用いられており、PVD法では真空蒸着法やスパッタリング法が例示できる。
本発明において、振動子の振動状態の変化は、数値化可能であれば特に限定されない。以下を例示できる。
(1) 振動周波数を測定し、目的物質と膜との相互作用による膜の質量変化に基づく振動周波数変化から、物質の存在を検出し、また物質の濃度を計測する。
(2) 振動のQ値を測定し、目的物質と膜との相互作用による膜の質量変化に基づくQ値の変化から、物質の存在を検出し、また物質の濃度を計測する。
(3) 振動子の振動変位を測定し、目的物質と膜との相互作用による膜の質量変化に基づく振動変位の変化から、目的物質の存在を検出し、また物質の濃度を計測する。この方法によれば、周波数の変化を測定する場合に比べて、単位質量変化当たりの感度を向上させることが可能である。しかも、ねじれ弾性率μ、厚さ方向弾性率Cyなどの温度特性等の環境変化は、振動子の全体にわたって生ずる。この際、本例においては、振動子の変位のバランス変化は、振動子の全体にわたって生ずるので、測定前後における振動変位の変化には影響しない。従って、質量変化のみを正確に測定することができる。
(3)の好適な実施形態においては、基本振動において、振動変位が振動子の中心軸に対して略対称である。また、好適な実施形態においては、非測定時において、検出手段からの検出値が略0となるようにする。この場合には、略0からの変位を検出するので、一層測定感度が向上する上、環境変化の影響を低減できる。
振動の種類は特に限定されず、振動励起手段の厚み振動であってよく、振動アームの伸縮振動であってよく、振動アームの屈曲振動であってよい。
図1〜図5は、参考例に係るものであり、厚みねじれ振動モードを利用した物質検出素子に係るものである。図1は、検出素子1を模式的に示す平面図であり、図2は、検出素子1を模式的に示す裏面図であり、図3は、センサ1の横断面図であり、図4(a)は、厚みねじれ振動モードを説明するための平面図であり、図4(b)は、厚みねじれ振動モードを説明するための斜視図であり、図5は回路例を示す。
図1、図2に示すように、センサ1の基板(振動子)2は例えば角板形状をしている。振動子2の表面2a上には、電極膜3A、3B、3Cが形成されており、裏面2b上には、電極3D、3E、3Fが形成されている。各電極膜3A〜3Fは、それぞれ、目的物質と相互作用する物質からなる。そして、電極膜3Aは素子1の表面に露出しており、被膜によって覆われていないが、電極膜3B、3C、3D、3E、3Fは、被膜5B、5C、5D、5E、5Fによって被覆されている。表面に露出する露出領域15が検出部として機能する。6はリードであり、7はリード端子である。
更に具体的には、駆動回路部14(図5参照)の駆動電源8を使用し、駆動電極3Aと3Dとの間、駆動電極3Cと3Fとの間にそれぞれ逆相の交流電圧を印加することによって、図4(a)、図4(b)に示す矢印A、Bのように、厚みすべり振動を生じさせる。D1、D2は交流電圧印加端子であり、D1G、D2Gは接地端子である。駆動振動A、Bは、振動子の中心軸Dに対して略線対称である。
一対の検出電極3Bと3Eとの間で振動子2に変位が生ずると、端子Pと接地端子PGとの間で電圧が生ずる。この電圧差を信号処理部6の検出増幅器9で検出し、駆動振動によって位相検波回路10で位相検波する。そして、駆動振動と同相の振動をローパスフィルター11に通し、出力する。
ここで、中心の検出電極3B、3Eにおける検出信号は、非測定時においては略ゼロとなるようにする。これは、駆動振動の変位A、Bが、振動子2の中心軸Dに対して略線対称となっているために、検出電極3B、3Eの間の領域における振動子の振動変位はほぼゼロとなるからである。
測定時に電極膜3Aの質量が変化すると、振動子2の中心軸Dの左右における各質量のバランスが崩れる。この結果、中心軸Dに対する駆動振動A、Bの線対称性が崩れ、一対の検出電極4の間に、駆動振動と同相の信号電圧が発生する。この信号電圧に基づいて質量を算出する。
ここで、図3に示すような素子によると、電極膜3A〜3Fは、ホトリソグラフィー時にフォトレジストで同時に成形することが可能である。なぜなら、同一層内に同種の材質からなる電極膜3A〜3Fを形成することから、同じ工程で、電極としてだけ機能する電極膜3B〜3Fと、電極および検出部として機能する電極膜3Aとを成形できるからである。被膜5B〜5Fも同じ工程で成形できる。従って、ホトリソグラフィー時のマスクのズレが生じにくく、同種の素子に比べて製造コストを低減できる。
図6は、発明に係る素子1Aを模式的に示す平面図であり、図7は、素子1Aの横断面図である。
素子1の基板(振動子)2は例えば角板形状をしている。振動子2の表面2a上には、電極膜3A、3B、3Cが形成されており、裏面2b上には、電極3D、3E、3Fが形成されている。各電極膜3A〜3Fは、それぞれ、目的物質と相互作用する物質からなる。そして、電極膜3Aは素子1の表面に露出しており、被膜によって覆われていないが、電極膜3B、3C、3D、3E、3Fは、被膜5B、5C、5D、5E、5Fによって被覆されている。また、電極膜3Aの表面のうち、周縁部分は被膜5Aによって被覆されており、被膜5Aの内側に露出領域15が設けられている。この露出領域15が検出部として機能する。6はリードであり、7はリード端子である。
この素子1Aの動作は、前述した素子1の動作と同一であるので、説明は援用する。
(電極膜成膜工程)
〜図10を参照しつつ説明する下記手順に従って、図1〜図5に示す水素検出素子を作製した。具体的には、縦2インチ、横2インチ、厚さ0.16mmの水晶基板2(図10(a))を希フッ酸にてエッチング洗浄した後、スピンドライヤーにて乾燥し、水晶基板2の両方の表面2a、2bを清浄化した。スパッタ装置を用いて水晶基板各表面2a、2bに厚さ0.02μmのCrを下地層21A、21Bとして成膜し、厚さ0.1μmのPd膜22A、22Bを成膜した(図10(a)。)
前記Pd膜22A、22Bの成膜面上にフォトレジストを塗布し、厚さ1μmのレジスト膜23A、23Bを形成し、レジストの溶剤成分を除去するため、オーブンを用いてプリベークした(図10(b))。各表面の高精度アライメントが可能な露光装置と、電極エッチング加工パターンを描画したフォトマスクを用い、水晶基板の表裏両面に前記フォトマスクパターンをホトリソグラフィーによって転写し、レジストパターン24を形成した(図10(c)、図10(d))。24は硬化部分であり、23Aは未硬化部分である。
このレジストパターン24をマスクとして、硝酸と塩酸の混合液にて、水晶基板上に成膜したPd膜をエッチング除去し、硝酸第二セリウムアンモニウムにてCr膜をエッチング除去して、PdとCrの多層膜からなるエッチングマスクパターン3A〜3F、21A〜21Bを形成した(図11(a))。残留したフォトレジスト24をアセトンによって溶解除去し、Pd電極膜を成形した(図11(b))。
(絶縁膜成膜工程)
前記水晶基板2の片面2aに再びフォトレジストをスピンコーターによって塗布して厚さ1μmのレジスト膜25を形成した。レジストの溶剤成分を除去するため、オーブンを用いてプリベークした(図11(c))。Pd膜露出パターンを描画したフォトマスクを用い、露光装置によりレジスト膜表面に、前記フォトマスクパターン25をホトリソグラフィーによって転写し、レジストパターン27を形成した(図11(d)、図12(a))。26は硬化部分であり、25は未硬化部分である。
次いで、基板の各表面に蒸着装置を用いて、厚さ0.1μmのSiO膜27を成膜した(図12(b))。次いで、残留したフォトレジスト26をアセトンによって溶解除去し、フォトレジスト26とその上のシリカ膜27とを除去し、Pd電極膜3Aを露出させた。
こうして得られた基板を用いて、図1〜図5に示すセンサを構成し、水素吸着実験を行った。この結果、濃度0.01%の水素を検出可能であった。
参考例に係る素子1を模式的に示す平面図である。 素子1を模式的に示す裏面図である。 素子1の横断面図である。 (a)は、厚みねじれ振動モードを説明するための平面図であり、(b)は、厚みねじれ振動モードを説明するための斜視図である。 回路例を示す。 発明に係る素子1Aを模式的に示す平面図である。 素子1Aの横断面図である。 参考例の素子の製造例における各工程を模式的に示す図である。 素子の製造例における各工程を模式的に示す図である。 素子の製造例における各工程を模式的に示す図である。
1、1A 発振素子 2 基板 3A、3B、3C、3D、3E、3F 目的物質と相互作用する性質を有する電極膜 5A、5B、5C、5D、5E、5F 被膜 15 露出部分 16A、16B、16C、16D、16E、16F 電極膜 A、B 厚み滑り振動

Claims (3)

  1. 電圧印加によって駆動可能な振動子
    前記振動子上に設けられ、前記振動子に対して電圧を印加するための駆動電極膜、
    前記振動子上に設けられ、前記振動子の振動を検出する検出電極膜,および
    前記駆動電極膜の周縁部上に設けられた被膜であって、この被膜によって被覆されていない露出部分を形成する被膜
    を備えており、
    前記露出部分と目的物質との相互作用による前記振動子の振動状態の変化に基づいて前記目的物質を検出することを特徴とする、物質検出素子。
  2. 前記相互作用が前記目的物質の吸着であることを特徴とする、請求項1記載の素子。
  3. 前記振動状態の変化が振動変位であることを特徴とする、請求項1または2記載の素子。
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