JP4534931B2 - バーティカルコムアクチュエータの製造方法 - Google Patents
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2,5:櫛歯電極
3:支持部
4:フレーム部
11:支持基板
12:酸化膜
13:導電性薄膜
14:レジスト材料
Claims (1)
- 対向する第1及び第2の櫛歯電極を備え、電圧が印加されるのに応じて第1及び第2の櫛歯電極間に発生する静電力を利用して構造体を駆動するバーティカルコムアクチュエータの製造方法であって、
半導体基板表面上に第1の保護層を積層することにより第1の積層基板を形成する工程と、
前記半導体基板の前記第1及び第2の櫛歯電極に対応する表面上に前記第1の保護層が残存するように前記第1の保護層をパターニングする工程と、
前記第1の保護層のパターニング処理後の前記第1の積層基板の表面上に導電性薄膜を積層することにより第2の積層基板を形成する工程と、
前記第2の積層基板の表面上に第2の保護層を積層することにより第3の積層基板を形成する工程と、
前記第2の積層基板の前記第1及び第2の櫛歯電極に対応する表面のうち、前記第2の櫛歯電極に対応する表面上にのみ前記第2の保護層が残存するように前記第2の保護層をパターニングする工程と、
前記第2の保護層のパターニング処理後の前記第3の積層基板表面に露出している前記導電性薄膜を除去する工程と、
前記導電性薄膜を除去後の前記第3の積層基板表面に露出している前記半導体基板を除去することにより櫛歯構造を形成する工程と、
前記櫛歯構造を形成した後の前記第3の積層基板表面に露出している保護層を除去する工程とを有し、
前記第1の保護層と前記導電性薄膜の膜厚を調整することにより前記第1及び第2の櫛歯電極間に垂直方向の段差を形成すること
を特徴とするバーティカルコムアクチュエータの製造方法。
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