JP4528306B2 - ３−フェニル（チオ）ウラシル類および３−フェニルジチオウラシル類を調製する方法 - Google Patents
３−フェニル（チオ）ウラシル類および３−フェニルジチオウラシル類を調製する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4528306B2 JP4528306B2 JP2006541876A JP2006541876A JP4528306B2 JP 4528306 B2 JP4528306 B2 JP 4528306B2 JP 2006541876 A JP2006541876 A JP 2006541876A JP 2006541876 A JP2006541876 A JP 2006541876A JP 4528306 B2 JP4528306 B2 JP 4528306B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkyl
- phenyl
- hydrogen
- formula
- alkynyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 0 *[Al]C(NS(*)(=O)=O)=O Chemical compound *[Al]C(NS(*)(=O)=O)=O 0.000 description 1
- ASCZLNVIWHMJNZ-UHFFFAOYSA-N CC(C)N(C)S(NC(c(c(Cl)c1)cc(N(C(C=C(C(F)(F)F)N2)=O)C2=O)c1F)=O)(=O)=O Chemical compound CC(C)N(C)S(NC(c(c(Cl)c1)cc(N(C(C=C(C(F)(F)F)N2)=O)C2=O)c1F)=O)(=O)=O ASCZLNVIWHMJNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
- C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
- C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
- C07D239/46—Two or more oxygen, sulphur or nitrogen atoms
- C07D239/52—Two oxygen atoms
- C07D239/54—Two oxygen atoms as doubly bound oxygen atoms or as unsubstituted hydroxy radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
- C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
- C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
- C07D239/46—Two or more oxygen, sulphur or nitrogen atoms
- C07D239/56—One oxygen atom and one sulfur atom
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は、式I：
［式中、各置換基は次の通り定義される：
R1は水素、シアノ、アミノ、C1-C6-アルキル、C1-C3-シアノアルキル、C1-C6-ハロアルキル、C1-C6-ハロアルコキシ、C3-C7-シクロアルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニル、C3-C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1-C4-アルキルであり；
R2およびR3はそれぞれ独立して水素、C1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキル、C3-C7-シクロアルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニルまたはC3-C6-ハロアルキニルであり；
X1、X2およびX3はそれぞれ独立して酸素または硫黄であり；
Arは、次の基：水素、ハロゲン、シアノ、C1-C4-アルキルまたはC1-C4-ハロアルキルによりモノまたは多置換されていてもよいフェニルであり；そして
Aは一級または二級アミンまたはNH2から誘導された基である］
で表わされる3-フェニル(チオ)ウラシル類および3-フェニルジチオウラシル類を調製する方法に関する。
R1は水素、シアノ、アミノ、C1-C6-アルキル、C1-C3-シアノアルキル、C1-C6-ハロアルキル、C1-C6-ハロアルコキシ、C3-C7-シクロアルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニル、C3-C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1-C4-アルキルであり；
R2およびR3はそれぞれ独立して水素、C1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキル、C3-C7-シクロアルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニルまたはC3-C6-ハロアルキニルであり；
X1、X2およびX3はそれぞれ独立して酸素または硫黄であり；
Arは、次の基：水素、ハロゲン、シアノ、C1-C4-アルキルまたはC1-C4-ハロアルキルによりモノまたは多置換されていてもよいフェニルであり；そして
Aは一級または二級アミンまたはNH2から誘導された基である］
で表わされる3-フェニル(チオ)ウラシル類および3-フェニルジチオウラシル類を調製する方法に関する。
式Iの3-フェニルウラシル類および対応するチオ-およびジチオウラシル類は原則としてWO 01/83459から公知である。これらの化合物はWO 01/83459に記載の教示に従って次のA〜Cの方法により調製される。次のスキームA〜Cにおいて、置換基ArおよびAはそれぞれ先に定義した通りであり、HalはハロゲンでありかつQは任意に置換されたウラシル、チオウラシルまたはジチオウラシル基である：
(A)次のスキームA：
(A)次のスキームA：
による、N,N-カルボニルジイミダゾール（CDI）の存在のもとでの置換された安息香酸の置換された硫酸ジアミドとの縮合、またはカルボン酸の酸クロリドへの転化および次いで酸クロリドと硫酸ジアミドとの反応。
この手順の欠点は、使用する安息香酸がその前駆体エステルから三臭化ホウ素を用いて対応する塩生成による切断によってのみ得られることにある。さらに、硫酸ジアミドとの縮合の収率はわずかに16〜45％である。予め調製した酸クロリドを経由する迂回路もわずかに26％の収率で所望のベンゾイル硫酸ジアミドを生じ、これはさらにクロマトグラフィにより不純物を除去しなければならない。
(B)次のスキームB：
による、ハロゲン原子のウラシル、チオウラシルまたはジチオウラシル基による置換。
方法Bは、使用するハロゲン化芳香族を最初にザンドマイヤー（Sandmeyer）反応による複雑な手法で調製しなければならないという欠点を有する。加えて、さらなるハロゲン置換基がAr上に存在する場合、ハロゲン基に関する反応の選択性が不満足である。
(C)次のスキームC：
による、アニリン化合物とオキサジノンとの反応および次いで得られる3-フェニルウラシル類の塩基存在下でのアルキル化。
このスキームにおいて、置換基R1は先に定義した通りである。
欠点は、最初に使用するオキサジノンを、高価かつ不便な方法でアミノクロトン酸エステルをジアルキルカルバモイルクロリドと反応させ、次いでオキシ塩化リン、五塩化リンまたは塩化オキサリルを用いて環化することにより調製しなければならないことである。使用する出発物質および反応工程の故に、この方法も同様に経済的に十分成立しうるものでない。
3-フェニルウラシル類は、フェニルイソシアネートをアミノアルケンカルボン酸エステルと反応させることによって調製できることは公知である（例えば、EP 0 831 091を参照）。しかし、EP 0 831 091で使用されるフェニルイソシアネートはアシルスルホンアミド基を有しない。
さらに、イソ(チオ)シアネート基はスルホンアミド基と多数の色々な反応を起こしうることは公知である。例えば、イソ(チオ)シアネート基は、窒素原子上に水素原子を有するスルホンアミド基と反応してスルホニル尿素を生成しうる。例えば、J. CervelloおよびT. Sastre（Synthesis 1990, 221-222）はトリルスルホンアミドのアリールイソシアネートとの、対応するN-トシル尿素を生成する反応を記載している。
US 4,309,209は、フェニルイソシアネートがクロロメタン-(N-メチル)-スルホンアミド（＝ClCH2SO2NHCH3）と反応して1,2,4-チアジアゾリジン-1,1,3-トリオンを生成することを開示している。
P. SchwenkkrausおよびH.-H. Otto（Arch. Pharm. (Weinheim) 326, 437 - 441 (1993)）は、カルバモイル化合物を形成する、3-ハロアルキル-β-スルタムすなわち環状スルホンアミドとフェニルイソシアネートとの反応を記載している。
DE 3433391は、N-アシルサッカリン誘導体を得る、環状スルホンアミドサッカリンとアシルイソシアネートとの反応を記載している。
B. A. Arbuzov, N. N. ZobovaおよびN. R. Fedotava（JZV Akad Nauk SSSR, Ser Khim 1990, 2874（英訳：Bulletin of the Academy of Sciences of the USSR, Division of Chemical Sciences, vol. 39, (1990) p.2610)）は、トリフルオロアセチルイソシアネートとの反応によるサッカリンのN-およびO-アシル化を記載している。
本発明の目的は、3-フェニル(チオ）ウラシル類および3-フェニルジチオウラシル類を調製するための簡単なかつ経済的に成立しうる方法であって、高収率で、高純度の目的の製品を得ることを可能にする上記方法を提供することである。
本発明者らはこの目的が、式II：
［式中、置換基X1、X3、ArおよびAは先に規定した通りである］
のフェニルイソ(チオ)シアネートを、式III:
のフェニルイソ(チオ)シアネートを、式III:
［式中、
R1aは、アミノを除いて、R1に対して定義した通りであり；
R2、R3およびX2は先に定義した通りであり；そして
R4はC1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキル、C1-C3-アルコキシ-C1-C3-アルキル、C1-C3-アルキルチオ-C1-C3-アルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニル、C3-C6-ハロアルキニル、C3-C7-シクロアルキル、C1-C6-シアノアルキルまたはそれ自体は無置換であるかもしくはフェニル環上でメチル、メトキシ、メチルチオ、ハロゲン、ニトロまたはシアノにより置換されたベンジル、好ましくはC1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニル、C3-C6-ハロアルキニルまたはC1-C3-アルコキシ-C1-C3-アルキルである］
のエナミンと反応させる方法、および適切な場合には、さらなるステップにおいて、得られる式I（ここでR1＝R1a、R1＝水素）の3-フェニル(チオ)ウラシルまたは3-フェニルジチオウラシルを、式IV：
R1aは、アミノを除いて、R1に対して定義した通りであり；
R2、R3およびX2は先に定義した通りであり；そして
R4はC1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキル、C1-C3-アルコキシ-C1-C3-アルキル、C1-C3-アルキルチオ-C1-C3-アルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニル、C3-C6-ハロアルキニル、C3-C7-シクロアルキル、C1-C6-シアノアルキルまたはそれ自体は無置換であるかもしくはフェニル環上でメチル、メトキシ、メチルチオ、ハロゲン、ニトロまたはシアノにより置換されたベンジル、好ましくはC1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニル、C3-C6-ハロアルキニルまたはC1-C3-アルコキシ-C1-C3-アルキルである］
のエナミンと反応させる方法、および適切な場合には、さらなるステップにおいて、得られる式I（ここでR1＝R1a、R1＝水素）の3-フェニル(チオ)ウラシルまたは3-フェニルジチオウラシルを、式IV：
［式中、L1は求核脱離基である］
のアミノ化剤と反応させて、式I（ここでR1＝アミノ）の3-フェニル(チオ)ウラシル類または3-フェニルジチオウラシル類を得る反応により達成されることを見出した。
のアミノ化剤と反応させて、式I（ここでR1＝アミノ）の3-フェニル(チオ)ウラシル類または3-フェニルジチオウラシル類を得る反応により達成されることを見出した。
本発明は従って、式IIのフェニルイソ(チオ)シアネートと式IIIのエナミンとの反応を含んでなる、式I（ここでR1＝R1a）の3-フェニル(チオ)ウラシル類または3-フェニルジチオウラシル類を調製する方法に関する。
本発明はさらに、本発明による方法により得た化合物I（ここでR1＝水素）をアミノ化剤またはアルキル化剤と反応させることを特徴とする、先に定義した式I（ここでR1は水素でない）の3-フェニル(チオ)ウラシル類または3-フェニルジチオウラシル類を調製する方法を提供する。
本発明による方法は、式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオ-ウラシル類を高収率かつ高純度で提供する。これは、使用する基質が一緒に反応しうるイソ(チオ)シアネート基とスルホンアミド基の両方を有し、従ってこれらの基がオリゴマーおよびポリマー生成を含む多数の副反応を起こすと予想されていた事実を考えると実に意外なことである。
置換基の定義でまたはフェニル、ナフチルまたはヘテロ環上の基として記載した有機分子部分は、定義ハロゲンと同じ様に、個々のグループメンバーの個々のリストに対する集合用語を構成するものであり、表現Cn-Cmは分子部分の可能な炭素原子数を規定する。全ての炭素鎖、すなわち全てのアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分は直鎖または分枝鎖であってもよい。特に断らない限り、ハロゲン化された置換基は、好ましくは、1〜6個の同じまたは異なるハロゲン原子を有する。定義ハロゲンは、それぞれの事例において、弗素、塩素、臭素またはヨウ素を表わす。
定義の例は次の通りである：
C1-C4-アルキル：例えば、メチル、エチル、プロピル、1-メチルエチル、ブチル、1-メチル-プロピル、2-メチルプロピルまたは1,1-ジメチルエチル；
C1-C10-アルキル：1〜10個の炭素原子を有する飽和脂肪族炭化水素基、例えば、先に記載した通りC1-C4-アルキル、およびまた、例えば、n-ペンチル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、2,2-ジメチルプロピル、1-エチルプロピル、ヘキシル、1,1-ジメチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、1-メチルペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、1-エチルブチル、2-エチルブチル、1,1,2-トリメチルプロピル、1-エチル-1-メチル-プロピル、1-エチル-3-メチルプロピル、n-へプチル、n-ノニル、n-デシル、1-メチル-ヘキシル、1-エチルヘキシル、1-メチルへプチル、1-メチルオクチル、1-メチルノニル；
C2-C10-アルケニル：2〜10個の炭素原子を有するモノ不飽和オレフィン炭化水素基、好ましくは3〜6個の炭素原子、例えば、エテニル、プロパ-2-エン-1-イル（＝アリル）、プロパ-1-エン-1-イル、ブタ-1-エン-4-イル、ブタ-2-エン-1-イル、ブタ-3-エン-1-イル、1-メチルプロパ-2-エン-1-イル、2-メチルプロパ-2-エン-1-イル、1-ペンテン-3-イル、1-ペンテン-4-イル、2-ペンテン-4-イル、1-メチルブタ-2-エン-1-イル、2-メチルブタ-2-エン-1-イル、3-メチルブタ-2-エン-1-イル、1-メチルブタ-3-エン-1-イル、2-メチルブタ-3-エン-1-イル、3-メチルブタ-3-エン-1-イル、1,1-ジメチルプロパ-2-エン-1-イル、1,2-ジメチルプロパ-2-エン-1-イル、1-エチルプロパ-2-エン-1-イル、1-エチルプロパ-1-エン-2-イル、n-ヘキサ-1-エン-1-イル、n-ヘキサ-2-エン-1-イル、ヘキサ-3-エン-1-イル、ヘキサ-4-エン-1-イル、ヘキサ-5-エン-1-イル、1-メチルペンタ-1-エン-1-イル、2-メチルペンタ-1-エン-1-イル、3-メチルペンタ-1-エン-1-イル、4-メチルペンタ-1-エン-1-イル、1-メチルペンタ-2-エン-1-イル、2-メチルペンタ-2-エン-1-イル、3-メチルペンタ-2-エン-1-イル、4-メチルペンタ-2-エン-1-イル、1-メチルペンタ-3-エン-1-イル、2-メチルペンタ-3-エン-1-イル、3-メチルペンタ-3-エン-1-イル、4-メチルペンタ-3-エン-1-イル、1-メチルペンタ-4-エン-1-イル、2-メチルペンタ-4-エン-1-イル、3-メチルペンタ-4-エン-1-イル、4-メチルペンタ-4-エン-1-イル、1,1-ジメチルブタ-2-エン-1-イル、1,1-ジメチルブタ-3-エン-1-イル、1,2-ジメチルブタ-2-エン-1-イル、1,2-ジメチルブタ-3-エン-1-イル、1,3-ジメチルブタ-2-エン-1-イル、1,3-ジメチルブタ-3-エン-1-イル、2,2-ジメチルブタ-3-エン-1-イル、2,3-ジメチルブタ-2-エン-1-イル、2,3-ジメチルブタ-3-エン-1-イル、3,3-ジメチルブタ-2-エン-1-イル、1-エチルブタ-2-エン-1-イル、1-エチルブタ-3-エン-1-イル、2-エチルブタ-2-エン-1-イル、2-エチルブタ-3-エン-1-イル、1,1,2-トリメチルプロパ-2-エン-1-イル、1-エチル-1-メチルプロパ-2-エン-1-イル、1-エチル-2-メチルプロパ-2-エン-1-イル、ヘプタ-2-エン-1-イル、オクタ-2-エン-1-イル、ノナ-2-エン-1-イル、デカ-2-エン-1-イル；
C2-C10-アルキニル：2〜10個の炭素原子、好ましくは3〜6個の炭素原子、および三重結合を有する炭化水素基、例えば、エチニル、プロパ-2-イン-1-イル（＝プロパルギル）、プロパ-1-イン-1-イル、ブタ-1-イン-1-イル、ブタ-1-イン-3-イル、ブタ-1-イン-4-イル、ブタ-2-イン-1-イル、ペンタ-1-イン-1-イル、ペンタ-1-イン-3-イル、ペンタ-1-イン-4-イル、ペンタ-1-イン-5-イル、ペンタ-2-イン-1-イル、ペンタ-2-イン-4-イル、ペンタ-2-イン-5-イル、3-メチルブタ-1-イン-3-イル、3-メチルブタ-1-イン-4-イル、ヘキサ-1-イン-3-イル、ヘキサ-1-イン-4-イル、ヘキサ-1-イン-5-イル、ヘキサ-1-イン-6-イル、ヘキサ-2-イン-1-イル、ヘキサ-2-イン-4-イル、ヘキサ-2-イン-5-イル、ヘキサ-2-イン-6-イル、ヘキサ-3-イン-1-イル、ヘキサ-3-イン-2-イル、3-メチルペンタ-1-イン-3-イル、3-メチルペンタ-1-イン-4-イル、3-メチルペンタ-1-イン-5-イル、4-メチルペンタ-2-イン-4-イル、4-メチルペンタ-2-イン-5-イル、ヘプタ-2-イン-1-イル、オクタ-2-イン-1-イル、ノナ-2-イン-1-イル、デカ-2-イン-1-イル；
C1-C4-ハロアルキル：先に記載した、弗素、塩素、臭素および／またはヨウ素により部分的にまたは全て置換されたC1-C4-アルキル基、すなわち、例えば、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロフルオロメチル、ジクロロフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、2-フルオロエチル、2-クロロエチル、2-ブロモエチル、2-ヨードエチル、2,2-ジフルオロエチル、2,2,2-トリフルオロエチル、2-クロロ-2-フルオロエチル、2-クロロ-2,2-ジフルオロエチル、2,2-ジクロロ-2-フルオロエチル、2,2,2-トリクロロエチル、ペンタフルオロエチル、2-フルオロプロピル、3-フルオロプロピル、2,2-ジフルオロプロピル、2,3-ジフルオロプロピル、2-クロロプロピル、3-クロロプロピル、2,3-ジクロロプロピル、2-ブロモプロピル、3-ブロモプロピル、3,3,3-トリフルオロプロピル、3,3,3-トリクロロプロピル、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル、ヘプタフルオロプロピル、1-(フルオロメチル)-2-フルオロエチル、1-(クロロメチル)-2-クロロエチル、1-(ブロモメチル)-2-ブロモエチル、4-フルオロブチル、4-クロロブチル、4-ブロモブチルまたはノナフルオロブチル；
C1-C10-ハロアルキル：1〜6個の水素原子がハロゲン原子により、好ましくは弗素および／または塩素により置換された先に記載のC1-C10-アルキル、例えば、先に記載のC1-C4-ハロアルキル、およびまた5-フルオロペンチル、5-クロロペンチル、5-ブロモペンチル、5-ヨードペンチル、ウンデカフルオロペンチル、6-フルオロヘキシル、6-クロロヘキシル、6-ブロモヘキシルまたは6-ヨードヘキシル；
C2-C10-ハロアルケニル：1〜6個の水素原子がハロゲン原子により、好ましくは弗素および／または塩素により置換された先に記載のC2-C10-アルケニル、例えば、2-クロロアリル、3-クロロアリル、2,3-ジクロロアリル、3,3-ジクロロアリル、2,3,3-トリクロロアリル、2,3-ジクロロブタ-2-エン-1-イル、2-ブロモアリル、3-ブロモアリル、2,3-ジブロモアリル、3,3-ジブロモアリル、2,3,3-トリブロモアリルまたは2,3-ジブロモブタ-2-エン-1-イル；
C2-C10-ハロアルキニル：1〜6個の水素原子がハロゲン原子により、好ましくは弗素および／または塩素により置換された先に記載のC2-C10-アルキニル、例えば、1,1-ジフルオロプロパ-2-イン-1-イル、1,1-ジフルオロブタ-2-イン-1-イル、4-フルオロブタ-2-イン-1-イル、4-クロロブタ-2-イン-1-イル、5-フルオロペンタ-3-イン-1-イルまたは6-フルオロヘキサ-4-イン-1-イル；
C1-C10-シアノアルキル：CN基により置換されたC1-C10-アルキル、例えば、シアノメチル、1-シアノエチル、2-シアノエチル、1-シアノプロピル、2-シアノプロピル、3-シアノプロピル、1-シアノプロパ-2-イル、2-シアノプロパ-2-イル、1-シアノブチル、2-シアノブチル、3-シアノブチル、4-シアノブチル、1-シアノブタ-2-イル、2-シアノブタ-2-イル、1-シアノブタ-3-イル、2-シアノブタ-3-イル、1-シアノ-2-メチルプロパ-3-イル、2-シアノ-2-メチルプロパ-3-イル、3-シアノ-2-メチルプロパ-3-イル、3-シアノ-2,2-ジメチルプロピル、6-シアノヘキサ-1-イル、7-シアノヘプタ-1-イル、8-シアノオクタ-1-イル、9-シアノノナ-1-イル、10-シアノデカ-1-イル；
C3-C10-シクロアルキル：3〜10個の炭素原子を有する脂環基、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロへプチル、シクロオクチル、シクロノニルまたはシクロデシル；
C3-C10-シクロアルケニル：3〜10個の炭素原子および二重結合を有する脂環基、例えば、シクロプロペン-1-イル、シクロブテン-1-イル、シクロペンテン-1-イル、シクロヘキセン-1-イル、シクロヘプテン-1-イル、シクロオクテン-1-イル、シクロノネン-1-イル、シクロデセン-1-イル、シクロペンタ-2-エン-1-イル、シクロヘキサ-2-エン-1-イル、シクロヘプタ-2-エン-1-イル、シクロオクタ-2-エン-1-イル、シクロノナ-2-エン-1-イル、シクロデカ-2-エン-1-イル、シクロヘキサ-3-エン-1-イル、シクロヘプタ-3-エン-1-イル、シクロオクタ-3-エン-1-イル、シクロオクタ-4-エン-1-イル、シクロノナ-3-エン-1-イル、シクロノナ-4-エン-1-イル、シクロデカ-4-エン-1-イルまたはシクロデカ-3-エン-1-イル；
C1-C4-アルキルカルボニル：1〜4個の炭素原子を有しかつカルボニル基を介して結合したアルキル基、例えばアセチル、プロピオニル、ブチリルまたはイソブチリル；
(C1-C4-アルキルアミノ)カルボニル：例えば、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、1-メチルエチルアミノカルボニル、ブチルアミノカルボニル、メチルプロピルアミノカルボニル、2-メチルプロピルアミノカルボニルまたは1,1-ジメチルエチルアミノカルボニル；
ジ(C1-C4-アルキル)アミノカルボニル：例えば、N,N-ジメチルアミノカルボニル、
N,N-ジエチルアミノカルボニル、N,N-ジ(1-メチルエチル)アミノカルボニル、
N,N-ジプロピルアミノカルボニル、N,N-ジブチルアミノカルボニル、
N,N-ジ(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、N,N-ジ(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N,N-ジ(1,1-ジメチルエチル)アミノカルボニル、N-エチル-N-メチルアミノカルボニル、
N-メチル-N-プロピルアミノカルボニル、N-メチル-N-(1-メチルエチル)アミノカルボニル、
N-ブチル-N-メチルアミノカルボニル、N-メチル-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-メチル-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、N-(1,1-ジメチルエチル)-N-メチルアミノカルボニル、N-エチル-N-プロピルアミノカルボニル、
N-エチル-N-(1-メチルエチル)アミノカルボニル、N-ブチル-N-エチルアミノカルボニル、
N-エチル-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-エチル-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-エチル-N-(1,1-ジメチルエチル)アミノカルボニル、
N-(1-メチルエチル)-N-プロピルアミノカルボニル、N-ブチル-N-プロピルアミノカルボニル、
N-(1-メチルプロピル)-N-プロピルアミノカルボニル、
N-(2-メチルプロピル)-N-プロピルアミノカルボニル、
N-(1,1-ジメチルエチル)-N-プロピルアミノカルボニル、
N-ブチル-N-(1-メチルエチル)アミノカルボニル、
N-(1-メチルエチル)-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-(1-メチルエチル)-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-(1,1-ジメチルエチル)-N-(1-メチルエチル)アミノカルボニル、
N-ブチル-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-ブチル-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-ブチル-N-(1,1-ジメチルエチル)アミノカルボニル、
N-(1-メチルプロピル)-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-(1,1-ジメチルエチル)-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、または
N-(1,1-ジメチルエチル)-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル；
C1-C4-アルコキシ：1〜4個の炭素原子を有しかつ酸素原子を介して結合したアルキル基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、1-メチルエトキシ、ブトキシ、1-メチルプロポキシ、2-メチルプロポキシまたは1,1-ジメチルエトキシ；
C1-C4-アルコキシカルボニル：1〜4個の炭素原子を有しかつカルボニル基を介して結合したアルコキシ基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、1-メチルエトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、1-メチルプロポキシカルボニル、2-メチルプロポキシカルボニルまたは1,1-ジメチルエトキシカルボニル；
C1-C4-アルキルチオ（C1-C4-アルキルスルファニル：C1-C4-アルキル-S-）：1〜4個の炭素原子を有しかつ硫黄原子を介して結合したアルキル基、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、1-メチルエチルチオ、ブチルチオ、1-メチルプロピルチオ、2-メチルプロピルチオまたは1,1-ジメチルエチルチオ；
C1-C4-アルキルスルフィニル（C1-C4-アルキル-S(＝O)-）：例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、1-メチルエチルスルフィニル、ブチルスルフィニル、1-メチルプロピルスルフィニル、2-メチルプロピルスルフィニルまたは1,1-ジメチルエチルスルフィニル；
C1-C4-アルキルスルホニル（C1-C4-アルキル-S(＝O)2-）：例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、1-メチルエチルスルホニル、ブチルスルホニル、1-メチルプロピルスルホニル、2-メチルプロピルスルホニルまたは1,1-ジメチルエチルスルホニル；
フェニル-C1-C4-アルキル：例えば、ベンジル、1-フェニルエチル、2-フェニルエチル、1-フェニルプロパ-1-イル、2-フェニルプロパ-1-イル、3-フェニルプロパ-1-イル、1-フェニルブタ-1-イル、2-フェニルブタ-1-イル、3-フェニルブタ-1-イル、4-フェニルブタ-1-イル、1-フェニルブタ-2-イル、2-フェニルブタ-2-イル、3-フェニルブタ-2-イル、4-フェニルブタ-2-イル、1-(フェニルメタ)エタ-1-イル、1-(フェニルメチル)-1-(メチル)エタ-1-イルまたは-(フェニルメチル)-1-(メチル)プロパ-1-イル；好ましくはベンジル；
3〜8員ヘテロシクリル：環原子の1、2または3個が酸素、硫黄、窒素およびNR7基（式中、R7は水素、C1-C6-アルキル、C3-C6-アルケニルまたはC3-C6-アルキニルである）からなる群から選択されるヘテロ原子である3、4、5、6、7または8環原子を有するヘテロ環式基。さらに、ヘテロ環は、適切な場合には、1または2個のカルボニル基またはチオカルボニル基を環原子として有してもよい。ヘテロ環は芳香族（ヘテロアリール）であってもまたは部分的にもしくは全てが飽和していてもよい。
C1-C4-アルキル：例えば、メチル、エチル、プロピル、1-メチルエチル、ブチル、1-メチル-プロピル、2-メチルプロピルまたは1,1-ジメチルエチル；
C1-C10-アルキル：1〜10個の炭素原子を有する飽和脂肪族炭化水素基、例えば、先に記載した通りC1-C4-アルキル、およびまた、例えば、n-ペンチル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、2,2-ジメチルプロピル、1-エチルプロピル、ヘキシル、1,1-ジメチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、1-メチルペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、1-エチルブチル、2-エチルブチル、1,1,2-トリメチルプロピル、1-エチル-1-メチル-プロピル、1-エチル-3-メチルプロピル、n-へプチル、n-ノニル、n-デシル、1-メチル-ヘキシル、1-エチルヘキシル、1-メチルへプチル、1-メチルオクチル、1-メチルノニル；
C2-C10-アルケニル：2〜10個の炭素原子を有するモノ不飽和オレフィン炭化水素基、好ましくは3〜6個の炭素原子、例えば、エテニル、プロパ-2-エン-1-イル（＝アリル）、プロパ-1-エン-1-イル、ブタ-1-エン-4-イル、ブタ-2-エン-1-イル、ブタ-3-エン-1-イル、1-メチルプロパ-2-エン-1-イル、2-メチルプロパ-2-エン-1-イル、1-ペンテン-3-イル、1-ペンテン-4-イル、2-ペンテン-4-イル、1-メチルブタ-2-エン-1-イル、2-メチルブタ-2-エン-1-イル、3-メチルブタ-2-エン-1-イル、1-メチルブタ-3-エン-1-イル、2-メチルブタ-3-エン-1-イル、3-メチルブタ-3-エン-1-イル、1,1-ジメチルプロパ-2-エン-1-イル、1,2-ジメチルプロパ-2-エン-1-イル、1-エチルプロパ-2-エン-1-イル、1-エチルプロパ-1-エン-2-イル、n-ヘキサ-1-エン-1-イル、n-ヘキサ-2-エン-1-イル、ヘキサ-3-エン-1-イル、ヘキサ-4-エン-1-イル、ヘキサ-5-エン-1-イル、1-メチルペンタ-1-エン-1-イル、2-メチルペンタ-1-エン-1-イル、3-メチルペンタ-1-エン-1-イル、4-メチルペンタ-1-エン-1-イル、1-メチルペンタ-2-エン-1-イル、2-メチルペンタ-2-エン-1-イル、3-メチルペンタ-2-エン-1-イル、4-メチルペンタ-2-エン-1-イル、1-メチルペンタ-3-エン-1-イル、2-メチルペンタ-3-エン-1-イル、3-メチルペンタ-3-エン-1-イル、4-メチルペンタ-3-エン-1-イル、1-メチルペンタ-4-エン-1-イル、2-メチルペンタ-4-エン-1-イル、3-メチルペンタ-4-エン-1-イル、4-メチルペンタ-4-エン-1-イル、1,1-ジメチルブタ-2-エン-1-イル、1,1-ジメチルブタ-3-エン-1-イル、1,2-ジメチルブタ-2-エン-1-イル、1,2-ジメチルブタ-3-エン-1-イル、1,3-ジメチルブタ-2-エン-1-イル、1,3-ジメチルブタ-3-エン-1-イル、2,2-ジメチルブタ-3-エン-1-イル、2,3-ジメチルブタ-2-エン-1-イル、2,3-ジメチルブタ-3-エン-1-イル、3,3-ジメチルブタ-2-エン-1-イル、1-エチルブタ-2-エン-1-イル、1-エチルブタ-3-エン-1-イル、2-エチルブタ-2-エン-1-イル、2-エチルブタ-3-エン-1-イル、1,1,2-トリメチルプロパ-2-エン-1-イル、1-エチル-1-メチルプロパ-2-エン-1-イル、1-エチル-2-メチルプロパ-2-エン-1-イル、ヘプタ-2-エン-1-イル、オクタ-2-エン-1-イル、ノナ-2-エン-1-イル、デカ-2-エン-1-イル；
C2-C10-アルキニル：2〜10個の炭素原子、好ましくは3〜6個の炭素原子、および三重結合を有する炭化水素基、例えば、エチニル、プロパ-2-イン-1-イル（＝プロパルギル）、プロパ-1-イン-1-イル、ブタ-1-イン-1-イル、ブタ-1-イン-3-イル、ブタ-1-イン-4-イル、ブタ-2-イン-1-イル、ペンタ-1-イン-1-イル、ペンタ-1-イン-3-イル、ペンタ-1-イン-4-イル、ペンタ-1-イン-5-イル、ペンタ-2-イン-1-イル、ペンタ-2-イン-4-イル、ペンタ-2-イン-5-イル、3-メチルブタ-1-イン-3-イル、3-メチルブタ-1-イン-4-イル、ヘキサ-1-イン-3-イル、ヘキサ-1-イン-4-イル、ヘキサ-1-イン-5-イル、ヘキサ-1-イン-6-イル、ヘキサ-2-イン-1-イル、ヘキサ-2-イン-4-イル、ヘキサ-2-イン-5-イル、ヘキサ-2-イン-6-イル、ヘキサ-3-イン-1-イル、ヘキサ-3-イン-2-イル、3-メチルペンタ-1-イン-3-イル、3-メチルペンタ-1-イン-4-イル、3-メチルペンタ-1-イン-5-イル、4-メチルペンタ-2-イン-4-イル、4-メチルペンタ-2-イン-5-イル、ヘプタ-2-イン-1-イル、オクタ-2-イン-1-イル、ノナ-2-イン-1-イル、デカ-2-イン-1-イル；
C1-C4-ハロアルキル：先に記載した、弗素、塩素、臭素および／またはヨウ素により部分的にまたは全て置換されたC1-C4-アルキル基、すなわち、例えば、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロフルオロメチル、ジクロロフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、2-フルオロエチル、2-クロロエチル、2-ブロモエチル、2-ヨードエチル、2,2-ジフルオロエチル、2,2,2-トリフルオロエチル、2-クロロ-2-フルオロエチル、2-クロロ-2,2-ジフルオロエチル、2,2-ジクロロ-2-フルオロエチル、2,2,2-トリクロロエチル、ペンタフルオロエチル、2-フルオロプロピル、3-フルオロプロピル、2,2-ジフルオロプロピル、2,3-ジフルオロプロピル、2-クロロプロピル、3-クロロプロピル、2,3-ジクロロプロピル、2-ブロモプロピル、3-ブロモプロピル、3,3,3-トリフルオロプロピル、3,3,3-トリクロロプロピル、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル、ヘプタフルオロプロピル、1-(フルオロメチル)-2-フルオロエチル、1-(クロロメチル)-2-クロロエチル、1-(ブロモメチル)-2-ブロモエチル、4-フルオロブチル、4-クロロブチル、4-ブロモブチルまたはノナフルオロブチル；
C1-C10-ハロアルキル：1〜6個の水素原子がハロゲン原子により、好ましくは弗素および／または塩素により置換された先に記載のC1-C10-アルキル、例えば、先に記載のC1-C4-ハロアルキル、およびまた5-フルオロペンチル、5-クロロペンチル、5-ブロモペンチル、5-ヨードペンチル、ウンデカフルオロペンチル、6-フルオロヘキシル、6-クロロヘキシル、6-ブロモヘキシルまたは6-ヨードヘキシル；
C2-C10-ハロアルケニル：1〜6個の水素原子がハロゲン原子により、好ましくは弗素および／または塩素により置換された先に記載のC2-C10-アルケニル、例えば、2-クロロアリル、3-クロロアリル、2,3-ジクロロアリル、3,3-ジクロロアリル、2,3,3-トリクロロアリル、2,3-ジクロロブタ-2-エン-1-イル、2-ブロモアリル、3-ブロモアリル、2,3-ジブロモアリル、3,3-ジブロモアリル、2,3,3-トリブロモアリルまたは2,3-ジブロモブタ-2-エン-1-イル；
C2-C10-ハロアルキニル：1〜6個の水素原子がハロゲン原子により、好ましくは弗素および／または塩素により置換された先に記載のC2-C10-アルキニル、例えば、1,1-ジフルオロプロパ-2-イン-1-イル、1,1-ジフルオロブタ-2-イン-1-イル、4-フルオロブタ-2-イン-1-イル、4-クロロブタ-2-イン-1-イル、5-フルオロペンタ-3-イン-1-イルまたは6-フルオロヘキサ-4-イン-1-イル；
C1-C10-シアノアルキル：CN基により置換されたC1-C10-アルキル、例えば、シアノメチル、1-シアノエチル、2-シアノエチル、1-シアノプロピル、2-シアノプロピル、3-シアノプロピル、1-シアノプロパ-2-イル、2-シアノプロパ-2-イル、1-シアノブチル、2-シアノブチル、3-シアノブチル、4-シアノブチル、1-シアノブタ-2-イル、2-シアノブタ-2-イル、1-シアノブタ-3-イル、2-シアノブタ-3-イル、1-シアノ-2-メチルプロパ-3-イル、2-シアノ-2-メチルプロパ-3-イル、3-シアノ-2-メチルプロパ-3-イル、3-シアノ-2,2-ジメチルプロピル、6-シアノヘキサ-1-イル、7-シアノヘプタ-1-イル、8-シアノオクタ-1-イル、9-シアノノナ-1-イル、10-シアノデカ-1-イル；
C3-C10-シクロアルキル：3〜10個の炭素原子を有する脂環基、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロへプチル、シクロオクチル、シクロノニルまたはシクロデシル；
C3-C10-シクロアルケニル：3〜10個の炭素原子および二重結合を有する脂環基、例えば、シクロプロペン-1-イル、シクロブテン-1-イル、シクロペンテン-1-イル、シクロヘキセン-1-イル、シクロヘプテン-1-イル、シクロオクテン-1-イル、シクロノネン-1-イル、シクロデセン-1-イル、シクロペンタ-2-エン-1-イル、シクロヘキサ-2-エン-1-イル、シクロヘプタ-2-エン-1-イル、シクロオクタ-2-エン-1-イル、シクロノナ-2-エン-1-イル、シクロデカ-2-エン-1-イル、シクロヘキサ-3-エン-1-イル、シクロヘプタ-3-エン-1-イル、シクロオクタ-3-エン-1-イル、シクロオクタ-4-エン-1-イル、シクロノナ-3-エン-1-イル、シクロノナ-4-エン-1-イル、シクロデカ-4-エン-1-イルまたはシクロデカ-3-エン-1-イル；
C1-C4-アルキルカルボニル：1〜4個の炭素原子を有しかつカルボニル基を介して結合したアルキル基、例えばアセチル、プロピオニル、ブチリルまたはイソブチリル；
(C1-C4-アルキルアミノ)カルボニル：例えば、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、1-メチルエチルアミノカルボニル、ブチルアミノカルボニル、メチルプロピルアミノカルボニル、2-メチルプロピルアミノカルボニルまたは1,1-ジメチルエチルアミノカルボニル；
ジ(C1-C4-アルキル)アミノカルボニル：例えば、N,N-ジメチルアミノカルボニル、
N,N-ジエチルアミノカルボニル、N,N-ジ(1-メチルエチル)アミノカルボニル、
N,N-ジプロピルアミノカルボニル、N,N-ジブチルアミノカルボニル、
N,N-ジ(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、N,N-ジ(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N,N-ジ(1,1-ジメチルエチル)アミノカルボニル、N-エチル-N-メチルアミノカルボニル、
N-メチル-N-プロピルアミノカルボニル、N-メチル-N-(1-メチルエチル)アミノカルボニル、
N-ブチル-N-メチルアミノカルボニル、N-メチル-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-メチル-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、N-(1,1-ジメチルエチル)-N-メチルアミノカルボニル、N-エチル-N-プロピルアミノカルボニル、
N-エチル-N-(1-メチルエチル)アミノカルボニル、N-ブチル-N-エチルアミノカルボニル、
N-エチル-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-エチル-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-エチル-N-(1,1-ジメチルエチル)アミノカルボニル、
N-(1-メチルエチル)-N-プロピルアミノカルボニル、N-ブチル-N-プロピルアミノカルボニル、
N-(1-メチルプロピル)-N-プロピルアミノカルボニル、
N-(2-メチルプロピル)-N-プロピルアミノカルボニル、
N-(1,1-ジメチルエチル)-N-プロピルアミノカルボニル、
N-ブチル-N-(1-メチルエチル)アミノカルボニル、
N-(1-メチルエチル)-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-(1-メチルエチル)-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-(1,1-ジメチルエチル)-N-(1-メチルエチル)アミノカルボニル、
N-ブチル-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-ブチル-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-ブチル-N-(1,1-ジメチルエチル)アミノカルボニル、
N-(1-メチルプロピル)-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、
N-(1,1-ジメチルエチル)-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、または
N-(1,1-ジメチルエチル)-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル；
C1-C4-アルコキシ：1〜4個の炭素原子を有しかつ酸素原子を介して結合したアルキル基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、1-メチルエトキシ、ブトキシ、1-メチルプロポキシ、2-メチルプロポキシまたは1,1-ジメチルエトキシ；
C1-C4-アルコキシカルボニル：1〜4個の炭素原子を有しかつカルボニル基を介して結合したアルコキシ基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、1-メチルエトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、1-メチルプロポキシカルボニル、2-メチルプロポキシカルボニルまたは1,1-ジメチルエトキシカルボニル；
C1-C4-アルキルチオ（C1-C4-アルキルスルファニル：C1-C4-アルキル-S-）：1〜4個の炭素原子を有しかつ硫黄原子を介して結合したアルキル基、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、1-メチルエチルチオ、ブチルチオ、1-メチルプロピルチオ、2-メチルプロピルチオまたは1,1-ジメチルエチルチオ；
C1-C4-アルキルスルフィニル（C1-C4-アルキル-S(＝O)-）：例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、1-メチルエチルスルフィニル、ブチルスルフィニル、1-メチルプロピルスルフィニル、2-メチルプロピルスルフィニルまたは1,1-ジメチルエチルスルフィニル；
C1-C4-アルキルスルホニル（C1-C4-アルキル-S(＝O)2-）：例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、1-メチルエチルスルホニル、ブチルスルホニル、1-メチルプロピルスルホニル、2-メチルプロピルスルホニルまたは1,1-ジメチルエチルスルホニル；
フェニル-C1-C4-アルキル：例えば、ベンジル、1-フェニルエチル、2-フェニルエチル、1-フェニルプロパ-1-イル、2-フェニルプロパ-1-イル、3-フェニルプロパ-1-イル、1-フェニルブタ-1-イル、2-フェニルブタ-1-イル、3-フェニルブタ-1-イル、4-フェニルブタ-1-イル、1-フェニルブタ-2-イル、2-フェニルブタ-2-イル、3-フェニルブタ-2-イル、4-フェニルブタ-2-イル、1-(フェニルメタ)エタ-1-イル、1-(フェニルメチル)-1-(メチル)エタ-1-イルまたは-(フェニルメチル)-1-(メチル)プロパ-1-イル；好ましくはベンジル；
3〜8員ヘテロシクリル：環原子の1、2または3個が酸素、硫黄、窒素およびNR7基（式中、R7は水素、C1-C6-アルキル、C3-C6-アルケニルまたはC3-C6-アルキニルである）からなる群から選択されるヘテロ原子である3、4、5、6、7または8環原子を有するヘテロ環式基。さらに、ヘテロ環は、適切な場合には、1または2個のカルボニル基またはチオカルボニル基を環原子として有してもよい。ヘテロ環は芳香族（ヘテロアリール）であってもまたは部分的にもしくは全てが飽和していてもよい。
飽和ヘテロ環の例は次の通りである：
オキシラン-1-イル、アジリジン-1-イル、オキセタン-2-イル、オキセタン-3-イル、チエタン-2-イル、チエタン-3-イル、アゼチジン-1-イル、アゼチジン-2-イル、アゼチジン-3-イル、テトラヒドロフラン-2-イル、テトラヒドロフラン-3-イル、テトラヒドロチオフェン-2-イル、テトラヒドロチオフェン-3-イル、ピロリジン-1-イル、ピロリジン-2-イル、ピロリジン-3-イル、1,3-ジオキソラン-2-イル、1,3-ジオキソラン-4-イル、1,3-オキサチオラン-2-イル、1,3-オキサチオラン-4-イル、1,3-オキサチオラン-5-イル、1,3-オキサゾリジン-2-イル、1,3-オキサゾリジン-3-イル、1,3-オキサゾリジン-4-イル、1,3-オキサゾリジン-5-イル、1,2-オキサゾリジン-2-イル、1,2-オキサゾリジン-3-イル、1,2-オキサゾリジン-4-イル、1,2-オキサゾリジン-5-イル、1,3-ジチオラン-2-イル、1,3-ジチオラン-4-イル、ピロリジン-1-イル、ピロリジン-2-イル、ピロリジン-5-イル、テトラヒドロピラゾール-1-イル、テトラヒドロピラゾール-3-イル、テトラヒドロピラゾール-4-イル、テトラヒドロピラン-2-イル、テトラヒドロピラン-3-イル、テトラヒドロピラン-4-イル、テトラヒドロチオピラン-2-イル、テトラヒドロチオピラン-3-イル、テトラヒドロピラン-4-イル、ピペリジン-1-イル、ピペリジン-2-イル、ピペリジン-3-イル、ピペリジン-4-イル、1,3-ジオキサン-2-イル、1,3-ジオキサン-4-イル、1,3-ジオキサン-5-イル、1,4-ジオキサン-2-イル、1,3-オキサチアン-2-イル、1,3-オキサチアン-4-イル、1,3-オキサチアン-5-イル、1,3-オキサチアン-6-イル、1,4-オキサチアン-2-イル、1,4-オキサチアン-3-イル、モルホリン-2-イル、モルホリン-3-イル、モルホリン-4-イル、ヘキサヒドロピリダジン-1-イル、ヘキサヒドロピリダジン-3-イル、ヘキサヒドロピリダジン-4-イル、ヘキサヒドロピリミジン-1-イル、ヘキサヒドロピリミジン-2-イル、ヘキサヒドロピリミジン-4-イル、ヘキサヒドロピリミジン-5-イル、ピペラジン-1-イル、ピペラジン-2-イル、ピペラジン-3-イル、ヘキサヒドロ-1,3,5-トリアジン-1-イル、ヘキサヒドロ-1,3,5-トリアジン-2-イル、オキセパン-2-イル、オキセパン-3-イル、オキセパン-4-イル、チエパン-2-イル、チエパン-3-イル、チエパン-4-イル、1,3-ジオキセパン-2-イル、1,3-ジオキセパン-4-イル、1,3-ジオキセパン-5-イル、1,3-ジオキセパン-6-イル、1,3-ジチエパン-2-イル、1,3-ジチエパン-4-イル、1,3-ジチエパン-5-イル、1,3-ジチエパン-2-イル、1,4-ジオキセパン-2-イル、1,4-ジオキセパン-7-イル、ヘキサヒドロアゼピン-1-イル、ヘキサヒドロアゼピン-2-イル、ヘキサヒドロアゼピン-3-イル、ヘキサヒドロアゼピン-4-イル、ヘキサヒドロ-1,3-ジアゼピン-1-イル、ヘキサヒドロ-1,3-ジアゼピン-2-イル、ヘキサヒドロ-1,3-ジアゼピン-4-イル、ヘキサヒドロ-1,4-ジアゼピン-1-イルおよびヘキサヒドロ-1,4-ジアゼピン-2-イル；
不飽和ヘテロ環の例は次の通りである：
ジヒドロフラン-2-イル、1,2-オキサゾリン-3-イル、1,2-オキサゾリン-5-イル、1,3-オキサゾリン-2-イル；
芳香族ヘテロシクリルの例は5-および6-員の芳香族ヘテロ環式基であり、例えば、フリル、例えば2-フリルおよび3-フリル、チエニル、例えば2-チエニルおよび3-チエニル、ピロリル、例えば2-ピロリルおよび3-ピロリル、イソオキサゾリル、例えば3-イソオキサゾリル、4-イソオキサゾリルおよび5-イソオキサゾリル、イソチアゾリル、例えば3-イソチアゾリル、4-イソチアゾリルおよび5-イソチアゾリル、ピラゾリル、例えば3-ピラゾリル、4-ピラゾリルおよび5-ピラゾリル、オキサゾリル、例えば2-オキサゾリル、4-オキサゾリルおよび5-オキサゾリル、チアゾリル、例えば2-チアゾリル、4-チアゾリルおよび5-チアゾリル、イミダゾリル、例えば2-イミダゾリルおよび4-イミダゾリル、オキサジアゾリル、例えば1,2,4-オキサジアゾール-3-イル、1,2,4-オキサジアゾール-5-イルおよび1,3,4-オキサジアゾール-2-イル、チアジアゾリル、例えば1,2,4-チアジアゾール-3-イル、1,2,4-チアジアゾール-5-イルおよび1,3,4-チアジアゾール-2-イル、トリアゾリル、例えば1,2,4-トリアゾール-1-イル、1,2,4-トリアゾール-3-イルおよび1,2,4-トリアゾール-4-イル、ピリジニル、例えば2-ピリジニル、3-ピリジニルおよび4-ピリジニル、ピリダジニル、例えば3-ピリダジニルおよび4-ピリダジニル、ピリミジニル、例えば2-ピリミジニル、4-ピリミジニルおよび5-ピリミジニル、ならびにさらに2-ピラジニル、1,3,5-トリアジン-2-イルおよび1,2,4-トリアジン-3-イル、特にピリジル、フラニルおよびチエニルである。
オキシラン-1-イル、アジリジン-1-イル、オキセタン-2-イル、オキセタン-3-イル、チエタン-2-イル、チエタン-3-イル、アゼチジン-1-イル、アゼチジン-2-イル、アゼチジン-3-イル、テトラヒドロフラン-2-イル、テトラヒドロフラン-3-イル、テトラヒドロチオフェン-2-イル、テトラヒドロチオフェン-3-イル、ピロリジン-1-イル、ピロリジン-2-イル、ピロリジン-3-イル、1,3-ジオキソラン-2-イル、1,3-ジオキソラン-4-イル、1,3-オキサチオラン-2-イル、1,3-オキサチオラン-4-イル、1,3-オキサチオラン-5-イル、1,3-オキサゾリジン-2-イル、1,3-オキサゾリジン-3-イル、1,3-オキサゾリジン-4-イル、1,3-オキサゾリジン-5-イル、1,2-オキサゾリジン-2-イル、1,2-オキサゾリジン-3-イル、1,2-オキサゾリジン-4-イル、1,2-オキサゾリジン-5-イル、1,3-ジチオラン-2-イル、1,3-ジチオラン-4-イル、ピロリジン-1-イル、ピロリジン-2-イル、ピロリジン-5-イル、テトラヒドロピラゾール-1-イル、テトラヒドロピラゾール-3-イル、テトラヒドロピラゾール-4-イル、テトラヒドロピラン-2-イル、テトラヒドロピラン-3-イル、テトラヒドロピラン-4-イル、テトラヒドロチオピラン-2-イル、テトラヒドロチオピラン-3-イル、テトラヒドロピラン-4-イル、ピペリジン-1-イル、ピペリジン-2-イル、ピペリジン-3-イル、ピペリジン-4-イル、1,3-ジオキサン-2-イル、1,3-ジオキサン-4-イル、1,3-ジオキサン-5-イル、1,4-ジオキサン-2-イル、1,3-オキサチアン-2-イル、1,3-オキサチアン-4-イル、1,3-オキサチアン-5-イル、1,3-オキサチアン-6-イル、1,4-オキサチアン-2-イル、1,4-オキサチアン-3-イル、モルホリン-2-イル、モルホリン-3-イル、モルホリン-4-イル、ヘキサヒドロピリダジン-1-イル、ヘキサヒドロピリダジン-3-イル、ヘキサヒドロピリダジン-4-イル、ヘキサヒドロピリミジン-1-イル、ヘキサヒドロピリミジン-2-イル、ヘキサヒドロピリミジン-4-イル、ヘキサヒドロピリミジン-5-イル、ピペラジン-1-イル、ピペラジン-2-イル、ピペラジン-3-イル、ヘキサヒドロ-1,3,5-トリアジン-1-イル、ヘキサヒドロ-1,3,5-トリアジン-2-イル、オキセパン-2-イル、オキセパン-3-イル、オキセパン-4-イル、チエパン-2-イル、チエパン-3-イル、チエパン-4-イル、1,3-ジオキセパン-2-イル、1,3-ジオキセパン-4-イル、1,3-ジオキセパン-5-イル、1,3-ジオキセパン-6-イル、1,3-ジチエパン-2-イル、1,3-ジチエパン-4-イル、1,3-ジチエパン-5-イル、1,3-ジチエパン-2-イル、1,4-ジオキセパン-2-イル、1,4-ジオキセパン-7-イル、ヘキサヒドロアゼピン-1-イル、ヘキサヒドロアゼピン-2-イル、ヘキサヒドロアゼピン-3-イル、ヘキサヒドロアゼピン-4-イル、ヘキサヒドロ-1,3-ジアゼピン-1-イル、ヘキサヒドロ-1,3-ジアゼピン-2-イル、ヘキサヒドロ-1,3-ジアゼピン-4-イル、ヘキサヒドロ-1,4-ジアゼピン-1-イルおよびヘキサヒドロ-1,4-ジアゼピン-2-イル；
不飽和ヘテロ環の例は次の通りである：
ジヒドロフラン-2-イル、1,2-オキサゾリン-3-イル、1,2-オキサゾリン-5-イル、1,3-オキサゾリン-2-イル；
芳香族ヘテロシクリルの例は5-および6-員の芳香族ヘテロ環式基であり、例えば、フリル、例えば2-フリルおよび3-フリル、チエニル、例えば2-チエニルおよび3-チエニル、ピロリル、例えば2-ピロリルおよび3-ピロリル、イソオキサゾリル、例えば3-イソオキサゾリル、4-イソオキサゾリルおよび5-イソオキサゾリル、イソチアゾリル、例えば3-イソチアゾリル、4-イソチアゾリルおよび5-イソチアゾリル、ピラゾリル、例えば3-ピラゾリル、4-ピラゾリルおよび5-ピラゾリル、オキサゾリル、例えば2-オキサゾリル、4-オキサゾリルおよび5-オキサゾリル、チアゾリル、例えば2-チアゾリル、4-チアゾリルおよび5-チアゾリル、イミダゾリル、例えば2-イミダゾリルおよび4-イミダゾリル、オキサジアゾリル、例えば1,2,4-オキサジアゾール-3-イル、1,2,4-オキサジアゾール-5-イルおよび1,3,4-オキサジアゾール-2-イル、チアジアゾリル、例えば1,2,4-チアジアゾール-3-イル、1,2,4-チアジアゾール-5-イルおよび1,3,4-チアジアゾール-2-イル、トリアゾリル、例えば1,2,4-トリアゾール-1-イル、1,2,4-トリアゾール-3-イルおよび1,2,4-トリアゾール-4-イル、ピリジニル、例えば2-ピリジニル、3-ピリジニルおよび4-ピリジニル、ピリダジニル、例えば3-ピリダジニルおよび4-ピリダジニル、ピリミジニル、例えば2-ピリミジニル、4-ピリミジニルおよび5-ピリミジニル、ならびにさらに2-ピラジニル、1,3,5-トリアジン-2-イルおよび1,2,4-トリアジン-3-イル、特にピリジル、フラニルおよびチエニルである。
本発明による方法の特に好ましい実施形態においては、
置換基R1、R2およびR3はそれぞれ、それぞれの場合に単独でまたは組合わせて次の通り定義される：
R1は水素、アミノまたはC1-C4-アルキル、特に水素、アミノ、メチルまたはエチルであり;
R2は水素、C1-C4-アルキルまたはC1-C4-ハロアルキル、特に水素、メチル、ジフルオロメチル、ジフルオロクロロメチルまたはトリフルオロメチルであり;
R3は水素である。
置換基R1、R2およびR3はそれぞれ、それぞれの場合に単独でまたは組合わせて次の通り定義される：
R1は水素、アミノまたはC1-C4-アルキル、特に水素、アミノ、メチルまたはエチルであり;
R2は水素、C1-C4-アルキルまたはC1-C4-ハロアルキル、特に水素、メチル、ジフルオロメチル、ジフルオロクロロメチルまたはトリフルオロメチルであり;
R3は水素である。
本発明の方法によるさらに好ましい実施形態においては、X1、X2およびX3はそれぞれ酸素である。
Ar基は好ましくは式Ar-1の基：
［式中、Ra、Rb、RcおよびRdはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、C1-C4-アルキル、C1-C4-ハロアルキルまたはシアノであり；
*はC(X3)基とのArの結合を示し；そして
**は(チオ)ウラシル、ジチオウラシル基の窒素原子、またはイソ(チオ)シアナト基の窒素原子とのArの結合を示す］
である。
*はC(X3)基とのArの結合を示し；そして
**は(チオ)ウラシル、ジチオウラシル基の窒素原子、またはイソ(チオ)シアナト基の窒素原子とのArの結合を示す］
である。
特に好ましい本発明の実施形態においては、置換基Ra、Rb、RcおよびRdはそれぞれ、それぞれの場合に単独でまたは組合わせて次の通り定義される：
Raはハロゲン、シアノまたはC1-C4-ハロアルキル、特に弗素、塩素、シアノまたはトリフルオロメチルであり；
Rb、Rdはそれぞれ水素であり；
Rcは水素またはハロゲン、特に弗素、塩素または水素である。
Raはハロゲン、シアノまたはC1-C4-ハロアルキル、特に弗素、塩素、シアノまたはトリフルオロメチルであり；
Rb、Rdはそれぞれ水素であり；
Rcは水素またはハロゲン、特に弗素、塩素または水素である。
A基は一級または二級アミンから誘導されたものであって一般的に式-NR5R6の基であり、ここで置換基R5およびR6はそれぞれ独立して次の通り定義される：
R5およびR6は、それぞれ水素、C1-C10-アルキル、C2-C10-アルケニルまたはC2-C10-アルキニル［上記のそれぞれは、無置換であってもまたは次の基の１つにより置換されていてもよい：C1-C4-アルコキシ、C1-C4-アルキルチオ、CN、NO2、ホルミル、C1-C4-アルキルカルボニル、C1-C4-アルコキシカルボニル、C1-C4-アルキルアミノカルボニル、C1-C4-ジアルキルアミノカルボニル、C1-C4-アルキルスルフィニル、C1-C4-アルキルスルホニル、C3-C10-シクロアルキル、3〜8員のヘテロシクリル｛該ヘテロシクリルはO、S、NおよびNR7基（式中、R7は水素、C1-C6-アルキル、C3-C6-アルケニルまたはC3-C6-アルキニルである）からなる群から選択される1〜3個のヘテロ原子を有する｝、フェニル（該フェニルはそれ自体がハロゲン、C1-C4-アルキル、C1-C4-アルコキシ、C1-C4-フルオロアルキル、C1-C4-アルキルオキシカルボニル、トリフルオロメチルスルホニル、C1-C3-アルキルアミノ、C1-C3-ジアルキルアミノ、ホルミル、ニトロまたはシアノからなる群から選択される1、2、3または4個の置換基を有してもよい）］、
C1-C10-ハロアルキル、C2-C10-ハロアルケニル、C2-C10-ハロアルキニル、
C3-C8-シクロアルキル、C3-C10-シクロアルケニル、3〜8員のヘテロシクリル｛該ヘテロシクリルはO、S、NおよびNR7基（式中、R7は水素、C1-C6-アルキル、C3-C6-アルケニルまたはC3-C6-アルキニルである）からなる群から選択される1〜3個のヘテロ原子を有する｝、フェニルまたはナフチル［ここで上記C3-C8-シクロアルキル、C3-C10-シクロアルケニル、3〜8員のヘテロシクリル、フェニルまたはナフチルのそれぞれは、それ自体がハロゲン、C1-C4-アルキル、C1-C4-アルコキシ、C1-C4-フルオロアルキル、C1-C4-アルキルオキシカルボニル、トリフルオロメチルスルホニル、ホルミル、C1-C3-アルキルアミノ、C1-C3-ジアルキルアミノ、フェノキシ、ニトロまたはシアノからなる群から選択される1、2、3または4個の置換基を有してもよい］であるか；または
R5とR6は一緒に飽和または部分的不飽和の5〜8員窒素ヘテロ環を形成し、上記へテロ環は環原子として1または2個のカルボニル基、チオカルボニル基および／またはO、S、NおよびNR7基（式中、R7は水素、C1-C6-アルキル、C3-C6-アルケニルまたはC3-C6-アルキニルである）から選択される1または2個のさらなるヘテロ原子を有してもよいし、かつ上記へテロ環はC1-C4-アルキル、C1-C4-アルコキシおよび／またはC1-C4-ハロアルキルにより置換されていてもよい。
R5およびR6は、それぞれ水素、C1-C10-アルキル、C2-C10-アルケニルまたはC2-C10-アルキニル［上記のそれぞれは、無置換であってもまたは次の基の１つにより置換されていてもよい：C1-C4-アルコキシ、C1-C4-アルキルチオ、CN、NO2、ホルミル、C1-C4-アルキルカルボニル、C1-C4-アルコキシカルボニル、C1-C4-アルキルアミノカルボニル、C1-C4-ジアルキルアミノカルボニル、C1-C4-アルキルスルフィニル、C1-C4-アルキルスルホニル、C3-C10-シクロアルキル、3〜8員のヘテロシクリル｛該ヘテロシクリルはO、S、NおよびNR7基（式中、R7は水素、C1-C6-アルキル、C3-C6-アルケニルまたはC3-C6-アルキニルである）からなる群から選択される1〜3個のヘテロ原子を有する｝、フェニル（該フェニルはそれ自体がハロゲン、C1-C4-アルキル、C1-C4-アルコキシ、C1-C4-フルオロアルキル、C1-C4-アルキルオキシカルボニル、トリフルオロメチルスルホニル、C1-C3-アルキルアミノ、C1-C3-ジアルキルアミノ、ホルミル、ニトロまたはシアノからなる群から選択される1、2、3または4個の置換基を有してもよい）］、
C1-C10-ハロアルキル、C2-C10-ハロアルケニル、C2-C10-ハロアルキニル、
C3-C8-シクロアルキル、C3-C10-シクロアルケニル、3〜8員のヘテロシクリル｛該ヘテロシクリルはO、S、NおよびNR7基（式中、R7は水素、C1-C6-アルキル、C3-C6-アルケニルまたはC3-C6-アルキニルである）からなる群から選択される1〜3個のヘテロ原子を有する｝、フェニルまたはナフチル［ここで上記C3-C8-シクロアルキル、C3-C10-シクロアルケニル、3〜8員のヘテロシクリル、フェニルまたはナフチルのそれぞれは、それ自体がハロゲン、C1-C4-アルキル、C1-C4-アルコキシ、C1-C4-フルオロアルキル、C1-C4-アルキルオキシカルボニル、トリフルオロメチルスルホニル、ホルミル、C1-C3-アルキルアミノ、C1-C3-ジアルキルアミノ、フェノキシ、ニトロまたはシアノからなる群から選択される1、2、3または4個の置換基を有してもよい］であるか；または
R5とR6は一緒に飽和または部分的不飽和の5〜8員窒素ヘテロ環を形成し、上記へテロ環は環原子として1または2個のカルボニル基、チオカルボニル基および／またはO、S、NおよびNR7基（式中、R7は水素、C1-C6-アルキル、C3-C6-アルケニルまたはC3-C6-アルキニルである）から選択される1または2個のさらなるヘテロ原子を有してもよいし、かつ上記へテロ環はC1-C4-アルキル、C1-C4-アルコキシおよび／またはC1-C4-ハロアルキルにより置換されていてもよい。
好ましい置換基R5およびR6はそれぞれ独立して水素、C1-C6-アルキル｛該C1-C6-アルキルは任意にハロゲン、シアノ、C1-C4-アルコキシ、C1-C4-アルコキシカルボニル、C1-C4-アルキルチオ、C3-C8-シクロアルキル、フェニル（該フェニルはそれ自体が任意にハロゲンまたはC1-C4-アルコキシにより置換されている）、フリル、チエニルまたは1,3-ジオキソラニルからなる群から選択される置換基に置換されている｝である。
さらなる好ましい置換基R5およびR6は、C2-C6-アルケニル、C2-C6-アルキニル、C3-C8-シクロアルキルまたはフェニル（該フェニルは任意に、ハロゲン、C1-C4-アルキル、C1-C4-フルオロアルキル、C1-C4-アルコキシ、C1-C4-アルコキシカルボニル、ニトロまたはC1-C3-ジアルキルアミノから選択される1または2個の置換基により置換されている）、ナフチルまたはピリジルである。
さらなる好ましい実施形態においては、R5とR6は一緒に5、6または7員の飽和または不飽和の窒素へテロ環を形成し、上記へテロ環は環原子としてN、OおよびNR7基（式中、R7は水素、C1-C6-アルキル、C3-C6-アルケニルまたはC3-C6-アルキニルである）から選択されるさらなるヘテロ原子を含んでもよいし、および／または上記へテロ環はC1-C4-アルキルおよびC1-C4-ハロアルキルから選択される1、2または3個の置換基により置換されていてもよい。
本発明による方法の特に好ましい実施形態においては、R5またはR6基の１つは水素、C1-C6-アルキル、C2-C6-アルケニルまたはC2-C6-アルキニルでありかつその他のR5またはR6基はC1-C6-アルキル、C3-C8-シクロヘキシルまたはフェニルである。
従って、本発明は特に、ArがAr-1である一般式Iで表わされる3-フェニル(チオ)ウラシル類または3-フェニルジチオウラシル類を調製する方法に関する。これらの化合物は次のIA：
を意味する。
置換基R1、R2、R3、Ra、Rb、Rc、Rd、X1、X2、X3およびAは先に定義した通りである。
本発明の方法は、式IIA：
［式中、X1、X3は独立して酸素または硫黄であり；
Ra、Rb、RcおよびRdはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、シアノ、C1-C4-アルキルまたはC1-C4-ハロアルキルであり；そして
Aは先に定義した通りであり；そして
特にNR5R6基（式中、R5およびR6はそれぞれ先の定義、特に、好ましいまたはさらに好ましいと記載された定義を有する）である］
のフェニルイソ(チオ)シアネートの転化を含むものである。
Ra、Rb、RcおよびRdはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、シアノ、C1-C4-アルキルまたはC1-C4-ハロアルキルであり；そして
Aは先に定義した通りであり；そして
特にNR5R6基（式中、R5およびR6はそれぞれ先の定義、特に、好ましいまたはさらに好ましいと記載された定義を有する）である］
のフェニルイソ(チオ)シアネートの転化を含むものである。
特に本発明は、3-フェニル(チオ)ウラシル類または3-フェニルジチオウラシル類IA
［ここで、AはNR5R6であり；そして
置換基R1、R2、R3、Ra、Rb、Rc、Rd、X1、X2およびX3はそれぞれ独立して、しかし好ましくはお互いに組合わせて、次の通り定義される：
R1は水素、アミノまたはC1-C4-アルキル、特に水素、アミノ、メチルまたはエチルであり；
R2は水素、C1-C4-アルキルまたはC1-C4-ハロアルキル、特に水素、メチル、ジフルオロメチル、ジフルオロクロロメチルまたはトリフルオロメチルであり；
R3は水素であり；
Raはハロゲン、シアノまたはC1-C4-ハロアルキル、特に弗素、塩素、シアノまたはトリフルオロメチルであり；
Rb、Rdはそれぞれ水素であり；
Rcは水素またはハロゲン、特に弗素、塩素または水素であり；
X1、X2およびX3はそれぞれ酸素である］
を調製する方法に関する。
［ここで、AはNR5R6であり；そして
置換基R1、R2、R3、Ra、Rb、Rc、Rd、X1、X2およびX3はそれぞれ独立して、しかし好ましくはお互いに組合わせて、次の通り定義される：
R1は水素、アミノまたはC1-C4-アルキル、特に水素、アミノ、メチルまたはエチルであり；
R2は水素、C1-C4-アルキルまたはC1-C4-ハロアルキル、特に水素、メチル、ジフルオロメチル、ジフルオロクロロメチルまたはトリフルオロメチルであり；
R3は水素であり；
Raはハロゲン、シアノまたはC1-C4-ハロアルキル、特に弗素、塩素、シアノまたはトリフルオロメチルであり；
Rb、Rdはそれぞれ水素であり；
Rcは水素またはハロゲン、特に弗素、塩素または水素であり；
X1、X2およびX3はそれぞれ酸素である］
を調製する方法に関する。
本発明による方法は、式IIのフェニルイソ(チオ)シアネートと式IIIのエナミンとの、式I（ここでR1＝R1a）の3-フェニル(チオ)ウラシル類または3-フェニルジチオウラシル類を得るための反応；および適切な場合には、さらなるステップにおいて、得られる式I（ここでR1＝R1a、R1が水素であるとき）の3-フェニル(チオ)ウラシルまたは3-フェニルジチオウラシルと式IVのアミノ化剤との、式I（ここでR1＝アミノ）の3-フェニル(チオ)ウラシル類または3-フェニルジチオウラシル類を得るための反応を含んでなる。
一般的に、エナミンIIIを塩基の存在のもとでフェニルイソ(チオ)シアネートIIと反応させる。
有用な塩基は全ての慣用の有機および無機塩基である。好適な無機塩基としては、例えば、アルカリ金属およびアルカリ土類金属炭酸塩、例えば炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸カルシウム、アルカリ金属およびアルカリ土類金属水素化物、例えば水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムまたは水素化カルシウムが挙げられる。
好適な有機塩基としては、アルカリ金属およびアルカリ土類金属アルコキシド、例えばリチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、カルシウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カルシウムエトキシド、ナトリウムn-プロポキシドまたはイソプロポキシド、カリウムn-プロポキシドまたはイソプロポキシド、ナトリウムn-ブトキシド、イソブトキシド、sec-ブトキシドまたはtert-ブトキシド、カリウムn-ブトキシド、イソブトキシド、sec-ブトキシドまたはtert-ブトキシド、ナトリウムn-ペントキシド、イソペントキシド、sec-ペントキシドまたはtert-ペントキシド、カリウムn-ペントキシド、イソペントキシド、sec-ペントキシドまたはtert-ペントキシド（＝tert-アミラート）、三級アミン、例えばトリブチルアミン、ピリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン(DBU)、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ-5-エン(DBN)または1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)が挙げられる。
好適な塩基はまた、有機リチウム化合物、例えばn-ブチルリチウム、sec-ブチル-リチ
ウム、フェニルリチウムおよびアルカリ金属アミド、例えばリチウムジイソプロピルアミドおよびナトリウム(ビス(トリメチルシリル))アミドである。同じく好適なのはフッ化セシウムおよびまたアルカリ金属およびアルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウムである。好ましい塩基はアルカリ金属アルコキシド、特に上記C1-C5-アルカノールのリチウム、ナトリウムおよびカリウムアルコキシド、上記アルカリ金属水素化物、アルカリ金属炭酸塩およびアミジン塩基である。特に好ましい本発明による方法の実施形態において使用される塩基は水素化ナトリウムまたはカリウムメトキシドである。
ウム、フェニルリチウムおよびアルカリ金属アミド、例えばリチウムジイソプロピルアミドおよびナトリウム(ビス(トリメチルシリル))アミドである。同じく好適なのはフッ化セシウムおよびまたアルカリ金属およびアルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウムである。好ましい塩基はアルカリ金属アルコキシド、特に上記C1-C5-アルカノールのリチウム、ナトリウムおよびカリウムアルコキシド、上記アルカリ金属水素化物、アルカリ金属炭酸塩およびアミジン塩基である。特に好ましい本発明による方法の実施形態において使用される塩基は水素化ナトリウムまたはカリウムメトキシドである。
一般的に0.9〜6、好ましくは0.9〜3、特に1.0〜3そして最も好ましくは1.8〜2.6当量の塩基を、式IIのフェニルイソ(チオ)シアネート1モル当たりに用いる。
式IIIのエナミンは、式IIのフェニルイソ(チオ)シアネートに基づいて化学量論未満の量、化学量論当量、または化学量論を超える量を用いることができる。一般的に、式IIIのエナミンの0.9〜1.3mol、好ましくは0.95〜1.15molを式IIのフェニルイソ(チオ)シアネート1モル当たりに用いる。
式IIのフェニルイソ(チオ)シアネートを、典型的には溶媒または希釈液中の式IIIのエナミンと反応させる。このために利用しうる溶媒は、全ての不活性な、有機溶媒または溶媒混合物である。これらの反応に使用する溶媒は、温度域に応じて、脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、シクロペンタン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、塩素化炭化水素、例えばジクロロメタン、トリクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2,2-テトラクロロエタン、クロロベンゼン、1,2-、1,3-もしくは1,4-ジクロロベンゼン、エーテル、例えばテトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、アニソール、グリコールエーテル、例えばジメチルグリコールエーテル、ジエチルグリコールエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エステル、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸n-ブチル、イソ酪酸メチル、酢酸イソブチル、炭酸塩、例えば炭酸ジメチル、炭酸ジエチルおよび炭酸エチレン、カルボキサミド、例えばN,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ニトロ炭化水素、例えばニトロベンゼン、テトラアルキル尿素、例えばテトラエチル尿素、テトラブチル尿素、ジメチルエチレン尿素、ジメチルプロピレン尿素、ニトリル、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリルまたはイソブチロニトリル、スルホキシド、例えばジメチルスルホキシド、または上述の溶媒の混合物である。
塩基が溶媒特性を有する限り、ピリジンおよびトリブチルアミンのように、塩基または塩基と上記溶媒の１つとの混合物もIIとIIIとの反応に対する溶媒または希釈液として利用することができる。
特に好ましいのは、色々な非プロトン極性溶媒の混合物、および色々な非プロトン極性溶媒と非プロトン非極性溶媒との混合物を含んでなる非プロトン極性溶媒系である。かかる溶媒系中の極性非プロトン溶媒の比率は、少なくとも50容積％、好ましくは少なくとも75容積％、特に少なくとも85容積％である。好ましい非プロトン極性溶媒は、上記脂肪族C1-C4-カルボン酸のN,N-ジメチルアミド、例えばN,N-ジメチルホルムアミドおよびN,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルラクタム、例えばN-メチルピロリドン、炭酸塩、例えば炭酸ジメチル、炭酸ジエチルおよび炭酸エチレン、ニトリル、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリルおよびイソブチロニトリル、スルホキシド、例えばジメチルスルホキシド、環状エーテル、例えばテトラヒドロフランおよびジオキサン、エステル、例えば酢酸エチル、n-ブチル酢酸塩またはそれらの混合物、そして好ましくはこれらのなかでもジメチルカルボキサミドである。
ある好ましい実施形態においては、少なくとも１つの非プロトン極性溶媒を単独の溶媒系（全容積に基づいて99容積％を超える）、例えばN,N-ジメチルホルムアミドおよびテトラヒドロフランの混合物として用いる。本発明のさらなる好ましい実施形態においては、非プロトン極性溶媒に加えて、特に、特に好ましい非プロトン極性溶媒に加えて、0.5〜25容積％の少なくとも１つの非プロトン非極性溶媒、特に少なくとも１つの芳香族または脂肪族炭化水素、特にトルエンまたはヘキサンを含む溶媒系を用いる。従って、この混合物中の非プロトン極性溶媒の比率は75.0〜99.5容積％である。好ましい非プロトン非極性溶媒は脂肪族炭化水素、例えばn-ヘキサン、イソヘキサン（工業用ヘキサン混合物）、n-ヘプタン、デカン、石油エーテル、脂環式炭化水素、例えばシクロヘキサンおよび芳香族炭化水素、例えばトルエン、ベンゼンまたはキシレンである。
諸研究は、目的の生成物Iの収率は反応混合物中に痕跡の水が存在すると低下することを示している。本発明による方法のある好ましい実施形態においては、使用する物質を、非プロトン極性溶媒中の水含量が反応物II、反応物IIIおよび溶媒の全量に基づいて0.5重量％以下、しばしば0.2重量％以下、好ましくは0.05重量％以下、そして特に0.02重量％以下の水の程度になるまで乾燥する。水の定量は、化学的に、例えばKarl-Fischer滴定により、または物理的に、例えば比誘電率の測定もしくは定量HPLCにより実施することができる。
ある好ましい実施形態においては、従って、本発明による方法はまた、使用する化学品を乾燥するための溶媒または希釈液および／または反応物の前処理を含む。溶媒を乾燥する方法は有機合成の技術分野の業者に公知であり、例えば乾燥剤を用いて行う。
好ましい方法には共沸乾燥が含まれる。共沸乾燥においては、乾燥する物質を化学品と混合して水（共沸剤）との共沸混合物を形成させ、次いで水性共沸混合物を蒸留により取り除く。典型的な共沸剤は有機溶媒である。これらの例は、炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ペンタンまたはヘキサン、塩素化芳香族、例えばクロロベンゼンおよび脂肪族カルボン酸のアルキルエステル、例えば酢酸エチルおよび酢酸n-ブチルである。
ある好ましい実施形態においては、エナミンIIIを最初に非プロトン極性溶媒もしくは希釈液、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド中に装入する。次いで、この目的に好適な共沸剤を、非プロトン極性溶媒または希釈液に基づいて、20〜200容積％、好ましくは50〜150容積％、そして特に80〜130容積％だけ加え、そしてその混合物を共沸により乾燥する。所要乾燥時間は当然、使用する物質の水含量、バッチサイズおよび使用する装置に依存し、当業者は日常の方法により決定することができる。最後に、エナミンIIIを、以下に記載の要領でフェニルイソ(チオ)シアネートIIと反応させる。
本発明による方法において、反応物と試薬は原則としていずれの順序で組合わせてもよい、すなわち反応物と塩基を別々に同時にまたは続けて反応容器中に導入して反応させてもよい。全ての変法において、上記溶媒または溶媒混合物の１つに希釈したエナミンIII、塩基および／またはフェニルイソ(チオ)シアネートIIを反応させることが好ましい。
有利なのは、エナミンIIIを最初に装入し、そして塩基を反応混合物に混合しながら、例えば攪拌しながら加えることである。塩基を加えるときの反応温度は、使用する塩基の反応性に依存する。一般的に、反応温度は-20℃〜80℃の範囲である。攪拌を上記温度またはより高い温度で続行して反応を完了させることが有利である。当業者は所要の反応時間を日常の方法により決定することができる。
有利なのは、塩基をエナミンIIIに加えることである。一般的に、塩基の添加は温度制御下で行う。例えば、アルカリ金属またはアルカリ土類金属水素化物をエナミンIIIに、好ましくは-20℃〜20℃の温度範囲内で加え、そしてこの温度範囲内で攪拌してエナミンの脱プロトンを完了させる。アルカリ金属またはアルカリ土類金属炭酸塩を用いる場合、塩基をエナミンIIIに、一般的に50℃以下、特に45℃以下、例えば、20℃〜50℃の範囲の温度で加え、80℃以下の温度で、例えば、35〜80℃で攪拌を続行する。アルカリ金属とアルカリ土類金属アルコキシドを用いる場合、塩基をとりわけ-20℃〜50℃、有利なのは-15℃〜20℃の温度で加え、そして攪拌を-10℃〜80℃の温度で続行する。その後、フェニルイソ(チオ)シアネートIIを加えて、反応を完了に導く。
アルカリ金属またはアルカリ土類金属アルコキシドまたは炭酸塩を用いる場合、塩基も乾燥した極性溶媒中に最初に装入して次いでエナミンIIIを上記乾燥した極性溶媒の１つまたは溶媒混合物に加えてもよく、または先に記載したように共沸により乾燥してもよく、次いでフェニル-イソ(チオ)シアネートIIを加える。あるいは、化合物IIとIIIを最初に、上記乾燥した極性溶媒の１つまたは溶媒混合物中の混合物として装入し、次いで塩基を上記乾燥した溶媒または溶媒混合物中に加える。本発明による方法の１つのさらなる変法においては、塩基を最初に上記乾燥した溶媒または溶媒混合物中に装入し、次いで化合物IIおよびIIIの混合物を上記乾燥した溶媒の１つまたは溶媒混合物に加える。
反応は、塩基を上記乾燥した溶媒の１つまたは溶媒混合物中の式IIIのエナミンに加えるやり方で行うのが好ましい。攪拌を続行した後に、フェニルイソ(チオ)シアネートIIを上記乾燥した溶媒の１つまたは溶媒混合物中に加えて、反応を続行する。
塩基の存在のもとでのフェニルイソ(チオ)シアネートIIとエナミンIIIとの反応に対する反応温度は、一般的に-20〜80℃の範囲にある。
アルカリ金属またはアルカリ土類金属水素化物を塩基として用いる場合、
フェニルイソ(チオ)シアネートIIは一般的に、-20℃〜20℃、好ましくは-5〜10℃の温度で塩基とエナミンIIIの混合物に加え、次いで攪拌を50℃まで、例えば、20〜50℃の温度で続行する。
フェニルイソ(チオ)シアネートIIは一般的に、-20℃〜20℃、好ましくは-5〜10℃の温度で塩基とエナミンIIIの混合物に加え、次いで攪拌を50℃まで、例えば、20〜50℃の温度で続行する。
アルカリ金属およびアルカリ土類金属アルコキシドを用いる場合、フェニルイソ(チオ)シアネートIIを典型的には-20℃〜20℃、好ましくは-15℃〜10℃の温度で塩基とエナミンIIIの混合物に加え、そして攪拌を80℃以下、例えば、0〜80℃で続行する。
アルカリ金属およびアルカリ土類金属炭酸塩を用いる場合、フェニルイソ(チオ)シアネートIIを典型的には塩基とエナミンIIIの混合物に50℃以下、例えば、20〜50℃で加え、そして反応を完了させるために、攪拌を次いで80℃以下、例えば、20〜80℃、好ましくは40〜80℃で続行する。所望の転化を達成するのに要する反応時間は、当業者が日常用いる方法により決定することができる。
反応は大気圧で、そして減圧下または加圧下でも、連続式でまたは回分式で実施することができる。一般的に、反応を窒素などの保護ガス雰囲気下で実施することが有利である。
標的生成物を回収するための仕上げは、この目的に対する慣用的な方法により行うことができる。このためには、塩基性反応混合物を一般的に≦4、特に≦2のpHに、酸を加えることにより調節し、次いで化合物Iの結晶化または沈降を水を加えることにより起こさせうる。また酸と水の添加も同時に、例えば水で希釈した酸を加えることにより行うことができる。原則として、反応混合物はまた、水抽出により、例えば、アルカリ性反応混合物を中和した後、適切な場合には、大部分の溶媒を取り除いた後にそれを水と水非混和性有機溶媒との間に分配し、次いで化合物Iを有機相から単離することにより、仕上げることもできる。これらの方法に次いで、さらなる精製のステップ、例えば、沈降、結晶化および／または抽出ステップを行うことができる。
本発明による方法を行うための反応物として必要な式IIIのエナミンは公知の化合物であり、そして／または公知の方法と類似の様式で調製することができる（例えば、A. LutzおよびS. Troto、J. of Heterocyclic Chem. 1972, 9, 3, 513-522）。
式IIのフェニルイソ(チオ)シアネートとその調製方法は、先のドイツ特許出願102 50 614.0の主題であり、その開示内容は参照により本明細書に組み入れられる。この方法は、化合物VI：
［式中、X3、ArおよびAは先に定義した通りである］
とホスゲン化剤、例えばホスゲン、チオホスゲンまたはジホスゲンとの高収率かつ高純度の反応を含んでなる。
とホスゲン化剤、例えばホスゲン、チオホスゲンまたはジホスゲンとの高収率かつ高純度の反応を含んでなる。
化合物VIを、典型的には、ホスゲン化剤と不活性有機溶媒中で反応させる。これらの反応に有用な溶媒は、温度範囲に応じて、炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、シクロペンタン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、塩素化炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、1,1,2,2-テトラクロロエタン、クロロベンゼン、1,2-、1,3-または1,4-ジクロロベンゼン、エーテル、例えば1,4-ジオキサン、アニソール、グリコールエーテル、例えばジメチルグリコールエーテル、ジエチルグリコールエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エステル、例えば酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸n-ブチル、イソ酪酸メチル、酢酸イソブチル、カルボキサミド、例えばN,N-ジメチル-ホルムアミド、N-メチルピロリドン、炭酸塩、例えば炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチレン、ニトロ化炭化水素、例えばニトロベンゼン、テトラアルキル尿素、例えばテトラエチル尿素、テトラブチル尿素、ジメチルエチレン尿素、ジメチルプロピレン尿素、ニトリル、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリルまたはイソブチロニトリル、または個々の溶媒の混合物である。
ホスゲンを用いる場合、実質的にプロトン性不純物、例えば水およびアルコールを除去しておいた溶媒を用いることが好ましい。しかし、イソチオシアネートを調製する場合、Houben-Weyl、「有機化学の方法（Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry]）」、4th edition、vol. IX、p.875に基づいて、IIとチオホスゲンとの反応を水と水非混和性溶媒からなる二相系でまたはそうでなく水中で行うことも可能である。
反応温度は一般的に180℃以下、好ましくは120℃以下、特に100℃以下、そして一般的に40℃以上、好ましくは50℃以上であろう。多くの場合、その手順は、少なくとも大部分のホスゲン化剤を低い温度、例えば、0〜40℃、特に10〜40℃、そしてとりわけ20〜30℃で加え、そして添加中または添加後に、転化が完了するまで、温度を40〜180℃、特に50〜120℃、そしてとりわけ70〜100℃に加熱することになろう。
一般的に、0.9〜2、好ましくは0.95〜1.5、さらに好ましくは0.98〜1.09モル当量のホスゲン化剤を、化合物VIの1モル当たりに使用する。
適切な場合には、VIの転化を塩基の存在のもとで行う。有用な塩基は、例えば、塩基性無機化合物、例えば、アルカリ金属またはアルカリ土類金属水酸化物、水素炭酸塩または炭酸塩である。しかし、反応はまた、有機塩基、例えば、三級アミン、例えばトリエチルアミン、トリ-n-プロピルアミン、N-エチルジイソプロピルアミン、トリ-n-ブチルアミン、ピリジン、α-、β-、γ-ピコリン、2,4-、2,6-ルチジン、N-メチルピロリジン、ジメチルアニリン、N,N-ジメチル-シクロヘキシルアミン、キノリンまたはアクリジンの存在のもとで行うこともできる。塩基（塩基当量として計算した）は化合物VIに基づいて化学量論未満の量、化学量論を超える量、または化学量論当量で用いることができる。化合物VIの1モル当たり、一般的に0.01〜6mol、好ましくは0.1〜3molの塩基を使用する。
本方法の他の実施形態においては、反応を塩化水素の存在のもとで行う。その際、塩化水素の量は典型的には、化合物VIの1モル当たり0.9〜5.0mol、好ましくは1.0〜2.5molそして特に1.0〜1.2molの塩化水素である。一般的な手順としては、最初に、化合物VIを含有する上記溶媒の1つの溶液または懸濁液中に上記の量の塩化水素ガスを導入するかまたは塩化水素の溶媒中の溶液を加え、次いで、上記のやり方でホスゲン化剤を加え、次いで反応を上記のやり方で続行する。塩化水素は、典型的には10℃〜60℃の温度、好ましくは20〜30℃にて導入する。
本方法を塩化水素の存在のもとで行う場合、活性炭を触媒として用いることができる。適当な活性炭の量は、化合物VIの重量に基づいて、1〜10重量％、好ましくは1〜3重量％である。
一般式VIの化合物も同様に、先のドイツ特許出願DE 102 50 614.0に開示されている。式VIの化合物は、アニリンを調製するための公知の方法と類似の様式により取得することができる。
式 VIのアニリン化合物は、例えば、スキーム１に従って、最初に式VIIのアロイル化合物を硫酸ジアミドVIIIと縮合反応で反応させて式IXのN-アロイル硫酸ジアミドを得て、次いで得られるN-アロイル硫酸ジアミドIXを還元して化合物VIを得ることにより調製することができる。
スキーム１において、置換基A、ArおよびX3は先に定義した通りである。対応する一般式IXのベンゾイルスルファミドを得る一般式VIIのアロイル化合物と一般式VIIIの硫酸ジアミドとの縮合は、例えば、WO 01/83459、p.31-35（PCT/EP 03/0512）に記載の公知の手順（本開示内容は参照により本明細書に組み入れられる）に基づく。
ニトロ化合物IXのアニリンVIへの還元は、例えば、発生期水素によって進行する。この目的で、ニトロ化合物IXを塩基性金属の存在のもとで酸と反応させる。塩基性金属は、その特性によりブレンステッド（Broensted）酸によって水素を放出して溶解する金属である。かかる金属は、一般的に、＜0 V、特に-0.1 V以下、例えば、-0.1〜-1.0 V（酸性水溶液中で15℃および1barにて）の範囲の標準ポテンシャルを有する。好適な金属の例はZn、FeおよびSn、特にFeである。この目的に有用な酸は、無機鉱酸、例えば、塩酸または希硫酸、または無機酸と不活性溶媒の混合物、例えば、エーテルもしくはアルコールまたはそれらの混合物中のHClガス、または有機カルボン酸、適当なのは酢酸、プロピオン酸または酪酸である。
有用な還元剤はまた、金属水素化物および半金属水素化物、例えば水素化アルミニウムおよびそれから誘導される水素化物、例えば水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、ホウ水素化物、例えばジボランおよびそれから誘導されるホウ水素化物、例えばホウ水素化ナトリウムまたはホウ水素化リチウムである。この目的のためには、ニトロ化合物IXを不活性溶媒中で金属錯体水素化物と10〜65℃、有利なのは20〜50℃にて接触させる。
化合物IXを化合物VIに転化するためのさらなる好適な還元剤は、触媒量の遷移金属または遷移金属化合物、特に8族遷移金属の存在のもとでの水素である。
化合物IXの化合物VIへの還元はまた、硫化ナトリウムを使用し、有利なのは、アンモニア水溶液中で塩化アンモニウムの存在のもとで、Org.Syn.、Coll.Vol.、3、82(1955)に記載の方法によって実施することもできる。
スキーム１で使用するアロイル化合物VIIは、先行技術の方法により得ることができるしまたは公知の、例えば、US 6,251,829、EP 415 641、EP 908 457、EP 1176133およびWO 01/087872による方法に基づいて調製することができる。
本発明による方法によって、目的のIの高収率かつ優れた純度での調製が可能になり、複雑な精製法は必要でない。本発明による方法は、従って、先行技術から公知の方法より簡単かつより経済的に成立しうる様式で実施することができる。反応をエナミンIII［R1aは例えば、C1-C6-アルキル、特にメチルである］を用いて行うと、WO 01/83459に記載の化合物を、高収率かつ純度で直接取得することができる。
本発明はさらに、本発明の方法により得られる化合物I（R1＝水素）と、
(A)式IV：
(A)式IV：
［式中、L1は求核置換しうる脱離基、好ましくはハロゲン、硫酸水素、C1-C6-アルキルスルホニルオキシ、C1-C6-ハロアルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシまたはフェニルオキシ（ここでフェニル環は任意にハロゲン、ニトロ、C1-C6-アルキルまたはC1-C6-ハロアルキルによりモノまたは多置換されている）、さらに好ましくはハロゲン、硫酸水素、C1-C6-アルキルスルホニルオキシ、C1-C6-ハロアルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキシ、p-クロロフェニルスルホニルオキシ、p-ブロモフェニルスルホニルオキシまたはp-ニトロフェニルスルホニルオキシ、とりわけ好ましくは塩素、メチルスルホニルオキシ、トリフルオロメチルスルホニルオキシまたはフェニルスルホニルオキシである］のアミノ化剤との
式I［式中、置換基R2、R3、X1、X2、X3、ArおよびAはそれぞれ先に定義した通りであり、そして好ましくは、好ましい定義を有し、そしてR1はアミノである］の化合物を得るための、または
(B) 式V：
式I［式中、置換基R2、R3、X1、X2、X3、ArおよびAはそれぞれ先に定義した通りであり、そして好ましくは、好ましい定義を有し、そしてR1はアミノである］の化合物を得るための、または
(B) 式V：
［式中、R1bはC1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキル、C3-C7-シクロアルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニルまたはC3-C6-ハロアルキニル、そして好ましくはC1-C6-アルキル、非常に好ましくはC1-C4-アルキルであり；そしてL2は求核置換しうる脱離基、好ましくはハロゲン、硫酸水素、C1-C6-アルキルスルホニルオキシ、C1-C6-ハロアルキルスルホニルオキシまたはフェニルオキシ（フェニル環は任意にハロゲン、ニトロ、C1-C6-アルキルまたはC1-C6-ハロアルキルによりモノまたは多置換されている）、さらに好ましくはハロゲン、硫酸水素、C1-C6-アルキルスルホニルオキシ、C1-C6-ハロアルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキシ、p-クロロフェニルスルホニルオキシ、p-ブロモフェニルスルホニルオキシまたはp-ニトロフェニルスルホニルオキシ、とりわけ好ましくは塩素、メチルスルホニルオキシ、トリフルオロメチルスルホニルオキシまたはフェニルスルホニルオキシである］のアルキル化剤との
一般式I［式中、置換基R2、R3、X1、X2、X3、ArおよびAは先に定義した通りであり、そして好ましくは、好ましい定義を有し、そしてR1はR1bに対して定義された通りである］の化合物を得るための反応を提供する。
一般式I［式中、置換基R2、R3、X1、X2、X3、ArおよびAは先に定義した通りであり、そして好ましくは、好ましい定義を有し、そしてR1はR1bに対して定義された通りである］の化合物を得るための反応を提供する。
化合物IをR1を用いてアルキル化またはアミノ化する方法は、対応するN-アルキルスルホンアミドもしくはN-アルキルスルホンアミドの混合物またはN-アルキル-置換された(チオ)ウラシル類もしくはジチオウラシル類の生成が予想されうるのものであったので、実に意外である。硫酸ジアミドは簡単なやり方で、硫酸ジエステルまたはアレンスルホン酸エステルを用いて塩基の存在のもとでアルキル化されることは公知である（例えば、R. Sowada、J. Prakt. Chem. 25、88 (1964)を参照）。三置換硫酸ジアミドの場合に、四置換硫酸ジアミドの生成は公知である（B. Unterhalt、E. Seebach、Arch. Pharm. 314、51 (1981)を参照）。アミド官能基が既にアシル基を保持する硫酸ジアミドもアルキル化することができる（K. C. C. Bancroft ら、J. Heterocycl. Chem. 15、1521 (1978)；A. Martinez ら、Bioorg. Med. Chem. Lett. 9 (21)、3133 (1999)を参照）。従って、当業者は、スルファミド側鎖のアルキル化が容易であるので、スルホンアミド窒素原子上の優先的なアルキル化または少なくともジアルキル化生成物の形成を予想していたであろう。
(チオ)ウラシル環またはジチオウラシル類環上のアミノ基の導入は、実に意外なことに、ウラシル窒素上のアミノ基を導入するための公知の方法に基づいて達成される。かかる方法は、例えば、DE 196 52431（求電子アミノ化に関する本開示内容はその全てが本明細書に参照により組み入れられる）に記載されている。式IVの好適なアミノ化試薬としては、例えば、1-アミノオキシ-2,4-ジニトロベンゼンまたはO-メシチレンスルホニルヒドロキシルアミンが挙げられる。
適切な場合には、転化は、塩基の存在のもとで実施する。有用な塩基は全ての慣用の無機または有機塩基である。好適な塩基は、例えば、IIとIIIとの反応による化合物Iの調製に関係して記載した塩基である。好ましい塩基は、アルカリ金属アルコキシド、特にナトリウム、リチウム、またはカリウムアルコキシド、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、リチウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムtert-ペントキシド、アルカリ金属水素化物、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム、アルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムまたは三級アミン、特にアミジン塩基、例えば1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エンである。一般的に、化合物I（ここでR1＝水素）と塩基は、ほぼ等モル量を使用する。
化合物I（ここでR1＝水素）と式IVのアミノ化試薬との反応は一般的に不活性有機溶媒または溶媒混合物中で実施する。この目的に好ましい溶媒は、ニトリル、例えばアセトニトリル、プロピオニトリルまたはブチロニトリル、ケトン、例えばアセトンおよびメチルエチルケトン、炭酸塩、例えば炭酸ジメチル、炭酸ジエチルおよび炭酸エチレン、ならびにまた、アミド、例えばN,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドおよびN-メチルピロリドンである。また好適であるのは、塩基性有機溶媒、例えば、上記三級アミン、例えばトリアルキルアミンおよびピリジン化合物である。
一般的に、反応は0〜80℃、好ましくは10〜60℃の温度にて実施しうる。この目的に対しては、一般的に化合物I（ここでR1＝水素）と式IVのアミノ化試薬をほぼ当モル量で使用する。しかし、成分の１つを大過剰で使用することも可能であり、その場合、上記過剰は、不足量で存在する成分に基づいて好ましくは50mol％以下でありうる。
得られる反応混合物の仕上げは公知の方法、例えば、水抽出仕上げによって実施する。この方法でフェニル(チオ)ウラシル類およびフェニルジチオウラシル類I（ここで、R1＝NH2）を簡単かつ経済的に成立しうる方法で調製することができる。
本発明による方法のさらなる変法においては、式IIIのエナミン（ここでR1a＝水素）を最初に過剰の塩基の存在のもとで式IIのフェニルイソ(チオ)シアネートと反応させ、その際、化合物I（ここでR1＝水素）を単離または精製しない。その後、反応混合物を一般式IVのアミノ化剤と混合して、化合物I（ここでR1＝アミノ）を直接、取得する。
化合物Iのフリーな(チオ)ウラシル窒素原子上のN-アルキル化は、ウラシル類に対して公知の、化合物I（ここでR1＝水素）とアルキル化剤R1b-L2(V)との反応による方法、例えば、US4,943,309（そのアルキル化に関する開示内容はその全てが参照により組み入れられる）に記載の方法で達成される。
好適な求核置換しうる脱離基L2の例は、ハロゲン化物、好ましくは塩化物、臭化物、ヨウ化物、硫酸塩、フェニルスルホニルオキシ（ここでフェニル基は任意にハロゲン、ニトロまたはC1-C6-アルキルによりモノもしくは多置換されている）、例えばフェニルスルホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキシ、p-クロロフェニルスルホニルオキシ、p-ブロモフェニル-スルホニルオキシまたはp-ニトロフェニルスルホニルオキシ、C1-C6-アルキルスルホニルオキシ、例えばメチルスルホニルオキシ、C1-C6-ハロアルキルスルホニルオキシ、例えばトリフルオロメチルスルホニルオキシである。
R1bは好ましくはC1-C4-アルキルである。
好ましいアルキル化剤は従って、C1-C4-アルキルハロゲン化物、ジ-C1-C4-アルキル硫酸エステル、C1-C4-アルキルフェニルスルホン酸エステル（ここでフェニルは任意にハロゲン、ニトロまたはC1-C6-アルキルによりモノもしくは二置換されている）である。特に好ましいアルキル化剤は、メチル化剤またはエチル化剤、例えば硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、臭化メチル、塩化メチル、臭化エチル、塩化エチル、C1-C6-アルキルスルホン酸メチルもしくはエチルまたは上記フェニルスルホン酸のメチルもしくはエチルエステルである。非常に特に好ましいメチル化剤は硫酸ジメチルである。
本発明による方法において、アルキル化剤は化合物Iに基づいて等モル量でまたは化学量論未満の量でまたは化学量論を超える量で使用することができる。典型的には、化合物Iに基づいて少なくとも等モル量のアルキル化剤Vを使用する。一般的に、アルキル化剤Vに対して使用する化合物I（ここでR1＝水素）のモル比は、化合物I対アルキル化剤Vの比として1:1〜1:3、好ましくは1:1〜1:1.3の範囲にある。
典型的には、アルキル化を塩基の存在のもとで行う。有用な塩基は原則としてラクタム窒素原子を脱プロトン化できる全ての化合物である。好適な塩基は、例えば、IIとIIIとの反応による化合物Iの調製に関係して記載した塩基である。塩基は、好ましくはアルカリ金属およびアルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウム、アルカリ金属およびアルカリ土類金属酸化物、例えば酸化カルシウム、アルカリ金属およびアルカリ土類金属炭酸塩、例えば炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛または炭酸バリウムから選択される。本発明による方法の特に好ましい実施形態においては、使用する塩基は水酸化ナトリウムまたは炭酸カリウムである。
塩基は、化合物Iに基づいて化学量論未満の量でまたは化学量論を超える量でまたは等モル量で使用することができる。化合物Iに基づいて少なくとも等モル量を使用することが好ましい。塩基の量は一般的に、化合物Iの1mol当たり1.3mol以下であろう。
化合物I（ここでR1＝水素）と式Vのアルキル化剤との反応は、溶媒の存在のもとで行うのが有利である。これらの反応に有用な溶媒は、温度範囲に応じて、脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、シクロペンタン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、塩素化脂肪族および芳香族炭化水素、例えばジクロロメタン、トリクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2,2-テトラクロロエタン、クロロベンゼン、1,2-、1,3-または1,4-ジクロロベンゼン、クロロトルエン、ジクロロトルエン、開鎖ジアルキルエーテル、例えばジエチルエーテル、ジ-n-プロピルエーテル、ジ-n-イソプロピルエーテル、メチルtert-ブチルエーテル、環状エーテル、例えばテトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、アニソール、グリコールエーテル、例えばジメチルグリコールエーテル、ジエチルグリコールエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、C1-C4-アルコール、例えばメタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ブタノン、炭酸塩、例えば炭酸ジエチルおよび炭酸エチレン、N,N-ジアルキルアミド、例えばN,N-ジメチルホルムアミドまたはN,N-ジメチル-アセトアミド、N-アルキルラクタム、例えばN-メチルピロリドン、スルホキシド、例えばジメチルスルホキシド、テトラアルキル尿素、例えばテトラメチル尿素、テトラエチル尿素、テトラブチル尿素、ジメチルエチレン尿素、ジメチルプロピレン尿素またはこれらの溶媒の混合物である。好ましい溶媒はN,N-ジメチルホルムアミド、N-メチル-ピロリドン、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、トルエンまたはこれらの溶媒の混合物である。
化合物Iのアルキル化は、-5℃〜100℃の温度、好ましくは0℃〜80℃の温度そして特に20℃〜50℃の温度にて実施することが好ましい。反応時間は、当業者が日常の方法、例えば薄層クロマトグラフィまたはHPLCにより慣用の公知のやり方で決定することができる。
化合物I、アルキル化剤Vおよび塩基は別々に、同時に、または続けて加えることができる。
有利なことに、化合物I（R1≠水素）を調製する多段法をワンポット反応として行うこともできる。式IIのフェニルイソ(チオ)シアネートと式IIIのエナミンとの過剰塩基の存在のもとでの反応により最初にウラシル塩を生成させ、次いでこれを単離または精製せずにアルキル化剤と反応させる。その後、規定した温度範囲内で反応を進めて完了させる。
本発明による方法の他の変法においては、反応を、水相を多相系において、相間移動触媒、例えば四級アンモニウム塩またはホスホニウム塩の存在のもとで行うこともできる。好適な四級アンモニウム塩としては、テトラ(C1-C18)アルキルアンモニウムクロリド、ブロミド、フルオリドまたはテトラフルオロホウ酸塩、例えば塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、ヨウ化テトラブチルアンモニウム、テトラフルオロホウ酸テトラブチルアンモニウム、N-ベンジルトリ(C1-C18)アルキルアンモニウムクロリド、ブロミドまたはフルオリド、例えば塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、好ましくは臭化テトラブチルアンモニウムまたはヨウ化テトラブチルアンモニウムが挙げられる。好適なホスホニウム塩は、例えば、テトラフェニルホスホニウムクロリドまたはブロミド、テトラ(C1-C18)アルキルホスホニウムクロリドまたはブロミド、例えばテトラブチルホスホニウムブロミドである。一般的に、相間移動触媒は、化合物I（ここでR1＝水素）に基づいて20mol％以下、好ましくは1〜15mol％、そして特に2〜12mol％の量で使用する。
上記多相系には、水相と少なくとも１つの有機液相が含まれる。さらに、固相も反応の過程で生じうる。水相はアルカリ金属またはアルカリ土類金属水酸化物または炭酸塩の水溶液であることが好ましい。好適なアルカリ金属またはアルカリ土類金属水酸化物または炭酸塩については、先に記載した内容を意味する。特に、アルカリ金属またはアルカリ土類金属水酸化物、とりわけ水酸化ナトリウムを使用することが好ましい。有機相については、脂肪族、脂環式または芳香族、任意に、ハロゲン化炭化水素、環状または開鎖エーテルまたはそれらの混合物が好ましく、そして脂肪族、脂環式または芳香族、任意にハロゲン化炭化水素、環状または開鎖エーテルに関係して先に記載した内容を意味する。本発明による方法のある好ましい実施形態においては、多相系は水相として水酸化ナトリウム水溶液ならびに有機相としてトルエンおよびテトラヒドロフランまたはジクロロメタンおよびテトラヒドロフランから成る。
多相系を利用するとき、化合物Iを、例えば、最初に上記有機溶媒の１つまたは溶媒混合物に装入してもよい。その後、塩基、アルキル化剤および相間移動触媒の水溶液を、攪拌しながら加え、次いで記載した温度範囲内で転化を完了させる。
反応は連続式でまたは回分式で、大気圧で、減圧下または加圧下で、適切な場合には、不活性ガス下で実施することができる。
反応混合物を仕上げて、この目的のための慣用の方法により標的生成物Iを回収することができる。一般的に、使用する溶媒は、慣用の方法、例えば、蒸留により除去しうる。次いで標的化合物を水非混和性有機溶媒中に移して、いずれかの不純物を適切な場合には酸性化した水により抽出することができ、そして標的化合物Iを乾燥して溶媒を減圧下で除去することができる。さらなる精製のために、慣用の方法、例えば、結晶化、沈降またはクロマトグラフィを使用することができる。二相系を用いるとき、仕上げは一般的に抽出により実施しうる。
式I［式中、X1、X2またはX3基の１つまたはX1、X2およびX3基のそれぞれが酸素である］の化合物を、公知の方法により、一般式I［式中、X1、X2またはX3基の１つまたはX1、X2およびX3基のそれぞれが硫黄である］に、硫化剤を用いて処理することによって転化することができる。好適な硫化剤は有機硫化リン、例えば、Lawesson試薬、有機硫化スズまたは硫化リン(V)（J. March、「最新有機合成（Advanced Organic Synthesis）」、2nd edition、Wiley Interscience 1985、p. 794およびその引用文献も参照）である。反応は溶媒中でまたは物質中で行うことができる。好適な溶媒は、上記不活性溶媒およびまた塩基性溶媒、例えばピリジンなどである。反応に必要な温度は一般的に室温を超えて、特に50〜200℃である。エナミンIIIとX1基が硫黄であるイソチオシアネートIIとの反応を行う場合、対応する2-チオキソウラシル類［ここでX1＝硫黄］が直接得られる。
本発明による方法は、式Iのウラシル化合物を良い全収率および高純度で与える。さらに、本方法は先行技術の方法ほど複雑でない。
本発明を以下の実施例により説明する。
実施例1：水素化ナトリウムを塩基として用いる、2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミドの調製
窒素雰囲気下で1.70g（9.29mmol）の3-アミノ-4,4,4-トリフルオロ-クロトン酸エチルを含有する20mlのN,N-ジメチルホルムアミドと20mlのn-ヘキサンとの混合物を、水分離器の還流下で40分間攪拌する。その後、n-ヘキサンを減圧下で除去し、残りの混合物を5〜8℃に冷却し、そして攪拌しながら0.8g（20mmol）の60％水素化ナトリウム（鉱油中の）を５つに小分けして加えた。さらに15分間攪拌した後、2.8g（8.0mmol）のN-(2-クロロ-4-フルオロ-5-イソシアナトベンゾイル)-N'-メチル-(1-メチルエチル)スルファミドを含有する10mlのテトラヒドロフランの溶液を攪拌しながら、黄色の溶液に加え、攪拌を2時間続行して最終的に22℃となった。
反応混合物に、攪拌しながら2.0g（33mmol）の氷酢酸と80mlの水を混合した。40分間攪拌後、結晶化が起こった。結晶化を完了するため、水性反応混合物のpHをpH 2に濃塩酸を用いて調節しそしてさらに40mlの水を加えた。得られる微結晶のわずかに黄色沈降物を吸引濾過し、水とヘキサンを用いて洗浄した。塩化メチレン中、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧下で濃縮して乾燥し、233〜236℃（分解）の融点をもつ標題化合物3.9g（理論値の100％）を得た。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ(ppm): 12.8 (br, NH), 12.25 (s, NH), 7.82 (d, 1H), 7.76 (d, 1H), 6.4 (s, 1H), 4.1 (m, 1H), 2.8 (s, 3H), 1.12 (d, 3H), 1.12 (d, 6H).
1H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ(ppm): 12.8 (br, NH), 12.25 (s, NH), 7.82 (d, 1H), 7.76 (d, 1H), 6.4 (s, 1H), 4.1 (m, 1H), 2.8 (s, 3H), 1.12 (d, 3H), 1.12 (d, 6H).
実施例２：カリウムメトキシドを塩基として用いる、2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミドの調製
実施例１に記載したやり方で、1.70g（9.29mmol）の3-アミノ-4,4,4-トリフルオロ-クロトン酸エチルを含有する20mlのN,N-ジメチルホルムアミドを20mlのn-ヘキサンを用いて処理した。その後、残りの混合物を-12℃に冷却し、そして攪拌しながら1.47g（19.9mmol）の95％カリウムメトキシドを１回で加えた。混合物を-15℃にて15分間攪拌した。2.8g（8.0mmol）のN-(2-クロロ-4-フルオロ-5-イソシアナトベンゾイル)-N'-メチル-(1-メチルエチル)スルファミドを含有する10mlのテトラヒドロフランの溶液を、黄色の溶液に-10℃〜-15℃にて攪拌しながら10分間以内に加え、そしてその混合物を-10℃〜-15℃にて3時間攪拌した。反応混合物を薄層クロマトグラフィにより研究して、最後の2時間中に反応混合物の組成に変化のなかったことが分かった。
実施例１に記載したやり方で、1.70g（9.29mmol）の3-アミノ-4,4,4-トリフルオロ-クロトン酸エチルを含有する20mlのN,N-ジメチルホルムアミドを20mlのn-ヘキサンを用いて処理した。その後、残りの混合物を-12℃に冷却し、そして攪拌しながら1.47g（19.9mmol）の95％カリウムメトキシドを１回で加えた。混合物を-15℃にて15分間攪拌した。2.8g（8.0mmol）のN-(2-クロロ-4-フルオロ-5-イソシアナトベンゾイル)-N'-メチル-(1-メチルエチル)スルファミドを含有する10mlのテトラヒドロフランの溶液を、黄色の溶液に-10℃〜-15℃にて攪拌しながら10分間以内に加え、そしてその混合物を-10℃〜-15℃にて3時間攪拌した。反応混合物を薄層クロマトグラフィにより研究して、最後の2時間中に反応混合物の組成に変化のなかったことが分かった。
反応混合物を仕上げるために、それを2.0g（33mmol）の氷酢酸および120mlの水と混合し、その水性反応混合物を濃塩酸を用いてpH 2に調節し、沈降した固体を吸引濾過した。さらに迅速に乾燥するために、湿った沈降物をジクロロメタンに溶解し、5重量％のメタノールを加え、そして飽和塩化ナトリウム溶液を用いて洗浄し、そして有機相を取り除いた。硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下で濃縮した後に、230〜233℃（分解）の融点をもつ標題化合物3.16g（理論値の81％）を得た。HPLC分析によれば、本化合物は98.2％の純度を有した（HPLCカラム：250 x 4 mm、RP 18 LiChrospher、100（5μm）Merck、移動相：1分間にわたり60/40（アセトニトリル/水）容積％、次いで7分間にわたり80/20容積％、そして最後に60/40容積％；流速：1 ml/min、UV 254 nm、RT：1.26分間）。
実施例３：2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミドの調製；塩基として炭酸カリウムを用いる方法
窒素雰囲気下で、3.3g（23.8mmol）の炭酸カリウムを含有する20mlのN,N-ジメチルホルムアミドと25mlのn-ヘキサンの混合物を攪拌しながら加熱して水分離器の内部温度70℃にて30分間還流した。混合物を40℃に窒素下で冷却し、次いで1.70g（9.29mmol）の3-アミノ-4,4,4-トリフルオロ-クロトン酸エチルを加え、その混合物を、さらに30分間加熱して還流し、次いでn-ヘキサンを減圧下で取り除いた。得られるわずかに赤色の混合物を22℃に冷却した後、これに、攪拌しながら、2.8g（8.0mmol）のN-(2-クロロ-4-フルオロ-5-イソシアナトベンゾイル)-N'-メチル-(1-メチル-エチル)スルファミドを含有する10mlのテトラヒドロフランを加え、その混合物を22℃にて30分間、次いで50〜55℃にて90分間攪拌した。反応混合物をHPLCにより、実施例２に記載の条件下で分析して、減圧下で濃縮した反応混合物は、RT＝1.26分を有する標題化合物を理論値の45％だけ含有することが分かった。
窒素雰囲気下で、3.3g（23.8mmol）の炭酸カリウムを含有する20mlのN,N-ジメチルホルムアミドと25mlのn-ヘキサンの混合物を攪拌しながら加熱して水分離器の内部温度70℃にて30分間還流した。混合物を40℃に窒素下で冷却し、次いで1.70g（9.29mmol）の3-アミノ-4,4,4-トリフルオロ-クロトン酸エチルを加え、その混合物を、さらに30分間加熱して還流し、次いでn-ヘキサンを減圧下で取り除いた。得られるわずかに赤色の混合物を22℃に冷却した後、これに、攪拌しながら、2.8g（8.0mmol）のN-(2-クロロ-4-フルオロ-5-イソシアナトベンゾイル)-N'-メチル-(1-メチル-エチル)スルファミドを含有する10mlのテトラヒドロフランを加え、その混合物を22℃にて30分間、次いで50〜55℃にて90分間攪拌した。反応混合物をHPLCにより、実施例２に記載の条件下で分析して、減圧下で濃縮した反応混合物は、RT＝1.26分を有する標題化合物を理論値の45％だけ含有することが分かった。
実施例４：N-(2-クロロ-4-フルオロ-5-イソシアナトベンゾイル)-N'-メチル-(1-メチルエチル)スルファミドと3-メチルアミノ-4,4,4-トリフルオロクロトン酸エチルとを反応させることによる、2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-3-メチル-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル-(1-メチルエチル)-アミノ]-スルホニル]ベンズアミドの調製
窒素雰囲気下で、0.99g（5.021mmol）の3-メチルアミノ-4,4,4-トリフルオロクロトン酸エチルを含有する25mlのN,N-ジメチルホルムアミドと50mlのn-ペンタンを水分離器の還流にて45分間、攪拌した。次いで、n-ペンタンを70℃の内部温度まで蒸留した。混合物を40℃に冷却し、次いで1.13g（10.043mmol）のカリウムtert-ブトキシドを３つに小分けして、45℃までの温度にて15分間以内に攪拌しながら加え、赤褐色の溶液を得た。40℃にて20分間攪拌した後、その混合物を冷却し、次いで1.55g（4.419mmol）のN-(2-クロロ-4-フルオロ-5-イソシアナトベンゾイル)-N'-メチル-(1-メチルエチル)スルファミドを-15℃〜-10℃にて2分間以内に加え、直接溶解した。その混合物を-10℃にて30分間攪拌し、次いでその反応混合物が22℃に加温し、この温度にてさらに30分間攪拌した。
穏やかに冷却しながら、得られる反応混合物を20〜22℃にて、0.46g（12.553mmol）の4N塩酸を含有する3.1mlのジオキサンを用いて酸性化し、その混合物を減圧下で濃縮した。得られる残留物を、100mlのメチルtert-ブチルエーテルと100mlの水の溶媒混合物中で分配した。有機相を取出して硫酸ナトリウム上で乾燥し、Alltech既製カラム（10g/60ml）を介して濾過し、次いで減圧下で濃縮して乾燥した。得られる残留物を0℃にてメチルtert-ブチルエーテル中で0.5時間攪拌し、メチルtert-ブチルエーテルを用いて洗浄し、そして減圧下で乾燥して0.97g（理論値の41.6％）の標題化合物を95％の1H NMR純度を有するガラス状残留物として得た。濾液を濃縮すると、0.9gのガラス状樹脂が得られ、1H NMRスペクトルによると、さらにほぼ標題化合物0.45g（理論値の20.3％）を含有した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ(ppm)：9.5 (br, NH), 7.63 (d, 1H), 7.37 (d, 1H), 6.37 (s, 1H), 4.29 (m, 1H), 3.58 (s, 3H), 2.92 (s, 3H), 1.18 (d, 6H).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ(ppm)：9.5 (br, NH), 7.63 (d, 1H), 7.37 (d, 1H), 6.37 (s, 1H), 4.29 (m, 1H), 3.58 (s, 3H), 2.92 (s, 3H), 1.18 (d, 6H).
実施例5：相間移動触媒を用いない2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミドのメチル化による、2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-3-メチル-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル-(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミドの調製
1.14g（9.04mmol）のジメチル硫酸塩と0.283g（2.055mmol）のK2CO3を、2.0g（4.11mmol）の実施例１から得た2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミドを含有する80mlのN,N-ジメチルホルムアミドに加え、次いでその混合物を25℃にて16時間攪拌した。次いで、N,N-ジメチルホルムアミドを30℃および減圧にて蒸留除去し、そして残留物をほぼ250mlの酢酸エチル中に移した。その反応混合物を10％HClを用いて酸性化し、次いで水を用いて２回抽出した。有機相をMgSO4上で乾燥し、溶媒を蒸留除去して1.95gの粗生成物を得た。1H NMRおよびHPLCによると、目的の生成物の純度は77％（73％の収率に対応する）であった。精製のため、0.92gのこの粗生成物をシリカゲル（28x4.5cmカラム）上で9/1〜1/1シクロヘキサン/酢酸エチルを用いてクロマトグラフィにかけて4画分を得た。第3画分（0.58g；59％単離収率に対応する）は所望の目的の生成物を純粋な形態で含有した。
1H NMRデータ (DMSO-d6) δ(ppm)：12.2 (NH), 7.8 (d, 1 H), 7.7 (d, 1 H), 6.6 (s, 1 H), 4.1 (sept, 1 H), 3.5 (s, 3 H), 3.3 (s, 3 H), 2.9 (s, 3 H), 1.2 (d, 6 H).
1.14g（9.04mmol）のジメチル硫酸塩と0.283g（2.055mmol）のK2CO3を、2.0g（4.11mmol）の実施例１から得た2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミドを含有する80mlのN,N-ジメチルホルムアミドに加え、次いでその混合物を25℃にて16時間攪拌した。次いで、N,N-ジメチルホルムアミドを30℃および減圧にて蒸留除去し、そして残留物をほぼ250mlの酢酸エチル中に移した。その反応混合物を10％HClを用いて酸性化し、次いで水を用いて２回抽出した。有機相をMgSO4上で乾燥し、溶媒を蒸留除去して1.95gの粗生成物を得た。1H NMRおよびHPLCによると、目的の生成物の純度は77％（73％の収率に対応する）であった。精製のため、0.92gのこの粗生成物をシリカゲル（28x4.5cmカラム）上で9/1〜1/1シクロヘキサン/酢酸エチルを用いてクロマトグラフィにかけて4画分を得た。第3画分（0.58g；59％単離収率に対応する）は所望の目的の生成物を純粋な形態で含有した。
1H NMRデータ (DMSO-d6) δ(ppm)：12.2 (NH), 7.8 (d, 1 H), 7.7 (d, 1 H), 6.6 (s, 1 H), 4.1 (sept, 1 H), 3.5 (s, 3 H), 3.3 (s, 3 H), 2.9 (s, 3 H), 1.2 (d, 6 H).
実施例６：相間移動触媒を用いる2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミドのメチル化による、2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-3-メチル-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル-(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミドの調製（有機相としてテトラヒドロフランとトルエンそして相間移動触媒として臭化テトラブチルアンモニウムを用いて）
実施例１から得た12.45g（0.024mol）の2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミド（93.9％）に、25℃にて135gのトルエンと27gのテトラヒドロフランの溶媒混合物を加え、次いでその混合物を2.3g（0.0288mol）の水酸化ナトリウム（50％）を含有する57.5gの水溶液と混合した。0.77g（0.0024mol）の臭化テトラブチルアンモニウムと3.69g（0.0293mol）のジメチル硫酸塩を、その反応混合物に加えた。二相反応混合物を25℃にて23時間、強く攪拌した。
実施例１から得た12.45g（0.024mol）の2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミド（93.9％）に、25℃にて135gのトルエンと27gのテトラヒドロフランの溶媒混合物を加え、次いでその混合物を2.3g（0.0288mol）の水酸化ナトリウム（50％）を含有する57.5gの水溶液と混合した。0.77g（0.0024mol）の臭化テトラブチルアンモニウムと3.69g（0.0293mol）のジメチル硫酸塩を、その反応混合物に加えた。二相反応混合物を25℃にて23時間、強く攪拌した。
その後、水相を除去し、そして有機相を2回、その都度100mlの水を用いて洗浄した。組合わせた有機相を乾燥した後、溶媒を減圧下で蒸留除去して13.8gの粗生成物を得たが、これは定量分析HPLCによると、77.5％の標題化合物（88.9％の収率に対応する）を含有した。
実施例７：相間移動触媒のもとでの2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミドのメチル化による、2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-3-メチル-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル-(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミドの調製（有機相としてテトラヒドロフランおよび塩化メチレン、相間移動触媒としてヨウ化テトラブチルアンモニウムを用いて）
実施例１から得た5g（10.3mmol）の2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミドを、250mlのジクロロメタンと125mlのテトラヒドロフランの溶媒混合物に加え、次いでその混合物を0.411g（10.3mmol）のNaOHを含有する375mlの水溶液と混合した。0.38g（1.03mmol）のテトラブチルアンモニウムヨージドおよび1.36g（10.8mmol）のジメチル硫酸塩を、その反応混合物に加え、そして二相混合物を1000回転/分で14時間攪拌した。
実施例１から得た5g（10.3mmol）の2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミドを、250mlのジクロロメタンと125mlのテトラヒドロフランの溶媒混合物に加え、次いでその混合物を0.411g（10.3mmol）のNaOHを含有する375mlの水溶液と混合した。0.38g（1.03mmol）のテトラブチルアンモニウムヨージドおよび1.36g（10.8mmol）のジメチル硫酸塩を、その反応混合物に加え、そして二相混合物を1000回転/分で14時間攪拌した。
水相を除去し、有機相を減圧下で濃縮乾燥した。シリカゲル上でのクロマトグラフィ精製を実施例５に記載のやり方で実施して4画分を得た。溶媒を除去し終えた後に、第1画分は、1HNMRによると、所望の目的の生成物の90％から成る混合物0.54gを含有し、そして第2画分2は＞95％の純度を有する目的の生成物2.4gを含有した（両画分に基づく収率：56％）。
実施例８：2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-3-メチル-4-(トリフルオロメチル)-6-オキソ-2-チオキソ-1-(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[(1-メチルエチル)プロピルアミノ]スルホニル]ベンズアミド
窒素雰囲気下で、30mlのN,N-ジメチルホルムアミドと50mlのn-ヘキサンの混合物を還流で攪拌しながら1時間加熱し、次いでヘキサンを内部温度80〜90℃にて蒸留除去した。混合物を30℃に冷却し、そして攪拌しながら0.75g（3.828mmol）の3-メチルアミノ-4,4,4-トリフルオロクロトン酸エチルを加え、その反応混合物を-20℃に冷却し、そして攪拌しながら0.2g（7.92mmol）の95％水素化ナトリウムを3つに小分けして加えると黄色の沈降物を生成した。その混合物を-15℃にてさらに15分間攪拌し、次いで1.5g（3.828mmol）のN-(2-クロロ-4-フルオロ-5-イソチオシアナトベンゾイル)-N'-アリル-(1-プロピル)スルファミドを-15℃にて混合物に加えた。15分間攪拌後、褐色の溶液が生成した。次いで攪拌を-15℃にて1時間、次いで22℃にて8時間続行した。その反応混合物を攪拌しながら100mlの1N塩酸中に注ぎ、その水性混合物を3回メチルtert-ブチルエーテルを用いて抽出した。組合わせた有機相を1N塩酸を用いて再抽出し、次いで有機相を水を用いて洗浄し、その有機相をマグネシウム硫酸塩で乾燥した。その後、乾燥剤を濾過除去し、濾液を減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲル上のフラッシュクロマトグラフィ（3x20cmカラム、溶出液：ジクロロメタン）により精製し、溶出液を減圧下で濃縮し終わった後に、74〜75℃の融点をもつ標題化合物0.65g（理論値の31.3％）を得た。1HNMRスペクトルによると、回転異性体混合物が7:3の比で存在した。HPLC分析によると、これらに対する生成物ピークは5.3および5.48分にあり、それぞれ70および25面積百分率を有した。
実施例９：2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-3-メチル-4-(トリフルオロメチル)-6-オキソ-2-チオキソ-1-(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[(メチルエチル)プロパルギルアミノ]スルホニル]ベンズアミド]
実施例８に記載の要領で、1.0gのN-(2-クロロ-4-フルオロ-5-イソチオシアナトベンゾイル)-N'-プロパルギル-(1-メチルエチル)スルファミドと0.61g（3.078mmol）の3-メチルアミノ-4,4,4-トリフルオロクロトン酸エチルから出発して、標題化合物0.388g（理論値の28％）を94〜105℃の融点をもつ6:4の回転異性体混合物として得た。
Claims (15)
- 式I：
R1は水素、シアノ、アミノ、C1-C6-アルキル、C1-C3-シアノアルキル、C1-C6-ハロアルキル、C1-C6-ハロアルコキシ、C3-C7-シクロアルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニル、C3-C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1-C4-アルキルであり；
R2およびR3はそれぞれ独立して水素、C1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキル、C3-C7-シクロアルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニルまたはC3-C6-ハロアルキニルであり；
X1、X2およびX3はそれぞれ独立して酸素または硫黄であり；
Arは、次の基：水素、ハロゲン、シアノ、C1-C4-アルキルまたはC1-C4-ハロアルキルによりモノまたは多置換されていてもよいフェニルであり；そして
Aは-NR 5 R 6 であり、ここで、
置換基R 5 およびR 6 はそれぞれ独立して、水素、C 1 -C 10 -アルキル、C 2 -C 10 -アルケニルまたはC 2 -C 10 -アルキニル［上記のそれぞれは無置換であってもまたは次の基の１つにより置換されていてもよい：C 1 -C 4 -アルコキシ、C 1 -C 4 -アルキルチオ、CN、NO 2 、ホルミル、C 1 -C 4 -アルキルカルボニル、C 1 -C 4 -アルコキシカルボニル、C 1 -C 4 -アルキルアミノカルボニル、C 1 -C 4 -ジアルキルアミノカルボニル、C 1 -C 4 -アルキルスルフィニル、C 1 -C 4 -アルキルスルホニル、C 3 -C 10 -シクロアルキル、3〜8員のヘテロシクリル｛該ヘテロシクリルはO、S、NおよびNR 7 基（式中、R 7 は水素、C 1 -C 6 -アルキル、C 3 -C 6 -アルケニルまたはC 3 -C 6 -アルキニルである）からなる群から選択される1〜3個のヘテロ原子を有する｝、フェニル（該フェニルはそれ自体がハロゲン、C 1 -C 4 -アルキル、C 1 -C 4 -アルコキシ、C 1 -C 4 -フルオロアルキル、C 1 -C 4 -アルキルオキシカルボニル、トリフルオロメチル-スルホニル、C 1 -C 3 -アルキルアミノ、C 1 -C 3 -ジアルキルアミノ、ホルミル、ニトロまたはシアノからなる群から選択される1、2、3または4個の置換基を有してもよい）］、
C 1 -C 10 -ハロアルキル、C 2 -C 10 -ハロアルケニル、C 2 -C 10 -ハロアルキニル、C 3 -C 8 -シクロアルキル、C 3 -C 10 -シクロアルケニル、3〜8員のヘテロシクリル｛該ヘテロシクリルはO、S、NおよびNR 7 基（式中、R 7 は水素、C 1 -C 6 -アルキル、C 3 -C 6 -アルケニルまたはC 3 -C 6 -アルキニルである）からなる群から選択される1〜3個のヘテロ原子を有する｝、フェニルまたはナフチル［ここで、上記C 3 -C 8 -シクロアルキル、C 3 -C 10 -シクロアルケニル、3〜8員のヘテロシクリル、フェニルまたはナフチルのそれぞれは、それ自体がハロゲン、C 1 -C 4 -アルキル、C 1 -C 4 -アルコキシ、C 1 -C 4 -フルオロアルキル、C 1 -C 4 -アルキルオキシカルボニル、トリフルオロメチルスルホニル、ホルミル、C 1 -C 3 -アルキルアミノ、C 1 -C 3 -ジアルキルアミノ、フェノキシ、ニトロまたはシアノからなる群から選択される1、2、3または4個の置換基を有してもよい］であるか；または
R 5 とR 6 は一緒に飽和または部分的不飽和の5〜8員窒素ヘテロ環を形成し、上記へテロ環は環原子として1または2個のカルボニル基、チオカルボニル基および／またはO、S、NおよびNR 7 基（式中、R 7 は水素、C 1 -C 6 -アルキル、C 3 -C 6 -アルケニルまたはC 3 -C 6 -アルキニルである）から選択される1または2個のさらなるヘテロ原子を有してもよいし、かつ上記へテロ環はC 1 -C 4 -アルキル、C 1 -C 4 -アルコキシおよび／またはC 1 -C 4 -ハロアルキルにより置換されていてもよい］
で表わされる3-フェニル(チオ)ウラシル類または3-フェニルジチオウラシル類を調製する方法であって、
式II：
のフェニルイソ(チオ)シアネートと式III:
R1aは、アミノを除いて、R1に対して定義した通りであり；
R2、R3およびX2は先に定義した通りであり；そして
R4はC1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキル、C1-C3-アルコキシ-C1-C3-アルキル、C1-C3-アルキルチオ-C1-C3-アルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニル、C3-C6-ハロアルキニル、C3-C7-シクロアルキル、C1-C6-シアノアルキルまたはそれ自体は無置換であるかもしくはフェニル環上でメチル、メトキシ、メチルチオ、ハロゲン、ニトロまたはシアノにより置換されたベンジルである］
のエナミンとの、式IIのフェニルイソ(チオ)シアネート1モル当たり1.8〜2.6当量の塩基の存在下での反応、および、適切な場合には、さらなるステップにおいて、得られる式I（ここでR1＝R1aで、R1は水素である）の3-フェニル(チオ)ウラシルまたは3-フェニルジチオウラシルと式IV：
のアミノ化剤との、式I（ここでR1＝アミノ）の3-フェニル(チオ)ウラシル類または3-フェニルジチオウラシル類を得るための反応を含んでなる上記方法。 - 反応を、アルカリ金属およびアルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属およびアルカリ土類金属アルコキシド、アルカリ金属およびアルカリ土類金属水素化物ならびに三級アミンから選択される塩基の存在のもとで実施する、請求項１に記載の方法。
- 反応を少なくとも１つの非プロトン極性溶媒中で実施し、そして上記非プロトン極性溶媒は化合物II、化合物IIIおよび溶媒の全量に基づいて0〜0.5重量％の水含量を有する、請求項１または２に記載の方法。
- 溶媒が少なくとも50容積％のカルボキサミド、カルボン酸エステル、炭酸塩、ニトリルおよびスルホキシドから選択される非プロトン極性溶媒を含有する、請求項３に記載の方法。
- 溶媒が少なくとも80重量％の非プロトン極性溶媒を含有する、請求項４に記載の方法。
- 化合物IIの1モル当たり0.9〜1.3モルの式IIIのエナミンを使用する、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
- 3-フェニル(チオ)ウラシル類または3-フェニルジチオウラシル類（ここでR1＝水素）を調製し、次いでこの化合物Iを、
(A) 式IV：
のアミノ化剤と反応させて
式I［式中、R1はアミノであり；そして置換基R2、R3、X1、X2、X3、ArおよびAはそれぞれ先に定義した通りである］
の化合物を得るか；または
(B) 式V：
のアルキル化剤と反応させて、
一般式I［式中、R1はR1bに対して定義された通りであり、そして置換基R2、R3、X1、X2、X3、ArおよびAは先に定義した通りである］の化合物を得ることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の上記方法。 - 式IIのフェニルイソ(チオ)シアネートが
式IIA：
Ra、Rb、RcおよびRdはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、シアノ、C1-C4-アルキルまたはC1-C4-ハロアルキルである］
により記載される、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。 - 式IIAにおいて
Raはハロゲン、シアノまたはトリフルオロメチルであり；
Rcは水素またはハロゲンであり；そして
RbおよびRdはそれぞれ水素である、請求項８に記載の方法。 - 置換基R5およびR6はそれぞれ独立して、水素、C1-C6-アルキル［該C1-C6-アルキルは、適切な場合には、ハロゲン、シアノ、C1-C4-アルコキシ、C1-C4-アルコキシカルボニル、C1-C4-アルキルチオ、C3-C8-シクロアルキル、フリル、チエニル、1,3-ジオキソラニルおよびフェニル（該フェニルはそれ自体、任意にハロゲンまたはC1-C4-アルコキシに置換されていてもよい）を有してもよい］、C2-C6-アルケニルまたはC2-C6-アルキニル、C3-C8-シクロアルキルまたはフェニル（該フェニルは、適切な場合には、ハロゲン、C1-C4-アルキル、C1-C4-フルオロアルキル、C1-C4-アルコキシ、C1-C4-アルコキシカルボニル、ニトロおよびC1-C3-ジアルキルアミノからなる群から選択される1または2個の置換基を有してもよい）であるか；
ナフチルまたはピリジルであるか；または
R5とR6は一緒に5、6または7員の飽和または不飽和の窒素へテロ環を形成し、上記へテロ環は環原子としてN、OおよびNR7基（式中、R7は水素、C1-C6-アルキル、C3-C6-アルケニルまたはC3-C6-アルキニルである）から選択されるさらなるヘテロ原子を含んでもよいし、および／または上記へテロ環はC1-C4-アルキルおよびC1-C4-ハロアルキルから選択される1、2または3個の置換基により置換されていてもよい、請求項１〜９のいずれかに記載の方法。 - X1、X2およびX3がそれぞれ酸素である、請求項１〜１０のいずれかに記載の方法。
- R1が水素、アミノまたはC1-C4-アルキルである、請求項１〜１１のいずれかに記載の方法。
- R2が水素、C1-C4-アルキルまたはC1-C4-ハロアルキルである、請求項１〜１２のいずれかに記載の方法。
- R3が水素である、請求項１〜１３のいずれかに記載の方法。
- 式I：
R1はC1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキル、C3-C7-シクロアルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニルまたはC3-C6-ハロアルキニルであり；
R2およびR3はそれぞれ独立して水素、C1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキル、C3-C7-シクロアルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニルまたはC3-C6-ハロアルキニルであり；
X1、X2およびX3はそれぞれ独立して酸素または硫黄であり；
Arは、次の基：水素、ハロゲン、シアノ、C1-C4-アルキルまたはC1-C4-ハロアルキルによりモノまたは多置換されていてもよいフェニルであり；そして
Aは-NR 5 R 6 であり、ここで、
置換基R 5 およびR 6 はそれぞれ独立して、水素、C 1 -C 10 -アルキル、C 2 -C 10 -アルケニルまたはC 2 -C 10 -アルキニル［上記のそれぞれは無置換であってもまたは次の基の１つにより置換されていてもよい：C 1 -C 4 -アルコキシ、C 1 -C 4 -アルキルチオ、CN、NO 2 、ホルミル、C 1 -C 4 -アルキルカルボニル、C 1 -C 4 -アルコキシカルボニル、C 1 -C 4 -アルキルアミノカルボニル、C 1 -C 4 -ジアルキルアミノカルボニル、C 1 -C 4 -アルキルスルフィニル、C 1 -C 4 -アルキルスルホニル、C 3 -C 10 -シクロアルキル、3〜8員のヘテロシクリル｛該ヘテロシクリルはO、S、NおよびNR 7 基（式中、R 7 は水素、C 1 -C 6 -アルキル、C 3 -C 6 -アルケニルまたはC 3 -C 6 -アルキニルである）からなる群から選択される1〜3個のヘテロ原子を有する｝、フェニル（該フェニルはそれ自体がハロゲン、C 1 -C 4 -アルキル、C 1 -C 4 -アルコキシ、C 1 -C 4 -フルオロアルキル、C 1 -C 4 -アルキルオキシカルボニル、トリフルオロメチル-スルホニル、C 1 -C 3 -アルキルアミノ、C 1 -C 3 -ジアルキルアミノ、ホルミル、ニトロまたはシアノからなる群から選択される1、2、3または4個の置換基を有してもよい）］、
C 1 -C 10 -ハロアルキル、C 2 -C 10 -ハロアルケニル、C 2 -C 10 -ハロアルキニル、C 3 -C 8 -シクロアルキル、C 3 -C 10 -シクロアルケニル、3〜8員のヘテロシクリル｛該ヘテロシクリルはO、S、NおよびNR 7 基（式中、R 7 は水素、C 1 -C 6 -アルキル、C 3 -C 6 -アルケニルまたはC 3 -C 6 -アルキニルである）からなる群から選択される1〜3個のヘテロ原子を有する｝、フェニルまたはナフチル［ここで、上記C 3 -C 8 -シクロアルキル、C 3 -C 10 -シクロアルケニル、3〜8員のヘテロシクリル、フェニルまたはナフチルのそれぞれは、それ自体がハロゲン、C 1 -C 4 -アルキル、C 1 -C 4 -アルコキシ、C 1 -C 4 -フルオロアルキル、C 1 -C 4 -アルキルオキシカルボニル、トリフルオロメチルスルホニル、ホルミル、C 1 -C 3 -アルキルアミノ、C 1 -C 3 -ジアルキルアミノ、フェノキシ、ニトロまたはシアノからなる群から選択される1、2、3または4個の置換基を有してもよい］であるか；または
R 5 とR 6 は一緒に飽和または部分的不飽和の5〜8員窒素ヘテロ環を形成し、上記へテロ環は環原子として1または2個のカルボニル基、チオカルボニル基および／またはO、S、NおよびNR 7 基（式中、R 7 は水素、C 1 -C 6 -アルキル、C 3 -C 6 -アルケニルまたはC 3 -C 6 -アルキニルである）から選択される1または2個のさらなるヘテロ原子を有してもよいし、かつ上記へテロ環はC 1 -C 4 -アルキル、C 1 -C 4 -アルコキシおよび／またはC 1 -C 4 -ハロアルキルにより置換されていてもよい］の3-フェニル(チオ)ウラシル類または3-フェニルジチオウラシル類を調製する方法であって、
式I（ここでR1は水素である）の3-フェニル(チオ)ウラシル類または3-フェニルジチオウラシル類を、
式V：
R1bはC1-C6-アルキル、C1-C6-ハロアルキル、C3-C7-シクロアルキル、C2-C6-アルケニル、C2-C6-ハロアルケニル、C3-C6-アルキニルまたはC3-C6-ハロアルキニルである］
のアルキル化剤と反応させることを特徴とする、上記方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10356474 | 2003-12-03 | ||
| PCT/EP2004/013615 WO2005054208A1 (de) | 2003-12-03 | 2004-12-01 | Verfahren zur herstellung von 3-phenyl(thio)uracilen und 3-phenyldithiouracilen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007513110A JP2007513110A (ja) | 2007-05-24 |
| JP4528306B2 true JP4528306B2 (ja) | 2010-08-18 |
Family
ID=34638289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006541876A Active JP4528306B2 (ja) | 2003-12-03 | 2004-12-01 | ３−フェニル（チオ）ウラシル類および３−フェニルジチオウラシル類を調製する方法 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7737275B2 (ja) |
| EP (1) | EP1692115B1 (ja) |
| JP (1) | JP4528306B2 (ja) |
| KR (1) | KR101135263B1 (ja) |
| CN (1) | CN100558714C (ja) |
| AT (1) | ATE381547T1 (ja) |
| BR (1) | BRPI0417052B1 (ja) |
| DE (1) | DE502004005772D1 (ja) |
| DK (1) | DK1692115T3 (ja) |
| ES (1) | ES2295957T3 (ja) |
| IL (1) | IL175713A (ja) |
| WO (1) | WO2005054208A1 (ja) |
Families Citing this family (42)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7699852B2 (en) | 2003-11-19 | 2010-04-20 | Zimmer Spine, Inc. | Fenestrated bone tap and method |
| WO2006125746A1 (de) * | 2005-05-24 | 2006-11-30 | Basf Aktiengesellschaft | Verfahren zur herstellung von 1-alkyl-3-phenyluracilen |
| NZ575891A (en) * | 2006-10-13 | 2011-07-29 | Basf Se | Hydrates of a phenyluracil |
| BRPI0719209B1 (pt) * | 2006-10-13 | 2016-11-22 | Basf Se | forma cristalina, composto, processo para a preparação da forma cristalina ii, agente para proteção de plantas, e, processo para combater vegetação |
| ES2444494T3 (es) | 2009-08-27 | 2014-02-25 | Basf Se | Formulaciones de concentrado acuoso que contienen saflufenacil y glifosato |
| NZ598666A (en) | 2009-08-27 | 2014-01-31 | Basf Se | Aqueous suspension concentrate formulations containing saflufenacil |
| MX2012005501A (es) | 2009-11-13 | 2012-07-10 | Basf Se | Compuestos 3- (3, 4- dihidro-2h-benzo [1, 4] -oxazin-6-il)-1h-piri midin-2, 4-diona como herbicidas. |
| WO2011070054A1 (en) | 2009-12-09 | 2011-06-16 | Basf Se | Liquid suspension concentrate formulations containing saflufenacil and glyphosate |
| AU2010329961B2 (en) | 2009-12-09 | 2014-12-04 | Basf Se | Liquid suspension concentrate formulations containing saflufenacil |
| EP2538786A2 (de) * | 2010-02-26 | 2013-01-02 | Bayer Intellectual Property GmbH | Herbizide zusammensetzung enthaltend die hydrate von saflufenacil und glyphosate oder glufosinate |
| CN103130727B (zh) * | 2013-02-27 | 2015-07-08 | 江苏省农用激素工程技术研究中心有限公司 | 苯嘧磺草胺中间体的制备方法 |
| WO2015091642A1 (en) | 2013-12-19 | 2015-06-25 | BASF Agro B.V. | Dilute aqueous compositions of saflufenacil |
| EP3733209A1 (en) * | 2014-10-03 | 2020-11-04 | Synaffix B.V. | Sulfamide linker, conjugates thereof, and methods of preparation |
| MY182268A (en) | 2015-01-15 | 2021-01-18 | Basf Se | Herbicidal combination comprising saflufenacil and glufosinate |
| EP3247213A1 (en) | 2015-01-22 | 2017-11-29 | BASF Agro B.V. | Ternary herbicidal combination comprising saflufenacil |
| CN107846889B (zh) | 2015-07-10 | 2020-12-08 | 巴斯夫农业公司 | 包含环庚草醚和派罗克杀草砜的除草组合物 |
| US11219215B2 (en) | 2015-07-10 | 2022-01-11 | BASF Agro B.V. | Herbicidal composition comprising cinmethylin and specific inhibitors of protoporphyrinogen oxidase |
| KR102549057B1 (ko) | 2015-07-10 | 2023-06-29 | 바스프 아그로 비.브이. | 신메틸린 및 아세토클로르 또는 프레틸라클로르를 포함하는 제초제 조성물 |
| WO2017009142A1 (en) | 2015-07-10 | 2017-01-19 | BASF Agro B.V. | Herbicidal composition comprising cinmethylin and specific pigment synthesis inhibitors |
| WO2017009061A1 (en) | 2015-07-10 | 2017-01-19 | BASF Agro B.V. | Herbicidal composition comprising cinmethylin and saflufenacil |
| LT3319434T (lt) | 2015-07-10 | 2019-07-10 | BASF Agro B.V. | Herbicidinė kompozicija, apimanti cinmetiliną ir petoksamidą |
| US11219212B2 (en) | 2015-07-10 | 2022-01-11 | BASF Agro B.V. | Herbicidal composition comprising cinmethylin and imazamox |
| EP3319427B1 (en) | 2015-07-10 | 2019-04-17 | BASF Agro B.V. | Herbicidal composition comprising cinmethylin and dimethenamid |
| JP2018524359A (ja) | 2015-07-10 | 2018-08-30 | ビーエーエスエフ アグロ ベー．ブイ． | シンメチリン及び特定のキノリンカルボン酸を含む除草剤組成物 |
| BR112018001400B1 (pt) | 2015-07-24 | 2021-11-09 | Basf Se | Compostos, composição, uso do composto, método para o combate de fungos fitopatogênicos e semente |
| UA121417C2 (uk) | 2015-09-03 | 2020-05-25 | Басф Агро Б.В. | Композиція мікрочастинок, яка містить сафлуфенацил |
| EP3464261B1 (en) | 2016-05-24 | 2021-07-07 | Basf Se | Herbicidal uracilpyrid |
| WO2018019845A1 (en) | 2016-07-29 | 2018-02-01 | Basf Se | Method for controlling ppo resistant weeds |
| KR20180081275A (ko) * | 2017-01-06 | 2018-07-16 | 주식회사 팜한농 | 3-아릴우라실 화합물의 제조 방법 |
| BR112022003761A2 (pt) | 2019-08-26 | 2022-08-09 | Adama Agan Ltd | Novas composições solúveis líquidas de saflufenacil, método de preparação e uso das mesmas |
| EP4114828A1 (en) | 2020-03-06 | 2023-01-11 | Basf Se | Herbicidal phenyluracils |
| AR124927A1 (es) | 2021-02-24 | 2023-05-17 | Adama Agan Ltd | Composiciones herbicidas que comprenden inhibidores de acetolactato sintasa a base de imidazolinona y usos de los mismos |
| CN116917274A (zh) | 2021-03-04 | 2023-10-20 | 安道麦阿甘有限公司 | 苯嘧磺草胺-钠和苯嘧磺草胺-钾的固体形式、其制备方法和用途 |
| WO2022201155A1 (en) | 2021-03-26 | 2022-09-29 | Adama Agan Ltd. | Preparation of 2-chloro-4-fluoro-5-nitrobenzoic acid |
| AR126744A1 (es) | 2021-08-09 | 2023-11-08 | Adama Agan Ltd | Nuevo proceso de producción de saflufenacil utilizando productos intermedios novedosos |
| CA3227501A1 (en) | 2021-08-30 | 2023-03-09 | Rahul Kaduskar | Crystalline forms of methyl 2-[2-[2-bromo-4-fluoro-5-[3-methyl-2,6-dioxo-4-(trifluoromethyl)pyrimidin-1-yl]phenoxy]phenoxy]-2-methoxy-acetate |
| WO2023030934A1 (en) | 2021-08-31 | 2023-03-09 | Basf Se | Herbicidal composition comprising phenyluracils |
| WO2023030935A1 (en) | 2021-08-31 | 2023-03-09 | Basf Se | Method for controlling ppo-i resistant weeds |
| WO2023232507A1 (en) | 2022-05-30 | 2023-12-07 | BASF Agro B.V. | Process for recovering saflufenacil from process streams |
| WO2024012913A1 (en) | 2022-07-13 | 2024-01-18 | BASF Agro B.V. | Herbicidal eode formulation comprising several active ingredients |
| WO2024042134A1 (en) | 2022-08-26 | 2024-02-29 | BASF Agro B.V. | Aqueous herbicide formulations |
| WO2024047648A1 (en) | 2022-08-31 | 2024-03-07 | Adama Agan Ltd. | Preparation of 2-chloro-4-fluoro-5-nitrobenzoic acid |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4309209A (en) | 1977-08-15 | 1982-01-05 | Chevron Research | Herbicidal method and composition |
| US6207830B1 (en) | 1987-09-23 | 2001-03-27 | Syngenta Crop Protection, Inc. | Process for the production of 3-aryl-uracils |
| US4943309A (en) | 1988-09-06 | 1990-07-24 | Uniroyal Chemical Company, Inc. | Method of defoleating cotton plants employing 3-carbonylphenyl uracil derivatives |
| US5169430A (en) * | 1991-08-09 | 1992-12-08 | Uniroyal Chemical Company, Inc. | Benzenesulfonamide derivatives and methods for their production |
| DE4139952A1 (de) | 1991-12-04 | 1993-06-09 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen, De | N-aryl-stickstoffheterocyclen |
| DE19741411A1 (de) | 1996-09-23 | 1998-03-26 | Ciba Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von 3-Aryluracilen |
| EP0831091A3 (en) * | 1996-09-23 | 1998-04-15 | Novartis AG | Process for the production of 3-aryl-uracils |
| DE19652431A1 (de) | 1996-12-17 | 1998-06-18 | Bayer Ag | Heterocyclyluracile |
| DK1226127T3 (da) * | 2000-05-04 | 2009-10-19 | Basf Se | Substituerede phenylsulfamoylcarboxamider |
| MXPA04002087A (es) * | 2001-09-14 | 2004-06-07 | Basf Ag | Mezclas herbicidas basadas en 3-feniluracilos. |
| DK1506169T3 (da) * | 2002-05-16 | 2010-04-19 | Basf Se | Fremgangsmåde til fremstilling af sulfonsyrediamider |
-
2004
- 2004-12-01 DK DK04803387T patent/DK1692115T3/da active
- 2004-12-01 DE DE502004005772T patent/DE502004005772D1/de active Active
- 2004-12-01 KR KR1020067010895A patent/KR101135263B1/ko active IP Right Grant
- 2004-12-01 WO PCT/EP2004/013615 patent/WO2005054208A1/de active IP Right Grant
- 2004-12-01 ES ES04803387T patent/ES2295957T3/es active Active
- 2004-12-01 EP EP04803387A patent/EP1692115B1/de active Active
- 2004-12-01 AT AT04803387T patent/ATE381547T1/de active
- 2004-12-01 JP JP2006541876A patent/JP4528306B2/ja active Active
- 2004-12-01 BR BRPI0417052-0A patent/BRPI0417052B1/pt active IP Right Grant
- 2004-12-01 CN CNB2004800360849A patent/CN100558714C/zh active Active
- 2004-12-01 US US10/581,072 patent/US7737275B2/en active Active
-
2006
- 2006-05-17 IL IL175713A patent/IL175713A/en active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN100558714C (zh) | 2009-11-11 |
| US20060293520A1 (en) | 2006-12-28 |
| KR20060120187A (ko) | 2006-11-24 |
| JP2007513110A (ja) | 2007-05-24 |
| ES2295957T3 (es) | 2008-04-16 |
| BRPI0417052A (pt) | 2007-02-06 |
| DK1692115T3 (da) | 2008-03-25 |
| IL175713A0 (en) | 2006-09-05 |
| DE502004005772D1 (de) | 2008-01-31 |
| ATE381547T1 (de) | 2008-01-15 |
| EP1692115A1 (de) | 2006-08-23 |
| US7737275B2 (en) | 2010-06-15 |
| WO2005054208A1 (de) | 2005-06-16 |
| CN1890222A (zh) | 2007-01-03 |
| IL175713A (en) | 2010-12-30 |
| KR101135263B1 (ko) | 2012-04-12 |
| BRPI0417052B1 (pt) | 2014-02-25 |
| EP1692115B1 (de) | 2007-12-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4528306B2 (ja) | ３−フェニル（チオ）ウラシル類および３−フェニルジチオウラシル類を調製する方法 | |
| US8541611B2 (en) | Bifunctional phenyl iso(thio)cyanates, processes and intermediates products for their preparation | |
| JP4384028B2 (ja) | スルファミン酸ハロゲン化物の製造方法 | |
| CN1989111B (zh) | 生产3-苯基(硫代)尿嘧啶和二硫代尿嘧啶的方法 | |
| US20100222586A1 (en) | Methods for Producing Sulfonic Acid Diamides | |
| US20030032807A1 (en) | Method for the production of 1-amino -3-aryl -uracils | |
| CA2811807A1 (en) | Process for preparing pan-cdk inhibitors of the formula (i), and intermediates in the preparation | |
| EP0899262B1 (en) | Process for the preparation of heteroarylcarboxylic amides and esters | |
| EP1873145B1 (en) | Method for producing nicotinic acid derivative or salt thereof | |
| US6087506A (en) | Preparation of hetero arylcarboxamides | |
| US7034156B2 (en) | Method for the production of 1-amino-3-phenyluracil derivatives | |
| JPH11140062A (ja) | ２−置換５−ホルミルチアゾール類の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100105 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100326 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100518 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100604 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4528306 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |