JP4523564B2 - プラズマプロセスでのアーク識別方法およびプラズマ励起装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 39
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 23
- 230000005284 excitation Effects 0.000 title claims description 8
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 13
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 6
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000005328 architectural glass Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32623—Mechanical discharge control means
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/0203—Protection arrangements
- H01J2237/0206—Extinguishing, preventing or controlling unwanted discharges
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Arc Welding Control (AREA)
Description
Claims (12)
- 交流電力ジェネレータ(5)が電力供給のための出力信号(20,21)を供給し、
該交流電力ジェネレータ(5)の出力信号(20,21)または該出力信号を定める該交流電力ジェネレータの内部信号の時間特性に関連するパラメータを測定または検出し、
前記時間特性を考慮して基準パラメータを求め、該基準パラメータと所定のしきい値とを比較し、定められた比較結果が得られた場合にアークを識別する、
プラズマプロセスでのアーク識別方法において、
前記出力信号または前記内部信号の時間特性に関連するパラメータとして、該出力信号または該内部信号の半波の持続時間を求める
ことを特徴とするプラズマプロセスでのアーク識別方法。 - アークが識別された場合に前記出力信号によるプラズマプロセスへの給電を遮断する、請求項1記載の方法。
- 前記出力信号または前記内部信号がゼロとなる時点すなわち前記出力信号または前記内部信号のゼロ交差を検出し、2つのゼロ交差(t1〜t4,t31)間の時間差を求めることにより、半波の持続時間を求める、請求項1または2記載の方法。
- 基準パラメータとしてその時点の半波の持続時間を求める、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 基準パラメータとして2つの半波の持続時間の差または比を求める、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 基準パラメータを求める際に複数の半波の持続時間を考慮する、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- しきい値として所定の値を固定に定める、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
- しきい値はプラズマプロセスに依存して定める、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
- 前記出力信号または前記内部信号の周期を求め、該周期に依存してしきい値を定める、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。
- プラズマプロセスに接続可能な交流電力ジェネレータ(5)が設けられており、
該交流電力ジェネレータは、電力供給のための該交流電力ジェネレータの出力信号(20,21)または該出力信号を定めるための該交流電力ジェネレータの内部信号を監視する信号監視部(12,13)と、該信号監視部に接続された基準パラメータ検出器(15)および比較器(16)と、該比較器に接続された遮断信号形成手段(18)とを有しており、
さらに前記比較器(16)に接続されたしきい値設定器(17)が設けられている、
プラズマ励起装置(1)において、
前記基準パラメータ検出器により前記出力信号または前記内部信号の半波の持続時間が検出される
ことを特徴とするプラズマ励起装置。 - 前記交流電力ジェネレータを制御する制御装置(14)が設けられており、該制御装置内に前記基準パラメータ検出器および前記比較器が配置されている、請求項10記載の装置。
- 前記信号監視部(12,13)は比較器回路として構成されており、前記基準パラメータ検出器はプロセッサとして構成されている、請求項10または11記載の装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP05006680A EP1705687B1 (de) | 2005-03-26 | 2005-03-26 | Verfahren zur Arcerkennung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006278335A JP2006278335A (ja) | 2006-10-12 |
JP4523564B2 true JP4523564B2 (ja) | 2010-08-11 |
Family
ID=35044559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006083799A Active JP4523564B2 (ja) | 2005-03-26 | 2006-03-24 | プラズマプロセスでのアーク識別方法およびプラズマ励起装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1705687B1 (ja) |
JP (1) | JP4523564B2 (ja) |
KR (1) | KR100783454B1 (ja) |
AT (1) | ATE362194T1 (ja) |
DE (1) | DE502005000705D1 (ja) |
PL (1) | PL1705687T3 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004015090A1 (de) | 2004-03-25 | 2005-11-03 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Bogenentladungserkennungseinrichtung |
EP1801946B1 (de) | 2005-12-22 | 2009-01-21 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Verfahren und Vorrichtung zur Arcerkennung in einem Plasmaprozess |
DE502006005363D1 (de) | 2006-11-23 | 2009-12-24 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren zum Erkennen einer Bogenentladung in einem Plasmaprozess und Bogenentladungserkennungsvorrichtung |
US7795817B2 (en) | 2006-11-24 | 2010-09-14 | Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Controlled plasma power supply |
EP1928009B1 (de) | 2006-11-28 | 2013-04-10 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Bogenentladungs-Erkennungseinrichtung, Plasma-Leistungsversorgung und Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen |
DE502006009308D1 (de) | 2006-12-14 | 2011-05-26 | Huettinger Elektronik Gmbh | Bogenentladungs-Erkennungseinrichtung, Plasma-Leistungsversorgung und Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen |
ATE493749T1 (de) | 2007-03-08 | 2011-01-15 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum unterdrücken von bogenentladungen beim betreiben eines plasmaprozesses |
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JP5679241B1 (ja) | 2013-09-27 | 2015-03-04 | 株式会社京三製作所 | 電圧形直流電源装置および電圧形直流電源装置の制御方法 |
DE102013110883B3 (de) | 2013-10-01 | 2015-01-15 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung einer Entladung in einem Plasmaprozess |
EP2905801B1 (en) | 2014-02-07 | 2019-05-22 | TRUMPF Huettinger Sp. Z o. o. | Method of monitoring the discharge in a plasma process and monitoring device for monitoring the discharge in a plasma |
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Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100785865B1 (ko) * | 2005-02-24 | 2007-12-21 | 이엔테크놀로지 주식회사 | 플라즈마 전원장치용 아크 검출 및 아크 에너지 저감 회로 |
-
2005
- 2005-03-26 EP EP05006680A patent/EP1705687B1/de active Active
- 2005-03-26 DE DE502005000705T patent/DE502005000705D1/de active Active
- 2005-03-26 PL PL05006680T patent/PL1705687T3/pl unknown
- 2005-03-26 AT AT05006680T patent/ATE362194T1/de not_active IP Right Cessation
-
2006
- 2006-03-24 JP JP2006083799A patent/JP4523564B2/ja active Active
- 2006-03-24 KR KR1020060026774A patent/KR100783454B1/ko active IP Right Grant
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE502005000705D1 (de) | 2007-06-21 |
EP1705687A1 (de) | 2006-09-27 |
ATE362194T1 (de) | 2007-06-15 |
KR20060103404A (ko) | 2006-09-29 |
PL1705687T3 (pl) | 2007-09-28 |
KR100783454B1 (ko) | 2007-12-07 |
JP2006278335A (ja) | 2006-10-12 |
EP1705687B1 (de) | 2007-05-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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