JP4517770B2 - 窒化物半導体素子 - Google Patents
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また、本発明の窒化物半導体素子は、窒化物半導体と異なる材料よりなる異種基板上、あるいは、前記異種基板上に形成されたバッファ層上に成長された窒化物半導体から前記異種基板を除去して形成された窒化物半導体基板と、前記窒化物半導体基板上に窒化物半導体からなる複数の層が積層成長され、発光ピーク波長が380nm以下となる活性層を含む素子構造と、を具備する窒化物半導体素子であって、前記窒化物半導体基板は、表面に部分的にストライプ状の凹凸が形成された第1の窒化物半導体層と、前記第1の窒化物半導体層上に窒化物半導体の横方向成長を用いて形成され、前記凹凸の凸部上部および凹部内部から成長した第2の窒化物半導体層と、を有し、前記異種基板は、C面を主面とするサファイア基板であり、
前記ストライプの方向は前記サファイア基板のA面の垂直方向に対して前記サファイア基板の主面内で0.1°〜1°の範囲内でずれた方向に形成されていることを特徴とする。
図1は、本発明の一実施の形態である窒化物半導体素子を示す模式的断面図である。
Eg=(1−χ)3.40+1.95χ−Bχ(1−χ)
波長(nm)=1240/Eg
Eg:InGaN井戸層のバンドギャップエネルギー
χ:Inの組成比
3.40(eV):GaNのバンドギャップエネルギー
1.95(eV):InNのバンドギャップエネルギー
B:ボーイングパラメーターを示し、1〜6eVとする。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
波長(nm) 発光効率(%)
窒化物半導体基板 サファイア基板
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
360 0.59 0.25
371 5.70 4.80
377 5.85 5.10
470 6.00 6.00
520 3.00 3.00
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
図6を用いて、基板の相違と、発光ピーク波長の相違による発光効率の変化について以下に考察する。まず、発光ピーク波長が470nm及び520nmの場合には、窒化物半導体基板を用いてなる比較例1のLEDの特性(黒丸印)と、サファイア基板を用いてなる比較例2のLEDの特性(黒四角印)とは、同じ発光効率を有する。そして、これらのLEDは、発光ピーク波長が470nmから380nmに向かって変化すると、発光効率が緩やかに低下する。このような緩やかな低下は、サファイア基板を用いた比較例2のLEDに比べて、転位の少ない窒化物半導体基板を用いた比較例1のLEDの方が低下の割合が小さい。このことは、窒化物半導体基板を用いた比較例1のLEDの方が高い発光効率を維持し易いことを示している。更に、発光ピーク波長が380nm以下となると両者とも、発光効率が急激に低下する傾向を示す。
Claims (7)
- 窒化物半導体と異なる材料よりなる異種基板上、あるいは、前記異種基板上に形成されたバッファ層上に成長された第1の窒化物半導体層と、
前記第1の窒化物半導体層上に窒化物半導体の横方向成長を用いて形成された第2の窒化物半導体層と、
前記第2の窒化物半導体層上に窒化物半導体からなる複数の層が積層成長され、発光ピーク波長が380nm以下となる活性層を含む素子構造と、
を具備し、
前記異種基板は、C面を主面とするサファイア基板であり、
前記第1の窒化物半導体層は、表面に部分的にストライプ状に凹凸が形成されており、当該ストライプの方向は前記サファイア基板のA面の垂直方向に対して前記サファイア基板の主面内で0.1°〜1°の範囲内でずれた方向に形成されていることを特徴とする窒化物半導体素子。 - 窒化物半導体と異なる材料よりなる異種基板上、あるいは、前記異種基板上に形成されたバッファ層上に成長された窒化物半導体から前記異種基板を除去して形成された窒化物半導体基板と、
前記窒化物半導体基板上に窒化物半導体からなる複数の層が積層成長され、発光ピーク波長が380nm以下となる活性層を含む素子構造と、
を具備する窒化物半導体素子であって、
前記窒化物半導体基板は、表面に部分的にストライプ状の凹凸が形成された第1の窒化物半導体層と、前記第1の窒化物半導体層上に窒化物半導体の横方向成長を用いて形成され、前記凹凸の凸部上部および凹部内部から成長した第2の窒化物半導体層と、を有し、
前記異種基板は、C面を主面とするサファイア基板であり、
前記ストライプの方向は前記サファイア基板のA面の垂直方向に対して前記サファイア基板の主面内で0.1°〜1°の範囲内でずれた方向に形成されていることを特徴とする窒化物半導体素子。 - 前記凹凸は、凹部の側面が前記異種基板に達していることを特徴とする請求項1記載の窒化物半導体素子。
- 前記第2の窒化物半導体層の転位密度は、106/cm2以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の窒化物半導体素子。
- 前記異種基板の主面は、オフアングルしていることを特徴とする請求項1又は2に記載の窒化物半導体素子。
- 前記オフアングルしている異種基板のオフ角が0.1°〜0.5°の範囲内であることを特徴とする請求項5記載の窒化物半導体素子。
- 前記活性層は、Inf Ga1-f N(0≦f<0.1)を用いてなることを特徴とする請求項1又は2に記載の窒化物半導体素子。
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