JP4507670B2 - 導波路型波長変換素子の製造方法 - Google Patents
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(1)周期的な分極反転構造を有する周期的分極反転構造基板を製造する(例えば、特許文献1,2,3,4参照。)。
(2)周期的分極反転構造基板より屈折率の小さい低屈折率基板上に周期的分極反転構造基板を接着する。
(3)周期的分極反転構造基板の導波路とする部分の両側部分を研磨して薄膜化し、リッジ構造の導波路を形成する(例えば、非特許文献1参照。)。
このため、製造工程が煩雑となる問題点がある。また、周期的分極反転構造基板の他に、低屈折率基板が必要になる問題点もある。
そこで、本発明の目的は、製造工程を簡素化できると共に低屈折率基板も必要としない構造を有する導波路型波長変換素子およびその製造方法を提供することにある。
上記第1の観点による導波路型波長変換素子では、周期的分極反転構造基板に2以上の溝を形成し、それら溝の側壁によって挟まれた多角形断面の部分を導波路としている。このため、低屈折率基板上に周期的分極反転構造基板を均一に接着する工程や研磨工程が必要なくなり、製造工程を簡素化できると共に低屈折率基板も必要としない。
上記構成において、多角形断面は、例えば三角形断面、四角形断面、五角形断面、六角形断面、七角形断面などである。
上記第2の観点による導波路型波長変換素子では、溝に樹脂を充填するため、物理的強度を高めることが出来る。また、周期的分極反転構造基板より屈折率の小さい樹脂とするため、光学的にも好適となる。
上記第3の観点による導波路型波長変換素子の製造方法では、前記第1の観点の導波路型波長変換素子を好適に製造できる。
上記第4の観点による導波路型波長変換素子の製造方法では、レーザにより溝を形成するため、ソーを用いるよりも、周期的分極反転構造基板に与える物理的衝撃を小さくできる。
上記第5の観点による導波路型波長変換素子の製造方法では、1つの溝を形成する毎に該溝に樹脂を充填するため、溝による物理的強度の低下を補償でき、後の加工を行い易くなる。
この導波路型波長変換素子100は、周期的な分極反転領域1aを有した周期的分極反転構造基板1の表面より形成された溝21,22の側壁によって挟まれた三角形断面の導波路4を有している。溝21,22には、樹脂31,32が充填されている。また、表面には、樹脂30が塗布されている。
ステップS1では、例えばタンタル酸リチウム結晶からなる基板に周期的な分極反転領域1aを形成し、図3に示す如き周期的分極反転構造基板1を製作する。製作方法は、従来公知の製作方法でもよいし、特願2004−12784号で提案されている製作方法でもよい。
ステップS3では、図5に示すように、周期的分極反転構造基板1の表面に樹脂30を塗布することにより、溝21に樹脂31を充填し、硬化させる。この樹脂は、周期的分極反転構造基板1より屈折率が小さい樹脂であり、例えばポリイミド樹脂である。
ステップS5では、図7に示すように、周期的分極反転構造基板1の表面に樹脂30を塗布することにより、溝22に樹脂32を充填し、硬化させる。
ステップS7では、ダイシング面を研磨し、保護のためのコーティングを行う。
以上により、図1に示す導波路型波長変換素子100を製造できる。
この導波路型波長変換素子200は、周期的な分極反転領域1aを有した周期的分極反転構造基板1の表面より形成された溝21,22,23,24の側壁によって挟まれた四角形断面の導波路4を2つ有している。溝21,22,23,24には、樹脂31,32,33,34が充填されている。また、表面には、樹脂30が塗布されている。
なお、1つの周期的分極反転構造基板1に導波路4を3つ以上並べて形成してもよい。
この導波路型波長変換素子300は、周期的な分極反転領域1aを有した周期的分極反転構造基板1の表面より形成された溝21,22,23,24の側壁によって挟まれた五角形断面の導波路4を有している。溝21,22,23,24には、樹脂31,32,33,34が充填されている。また、表面には、樹脂30が塗布されている。
導波路4の光入力側の厚さDfよりも光出力側の厚さDrの方が大きくなっている。
1a 分極反転領域
21〜24 溝
30,31〜34 樹脂
4 導波路
100,200,300 導波路型波長変換素子
Claims (4)
- 周期的な分極反転領域を有した基板の一つの表面より複数の溝を形成し、前記複数の溝の側壁のみ、又は前記複数の溝の側壁及び前記基板の一つの表面によってのみ挟まれた多角形断面の導波路を形成することを特徴とする導波路型波長変換素子の製造方法。
- 請求項1に記載の導波路型波長変換素子の製造方法において、前記導波路は四角形以上の多角形であることを特徴とする導波路型波長変換素子の製造方法。
- 請求項1に記載の導波路型波長変換素子の製造方法において、前記溝をレーザ加工法によって形成することを特徴とする導波路型波長変換素子の製造方法。
- 請求項1から請求項3のいずれかに記載の導波路型波長変換素子の製造方法において、前記溝を1つ形成する毎に該溝に前記基板より屈折率の小さい樹脂を充填することを2回以上繰り返して前記導波路を形成することを特徴とする導波路型波長変換素子の製造方法。
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JPH0262520A (ja) * | 1988-08-29 | 1990-03-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光波長変換素子およびその製造方法 |
JPH09269430A (ja) * | 1996-03-29 | 1997-10-14 | Ngk Insulators Ltd | 光導波路デバイスの製造方法 |
JP2004029359A (ja) * | 2002-06-25 | 2004-01-29 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波路構造及びその製造方法 |
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