JP4500031B2 - Liquid member dropping device and liquid member dropping method - Google Patents

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本発明は、液晶表示パネルの製造に用いて好適な液状部材の滴下装置及び液状部材の滴下方法の改良に関する。   The present invention relates to an improvement of a liquid member dropping apparatus and a liquid member dropping method suitable for use in manufacturing a liquid crystal display panel.

液晶表示パネルの製造では、2枚のガラス基板を、一方のガラス基板にその表示領域を囲むように矩形状に塗布されたシール剤を介して貼り合せ、その貼り合わされた2枚の基板とシール剤とで形成された空間に液晶を封止することが行なわれる。この液晶は、滴下装置によって、一方の基板におけるシール剤で囲まれた領域内に滴下される。   In the manufacture of a liquid crystal display panel, two glass substrates are bonded to one glass substrate through a sealing agent applied in a rectangular shape so as to surround the display region, and the two bonded substrates and a seal are sealed. The liquid crystal is sealed in the space formed with the agent. The liquid crystal is dropped into a region surrounded by the sealant on one substrate by a dropping device.

従来の液晶表示パネルの製造では、滴下装置において、容器内に収容された液晶を、所定量、ノズル先端から吐出させて基板上に滴下し、貼り合わせ装置において、2枚のガラス基板を貼り合わせる方法が採用されている。   In the manufacture of a conventional liquid crystal display panel, a predetermined amount of liquid crystal contained in a container is discharged from a nozzle tip and dropped onto a substrate in a dropping device, and two glass substrates are bonded together in a bonding device. The method is adopted.

従来の液晶の滴下装置では、液晶を収容した容器と基板を載置したステージとを互いに基板の面方向に相対移動させつつ液晶を滴下させるが、その際、滴下操作を効率よく行ない、また滴下位置が基板のシール剤で囲まれた領域内に均一に分布させるために、基板に対しノズルを所定速度で相対移動させつつ、予め等間隔に位置付けられた滴下位置を走査するように構成されている(例えば、特許文献1参照。)。   In the conventional liquid crystal dropping device, the liquid crystal is dropped while the container containing the liquid crystal and the stage on which the substrate is placed are moved relative to each other in the surface direction of the substrate. At that time, the dropping operation is performed efficiently. In order to uniformly distribute the position within the region surrounded by the sealant of the substrate, the nozzles are moved relative to the substrate at a predetermined speed while scanning the dropping positions positioned at equal intervals in advance. (For example, refer to Patent Document 1).

図9は、基板1における液晶Lの滴下パターンを示したもので、シール剤2で囲まれた領域内に設定された滴下位置に番号(L1,L2,・・・L20)を付すとともに、各滴下位置に液晶Lを滴下する際の基板に対するノズルの移動方向を矢印で示している。
特開平5−281562号公報
FIG. 9 shows a dropping pattern of the liquid crystal L on the substrate 1. Numbers (L 1, L 2,... L 20) are assigned to the dropping positions set in the region surrounded by the sealing agent 2, and The moving direction of the nozzle relative to the substrate when the liquid crystal L is dropped at the dropping position is indicated by an arrow.
JP-A-5-281562

上記のように、液状部材としての液晶を基板等に滴下する従来の液晶の滴下装置では、基板と液晶を収納した容器とを、予め等間隔に位置付けられた滴下位置を順次走査するように相対移動させつつ、液晶を滴下させている。   As described above, in a conventional liquid crystal dropping device that drops liquid crystal as a liquid member onto a substrate or the like, the substrate and the container containing the liquid crystal are relatively scanned so as to sequentially scan the dropping positions that are positioned at equal intervals in advance. The liquid crystal is dropped while moving.

最近では、液晶表示パネルの大型化につれて表示領域が大きくなり、その結果表示領域を囲むように塗布されたシール剤で囲まれる領域も大きくなり、その領域内に滴下される液晶の滴下個所も増加して、1枚の基板面へ液晶を滴下するために相当の時間を要する。   Recently, as the size of the liquid crystal display panel increases, the display area increases, and as a result, the area surrounded by the sealing agent applied to surround the display area also increases, and the number of liquid crystal dripping points also increases. Therefore, it takes a considerable time to drop the liquid crystal on one substrate surface.

液晶滴下工程のスループットを向上させようとすると、当然ながら、図9に矢印で示した方向における基板に対するノズルの相対移動速度を高める必要がある。   In order to improve the throughput of the liquid crystal dropping process, naturally, it is necessary to increase the relative movement speed of the nozzle with respect to the substrate in the direction indicated by the arrow in FIG.

一方、液晶表示パネルの製造では、シール剤で囲まれた領域内に滴下されるべき液晶の総量自体に過不足があってはならないので、ノズルからは常に1回の滴下に要求される量の液晶が吐出されるように調整制御される。   On the other hand, in the manufacture of a liquid crystal display panel, the total amount of liquid crystal to be dripped in the region surrounded by the sealing agent should not be excessive or deficient. Adjustment control is performed so that liquid crystal is discharged.

ところで、基板面に向けて、ノズルから液晶を滴下させたとき、基板面に衝突した液晶は跳ね返り、四方に飛び散る現象が発生する。   By the way, when the liquid crystal is dropped from the nozzle toward the substrate surface, the liquid crystal that collides with the substrate surface rebounds and scatters in all directions.

すなわち、図10に要部断面を示したように、容器3内に収容された液晶Lは、不図示の圧縮ガス供給源に接続された供給管3aを介して供給される所定圧力の圧縮ガスによる加圧を受けているので、不図示の駆動源により矢印Z方向に移動するシャフト5によるノズル3bの開動作中、基板1面に向けて勢い良く吐出される。そして、ノズル3bから吐出された液晶Lが基板1に衝突したとき、図10にL5で示したようにその一部は跳ね返って四方に飛散する。   That is, as shown in the cross section of the main part in FIG. 10, the liquid crystal L accommodated in the container 3 is compressed gas having a predetermined pressure supplied via a supply pipe 3a connected to a compressed gas supply source (not shown). Therefore, during the opening operation of the nozzle 3b by the shaft 5 moving in the arrow Z direction by a drive source (not shown), the nozzle 3b is ejected vigorously toward the surface of the substrate 1. When the liquid crystal L ejected from the nozzle 3b collides with the substrate 1, a part of the liquid crystal bounces back and scatters in all directions as indicated by L5 in FIG.

基板1とノズル3bとの間の相対移動がゼロの静止した状態において、液晶Lが四方に飛び散る範囲は、ノズル3bから吐出される液晶Lの吐出量や、ノズル3b先端から基板1面までの距離、あるいはノズル3bから吐出される液晶Lの吐出速度、さらには液晶L自体の粘度等によって異なるが、これらの条件が定まったとき、ほぼ一定の飛散距離範囲内に収まると考えることができる。   In a stationary state where the relative movement between the substrate 1 and the nozzle 3b is zero, the range in which the liquid crystal L scatters in all directions is the amount of liquid crystal L discharged from the nozzle 3b or from the tip of the nozzle 3b to the surface of the substrate 1. Although it varies depending on the distance, the discharge speed of the liquid crystal L discharged from the nozzle 3b, the viscosity of the liquid crystal L itself, and the like, it can be considered that these conditions fall within an almost constant scattering distance range.

図10は、各滴下位置のうち、滴下位置L5における滴下の様子を模式的に示したものであるが、ノズル3bに対して基板1が矢印R方向に相対移動している状況のもとでは、基板1面に衝突して跳ね返った液晶Lが空中にある間にも基板1が矢印R方向に相対移動しているので、図10で右側に跳ね返った液晶Lは、上述の基板1とノズル3bとの間の相対移動がゼロの静止した状態で同方向に跳ね返った液晶Lよりも、基板1が矢印R方向に相対移動している分だけ飛散距離が増加することとなる。従って、基板1とノズル3bとの間の相対移動がゼロの静止状態ではシール剤2までの間の距離rの範囲内に落ちるはずの飛散した液晶Lも、図示のようにシール剤2に近い滴下位置にあっては、基板1の矢印R方向への相対移動により、シール剤2で囲まれた領域を飛び越して基板1面に落下するおそれがある。   FIG. 10 schematically shows the state of dropping at the dropping position L5 among the dropping positions. Under the situation where the substrate 1 is moving relative to the nozzle 3b in the direction of the arrow R. Since the substrate 1 is relatively moved in the direction of the arrow R while the liquid crystal L bounced off the surface of the substrate 1 is in the air, the liquid crystal L bounced to the right in FIG. The scattering distance is increased by the amount of relative movement of the substrate 1 in the direction of the arrow R, compared to the liquid crystal L that has bounced back in the same direction in a stationary state where the relative movement with respect to 3b is zero. Accordingly, the scattered liquid crystal L that should fall within the distance r between the substrate 1 and the nozzle 3b in the stationary state where the relative movement between the substrate 1 and the nozzle 3b is zero is also close to the sealant 2 as shown in the figure. At the dropping position, the relative movement of the substrate 1 in the direction of arrow R may jump over the area surrounded by the sealant 2 and fall onto the surface of the substrate 1.

この領域の外に飛び出す液晶Lの量は、液晶滴下工程のスループットを向上させようとして、液晶Lの滴下を行なうときの基板1とノズル3bとの相対移動速度を高めれば高めるほど多くなる。シール剤2で囲まれた領域の外に飛び散った液晶Lは基板1面を汚染するだけでなく、その飛び散った量だけ、本来シール剤2で囲まれた領域内に滴下されるべき液晶Lの総量が不足することになり、製造される液晶表示パネルに適正な表示画面を形成できなくなる恐れがある。   The amount of the liquid crystal L that jumps out of this region increases as the relative movement speed between the substrate 1 and the nozzle 3b when the liquid crystal L is dropped is increased so as to improve the throughput of the liquid crystal dropping step. The liquid crystal L scattered outside the area surrounded by the sealant 2 not only contaminates the surface of the substrate 1 but also the amount of the liquid crystal L to be dropped into the area originally surrounded by the sealant 2. The total amount is insufficient, and there is a possibility that an appropriate display screen cannot be formed on the manufactured liquid crystal display panel.

そこで本発明は、滴下工程におけるスループットの低下を防止しつつ、液状部材を所定量、所定領域内に適正に滴下することができ、製品品質を向上させることのできる液状部材の滴下装置及び液状部材の滴下方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention provides a liquid member dropping device and a liquid member that can appropriately drop a predetermined amount of a liquid member into a predetermined region and improve product quality while preventing a reduction in throughput in the dropping step. It aims at providing the dripping method of.

本発明における液状部材の滴下装置の第1の発明は、容器に収容された前記液状部材を吐出させる吐出ポートと、この吐出ポートに対向配置されて基板を載置したステージとを有し、前記吐出ポートと前記ステージとを前記基板の面方向に相対移動させることにより、前記液状部材を基板上の所定領域内に設定された複数の滴下位置へ滴下する液状部材の滴下装置において、前記滴下位置に対して前記液状部材を前記ステージと前記吐出ポートとの相対移動中に滴下させ、前記滴下位置に応じて前記相対移動の移動速度を変化させるように制御する制御手段を具備することを特徴とする。   A first aspect of the liquid member dropping device according to the present invention includes a discharge port for discharging the liquid member accommodated in a container, and a stage on which the substrate is placed so as to face the discharge port, In the liquid member dropping apparatus for dropping the liquid member to a plurality of dropping positions set in a predetermined region on the substrate by relatively moving the discharge port and the stage in the surface direction of the substrate, the dropping position The liquid member is dropped during relative movement between the stage and the discharge port, and control means is provided for controlling the movement speed of the relative movement according to the dropping position. To do.

このように、液状部材の滴下装置に係る第1の発明は、基板を載置したステージと液状部材を吐出させる吐出ポートとの相対移動の移動速度を変化させるので、相対移動によって吐出ポートが所定領域の縁付近に到達したとき、相対移動速度を低下させることにより、液状部材が所定領域外に飛び散るのを抑制することができる。   As described above, the first aspect of the liquid member dropping apparatus changes the relative movement speed between the stage on which the substrate is placed and the discharge port that discharges the liquid member. When the vicinity of the edge of the region is reached, it is possible to suppress the liquid member from scattering outside the predetermined region by reducing the relative movement speed.

本発明における液晶部材の滴下装置の第2の発明は、容器に収容された前記液状部材を吐出させる吐出ポートと、この吐出ポートに対向配置されて基板を載置したステージとを有し、前記吐出ポートと前記ステージとを前記基板の面方向に相対移動させることにより、前記液状部材を基板上の所定領域内に設定された複数の滴下位置へ滴下する液状部材の滴下装置において、前記滴下位置に応じて、前記吐出ポートからの前記液状部材の吐出速度を制御する制御手段を具備することを特徴とする。 The liquid crystal member dropping apparatus according to a second aspect of the present invention includes a discharge port for discharging the liquid member accommodated in a container, and a stage on which the substrate is placed so as to face the discharge port, In the liquid member dropping apparatus for dropping the liquid member to a plurality of dropping positions set in a predetermined region on the substrate by relatively moving the discharge port and the stage in the surface direction of the substrate, the dropping position And a control means for controlling the discharge speed of the liquid member from the discharge port.

このように、液状部材の滴下装置に係る第2の発明は、液状部材の吐出ポートからの吐出速度を制御する制御手段を有するので、相対移動によって吐出ポートが所定領域の縁付近に到達したときに吐出速度を低下させることにより、液状部材が所定領域外に飛び散るのを抑制することができる。   As described above, the second invention relating to the dropping device for the liquid member has the control means for controlling the discharge speed of the liquid member from the discharge port, so that when the discharge port reaches the vicinity of the edge of the predetermined region by relative movement. By reducing the discharge speed, the liquid member can be prevented from scattering outside the predetermined region.

本発明における液晶部材の滴下装置の第3の発明は、容器に収容された前記液状部材を吐出させる吐出ポートと、この吐出ポートに対向配置されて基板を載置したステージとを有し、前記吐出ポートと前記ステージとを前記基板の面方向に相対移動させることにより、前記液状部材を基板上の所定領域内に設定された複数の滴下位置へ滴下する液状部材の滴下装置において、前記ステージに載置された前記基板と前記吐出ポートとの間隔を可変とする鉛直軸移動機構と、前記滴下位置に応じて前記鉛直軸移動機構を駆動制御して前記基板と前記吐出ポートとの間隔を変化させる制御手段とを具備することを特徴とする。 A third aspect of the liquid crystal member dropping device according to the present invention includes a discharge port for discharging the liquid member accommodated in a container, and a stage on which the substrate is placed so as to face the discharge port, In the liquid member dropping apparatus for dropping the liquid member to a plurality of dropping positions set in a predetermined region on the substrate by relatively moving the discharge port and the stage in the surface direction of the substrate, A vertical axis moving mechanism that makes the interval between the placed substrate and the discharge port variable, and a drive control of the vertical axis moving mechanism according to the dropping position to change the interval between the substrate and the discharge port. And a control means for controlling the operation.

このように、液状部材の滴下装置の第3の発明は、基板と吐出ポートとの間隔を変化させる制御手段を有するので、相対移動によって吐出ポートが所定領域の縁付近に到達したときに基板と吐出ポートとの間隔を近づけることにより、液状部材が所定領域外に飛び散るのを抑制することができる。   Thus, since the third invention of the liquid member dropping apparatus has the control means for changing the distance between the substrate and the discharge port, when the discharge port reaches the vicinity of the edge of the predetermined region by relative movement, By reducing the distance from the discharge port, the liquid member can be prevented from scattering outside the predetermined region.

本発明に係る液状部材の滴下装置の第4の発明は、容器に収容された前記液状部材を吐出させる吐出ポートと、この吐出ポートに対向配置されて基板を載置したステージとを有し、前記吐出ポートと前記ステージとを前記基板の面方向に相対移動させることにより、前記液状部材を基板上の所定領域内に設定された複数の滴下位置へ滴下する液状部材の滴下装置において、前記複数の滴下位置に対し、前記所定領域の縁から前記所定領域の中央に向かう方向へと順次液状部材を滴下するように前記吐出ポートと前記ステージとの前記相対移動を制御する制御手段を具備することを特徴とする。 A fourth aspect of the liquid member dropping device according to the present invention includes a discharge port for discharging the liquid member accommodated in a container, and a stage on which the substrate is placed so as to face the discharge port. In the liquid member dropping apparatus for dropping the liquid member to a plurality of dropping positions set in a predetermined region on the substrate by relatively moving the discharge port and the stage in the surface direction of the substrate, Control means for controlling the relative movement of the discharge port and the stage so that the liquid member is sequentially dropped from the edge of the predetermined area toward the center of the predetermined area with respect to the dropping position of the predetermined area. It is characterized by.

このように、液状部材の滴下装置の第4の発明によれば、液状部材を所定領域の縁から前記所定領域の中央に向かう方向へと滴下するので、液状部材が所定領域外に飛び散るのを抑制することができる。   As described above, according to the fourth aspect of the liquid member dropping apparatus, the liquid member is dropped from the edge of the predetermined region in the direction toward the center of the predetermined region, so that the liquid member is scattered outside the predetermined region. Can be suppressed.

次に、本発明に係る液状部材の滴下方法の第1の発明は、容器に収容された前記液状部材を吐出させる吐出ポートとこの吐出ポートに対向配置されて基板を載置したステージとを前記基板の面方向に相対移動させつつ、前記吐出ポートから液状部材を基板上の所定領域内に設定された複数の滴下位置へ滴下させる液状部材の滴下方法であって、前記滴下位置に応じて前記相対移動の移動速度を変化させることを特徴とする。   Next, a first aspect of the method for dropping a liquid member according to the present invention includes: a discharge port for discharging the liquid member housed in a container; and a stage on which the substrate is placed so as to face the discharge port. A liquid member dropping method for dropping a liquid member from a discharge port to a plurality of dropping positions set in a predetermined region on the substrate while relatively moving in a surface direction of the substrate, wherein the liquid member is dropped according to the dropping position. The moving speed of the relative movement is changed.

このように、液状部材の滴下方法の第1の発明は、基板を載置したステージと液状部材を吐出させる吐出ポートとの相対移動の移動速度を変化させるので、相対移動によって吐出ポートが所定領域の縁付近に到達したとき、相対移動速度を低下させることにより、液状部材が所定領域外に飛び散るのを抑制することができる。   As described above, in the first aspect of the liquid member dropping method, the movement speed of the relative movement between the stage on which the substrate is placed and the discharge port for discharging the liquid member is changed. When the vicinity of the edge is reached, it is possible to suppress the liquid member from scattering outside the predetermined region by reducing the relative movement speed.

本発明に係る液晶部材の滴下方法の第2の発明は、容器に収容された前記液状部材を吐出させる吐出ポートとこの吐出ポートに対向配置されて基板を載置したステージとを前記基板の面方向に相対移動させて、前記吐出ポートから液状部材を基板上の所定領域内に設定された複数の滴下位置へ滴下させる液状部材の滴下方法であって、前記滴下位置に応じて、前記吐出ポートからの前記液状部材の吐出速度、前記基板と前記吐出ポートとの間隔の少なくとも一方を変化させることを特徴とする。 According to a second aspect of the method for dropping a liquid crystal member according to the present invention, there is provided a discharge port for discharging the liquid member accommodated in a container and a stage on which the substrate is placed so as to face the discharge port. A liquid member dropping method in which a liquid member is dropped from a plurality of drop positions to a plurality of drop positions set in a predetermined region on a substrate by moving relative to each other in the direction, and the discharge port is set according to the drop position. discharge speed of the liquid member from, characterized in that make changing at least one of a distance between the substrate and the discharge port.

このように、液状部材の滴下方法の第2の発明は、液状部材の吐出ポートからの吐出速度、基板と前記吐出ポートとの間隔の少なくとも一方を制御するので、相対移動によって吐出ポートが所定領域の縁付近に到達したとき、吐出速度を低下、或いは基板と前記吐出ポートとの間隔を近接させることにより、液状部材が所定領域外に飛び散るのを抑制することができる。   Thus, in the second invention of the dropping method of the liquid member, at least one of the discharge speed of the liquid member from the discharge port and the interval between the substrate and the discharge port is controlled. When the vicinity of the edge is reached, it is possible to suppress the liquid member from being scattered outside the predetermined region by reducing the discharge speed or bringing the distance between the substrate and the discharge port close.

本発明に係る液晶部材の滴下方法の第3の発明は、容器に収容された前記液状部材を吐出させる吐出ポートとこの吐出ポートに対向配置されて基板を載置したステージとを前記基板の面方向に相対移動させつつ、前記吐出ポートから液状部材を基板上の所定領域内に設定された複数の滴下位置へ滴下させる液状部材の滴下方法であって、前記複数の滴下位置に対し、前記所定領域の縁から前記所定領域の中央に向かう方向へと順次液状部材を滴下させることを特徴とする。   According to a third aspect of the method for dropping a liquid crystal member according to the present invention, there is provided a discharge port for discharging the liquid member accommodated in a container and a stage on which the substrate is placed so as to face the discharge port. A liquid member dropping method in which a liquid member is dropped from a discharge port to a plurality of dropping positions set in a predetermined region on a substrate while moving relative to each other in the direction. The liquid member is sequentially dropped from the edge of the region toward the center of the predetermined region.

このように、液状部材の滴下方法の第3の発明によれば、液状部材を所定領域の縁から前記所定領域の中央に向かう方向に向けて滴下するので、液状部材が所定領域外に飛び散るのを抑制することができる。   As described above, according to the third aspect of the liquid member dropping method, the liquid member is dropped from the edge of the predetermined region toward the center of the predetermined region, so that the liquid member is scattered outside the predetermined region. Can be suppressed.

このように本発明の液状部材の滴下装置及び液状部材によれば、所定領域の縁近くでの滴下条件を変更したり、あるいは滴下移動方向を特定することにより、スループットの低下を防止しつつ、液状部材を所定量、所定領域内に適正に滴下することができ、製品品質を向上させることができる。   Thus, according to the dropping device and the liquid member of the liquid member of the present invention, by changing the dropping conditions near the edge of the predetermined region, or by specifying the dropping movement direction, while preventing a decrease in throughput, The liquid member can be appropriately dropped in a predetermined amount within a predetermined region, and the product quality can be improved.

以下、本発明による液状部材の滴下装置及び液状部材の滴下方法の一実施の形態を図1ないし図8を参照して詳細に説明する。なお、図9及び図10で示した従来の構成と同一構成には同一符号を付し、詳細な説明は省略する。   Hereinafter, an embodiment of a liquid member dropping device and a liquid member dropping method according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same structure as the conventional structure shown in FIG.9 and FIG.10, and detailed description is abbreviate | omitted.

図1は本発明による液状部材の滴下装置の第1の実施例を示す構成図である。図2は、図1に示した液状部材の滴下装置の要部を拡大して示した構成図、図3は、図2のA−A矢視断面図、図4は、図1に示した制御手段としての制御器の構成図である。   FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of a liquid member dropping apparatus according to the present invention. 2 is an enlarged configuration diagram showing the main part of the liquid member dropping device shown in FIG. 1, FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 2, and FIG. 4 is shown in FIG. It is a block diagram of the controller as a control means.

図1において、滴下装置4は、基板1を載置するステージ41と、基板1面に液晶Lを滴下する供給部43と、ステージ41及び供給部43を駆動制御する制御器44とを有する。   In FIG. 1, the dropping device 4 includes a stage 41 on which the substrate 1 is placed, a supply unit 43 that drops the liquid crystal L onto the surface of the substrate 1, and a controller 44 that drives and controls the stage 41 and the supply unit 43.

ステージ41は、サーボモータ等により駆動されるX−Y−θ移動機構411を有し、載置した基板1をX−Y−θ方向に移動可能に構成されている。   The stage 41 has an XY-θ moving mechanism 411 driven by a servo motor or the like, and is configured to be able to move the placed substrate 1 in the XY-θ direction.

供給部43は、液状部材としての液晶Lを収容した容器42と、箱状の筐体431を有する。筐体431の中には、サーボモータ等からなるθ回転機構432を備え、θ回転機構432は、制御器44の駆動制御を受け、後述する回転部434を駆動させてステージ41上の基板1に向けて液晶Lを吐出させる。   The supply unit 43 includes a container 42 that stores liquid crystal L as a liquid member, and a box-shaped housing 431. The housing 431 includes a θ rotation mechanism 432 formed of a servo motor or the like. The θ rotation mechanism 432 receives drive control of the controller 44 and drives a rotation unit 434 described later to drive the substrate 1 on the stage 41. The liquid crystal L is discharged toward

図2に要部を拡大して示すように、供給部43は、容器42から供給される液晶Lを取り込む取出しポート433a、及び液晶Lを基板1に向け吐出する吐出口を有する吐出ポート433bを有する固定部433と、取出しポート433aを介して取り込んだ液晶Lを一時的に蓄える2個の備蓄室434a,434bが形成された回転部434とを備えている。   As shown in an enlarged view of the main part in FIG. 2, the supply unit 43 includes a take-out port 433 a that takes in the liquid crystal L supplied from the container 42, and a discharge port 433 b that has a discharge port that discharges the liquid crystal L toward the substrate 1. And a rotating part 434 in which two storage chambers 434a and 434b for temporarily storing the liquid crystal L taken in via the take-out port 433a are formed.

固定部433の取出しポート433aと吐出ポート433bは、回転部434の回転中心を中心とする円周上に回転部434の回転中心に関して点対象となる位置に設けられる。   The take-out port 433a and the discharge port 433b of the fixed portion 433 are provided at positions that are point targets with respect to the rotation center of the rotation portion 434 on the circumference around the rotation center of the rotation portion 434.

また、回転部434は、固定部433に対して液密に設けられる。回転部434の2つの備蓄室434a,434bは、それぞれ回転部434を上下に貫通し、図3に示したように、回転部434の回転中心を中心とし取出しポート433aと吐出ポート433bが配置された円周と同一半径の円周上において、回転部434の回転中心に関して点対称となる位置に設けられる。これにより、一方の備蓄室434aが取出しポート433aに対向するとき、他方の備蓄室434bは吐出ポート433bに対向することとなり、液晶Lの取り出し工程と、液晶Lの吐出工程とは同時に並行して行なわれる。   The rotating unit 434 is provided in a liquid-tight manner with respect to the fixed unit 433. The two storage chambers 434a and 434b of the rotating part 434 penetrate the rotating part 434 vertically, respectively, and as shown in FIG. 3, an extraction port 433a and a discharge port 433b are arranged around the rotation center of the rotating part 434. On the circumference having the same radius as the circumference of the circle, it is provided at a position that is point-symmetric with respect to the rotation center of the rotation unit 434. As a result, when one storage chamber 434a faces the take-out port 433a, the other storage chamber 434b faces the discharge port 433b, and the liquid crystal L removal step and the liquid crystal L discharge step are simultaneously performed in parallel. Done.

また、回転部434は、その回転中心をθ回転機構432の回転軸432aに同軸に取り付け固定される。   Further, the rotation part 434 is fixedly attached to the rotation axis 432a of the θ rotation mechanism 432 coaxially with the rotation center.

また、図1では省略して示していないが、供給部43は、図2に示すように、回転部434に相対するカム435を、回転軸432aの上方周囲に、回転軸432aを遊挿するように固定配置している。また、カム435と回転部434との間には、2個のガイド孔436a,436bを有する回転板436が回転軸432aに固定して設けられ、各ガイド孔436a,436bは各備蓄室434a,434bにそれぞれ対向する位置に設けられる。 Although not shown in FIG. 1, the supply unit 43 loosely inserts the rotation shaft 432a around the rotation shaft 432a around the rotation shaft 432a, as shown in FIG. It is fixedly arranged. In addition, a rotating plate 436 having two guide holes 436a and 436b is provided between the cam 435 and the rotating portion 434 so as to be fixed to the rotating shaft 432a. The guide holes 436a and 436b are provided in the storage chambers 434a and 434a, respectively. It is provided at a position facing each of 434b.

そして、図2に示したように、回転部434とカム435の間には、ガイド孔436a,436bを貫通してプランジャ437a,437bが上下動自在に組み込まれ、プランジャ437a,437bの上端部がばね438a,438bに付勢されて、カム435のカム面に衝合しているので、プランジャ437a,437bの下端部は、上記カム面に沿いつつ備蓄室434a,434b内を上下方向に往復動を行う。なお、ばね438a,438bは、プランジャ437a,437bの上方に設けたフランジ437aa,437baと回転板436との間に介装されている。   As shown in FIG. 2, between the rotating portion 434 and the cam 435, the plungers 437a and 437b are incorporated so as to freely move up and down through the guide holes 436a and 436b, and the upper ends of the plungers 437a and 437b are Since the springs 438a and 438b are biased and abut against the cam surface of the cam 435, the lower ends of the plungers 437a and 437b reciprocate vertically in the storage chambers 434a and 434b along the cam surface. I do. The springs 438a and 438b are interposed between flanges 437aa and 437ba provided above the plungers 437a and 437b and the rotating plate 436.

カム435のカム面は、θ回転機構432の駆動により、回転部434の備蓄室434a,434bが固定部433の取出しポート433aに連通している期間中にプランジャ437a,437bが下限位置から上限位置まで上昇するように形成される。そして、このときのプランジャ437a,437bの上動により、取出しポート433aから備蓄室434a,434b内に、1回の滴下に要求される量の液晶Lが収容される。   The cam surface of the cam 435 moves the plungers 437a and 437b from the lower limit position to the upper limit position during the period in which the storage chambers 434a and 434b of the rotation part 434 communicate with the take-out port 433a of the fixed part 433 by driving the θ rotation mechanism 432. Formed to rise. Then, due to the upward movement of the plungers 437a and 437b at this time, the amount of liquid crystal L required for one drop is accommodated from the take-out port 433a into the storage chambers 434a and 434b.

また他方において、カム435のカム面は、回転部434の備蓄室434a,434bが固定部433の吐出ポート433bに連通している期間中にプランジャ437a,437bが上限位置から下限位置まで下降するように形成される。そして、このときのプランジャ437a,437bの下降動により、備蓄室434a,434b内に収容された液晶Lがすべて押し出される。   On the other hand, the cam surface of the cam 435 is such that the plungers 437a and 437b are lowered from the upper limit position to the lower limit position during the period in which the storage chambers 434a and 434b of the rotating part 434 communicate with the discharge port 433b of the fixed part 433. Formed. At this time, all the liquid crystals L accommodated in the storage chambers 434a and 434b are pushed out by the downward movement of the plungers 437a and 437b.

そして、プランジャ437a,437bによる液晶Lの押し出しにより、図2に示すように、吐出ポート433b内が液晶Lで満たされた後は、プランジャ437a,437bの1回の押し出し毎に吐出ポート433bから1回の滴下に要求される量の液晶Lが吐出されて基板1上に滴下される。なお、上記構成において、カム435によるプランジャ437a,437bの押し出し機構に代えて、シリンダ機構を採用するようにしても良い。   Then, after the liquid crystal L is pushed out by the plungers 437a and 437b, as shown in FIG. 2, after the inside of the discharge port 433b is filled with the liquid crystal L, 1 is discharged from the discharge port 433b every time the plungers 437a and 437b are pushed out. The amount of liquid crystal L required for one drop is discharged and dropped onto the substrate 1. In the above configuration, a cylinder mechanism may be adopted instead of the pushing mechanism of the plungers 437a and 437b by the cam 435.

以上の構成により、供給部43は、θ回転機構432の回転により、所定量の液晶Lの取り出し機能と、その取り出した所定量の液晶Lを基板1上へ吐出させる吐出機能との2つの機能のポンプ作用を営む。   With the above configuration, the supply unit 43 has two functions, that is, a function of taking out a predetermined amount of liquid crystal L and a discharge function of discharging the taken out predetermined amount of liquid crystal L onto the substrate 1 by the rotation of the θ rotation mechanism 432. Operates the pumping action.

なお、上記のように構成した供給部43は、θ回転機構432の回転速度の速度制御によって、吐出ポート433bからの液晶Lの吐出速度を変化させることができる。   The supply unit 43 configured as described above can change the discharge speed of the liquid crystal L from the discharge port 433b by controlling the rotation speed of the θ rotation mechanism 432.

次に、図1に示した滴下装置4は、供給部43とステージ41上の基板1との相対的な間隔を検出する変位センサからなる検出器45と、供給部43を上下(Z軸)方向に移動できる鉛直軸移動機能(機構)を有する供給部移動機構46を備えている。従って、制御器44は、たとえばレーザ変位センサで構成された検出器45からの、基板1面までの距離データの供給を受けて、供給部移動機構46を制御し、基板1と吐出ポート433bとの間の間隔、すなわち吐出口高さを調整制御することができる。   Next, the dropping device 4 shown in FIG. 1 moves the detector 45 including a displacement sensor that detects a relative distance between the supply unit 43 and the substrate 1 on the stage 41, and the supply unit 43 up and down (Z axis). A supply unit moving mechanism 46 having a vertical axis moving function (mechanism) that can move in the direction is provided. Therefore, the controller 44 receives the supply of the distance data from the detector 45 composed of, for example, a laser displacement sensor to the surface of the substrate 1 and controls the supply unit moving mechanism 46 to control the substrate 1 and the discharge port 433b. It is possible to adjust and control the interval between the two, that is, the discharge port height.

図4は、制御器44の構成を示したものである。   FIG. 4 shows the configuration of the controller 44.

制御器44は、記憶部441と、演算処理部442と、駆動制御部443とデータ入力部444とで構成されている。   The controller 44 includes a storage unit 441, an arithmetic processing unit 442, a drive control unit 443, and a data input unit 444.

記憶部441には、基板1に対する液晶Lの滴下パターンデータ及び基板1に対するシール剤2の塗布パターンデータが記憶されるとともに、液晶Lを滴下するときのステージ41と吐出ポート433bとの間の相対移動速度と液晶Lの飛散距離との間の関係、吐出ポート433bから吐出される液晶Lの吐出速度と液晶Lの飛散距離との間の関係、吐出口高さに対する液晶Lの飛散距離との間の各関係データ等の飛散距離データのうち少なくとも一つが予め実験等の結果に基づいて求められて記憶されている。   The storage unit 441 stores the dropping pattern data of the liquid crystal L on the substrate 1 and the application pattern data of the sealant 2 on the substrate 1, and the relative relationship between the stage 41 and the discharge port 433b when the liquid crystal L is dropped. The relationship between the moving speed and the scattering distance of the liquid crystal L, the relationship between the discharging speed of the liquid crystal L discharged from the discharge port 433b and the scattering distance of the liquid crystal L, and the scattering distance of the liquid crystal L with respect to the height of the discharge port. At least one of the scattering distance data such as the relationship data between them is obtained and stored in advance based on the results of experiments and the like.

また、データ入力部444からは、液晶Lの滴下パターンデータ及びシール剤2の塗布パターンデータ等が入力されるように構成されている。   Further, the data input unit 444 is configured to input the liquid crystal L dropping pattern data, the coating pattern data of the sealant 2, and the like.

そこで、演算処理部442では、記憶部441に記憶された液晶Lの滴下パターンデータ、シール剤2の塗布パターンデータ及び飛散距離データに基づいて、各滴下位置における液晶Lの飛散距離を算出する。なおこの演算に関しては後述する。   Therefore, the arithmetic processing unit 442 calculates the scattering distance of the liquid crystal L at each dropping position based on the dropping pattern data of the liquid crystal L, the application pattern data of the sealant 2, and the scattering distance data stored in the storage unit 441. This calculation will be described later.

図5は、この第1の実施例における、記憶部441に記憶された基板1上における液晶Lの滴下パターンを示したものである。   FIG. 5 shows a dropping pattern of the liquid crystal L on the substrate 1 stored in the storage unit 441 in the first embodiment.

図5において、滴下点数が20のL1,L2,・・・L20は等間隔に配置され、L1は最初の滴下位置、L20は最後の滴下位置を示し、L1から矢印で示す方向に吐出ポート433bが基板1に対して順次相対的に移動(本実施例では基板1すなわちステージ41がX、Y方向に移動し、吐出ポート433bはX、Y方向に関して固定)して、各滴下位置に所定量の液晶Lが滴下されることを示している。   In FIG. 5, L1, L2,... L20 with 20 dropping points are arranged at equal intervals, L1 indicates the first dropping position, L20 indicates the last dropping position, and the discharge port 433b in the direction indicated by the arrow from L1. Move relative to the substrate 1 sequentially (in this embodiment, the substrate 1, that is, the stage 41 moves in the X and Y directions, and the discharge port 433 b is fixed in the X and Y directions). The liquid crystal L is dripped.

即ち、制御器44は、ステージ41の位置情報を、X−Y−θ移動機構411の各駆動部を構成するサーボモータのエンコーダ出力から読取り、供給部43の吐出ポート433bが、予め教示された基板1上の各滴下位置L1,L2,・・・L20を順次通過するように制御する。そして、制御器44は、所定の滴下位置L1,L2,・・・L20を吐出ポート433bが通過し、その通過するタイミングより所定時間早いタイミングで備蓄室434a,434b内の液晶Lがプランジャ437a,437bによって吐出ポート433bから吐出され、所定の滴下位置に液晶Lが滴下されるようにθ回転機構432を制御する。なお、液晶Lを吐出ポート433bから吐出するタイミングは、X−Y−θ移動機構411の移動速度、吐出ポート433bからの液晶Lの吐出速度、及び吐出口高さから算出することができる。   That is, the controller 44 reads the position information of the stage 41 from the encoder output of the servo motor that constitutes each drive unit of the XY-θ moving mechanism 411, and the discharge port 433b of the supply unit 43 is taught in advance. It controls so that each dripping position L1, L2, ... L20 on the board | substrate 1 may be passed sequentially. Then, the controller 44 passes through the predetermined dropping positions L1, L2,... L20 through the discharge port 433b, and the liquid crystal L in the storage chambers 434a and 434b is moved to the plungers 437a, 434a at a timing earlier than the passing timing. The θ rotation mechanism 432 is controlled such that the liquid crystal L is discharged from the discharge port 433b by 437b and dropped at a predetermined dropping position. The timing at which the liquid crystal L is discharged from the discharge port 433b can be calculated from the moving speed of the XY-θ moving mechanism 411, the discharge speed of the liquid crystal L from the discharge port 433b, and the discharge port height.

なおここで、各滴下位置L1,L2,・・・L20に対する液晶Lの滴下は、基板1の長辺方向に沿う列毎に行なっているが、この列毎のステージ41に対する吐出ポート433bの移動方向を「滴下移動方向」と称す。図5の場合、滴下移動方向は、隣接する列同士で相反する方向となる。 Here, the liquid crystal L is dropped at each dropping position L1, L2,... L20 for each row along the long side direction of the substrate 1, but the movement of the discharge port 433b with respect to the stage 41 for each row. The direction is referred to as “dropping movement direction”. In the case of FIG. 5, the dropping movement direction is the opposite direction between adjacent rows.

なお、制御器44による滴下操作の開始にあたって、制御器44は、予め基板1の位置決めマークを認識し、ステージ41上での基板1の位置ずれを検出し、検出した基板1の位置ずれを修正するようにX−Y−θ移動機構411を制御し、基板1上への滴下開始位置(ないしは滴下開始に際しての待機位置)に吐出ポート433bが位置するように位置決めされる。 At the start of the dropping operation by the controller 44, the controller 44 recognizes the positioning mark of the substrate 1 in advance, detects the positional deviation of the substrate 1 on the stage 41 , and corrects the detected positional deviation of the substrate 1. Thus, the XY-θ moving mechanism 411 is controlled so that the discharge port 433b is positioned at the dropping start position on the substrate 1 (or the standby position at the start of dropping).

そこでこの第1の実施例では、制御器44は、図5に示した滴下パターンにおいて、矢印方向に吐出ポート433bを基板1に対して順次相対移動させつつ液晶Lを基板1面に滴下させるときに滴下されて飛び散る液晶Lの距離範囲を演算により算出し、シール剤2で囲まれた領域の外に液晶Lが飛び散らないように、ステージ41と吐出ポート433bとの相対移動の移動速度を制御する。   Therefore, in the first embodiment, the controller 44 drops the liquid crystal L onto the surface of the substrate 1 while sequentially moving the discharge port 433b relative to the substrate 1 in the direction of the arrow in the dropping pattern shown in FIG. The distance range of the liquid crystal L that is dropped and scattered is calculated by calculation, and the moving speed of the relative movement between the stage 41 and the discharge port 433b is controlled so that the liquid crystal L does not splash outside the area surrounded by the sealant 2 To do.

なお、この第1の実施例を含め、以下説明する各実施例では、滴下パターンデータとして、基板1に対する液晶Lの滴下位置が、上記のように滴下点数が20(4×5)で、滴下位置L1を基準としてX方向左側に15mm間隔で4列、Y方向上側に20mm間隔で5行であるとするデータを入力し、1回のプランジャ437a、437bの押し出しで吐出ポート433bから吐出される液晶Lの量が2mg/dotであるとするデータを入力して滴下条件を得るものとする。ここで、基板1に対する滴下位置L1は、基板1上に塗布されたシール剤2の辺に隣接する滴下位置での当該辺までの離隔距離がそれぞれ等間隔となる位置に設定されており、この実施例では8mmである。 In addition, in each Example described below including this 1st Example, as the dropping pattern data, the dropping position of the liquid crystal L with respect to the substrate 1 is a dropping point of 20 (4 × 5) as described above. Based on the position L1, 4 columns are input at 15mm intervals on the left side in the X direction and 5 rows are input at 20mm intervals on the upper side in the Y direction, and discharged from the discharge port 433b by pushing the plungers 437a and 437b once. It is assumed that the dropping condition is obtained by inputting data that the amount of the liquid crystal L is 2 mg / dot . Here, the dropping position L1 with respect to the substrate 1 is set to a position where the separation distance to the side at the dropping position adjacent to the side of the sealing agent 2 applied on the substrate 1 is equal, respectively. In the embodiment, it is 8 mm.

第1の実施例において、制御器44の記憶部441には、上記の飛散距離データとして、吐出ポート433bから吐出される液晶Lの量が2mg/dot、吐出ポート433bからの液晶Lの吐出速度がvmm/Sのとき、基板1と吐出ポート433bとの相対移動速度と滴下移動方向への液晶Lの飛散距離との関係が、移動速度が50mm/S、100mm/S、200mm/Sのとき、飛散距離はそれぞれ5mm以内、10mm以内、20mm以内であるとのデータが予め記憶されているものとする。なお、上記の飛散距離データは、予め実験等により求めておけば良い。   In the first embodiment, in the storage unit 441 of the controller 44, the amount of liquid crystal L ejected from the ejection port 433b is 2 mg / dot and the ejection speed of the liquid crystal L from the ejection port 433b is the scattering distance data. When the movement speed is 50 mm / S, 100 mm / S, and 200 mm / S, the relationship between the relative movement speed of the substrate 1 and the discharge port 433b and the scattering distance of the liquid crystal L in the dropping movement direction is Assume that data indicating that the scattering distance is within 5 mm, within 10 mm, and within 20 mm is stored in advance. Note that the scattering distance data may be obtained in advance by experiments or the like.

制御器44は、記憶部441に記憶された滴下パターンデータ、塗布パターンデータ及び飛散距離データに基づき、シール剤2で囲まれた領域の外に液晶Lが飛び散らないためのX−Y−θ移動機構411に対する制御条件を演算により算出する。   The controller 44 moves XY-θ so that the liquid crystal L does not scatter outside the area surrounded by the sealant 2 based on the dropping pattern data, application pattern data, and scattering distance data stored in the storage unit 441. A control condition for the mechanism 411 is calculated by calculation.

すなわち制御器44の演算処理部442は、滴下位置毎に、液晶Lがシール剤2で囲まれた領域の外に飛び散らないステージ41と吐出ポート433bとの相対移動の移動速度を演算により求める。そして、制御器44は、求められた移動速度をその滴下位置でのステージ41と吐出ポート433bとの相対移動速度として設定する。この実施例では、滴下位置L5,L10,L15,L20で相対移動速度、すなわちX−Y−θ移動機構411の移動速度が50mm/Sの低速度に設定され、それ以外の滴下位置では200mm/Sの高速度に設定される。   In other words, the arithmetic processing unit 442 of the controller 44 obtains, for each dropping position, the moving speed of the relative movement between the stage 41 and the discharge port 433b where the liquid crystal L is not scattered outside the area surrounded by the sealant 2 by calculation. Then, the controller 44 sets the obtained moving speed as a relative moving speed between the stage 41 and the discharge port 433b at the dropping position. In this embodiment, the relative moving speed at the dropping positions L5, L10, L15, and L20, that is, the moving speed of the XY-θ moving mechanism 411 is set to a low speed of 50 mm / S, and 200 mm / s at the other dropping positions. S is set to a high speed.

なお、上記説明で、ステージ41と吐出ポート433bとの間の相対移動は、X−Y−θ移動機構411が行う旨説明したが、相対移動操作を供給部43側の移動で行なっても良く、あるいは双方が協働して行うようにしても良い。さらにまた備蓄室は、2つに限らず3個以上あっても構わない。   In the above description, it has been described that the relative movement between the stage 41 and the discharge port 433b is performed by the XY-θ movement mechanism 411. However, the relative movement operation may be performed by movement on the supply unit 43 side. Alternatively, both may cooperate. Furthermore, the number of storage rooms is not limited to two and may be three or more.

図6は、上記説明の第1の実施例における滴下工程の手順を示したフローチャートである。   FIG. 6 is a flowchart showing the procedure of the dropping step in the first embodiment described above.

まずオペレータが、データ入力部444から滴下パターンデータ、塗布パターンデータ及び飛散距離データを入力し記憶部441に記憶させる(ステップ6A)。   First, an operator inputs dripping pattern data, application pattern data, and scattering distance data from the data input unit 444 and stores them in the storage unit 441 (step 6A).

次に、演算処理部442が、滴下パターンデータ、塗布パターンデータ及び飛散距離データに基づいて各滴下位置でのステージ41と吐出ポート433bとの相対移動速度を演算により算出する(ステップ6B)。   Next, the arithmetic processing unit 442 calculates the relative movement speed between the stage 41 and the discharge port 433b at each dropping position based on the dropping pattern data, the coating pattern data, and the scattering distance data (Step 6B).

ステップ6Bの後、制御器44が、吐出ポート433bを滴下開始位置に移動させ(ステップ6C)、続いて、演算により求めた相対移動速度に従って各滴下位置L1、L2・・・L20に対する液晶Lの滴下を実行するようにX−Y−θ移動装置411、θ回転機構432を制御する(ステップ6D)。   After step 6B, the controller 44 moves the discharge port 433b to the dropping start position (step 6C), and then the liquid crystal L with respect to each dropping position L1, L2,... L20 according to the relative movement speed obtained by calculation. The XY-θ moving device 411 and the θ rotating mechanism 432 are controlled so as to execute the dropping (step 6D).

順次、図5に矢印で示す順序にて各滴下位置L1、L2・・・L20に対して液晶Lを滴下し、最後の滴下位置L20に到達するまでこの動作を繰り返し、最後の滴下位置L20に到達した後(ステップ6E)、終了する。   Sequentially, the liquid crystal L is dropped on the dropping positions L1, L2,... L20 in the order indicated by the arrows in FIG. 5, and this operation is repeated until the final dropping position L20 is reached. After reaching (step 6E), the process ends.

以上説明のように、この第1の実施例では、基板1上に設定された各滴下位置L1、L2・・・L20への液晶Lの滴下に際し、ステージ41と吐出ポート433bとの相対移動の移動速度を変化、すなわち、基板1に衝突して滴下移動方向に飛散した液晶Lがシール剤2で囲まれた領域を飛び越すおそれのある滴下位置L5,L10,L15,L20でステージ41と吐出ポート433bとの相対移動の移動速度を低速度(50mm/S)としているので、基板1に衝突して滴下移動方向に飛散した液晶Lが塗布されたシール剤2を越えることは抑制ないしは回避され、シール剤2で囲まれた領域内に滴下されるべき液晶Lの総量の不足を防止できる。これにより、液晶Lが不足することにより生じる製造される液晶表示パネルの表示不良を低減させることができ、製品品質を向上させることができる。
As described above, in the first embodiment, the relative movement between the stage 41 and the discharge port 433b is performed when the liquid crystal L is dropped onto the dropping positions L1, L2,... L20 set on the substrate 1. The stage 41 and the discharge port at the dropping positions L5, L10, L15, and L20 where the moving speed changes, that is, the liquid crystal L that collides with the substrate 1 and scatters in the dropping movement direction may jump over the area surrounded by the sealant 2 Since the moving speed of the relative movement with respect to 433b is set to a low speed (50 mm / S), the liquid crystal L that collides with the substrate 1 and scatters in the dropping movement direction is prevented or avoided from being applied, It is possible to prevent a shortage of the total amount of the liquid crystal L to be dropped in the region surrounded by the sealant 2. Thereby, the display defect of the manufactured liquid crystal display panel caused by the shortage of the liquid crystal L can be reduced, and the product quality can be improved.

また、基板1に衝突して滴下移動方向に飛散した液晶Lがシール剤2で囲まれた領域を飛び越すおそれのある滴下位置L5,L10,L15,L20でステージ41と吐出ポート433bとの相対移動速度を低速度(50mm/S)とし、滴下移動方向に飛散した液晶Lがシール剤2で囲まれた領域を飛び越すおそれのない他の滴下位置においては相対移動速度を高速度(200mm/S)としたことから、液晶Lを滴下する際のステージ41と吐出ポート433bとの相対移動速度の低減を極力少なくすることができ、液晶Lの滴下工程におけるスループットの低減を防止することができる。   Further, the relative movement between the stage 41 and the discharge port 433b at the dropping positions L5, L10, L15, and L20 where the liquid crystal L that collides with the substrate 1 and is scattered in the dropping movement direction may jump over the area surrounded by the sealant 2 The speed is low (50 mm / S), and the relative movement speed is high (200 mm / S) at other dropping positions where the liquid crystal L scattered in the dropping movement direction is unlikely to jump over the area surrounded by the sealant 2. Therefore, the relative movement speed between the stage 41 and the discharge port 433b when the liquid crystal L is dropped can be reduced as much as possible, and the reduction of the throughput in the dropping process of the liquid crystal L can be prevented.

なお、この実施例において、滴下位置毎に液晶Lの飛散距離を求め、各滴下位置に適したX−Y−θ移動機構411の移動速度、すなわち、ステージ41と吐出ポート433bとの相対移動速度を設定した例で説明したが、液晶Lを滴下するときのX−Y−θ移動機構411の移動速度を予め最大の移動速度、例えば、200mm/Sに設定しておき、滴下移動方向に飛散した液晶Lがシール剤2で囲まれた領域の外に飛散するおそれのある滴下位置でのX−Y−θ移動機構411の移動速度を適宜減速させるように制御しても良い。   In this embodiment, the scattering distance of the liquid crystal L is obtained for each dropping position, and the moving speed of the XY-θ moving mechanism 411 suitable for each dropping position, that is, the relative moving speed between the stage 41 and the discharge port 433b. However, the movement speed of the XY-θ movement mechanism 411 when the liquid crystal L is dropped is set in advance to a maximum movement speed, for example, 200 mm / S, and scattered in the dropping movement direction. The moving speed of the XY-θ moving mechanism 411 at the dropping position where the liquid crystal L may be scattered outside the area surrounded by the sealant 2 may be controlled to be appropriately reduced.

第2の実施例は、吐出ポート433bからの液晶Lの吐出速度を変化させることにより、シール剤2で囲まれた領域の外へ液晶Lが飛散することを回避するものである。なお、第1の実施例と比較し、制御器44における吐出ポート433bからの液晶Lの吐出速度の制御が異なるのみであり、その他の点は共通しているので、第1の実施例との相違点のみを以下説明する。   In the second embodiment, by changing the discharge speed of the liquid crystal L from the discharge port 433b, the liquid crystal L is prevented from scattering out of the region surrounded by the sealant 2. Compared with the first embodiment, the controller 44 only differs in the control of the discharge speed of the liquid crystal L from the discharge port 433b in the controller 44, and the other points are common. Only the differences will be described below.

第2の実施例では、制御器44は、図5に示した滴下パターンにおいて、矢印方向に順次相対移動させつつ液晶Lを基板1面に滴下させるとき、滴下されて飛び散る液晶Lの範囲を考慮し、基板1上の液晶Lの滴下位置に応じて吐出ポート433bからの吐出させる液晶Lの吐出速度を制御する。液晶Lの吐出速度は、θ回転機構432の回転速度を制御して変化させる。   In the second embodiment, the controller 44 considers the range of the liquid crystal L that is dropped and scattered when the liquid crystal L is dropped on the surface of the substrate 1 while sequentially moving in the direction of the arrow in the dropping pattern shown in FIG. Then, the ejection speed of the liquid crystal L ejected from the ejection port 433b is controlled in accordance with the dropping position of the liquid crystal L on the substrate 1. The discharge speed of the liquid crystal L is changed by controlling the rotation speed of the θ rotation mechanism 432.

この第2の実施例では、記憶部441には、飛散距離データとして、吐出ポート433bから吐出される液晶Lの量が2mg/dotのとき、吐出ポート433bから吐出される液晶Lの吐出速度と液晶Lの周囲への飛散距離との関係は、吐出速度が10mm/S、20mm/S、40mm/Sのとき、飛散距離はそれぞれ5mm以内、10mm以内、20mm以内であるとのデータが予め記憶されているものとする。なお、上記の飛散距離データは、予め実験等により求めておけば良い。   In the second embodiment, in the storage unit 441, when the amount of the liquid crystal L discharged from the discharge port 433b is 2 mg / dot, the discharge speed of the liquid crystal L discharged from the discharge port 433b is stored in the storage unit 441. Regarding the relationship with the scattering distance to the periphery of the liquid crystal L, when the discharge speed is 10 mm / S, 20 mm / S, and 40 mm / S, data indicating that the scattering distance is within 5 mm, within 10 mm, and within 20 mm, respectively, is stored in advance. It is assumed that Note that the scattering distance data may be obtained in advance by experiments or the like.

制御器44は、記憶部441に記憶された滴下パターンデータ、塗布パターンデータ及び飛散距離データに基づき、シール剤2で囲まれた領域の外に液晶Lが飛び散らないためのθ回転機構432に対する制御条件を演算により算出する。   The controller 44 controls the θ rotation mechanism 432 so that the liquid crystal L does not scatter outside the area surrounded by the sealant 2 based on the dropping pattern data, application pattern data, and scattering distance data stored in the storage unit 441. The condition is calculated by calculation.

すなわち制御器44の演算処理部442は、滴下位置毎に、液晶Lがシール剤2で囲まれた領域の外に飛び散らない吐出ポート433bからの液晶Lの吐出速度を演算により求める。そして、制御器44は、演算により求められた吐出速度をその滴下位置での液晶Lの吐出速度として設定する。この実施例では、シール剤2に隣接する滴下位置L1,L2,L3,L4,L5,L6,L10,L11,L15,L16,L17,L18,L19,L20での吐出速度が10mm/Sの低速度に設定され、他の滴下位置での吐出速度は40mm/Sの高速度に設定される。   In other words, the calculation processing unit 442 of the controller 44 calculates the discharge speed of the liquid crystal L from the discharge port 433b where the liquid crystal L does not scatter outside the area surrounded by the sealant 2 for each dropping position. And the controller 44 sets the discharge speed calculated | required by calculation as the discharge speed of the liquid crystal L in the dripping position. In this embodiment, the discharge speed at the dropping positions L1, L2, L3, L4, L5, L6, L10, L11, L15, L16, L17, L18, L19, and L20 adjacent to the sealant 2 is as low as 10 mm / S. The discharge speed at the other dropping positions is set to a high speed of 40 mm / S.

なお、この第2の実施例における滴下工程も、図6に示された手順に準じたものであり、ステップ6Bの点が上記説明のように相違するのみであるので、説明は省略する。   The dropping process in the second embodiment is also in accordance with the procedure shown in FIG. 6, and only the point of step 6B is different as described above.

この第2の実施例においても、基板1に衝突して飛散した液晶Lがシール剤2で囲まれた領域を飛び越すおそれのある滴下位置L1,L2,L3,L4,L5,L6,L10,L11,L15,L16,L17,L18,L19,L20で吐出ポート433bからの液晶Lの吐出速度を低速度(10mm/S)としているので、基板1に衝突して飛散した液晶Lが塗布されたシール剤2を越えることは抑制ないしは回避され、上述の第1の実施例と同様に、シール剤2で囲まれた領域内に滴下されるべき液晶Lの総量の不足を防止でき、これにより、製品品質を向上させることができる。   Also in the second embodiment, the dropping positions L1, L2, L3, L4, L5, L6, L10, and L11 at which the liquid crystal L that collides and scatters on the substrate 1 may jump over the area surrounded by the sealant 2 are present. , L15, L16, L17, L18, L19, and L20, the discharge speed of the liquid crystal L from the discharge port 433b is set to a low speed (10 mm / S). Exceeding the agent 2 is suppressed or avoided, and as in the first embodiment, the shortage of the total amount of the liquid crystal L to be dropped in the region surrounded by the sealant 2 can be prevented. Quality can be improved.

また、基板1に衝突して飛散した液晶Lがシール剤2で囲まれた領域を飛び越すおそれのある滴下位置L1,L2,L3,L4,L5,L6,L10,L11,L15,L16,L17,L18,L19,L20で吐出ポート433bからの液晶Lの吐出速度を低速度(10mm/S)としたことから、シール剤2に近い滴下位置での液晶Lの飛散距離を短くすることができることから、シール剤2に近い滴下位置であってもステージ41と吐出ポート433bとの相対移動速度を低減させることなく液晶Lを滴下することが可能となる。このようにした場合には、液晶Lの滴下工程におけるスループットの低減を防止することができる。   In addition, the dropping positions L1, L2, L3, L4, L5, L6, L10, L11, L15, L16, L17, where the liquid crystal L that collides with the substrate 1 and scatters may jump over the area surrounded by the sealant 2. Since the discharge speed of the liquid crystal L from the discharge port 433b is set to a low speed (10 mm / S) in L18, L19, and L20, the scattering distance of the liquid crystal L at the dropping position close to the sealant 2 can be shortened. Even at the dropping position close to the sealant 2, the liquid crystal L can be dropped without reducing the relative movement speed between the stage 41 and the discharge port 433b. In this case, it is possible to prevent a reduction in throughput in the dropping process of the liquid crystal L.

なお、本実施例において、各滴下位置に対する液晶Lの滴下は、ステージ41と吐出ポート433bとの相対移動中に行なっても、相対移動がゼロの静止状態で行なっても良い。   In this embodiment, the liquid crystal L may be dropped at each dropping position during the relative movement between the stage 41 and the discharge port 433b or may be performed in a stationary state where the relative movement is zero.

第3の実施例は、制御器44が、検出器45からの検出データに基づき、鉛直軸移動機構である供給部移動機構46を駆動制御し、基板1と吐出ポート433bの吐出口との間の距離、すなわち吐出口高さを変えることによって、シール剤2で囲まれた領域の外へ液晶Lが飛散することを回避するものである。すなわち、液晶Lは、プランジャ437a、437bによる押圧力を受けつつ吐出ポート433bから押し出されるので、液晶Lの吐出量や吐出速度によってその大きさは異なるが、吐出ポート433bから吐出されてプランジャ437a、437b等から受けていた圧力から開放されたとき、図2に矢印Sで示すようにその一部が周囲に向かって飛び散る。この実施例ではこの飛び散った液晶の拡がりが大きくなる前に液晶Lが基板1上に到達するように吐出口高さを変えるものである。   In the third embodiment, the controller 44 controls the supply unit moving mechanism 46, which is a vertical axis moving mechanism, on the basis of the detection data from the detector 45, and between the substrate 1 and the discharge port of the discharge port 433b. By changing the distance, that is, the height of the discharge port, the liquid crystal L is prevented from splashing out of the region surrounded by the sealant 2. That is, the liquid crystal L is pushed out from the discharge port 433b while receiving the pressing force by the plungers 437a and 437b. Therefore, although the size varies depending on the discharge amount and discharge speed of the liquid crystal L, the liquid crystal L is discharged from the discharge port 433b and is discharged from the plunger 437a, When the pressure received from 437b or the like is released, a part of the pressure scatters toward the periphery as shown by an arrow S in FIG. In this embodiment, the height of the discharge port is changed so that the liquid crystal L reaches the substrate 1 before the spread of the scattered liquid crystal becomes large.

第3の実施例では、記憶部441には、飛散距離データとして、吐出ポート433bから吐出される液晶Lの量が2mg/dotのとき、吐出口高さと液晶Lの周囲への飛散距離との関係が、吐出口高さが3mm,5mm,10mmのとき、飛散距離がそれぞれ5mm以内、10mm以内、20mm以内であるとのデータが予め記憶されているものとする。なお、上記の飛散距離データは、予め実験等により求めておけば良い。   In the third embodiment, in the storage unit 441, as the scattering distance data, when the amount of the liquid crystal L discharged from the discharge port 433b is 2 mg / dot, the height of the discharge port and the scattering distance to the periphery of the liquid crystal L are stored. It is assumed that when the discharge port height is 3 mm, 5 mm, and 10 mm, data indicating that the scattering distance is within 5 mm, within 10 mm, and within 20 mm, respectively, is stored in advance. Note that the scattering distance data may be obtained in advance by experiments or the like.

制御器44は、記憶部441に記憶された滴下パターンデータ、塗布パターンデータ及び飛散距離データに基づき、シール剤2で囲まれた領域の外に液晶Lが飛び散らないための供給部移動機構46に対する制御条件を演算により算出する。   Based on the drop pattern data, application pattern data, and scattering distance data stored in the storage unit 441, the controller 44 controls the supply unit moving mechanism 46 for preventing the liquid crystal L from scattering outside the area surrounded by the sealant 2. The control condition is calculated by calculation.

すなわち、制御器44の演算処理部442は、滴下位置毎に、液晶Lがシール剤2で囲まれた領域の外に飛び散らない吐出口高さを演算により求める。そして、制御器44は、演算により求められた吐出口高さをその滴下位置での吐出口高さとして設定する。この実施例では、演算結果に基づいて、シール剤2に隣接する滴下位置L1,L2,L3,L4,L5,L6,L10,L11,L15,L16,L17,L18,L19,L20で、吐出口高さが3mmに設定され、他の滴下位置での吐出口高さは10mmに設定される。   That is, the arithmetic processing unit 442 of the controller 44 obtains, for each dropping position, a discharge port height at which the liquid crystal L does not scatter outside the area surrounded by the sealant 2 by calculation. And the controller 44 sets the discharge port height calculated | required by calculation as a discharge port height in the dripping position. In this embodiment, on the basis of the calculation result, at the dropping positions L1, L2, L3, L4, L5, L6, L10, L11, L15, L16, L17, L18, L19, L20 adjacent to the sealing agent 2, The height is set to 3 mm, and the discharge port height at other dropping positions is set to 10 mm.

なお、この第3の実施例における滴下工程も、図6に示された手順に準じたものであり、ステップ6Bの点が上記説明のように相違するのみであるので、説明は省略する。   The dropping process in the third embodiment is also in accordance with the procedure shown in FIG. 6, and only the point of step 6B is different as described above.

この第3の実施例においても、基板1に衝突して飛散した液晶Lがシール剤2で囲まれた領域を飛び越すおそれのある滴下位置L1,L2,L3,L4,L5,L6,L10,L11,L15,L16,L17,L18,L19,L20で吐出口高さを3mmと低くしているので、吐出ポート433bから吐出されたときに周囲に飛散した液晶Lが塗布されたシール剤2を越えることは抑制ないしは回避され、上述の第1の実施例と同様に、シール剤2で囲まれた領域内に滴下されるべき液晶Lの総量の不足を防止でき、これにより、製品品質を向上させることができる。   Also in the third embodiment, the dropping positions L1, L2, L3, L4, L5, L6, L10, and L11 at which the liquid crystal L that collides and scatters on the substrate 1 may jump over the area surrounded by the sealant 2 are present. , L15, L16, L17, L18, L19, and L20, the discharge port height is as low as 3 mm, so that the liquid crystal L scattered around when discharged from the discharge port 433b exceeds the sealant 2 to which the liquid crystal L is applied. This is suppressed or avoided, and as in the first embodiment described above, it is possible to prevent a shortage of the total amount of liquid crystal L to be dropped in the region surrounded by the sealant 2, thereby improving the product quality. be able to.

また、基板1に衝突して飛散した液晶Lがシール剤2で囲まれた領域を飛び越すおそれのある滴下位置滴下位置L1,L2,L3,L4,L5,L6,L10,L11,L15,L16,L17,L18,L19,L20で吐出口高さを他の滴下位置に比べ低くしたことから、シール剤2に近い滴下位置での液晶Lの周囲への飛散距離を短く抑えることができることから、シール剤2に近い滴下位置であってもステージ41と吐出ポート433bとの相対移動速度を低減させることなく液晶Lを滴下することが可能となる。このようにした場合には、液晶Lの滴下工程におけるスループットの低減を防止することができる。   Further, the dropping positions L1, L2, L3, L4, L5, L6, L10, L11, L15, L16, where the liquid crystal L that collides with the substrate 1 and scatters may jump over the area surrounded by the sealant 2; Since the discharge port height is made lower than other dropping positions at L17, L18, L19, and L20, the scattering distance to the periphery of the liquid crystal L at the dropping position close to the sealing agent 2 can be kept short. Even at the dropping position close to the agent 2, the liquid crystal L can be dropped without reducing the relative movement speed between the stage 41 and the discharge port 433b. In this case, it is possible to prevent a reduction in throughput in the dropping process of the liquid crystal L.

なお、本実施例において、各滴下位置に対する液晶Lの滴下は、ステージ41と吐出ポート433bとの相対移動中に行なっても、相対移動がゼロの静止状態で行なっても良い。   In this embodiment, the liquid crystal L may be dropped at each dropping position during the relative movement between the stage 41 and the discharge port 433b or may be performed in a stationary state where the relative movement is zero.

第4の実施例は、第1ないし第3の実施例とは相違して、滴下移動方向を特定の方向に限定するもので、制御器44は、図7に示した滴下パターンにおいて、基板1に対して吐出ポート433bを矢印方向に順次相対移動させつつ液晶Lを基板1上に設けられた各滴下位置に滴下させる。   Unlike the first to third embodiments, the fourth embodiment limits the dropping movement direction to a specific direction, and the controller 44 uses the substrate 1 in the dropping pattern shown in FIG. The liquid crystal L is dropped at each dropping position provided on the substrate 1 while sequentially moving the discharge port 433b in the direction of the arrow.

すなわち、液晶Lを基板1上に設けられた3箇所以上の滴下位置に対し、シール剤2で囲まれた領域の縁、すなわちシール剤2の近くに位置する滴下位置から、矢印で示すように、シール剤2で囲まれた領域の中央側に位置する滴下位置へと順次滴下するようにX−Y−θ移動機構411を制御する。   That is, as indicated by an arrow from the edge of the region surrounded by the sealing agent 2, that is, the dropping position located near the sealing agent 2 with respect to three or more dropping positions provided on the substrate 1. Then, the XY-θ moving mechanism 411 is controlled so as to drop sequentially to the dropping position located on the center side of the region surrounded by the sealant 2.

このように、第4の実施例では、制御器44は、基板1上の各滴下位置に対し、液晶Lをシール剤2に近い側からシール剤2で囲まれた領域の中央側に向けて滴下するようにしたので、各滴下位置に関して滴下移動方向に対向するシール剤2までの間に相当の距離を有することから、基板1に衝突して滴下移動方向に飛散した液晶Lがシール剤2で囲まれた領域の外に飛散するのを抑制ないしは回避することができる。これにより、液晶Lが不足することにより生じる製造される液晶表示パネルの表示不良を低減させることができ、製品品質を向上させることができる。   Thus, in the fourth embodiment, the controller 44 directs the liquid crystal L from the side close to the sealing agent 2 toward the center of the region surrounded by the sealing agent 2 for each dropping position on the substrate 1. Since the liquid is dropped, the liquid crystal L that collides with the substrate 1 and scatters in the dropping movement direction due to the considerable distance between each dropping position and the sealing agent 2 facing in the dropping movement direction. It is possible to suppress or avoid scattering outside the region surrounded by. Thereby, the display defect of the manufactured liquid crystal display panel caused by the shortage of the liquid crystal L can be reduced, and the product quality can be improved.

また、基板1上の各滴下位置に対し、液晶Lをシール剤2に近い側からシール剤2で囲まれた領域の中央側に向けて滴下するようにしたので、各滴下位置に関して滴下移動方向に対向するシール剤2までの間に相当の距離を有することから、各滴下位置に液晶Lを滴下するときのステージ41と吐出ポート433bとの相対移動速度を低下させなくとも、液晶Lがシール剤2で囲まれた領域を飛び越すおそれがなく、ステージ41と吐出ポート433bとの相対移動速度の低減に伴う液晶Lの滴下工程におけるスループットの低減を回避することができる。   In addition, since the liquid crystal L is dropped from the side close to the sealing agent 2 toward the center side of the region surrounded by the sealing agent 2 with respect to each dropping position on the substrate 1, the dropping movement direction with respect to each dropping position. The liquid crystal L is sealed without reducing the relative movement speed between the stage 41 and the discharge port 433b when the liquid crystal L is dropped at each dropping position. There is no risk of jumping over the area surrounded by the agent 2, and it is possible to avoid a reduction in throughput in the dropping step of the liquid crystal L accompanying a reduction in the relative movement speed between the stage 41 and the discharge port 433b.

なお、上記第4の実施例において、基板1上のシール剤2で囲まれた領域内に滴下位置を3箇所以上設ける例で説明したが、3箇所以上のものに限られるものではなく、基板1上のシール剤2で囲まれた領域内に設けられた複数の滴下位置に対してシール剤2に近い側からシール剤2で囲まれた領域の中央側に向けて液晶Lを滴下するようにステージ41と吐出ポート433bとを相対移動させるようにすれば良い。   In the fourth embodiment, the example in which three or more dropping positions are provided in the region surrounded by the sealing agent 2 on the substrate 1 has been described. The liquid crystal L is dropped from the side close to the sealing agent 2 toward the center side of the region surrounded by the sealing agent 2 with respect to a plurality of dropping positions provided in the region surrounded by the sealing agent 2 on 1. The stage 41 and the discharge port 433b may be moved relative to each other.

なお、上記各実施例では、液晶Lの滴下量が一定である旨説明したが、供給部43を滴下量を可変できるように構成しても良い。   In each of the above embodiments, it has been described that the dropping amount of the liquid crystal L is constant. However, the supply unit 43 may be configured so that the dropping amount can be varied.

図8は、滴下量を適宜調整可能な供給部43の要部構成を示したものである。   FIG. 8 shows a configuration of a main part of the supply unit 43 that can appropriately adjust the dropping amount.

すなわち、図8に示す供給部43は、液晶Lの1回あたりの吐出量を制御するために、プランジャ437a,437bの上下方向のストロークの上限位置を規制するストッパ439を備える。   That is, the supply unit 43 shown in FIG. 8 includes a stopper 439 that regulates the upper limit position of the vertical stroke of the plungers 437a and 437b in order to control the discharge amount of the liquid crystal L per one time.

ストッパ439は、制御器43により駆動されるサーボモータ4391にて回転駆動される送りねじに螺合して適宜位置に昇降制御される昇降ブロック4392に設けた上下のローラ4393,4394により挟持され、回転軸432aの軸(上下)方向に沿う所望の上限規制位置に設定替え可能である。   The stopper 439 is sandwiched between upper and lower rollers 4393 and 4394 provided on an elevating block 4392 that is screwed into a feed screw that is rotationally driven by a servo motor 4391 driven by a controller 43 and controlled to be raised and lowered to an appropriate position. The setting can be changed to a desired upper limit restriction position along the axis (vertical) direction of the rotation shaft 432a.

従って、ストッパ439は、回転軸432aのまわりを回転部434とともに回転可能
とされ、各プランジャ437a,437bのカムフォロア(従節)が挿通し得る孔439
aにストッパ部439bを備え、プランジャ437a,437bの頭部フランジ437a
a,437baをストッパ部439bに衝合させることにより、プランジャ437a,4
37bの上限位置を規制し、当該プランジャ437a,437bに対応する備蓄室434
aへの液晶Lの取出し量、ひいては備蓄室434bからの液晶Lの吐出量を変えることが
できる。
Accordingly, the stopper 439 can rotate around the rotation shaft 432a together with the rotation portion 434, and the hole 439 through which the cam followers (followers) of the plungers 437a and 437b can be inserted.
a includes a stopper portion 439b and a head flange 437a of the plungers 437a and 437b.
By abutting a and 437ba with the stopper portion 439b, the plungers 437a and 4437
The upper limit position of 37b is regulated, and the storage room 434 corresponding to the plungers 437a and 437b.
The amount of liquid crystal L taken out to a, and thus the amount of liquid crystal L discharged from the storage chamber 434b, can be changed.

液晶Lの吐出量制御により、1回あたりの液晶Lの吐出量を適宜値に変更することで、均一な液晶Lの広がりを得るための、最適な滴下パターンを容易に得ることができる。また、滴下位置1箇所あたりの液晶Lの滴下回数は1回に限らず複数回行なっても良い。   By controlling the discharge amount of the liquid crystal L to appropriately change the discharge amount of the liquid crystal L per time, an optimal dropping pattern for obtaining a uniform spread of the liquid crystal L can be easily obtained. In addition, the number of times the liquid crystal L is dropped per dropping position is not limited to one, and may be a plurality of times.

また、上記各実施例において、それぞれの実施例を個別に説明したが、上述した実施例を適宜2つ以上組み合わせて実施しても良い。例えば、第1の実施例のステージ41と吐出ポート433bとの相対移動速度の制御と第2の実施例の吐出ポート433bからの液晶Lの吐出速度の制御、或いは第3の実施例の吐出口高さの制御とを組み合わせても良い。また、第2の実施例の制御と第3の実施例の制御とを組み合わせても良い。また、第4の実施例の滴下移動方向の制御と第2の実施例の制御、或いは第3の実施例の制御を組み合わせても良い。さらには、第1乃至第3の実施例の制御を全て組み合わせても、第2乃至第4の実施例の制御を全て組み合わせても良い。   Further, in each of the above embodiments, each of the embodiments has been described individually. However, two or more of the above embodiments may be appropriately combined. For example, the control of the relative movement speed between the stage 41 and the discharge port 433b of the first embodiment and the control of the discharge speed of the liquid crystal L from the discharge port 433b of the second embodiment, or the discharge port of the third embodiment You may combine with height control. Further, the control of the second embodiment and the control of the third embodiment may be combined. Further, the control of the dropping movement direction of the fourth embodiment and the control of the second embodiment or the control of the third embodiment may be combined. Furthermore, all the controls of the first to third embodiments may be combined, or all the controls of the second to fourth embodiments may be combined.

また、上記各実施例において、滴下装置4を複数台備え、複数台の滴下装置4を同時に使用することで、滴下工程のスループットタイムのより一層の短縮を図ることができる。   Further, in each of the above embodiments, by providing a plurality of dropping devices 4 and using the plurality of dropping devices 4 at the same time, the throughput time of the dropping step can be further shortened.

また、上記各実施例では、滴下位置間隔が一定であるものとして説明したが、滴下位置間隔を位置により適宜変化させ、かつ各実施例の態様を適宜選択して組み合わせ実施し、より適切な滴下のもとに、効率的な滴下を行うように構成することもできる。   Further, in each of the above embodiments, the description has been given on the assumption that the dropping position interval is constant. However, the dropping position interval is appropriately changed depending on the position, and the embodiments of each embodiment are appropriately selected and combined to perform more appropriate dropping. It can also be configured to perform efficient dripping.

また、供給部43がプランジャにより液晶を押し出して吐出する機構を備えるものの例で説明したが、他の機構、例えば、インクジェット式で液晶を吐出する機構を備えるものを用いるようにしても良い。   Further, although the example in which the supply unit 43 includes a mechanism that pushes and discharges the liquid crystal by the plunger has been described, another mechanism, for example, a mechanism that includes a mechanism that discharges the liquid crystal by an ink jet method may be used.

また、シール剤で囲まれた領域を所定領域として説明したが、これに限らず、例えば、基板表面全体を所定領域としても良いし、一つの基板上に複数の領域を設定しそれぞれを所定領域としても良い。   In addition, the area surrounded by the sealant has been described as the predetermined area. However, the present invention is not limited to this. For example, the entire substrate surface may be set as the predetermined area, or a plurality of areas may be set on one substrate, and each of the predetermined areas It is also good.

また、図5において、液晶Lを、各滴下位置における基板1の長辺方向に沿う列毎に滴下移動方向を折り返しながら滴下する例で説明したが、これに限らず、滴下移動方向を90度ずつ転換し渦巻状に滴下、すなわち図5を用いて説明すれば、L1、L2、L3、L4、L5、L6、L15、L16、L17、L18、L19、L20、L11、L10、L9、L8、L7、L14、L13、L12の順で滴下するようにしても良い。   In addition, in FIG. 5, the liquid crystal L has been described as an example in which the liquid crystal L is dropped while returning the dropping movement direction for each row along the long side direction of the substrate 1 at each dropping position. If each is converted and dropped into a spiral shape, that is, with reference to FIG. 5, L1, L2, L3, L4, L5, L6, L15, L16, L17, L18, L19, L20, L11, L10, L9, L8, You may make it drip in order of L7, L14, L13, and L12.

また、液状部材が液晶の例で説明したが、これに限らず、例えば、ペースト状の接着剤であっても良い。   Moreover, although the liquid member was demonstrated in the example of the liquid crystal, it is not restricted to this, For example, a paste-form adhesive agent may be sufficient.

本発明による液状部材の滴下装置の第1の実施例を示す構成図である。It is a block diagram which shows the 1st Example of the dripping apparatus of the liquid member by this invention. 図1に示した液状部材の滴下装置の要部を拡大して示した構成図である。It is the block diagram which expanded and showed the principal part of the dripping apparatus of the liquid member shown in FIG. 図2のA−A矢視断面図である。It is AA arrow sectional drawing of FIG. 図1に示した制御手段としての制御器の構成図である。It is a block diagram of the controller as a control means shown in FIG. 図1に示した装置で滴下される液状部材の滴下パターン図である。It is a dripping pattern figure of the liquid member dripped with the apparatus shown in FIG. 第1の実施例における滴下工程の手順を示したフローチャートである。It is the flowchart which showed the procedure of the dripping process in a 1st Example. 本発明による液状部材の滴下装置の第4の実施例で滴下される液状部材の滴下パターン図である。It is a dripping pattern figure of the liquid member dripped in 4th Example of the dripping apparatus of the liquid member by this invention. 図1に示した供給部の他の例を示す構成図である。It is a block diagram which shows the other example of the supply part shown in FIG. 従来の液状滴下装置の滴下動作を説明するための滴下パターン図である。It is a dripping pattern figure for demonstrating the dripping operation | movement of the conventional liquid dripping apparatus. 図9で示した滴下パターンで滴下する従来の液状滴下装置の要部拡大図である。It is a principal part enlarged view of the conventional liquid dripping apparatus dripped with the dripping pattern shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 シール剤
4 滴下装置
41 ステージ
411 X−Y−θ移動機構
42 容器
43 供給部
432 θ回転機構
432a 回転軸
433 固定部
433a 取出しポート
433b 吐出ポート
434 回転部
434a,434b 備蓄室(吐出口)
435 カム
436 回転板
436a,436b ガイド孔
437a,437b プランジャ
438a,438b ばね
439 ストッパ
44 制御器(制御手段)
441 記憶部
442 演算処理部
443 駆動制御部
444 データ入力部
45 検出器
46 供給部移動機構(鉛直軸移動機構)
L 液晶(液状部材)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Sealing agent 4 Dropping device 41 Stage 411 XY-θ moving mechanism 42 Container 43 Supply unit 432 θ rotating mechanism 432a Rotating shaft 433 Fixed portion 433a Extraction port 433b Discharge port 434 Rotating portions 434a, 434b Storage chamber (discharge port) )
435 Cam 436 Rotating plate 436a, 436b Guide hole 437a, 437b Plunger 438a, 438b Spring 439 Stopper 44 Controller (control means)
441 Storage unit 442 Operation processing unit 443 Drive control unit 444 Data input unit 45 Detector 46 Supply unit moving mechanism (vertical axis moving mechanism)
L Liquid crystal (liquid material)

Claims (6)

容器に収容された液状部材を吐出させる吐出ポートと、この吐出ポートに対向配置されて基板を載置したステージとを有し、前記吐出ポートと前記ステージとを前記基板の面方向に相対移動させることにより、前記液状部材を前記基板上に塗布された矩形状のシール剤で囲まれた所定領域内に設定された複数の滴下位置へ滴下する液状部材の滴下装置において、
前記滴下位置に対して前記液状部材を前記ステージと前記吐出ポートとの相対移動中に滴下させ、前記滴下位置に応じて前記相対移動の移動速度を変化させるように制御する制御手段を具備し、
前記制御手段は、前記所定領域内における前記ステージに対する前記吐出ポートの滴下移動方向に対向する前記シール剤により近い滴下位置、での前記移動速度が他の滴下位置での移動速度よりも遅くなるように制御することを特徴とする液状部材の滴下装置。
A discharge port for discharging the liquid member contained in the container; and a stage on which the substrate is placed so as to be opposed to the discharge port, and the discharge port and the stage are relatively moved in the surface direction of the substrate. By this, in the dropping device of the liquid member that drops the liquid member to a plurality of dropping positions set in a predetermined region surrounded by the rectangular sealant applied on the substrate,
A controller that controls the liquid member to drop while the relative movement of the stage and the discharge port with respect to the dropping position, and to change the moving speed of the relative movement according to the dropping position;
The control means is configured such that the moving speed at a dropping position closer to the sealant facing the direction of dropping movement of the discharge port with respect to the stage within the predetermined region is slower than the moving speed at other dropping positions. An apparatus for dropping a liquid member, wherein
容器に収容された液状部材を吐出させる吐出ポートと、この吐出ポートに対向配置されて基板を載置したステージとを有し、前記吐出ポートと前記ステージとを前記基板の面方向に相対移動させることにより、前記液状部材を前記基板上に塗布された矩形状のシール剤で囲まれた所定領域内に設定された複数の滴下位置へ滴下する液状部材の滴下装置において、
前記滴下位置に応じて、前記吐出ポートからの前記液状部材の吐出速度を制御する制御手段を具備し、
前記制御手段は、前記所定領域内における前記シール剤により近い滴下位置での前記吐出速度を、他の滴下位置での吐出速度よりも遅くなるように制御することを特徴とする液状部材の滴下装置。
A discharge port for discharging the liquid member contained in the container; and a stage on which the substrate is placed so as to be opposed to the discharge port, and the discharge port and the stage are relatively moved in the surface direction of the substrate. By this, in the dropping device of the liquid member that drops the liquid member to a plurality of dropping positions set in a predetermined region surrounded by the rectangular sealant applied on the substrate,
According to the dropping position, comprising a control means for controlling the discharge speed of the liquid member from the discharge port,
The control means controls the liquid member dropping device to control the discharge speed at the dropping position closer to the sealant in the predetermined region to be slower than the discharging speed at other dropping positions. .
容器に収容された液状部材を吐出させる吐出ポートと、この吐出ポートに対向配置されて基板を載置したステージとを有し、前記吐出ポートと前記ステージとを前記基板の面方向に相対移動させることにより、前記液状部材を前記基板上に塗布された矩形状のシール剤で囲まれた所定領域内に設定された複数の滴下位置へ滴下する液状部材の滴下装置において、
前記ステージに載置された前記基板と前記吐出ポートとの間隔を可変可能な鉛直軸移動機構と、
前記滴下位置に応じて前記鉛直軸移動機構を駆動制御して前記基板と前記吐出ポートとの間隔を変化させる制御手段とを具備し、
前記制御手段は、前記所定領域内における前記シール剤により近い滴下位置での前記ステージと前記吐出ポートとの間隔を、他の滴下位置での前記ステージと前記吐出ポートとの間隔よりも狭くなるように制御することを特徴とする液状部材の滴下装置。
A discharge port for discharging the liquid member contained in the container; and a stage on which the substrate is placed so as to be opposed to the discharge port, and the discharge port and the stage are relatively moved in the surface direction of the substrate. By this, in the dropping device of the liquid member that drops the liquid member to a plurality of dropping positions set in a predetermined region surrounded by the rectangular sealant applied on the substrate,
A vertical axis moving mechanism capable of varying a distance between the substrate placed on the stage and the discharge port;
Control means for driving and controlling the vertical axis moving mechanism according to the dropping position to change the interval between the substrate and the discharge port;
The control means is configured such that the interval between the stage and the discharge port at a dropping position closer to the sealant in the predetermined region is narrower than the interval between the stage and the discharge port at another dropping position. An apparatus for dropping a liquid member, wherein
容器に収容された液状部材を吐出させる吐出ポートとこの吐出ポートに対向配置されて基板を載置したステージとを前記基板の面方向に相対移動させつつ、前記吐出ポートから液状部材を前記基板上に塗布された矩形状のシール剤で囲まれた所定領域内に設定された複数の滴下位置へ滴下させる液状部材の滴下方法であって、
前記相対移動の移動速度は、前記所定領域内における前記ステージに対する前記吐出ポートの滴下移動方向に対向する前記シール剤により近い滴下位置で、他の滴下位置よりも遅くなるように変化させることを特徴とする液状部材の滴下方法
While the stage to the discharge port of the discharge port Toko for discharging liquid member contained in the container disposed opposite the substrate is placed is relatively moved in the plane direction of the substrate, the discharge on the substrate a liquid member from the port A liquid member dropping method for dropping to a plurality of dropping positions set in a predetermined region surrounded by a rectangular sealant applied to
The moving speed of the relative movement is changed so as to be slower than other dropping positions at a dropping position closer to the sealant facing the direction of dropping movement of the discharge port with respect to the stage within the predetermined region. A dropping method of the liquid member.
容器に収容された液状部材を吐出させる吐出ポートとこの吐出ポートに対向配置されて基板を載置したステージとを前記基板の面方向に相対移動させて、前記吐出ポートから液状部材を前記基板上に塗布された矩形状のシール剤で囲まれた所定領域内に設定された複数の滴下位置へ滴下させる液状部材の滴下方法であって、
前記吐出ポートからの前記液状部材の吐出速度は、前記所定領域内における前記シール剤により近い滴下位置で、他の滴下位置よりも遅くなるように変化させることを特徴とする液状部材の滴下方法。
And a and a discharge port for discharging liquid member contained in the container and this is disposed opposite to the discharge port stage mounted with the substrate are relatively moved in the plane direction of the substrate, the discharge on the substrate a liquid member from the port A liquid member dropping method for dropping to a plurality of dropping positions set in a predetermined region surrounded by a rectangular sealant applied to
The discharge speed of the liquid member from the discharge port, dripping of liquid member, wherein a dropping position closer to the sealant that put in a predetermined area, wherein the changing to be lower than the other dropping position Method.
容器に収容された液状部材を吐出させる吐出ポートとこの吐出ポートに対向配置されて基板を載置したステージとを前記基板の面方向に相対移動させて、前記吐出ポートから液状部材を前記基板上に塗布された矩形状のシール剤で囲まれた所定領域内に設定された複数の滴下位置へ滴下させる液状部材の滴下方法であって、
前記基板と前記吐出ポートとの間隔は、前記所定領域内における前記シール剤により近い滴下位置で、他の滴下位置よりも狭くなるように変化させることを特徴とする液状部材の滴下方法。
A discharge port that discharges the liquid member contained in the container and a stage on which the substrate is placed so as to face the discharge port are relatively moved in the surface direction of the substrate, and the liquid member is placed on the substrate from the discharge port. A liquid member dropping method for dropping to a plurality of dropping positions set in a predetermined region surrounded by a rectangular sealant applied to
The liquid member dropping method, wherein the distance between the substrate and the discharge port is changed to be narrower than the other dropping positions at a dropping position closer to the sealant in the predetermined region.
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