JP5849459B2 - Processing apparatus and processing method - Google Patents

Processing apparatus and processing method Download PDF

Info

Publication number
JP5849459B2
JP5849459B2 JP2011141483A JP2011141483A JP5849459B2 JP 5849459 B2 JP5849459 B2 JP 5849459B2 JP 2011141483 A JP2011141483 A JP 2011141483A JP 2011141483 A JP2011141483 A JP 2011141483A JP 5849459 B2 JP5849459 B2 JP 5849459B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
workpiece
processing
height position
tables
detection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011141483A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2013006158A (en
Inventor
政彦 小川
政彦 小川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2011141483A priority Critical patent/JP5849459B2/en
Publication of JP2013006158A publication Critical patent/JP2013006158A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5849459B2 publication Critical patent/JP5849459B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、処理装置及び処理方法等に関する。   The present invention relates to a processing apparatus, a processing method, and the like.

基板などのワークに種々の処理を施す処理装置の1つに、ペーストや液体などの液状体を吐出する吐出ヘッドとワークとを相対的に変位させながら吐出ヘッドから液状体を吐出することによって、液状体でワークに所望のパターンを描画する描画装置がある。
このような描画装置では、従来、吐出ヘッドの1つであるシリンジを搬送する装置にシリンジと一体的に設けられた検出器でワークの高さ位置を検出し、検出したワークの高さ位置に応じてシリンジの高さを変化させることができるものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
By discharging the liquid material from the discharge head while relatively displacing the discharge head and the work for discharging the liquid material such as paste and liquid to one of the processing apparatuses that perform various processes on the workpiece such as the substrate, There is a drawing apparatus that draws a desired pattern on a workpiece with a liquid material.
Conventionally, in such a drawing apparatus, the height position of the workpiece is detected by a detector integrally provided with the syringe in a device that transports the syringe that is one of the ejection heads, and the detected height position of the workpiece is set. There is known one that can change the height of the syringe accordingly (see, for example, Patent Document 1).

特開2007−152261号公報JP 2007-152261 A

上記特許文献1に記載された描画装置によれば、シリンジを搬送する装置にシリンジと一体的に設けられた検出器でワークの高さ位置を検出し、検出したワークの高さ位置に応じてシリンジの高さを変化させることができる。これにより、シリンジのノズルとワークとの間のギャップをワークの面にわたって一定に維持しやすくすることができる。この結果、液状体の塗布精度を高く維持しやすくすることができるので、ワークにおけるパターンの描画品位を向上させやすくすることができる。   According to the drawing apparatus described in Patent Document 1, the height position of the workpiece is detected by a detector provided integrally with the syringe in the apparatus that conveys the syringe, and the height position of the workpiece is detected. The height of the syringe can be changed. Thereby, the gap between the nozzle of the syringe and the workpiece can be easily maintained constant over the surface of the workpiece. As a result, it is possible to easily maintain the coating accuracy of the liquid material high, and it is possible to easily improve the pattern drawing quality of the workpiece.

ところで、ワークを支持したり保持したりするテーブルが移動可能に構成されたステージ装置を有する処理装置では、テーブルにワークを供給したり、テーブルからワークを除材したりするエリアである給除材エリアと、ワークに対して処理を施すエリアである処理エリアとの間でテーブルを移動可能に構成することができる。さらに、複数のテーブルを設ければ、処理エリアと給除材エリアとの間で、複数のテーブルを交互に往復移動させることによって、処理エリア内にあるテーブルにおけるワークに対して処理を施す間に、給除材エリアにあるテーブルに対して他のワークを給除材することが可能になる。つまり、1つのワークに処理を施している間に、次に処理すべきワークの準備を整えておくことができる。この構成により、この処理装置では、処理効率を向上させやすくすることができる。   By the way, in the processing apparatus having a stage device in which a table for supporting and holding a workpiece is configured to be movable, the feeding / dispensing material is an area for supplying the workpiece to the table and removing the workpiece from the table. The table can be configured to be movable between the area and a processing area which is an area where the workpiece is processed. Furthermore, if a plurality of tables are provided, the plurality of tables are alternately reciprocated between the processing area and the supply / discharge material area, thereby performing processing on the workpieces in the tables in the processing area. It becomes possible to feed and unload other workpieces on the table in the feeding and unloading material area. That is, while a process is being performed on one workpiece, it is possible to prepare a workpiece to be processed next. With this configuration, this processing apparatus can easily improve the processing efficiency.

このような複数のテーブルを有するステージ装置に、上記特許文献1に記載された検出器を適用することができる。しかしながら、この構成では、検出器は、処理領域において吐出ヘッド(シリンジ)と一体的に設けられる。つまり、この構成では、処理領域において、ワークの高さ位置が検出される。このため、この構成では、ワークに対する処理を中断した状態でワークの高さ位置を検出したり、ワークの高さ位置を検出しながらワークに対する処理をしたりしなければならない。この結果、処理装置における処理効率を向上させることが困難となる。
つまり、従来の処理装置では、処理効率を向上させることが困難であるという課題がある。
The detector described in Patent Document 1 can be applied to such a stage apparatus having a plurality of tables. However, in this configuration, the detector is provided integrally with the ejection head (syringe) in the processing region. That is, in this configuration, the height position of the workpiece is detected in the processing area. For this reason, in this configuration, it is necessary to detect the height position of the workpiece in a state where the processing on the workpiece is interrupted, or to perform processing on the workpiece while detecting the height position of the workpiece. As a result, it becomes difficult to improve the processing efficiency in the processing apparatus.
That is, the conventional processing apparatus has a problem that it is difficult to improve the processing efficiency.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]ワークを支持する複数のテーブルと、前記複数のテーブルのそれぞれを、前記複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイド部と、前記共通経路において、前記複数のテーブルの前記テーブルごとに、前記複数のテーブルのそれぞれに支持された前記ワークに対向した状態で、対向する前記ワークに対して処理を施す処理部と、前記共通経路において前記複数のテーブルのそれぞれが前記処理部に対向し得る領域である処理領域の外側に設けられ、前記テーブルに支持された前記ワークの高さ位置を、前記処理領域の外側で検出する検出装置と、前記処理部と前記ワークとの間の隙間量を調整する隙間量調整装置と、を有する、ことを特徴とする処理装置。   [Application Example 1] In a plurality of tables that support a workpiece, a guide unit that guides each of the plurality of tables with a travel route including a common route that is a route common to the plurality of tables, and the common route Each of the plurality of tables, a processing unit for performing processing on the facing workpiece in a state of facing the workpiece supported on each of the plurality of tables, and the plurality of the plurality of tables in the common path A detection device that is provided outside a processing region that is an area where each of the tables can face the processing unit, and detects a height position of the workpiece supported by the table outside the processing region; and the processing And a gap amount adjusting device for adjusting a gap amount between the part and the workpiece.

この適用例の処理装置は、複数のテーブルと、ガイド部と、処理部と、検出装置と、隙間量調整装置と、を有する。
複数のテーブルは、それぞれ、ワークを支持する。
ガイド部は、複数のテーブルのそれぞれを、複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内する。
処理部は、複数のテーブルのテーブルごとに、ワークに対して処理を施す。処理部は、共通経路において、複数のテーブルのそれぞれに支持されたワークに対向した状態で、対向するワークに対して処理を施す。
検出装置は、処理領域の外側に設けられている。処理領域は、共通経路において複数のテーブルのそれぞれが処理部に対向し得る領域である。検出装置は、テーブルに支持されたワークの高さ位置を、処理領域の外側で検出する。
隙間量調整装置は、処理部とワークとの間の隙間量を調整する。
この処理装置では、検出装置は、処理領域の外側に設けられており、ワークの高さ位置を、処理領域の外側で検出する。このため、処理領域でワークに処理を施しているときに、処理領域の外側で他のワークの高さ位置を検出することができる。そして、このワークに対する処理を施すときに、検出したワークの高さ位置に基づいて、処理部とワークとの間の隙間量を調整することができる。この結果、処理装置における処理効率を向上させやすくすることができる。
The processing device of this application example includes a plurality of tables, a guide unit, a processing unit, a detection device, and a gap amount adjusting device.
Each of the plurality of tables supports the workpiece.
The guide unit guides each of the plurality of tables through a movement route including a common route that is a route common to the plurality of tables.
The processing unit performs processing on the workpiece for each of the plurality of tables. The processing unit performs processing on the facing workpiece in a state of facing the workpiece supported on each of the plurality of tables in the common path.
The detection device is provided outside the processing region. The processing area is an area where each of the plurality of tables can face the processing unit in the common path. The detection device detects the height position of the work supported by the table outside the processing region.
The gap amount adjusting device adjusts the gap amount between the processing unit and the workpiece.
In this processing apparatus, the detection device is provided outside the processing area, and detects the height position of the workpiece outside the processing area. For this reason, when the workpiece is processed in the processing area, the height position of another workpiece can be detected outside the processing area. And when processing with respect to this workpiece | work, the clearance gap between a process part and a workpiece | work can be adjusted based on the detected height position of the workpiece | work. As a result, it is possible to easily improve the processing efficiency in the processing apparatus.

[適用例2]上記の処理装置であって、前記検出装置での前記ワークの高さ位置の検出結果に基づいて、前記隙間量調整装置を制御する制御部を有する、ことを特徴とする処理装置。   Application Example 2 In the above processing apparatus, the processing apparatus includes a control unit that controls the gap amount adjusting device based on the detection result of the height position of the workpiece by the detection device. apparatus.

この適用例の処理装置は、検出装置でのワークの高さ位置の検出結果に基づいて、隙間量調整装置を制御する制御部を有する。これにより、検出したワークの高さ位置に基づいて、処理部とワークとの間の隙間量を調整することができる。この結果、ワークの高さ位置に応じた隙間量でワークに処理を施しやすくすることができる。   The processing apparatus of this application example includes a control unit that controls the gap amount adjusting device based on the detection result of the height position of the workpiece by the detection device. Thereby, the clearance gap between a process part and a workpiece | work can be adjusted based on the detected height position of the workpiece | work. As a result, the workpiece can be easily processed with the gap amount corresponding to the height position of the workpiece.

[適用例3]上記の処理装置であって、前記処理部は、液状体を吐出する吐出ヘッドを有する、ことを特徴とする処理装置。   Application Example 3 In the above processing apparatus, the processing unit includes an ejection head that ejects a liquid material.

この適用例では、処理部は、液状体を吐出する吐出ヘッドを有する。これにより、ワークに対して、処理の1つである液状体の塗布処理を、ワークの高さ位置に応じた隙間量で施すことができる。この結果、液状体の塗布精度を高く維持しやすくすることができる。   In this application example, the processing unit includes an ejection head that ejects the liquid material. Thereby, the coating process of the liquid material which is one of the processes can be performed on the workpiece with a gap amount corresponding to the height position of the workpiece. As a result, it is possible to easily maintain high application accuracy of the liquid material.

[適用例4]上記の処理装置であって、前記隙間量調整装置は、前記処理部を変位させる変位装置を有する、ことを特徴とする処理装置。   Application Example 4 In the above processing device, the gap amount adjusting device includes a displacement device that displaces the processing unit.

この適用例では、隙間量調整装置は、処理部を変位させる変位装置を有する。これにより、処理部を変位させることによって、隙間量を調整することができる。   In this application example, the gap amount adjusting device includes a displacement device that displaces the processing unit. Thereby, the gap amount can be adjusted by displacing the processing unit.

[適用例5]ワークを支持する複数のテーブルと、前記複数のテーブルのそれぞれを、前記複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイド部と、前記共通経路において、前記複数のテーブルの前記テーブルごとに、前記複数のテーブルのそれぞれに支持された前記ワークに対向した状態で、対向する前記ワークに対して処理を施す処理部と、を有する処理装置の前記共通経路で前記複数のテーブルのそれぞれが前記処理部に対向し得る領域である処理領域において、前記複数のテーブルのうちの1つの前記テーブルに支持された前記ワークに対して前記処理部が処理を施しているときに、前記処理領域の外側で、前記複数のテーブルのうちの他の前記テーブルに支持された処理前の前記ワークの高さ位置を把握し、前記1つのテーブルに支持された前記ワークに対する処理が終了した後に、前記処理領域において、前記他のテーブルに支持された前記ワークに対する処理を施すときに、前記ワークの高さ位置の把握結果に基づいて、前記処理部と前記ワークとの間の隙間量を調整する、ことを特徴とする処理方法。   Application Example 5 In the common route, a plurality of tables that support the workpiece, a guide unit that guides each of the plurality of tables along a travel route that includes a common route that is a common route among the plurality of tables, A processing unit that performs processing on the facing workpieces in a state of facing the workpieces supported by each of the plurality of tables, for each of the tables of the plurality of tables. In the processing area where each of the plurality of tables can face the processing section in the path, the processing section performs processing on the workpiece supported by one of the plurality of tables. The height position of the workpiece before processing supported by the other table among the plurality of tables outside the processing area. Grasping and grasping the height position of the workpiece when processing the workpiece supported by the other table is performed in the processing area after the processing on the workpiece supported by the one table is completed. A processing method comprising adjusting a gap amount between the processing unit and the workpiece based on a result.

この適用例の処理方法は、複数のテーブルと、ガイド部と、処理部と、を有する処理装置に適用され得る。
複数のテーブルは、それぞれ、ワークを支持する。
ガイド部は、複数のテーブルのそれぞれを、複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内する。
処理部は、複数のテーブルのテーブルごとに、ワークに対して処理を施す。処理部は、共通経路において、複数のテーブルのそれぞれに支持されたワークに対向した状態で、対向するワークに対して処理を施す。
この処理装置には、処理領域がある。処理領域は、共通経路で複数のテーブルのそれぞれが処理部に対向し得る領域である。
そして、この適用例の処理方法では、処理領域において、複数のテーブルのうちの1つのテーブルに支持されたワークに対して処理部が処理を施しているときに、処理領域の外側で、複数のテーブルのうちの他のテーブルに支持された処理前のワークの高さ位置を把握する。
そして、1つのテーブルに支持されたワークに対する処理が終了した後に、処理領域において、他のテーブルに支持されたワークに対する処理を施すときに、ワークの高さ位置の把握結果に基づいて、処理部とワークとの間の隙間量を調整する。
この処理方法によれば、処理領域でワークに処理を施しているときに、処理領域の外側で処理前のワークの高さ位置を把握するので、この処理前のワークに処理を施す際の隙間量の調整に必要な準備を整えておくことができる。この結果、ワークの処理における処理効率を向上させやすくすることができる。
The processing method of this application example can be applied to a processing apparatus having a plurality of tables, a guide unit, and a processing unit.
Each of the plurality of tables supports the workpiece.
The guide unit guides each of the plurality of tables through a movement route including a common route that is a route common to the plurality of tables.
The processing unit performs processing on the workpiece for each of the plurality of tables. The processing unit performs processing on the facing workpiece in a state of facing the workpiece supported on each of the plurality of tables in the common path.
This processing apparatus has a processing area. The processing area is an area where each of the plurality of tables can face the processing unit on a common path.
In the processing method of this application example, when the processing unit is processing the workpiece supported by one of the plurality of tables in the processing region, a plurality of processing is performed outside the processing region. The height position of the workpiece before processing supported by another table among the tables is grasped.
Then, after the processing for the work supported by one table is completed, when the processing for the work supported by the other table is performed in the processing area, the processing unit is based on the result of grasping the height position of the work. Adjust the gap between the workpiece and the workpiece.
According to this processing method, when the workpiece is processed in the processing area, the height position of the workpiece before processing is grasped outside the processing area. You can make the necessary preparations to adjust the amount. As a result, it is possible to easily improve the processing efficiency in workpiece processing.

[適用例6]上記の処理方法であって、前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記ワークの複数の箇所における前記高さ位置を把握する、ことを特徴とする処理方法。   Application Example 6 In the processing method described above, when the height position of the workpiece is grasped, the height positions at a plurality of locations of the workpiece are grasped.

この適用例では、ワークの高さ位置を把握するときに、ワークの複数の箇所における高さ位置を把握するので、例えば、処理を施すときに検出箇所ごとに隙間量を調整することができる。   In this application example, when the height position of the workpiece is grasped, the height positions at a plurality of locations of the workpiece are grasped. For example, the gap amount can be adjusted for each detected portion when the processing is performed.

[適用例7]上記の処理方法であって、前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記ワークの高さ位置を検出することによって、前記ワークの高さ位置を把握する、ことを特徴とする処理方法。   Application Example 7 In the above processing method, when the height position of the workpiece is grasped, the height position of the workpiece is grasped by detecting the height position of the workpiece. Processing method.

この適用例では、ワークの高さ位置を把握するときに、ワークの高さ位置を検出することによって、ワークの高さ位置を把握するので、高さ位置の精度を高めやすくすることができる。   In this application example, when the height position of the workpiece is grasped, the height position of the workpiece is grasped by detecting the height position of the workpiece, so that the accuracy of the height position can be easily improved.

[適用例8]上記の処理方法であって、前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記テーブルの複数の検出箇所における高さ位置を検出したそれぞれの結果に、前記テーブルの前記検出箇所の数よりも少ない数の箇所で検出した前記ワークの高さ位置の結果を加算することによって、前記ワークの高さ位置を把握する、ことを特徴とする処理方法。   Application Example 8 In the above processing method, when the height position of the workpiece is grasped, the detection position of the table is determined based on the result of detecting the height position at the plurality of detection positions of the table. A processing method characterized in that the height position of the workpiece is grasped by adding the results of the height positions of the workpiece detected at a number smaller than the number of the workpieces.

この適用例では、ワークの高さ位置を把握するときに、テーブルの複数の検出箇所における高さ位置を検出したそれぞれの結果に、テーブルの検出箇所の数よりも少ない数の箇所で検出したワークの高さ位置の結果を加算することによって、ワークの高さ位置を把握する。
ここで、例えば、テーブルの複数の検出箇所における高さ位置は、テーブルごとに予め把握しておくことができる。テーブルの高さ位置は、変化しにくい。従って、ワークに処理を施す頻度よりも低い頻度で把握することが合理的である。
また、例えば、基板などのワークでは、ワークの部位ごとに厚みが大きく異なることは稀である。従って、テーブルの高さ位置の検出箇所の数よりも少ない数の箇所で厚みを検出することが合理的である。
このため、予め把握されているテーブルの高さ位置の結果に、ワークごとの厚みを加算した結果をワークの高さ位置として把握することが合理的である。これにより、ワークの処理における処理効率を一層向上させやすくすることができる。なお、このとき、ワークごとの厚みとして、テーブルに支持された状態でのワークの高さ位置として検出することができる。
In this application example, when the height position of the workpiece is grasped, each of the results of detecting the height position at a plurality of detection locations of the table indicates that the workpiece is detected at a smaller number of locations than the number of detection locations of the table. By adding the results of the height positions of the workpieces, the height position of the workpiece is grasped.
Here, for example, the height positions at a plurality of detection locations of the table can be grasped in advance for each table. The height position of the table is difficult to change. Therefore, it is reasonable to grasp at a frequency lower than the frequency of processing the workpiece.
Further, for example, in a workpiece such as a substrate, it is rare that the thickness differs greatly for each part of the workpiece. Therefore, it is reasonable to detect the thickness at a smaller number of locations than the number of detected locations of the height position of the table.
For this reason, it is reasonable to grasp the result of adding the thickness of each work to the result of the height position of the table grasped in advance as the work height position. Thereby, the processing efficiency in the processing of the workpiece can be further improved. At this time, the thickness of each work can be detected as the height position of the work in a state supported by the table.

本実施形態における液滴吐出装置の概略の構成を示す斜視図。FIG. 2 is a perspective view illustrating a schematic configuration of a droplet discharge device according to the present embodiment. 本実施形態におけるキャリッジを図1中のA視方向に見たときの正面図。The front view when the carriage in this embodiment is seen in the A viewing direction in FIG. 本実施形態における吐出ヘッドの底面図。FIG. 6 is a bottom view of the ejection head in the present embodiment. 図2中のB−B線における断面図。Sectional drawing in the BB line in FIG. 本実施形態における液滴吐出装置を図1中のC視方向に見たときの側面図。The side view when the droplet discharge apparatus in this embodiment is seen in the C view direction in FIG. 本実施形態における液滴吐出装置を図1中のC視方向に見たときの側面図。The side view when the droplet discharge apparatus in this embodiment is seen in the C view direction in FIG. 本実施形態における液滴吐出装置を図1中のC視方向に見たときの側面図。The side view when the droplet discharge apparatus in this embodiment is seen in the C view direction in FIG. 本実施形態における液滴吐出装置の概略の構成を示すブロック図。FIG. 2 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a droplet discharge device according to the present embodiment. 本実施形態におけるワークテーブル及びワークを示す平面図。The top view which shows the work table and work in this embodiment. 本実施形態におけるワークテーブル及びワークを示す平面図。The top view which shows the work table and work in this embodiment. 第2実施形態におけるワークテーブルを示す平面図。The top view which shows the work table in 2nd Embodiment.

(第1実施形態)
図面を参照しながら、液滴吐出装置を例に、実施形態について説明する。なお、各図面において、それぞれの構成を認識可能な程度の大きさにするために、構成や部材の縮尺が異なっていることがある。
(First embodiment)
Embodiments will be described with reference to the drawings, taking a droplet discharge device as an example. In addition, in each drawing, in order to make each structure the size which can be recognized, the structure and the scale of a member may differ.

本実施形態における液滴吐出装置1は、概略の構成を示す斜視図である図1に示すように、ワーク搬送装置3と、キャリッジ7と、キャリッジ搬送装置11と、第1検出装置14と、第2検出装置15と、を有している。
キャリッジ7には、ヘッドユニット17と、昇降モーター18と、が設けられている。
液滴吐出装置1では、ヘッドユニット17と基板などのワークWとの平面視での相対位置を変化させつつ、ヘッドユニット17に設けられた吐出ヘッド19から液状体を液滴として吐出させることによって、ワークWに液状体で所望のパターンを描画(記録)することができる。つまり、液滴吐出装置1は、ワークWに描画(記録)処理を施す処理装置の1つである。
As shown in FIG. 1, which is a perspective view showing a schematic configuration, the droplet discharge device 1 in the present embodiment includes a work transfer device 3, a carriage 7, a carriage transfer device 11, a first detection device 14, And a second detection device 15.
The carriage 7 is provided with a head unit 17 and a lifting motor 18.
In the droplet discharge device 1, the liquid material is discharged as droplets from the discharge head 19 provided in the head unit 17 while changing the relative position of the head unit 17 and the workpiece W such as a substrate in plan view. A desired pattern can be drawn (recorded) on the workpiece W with a liquid material. That is, the droplet discharge device 1 is one of processing devices that perform drawing (recording) processing on the workpiece W.

なお、図中のY方向はワークWの移動方向を示し、X方向は平面視でY方向とは直交する方向を示している。また、X方向及びY方向によって規定されるXY平面と直交する方向は、Z方向として規定される。さらに、Z方向に沿った軸を中心に回転する方向は、θ方向として規定される。本実施形態では、Z方向は、鉛直方向に沿っている。
昇降モーター18は、ヘッドユニット17をZ方向に沿って昇降させるための動力を発生する。昇降モーター18からの動力は、図示しない昇降機構を介してヘッドユニット17に伝達される。これにより、液滴吐出装置1では、吐出ヘッド19をZ方向に沿って昇降させることができる。
In the figure, the Y direction indicates the moving direction of the workpiece W, and the X direction indicates a direction orthogonal to the Y direction in plan view. A direction orthogonal to the XY plane defined by the X direction and the Y direction is defined as the Z direction. Further, the direction of rotation about the axis along the Z direction is defined as the θ direction. In the present embodiment, the Z direction is along the vertical direction.
The lift motor 18 generates power for moving the head unit 17 up and down along the Z direction. The power from the lifting motor 18 is transmitted to the head unit 17 via a lifting mechanism (not shown). Thereby, in the droplet discharge device 1, the discharge head 19 can be moved up and down along the Z direction.

このような液滴吐出装置1は、基板や布帛、用紙、樹脂フィルムなどの種々のワークWへの描画(記録)処理に適用され得る。
液滴吐出装置1は、例えば、液晶表示パネル等に用いられるカラーフィルターの製造や、有機EL(Electro Luminescence)装置の製造などにも適用され得る。
赤、緑及び青の3色のフィルターエレメントを有するカラーフィルターの場合、液滴吐出装置1は、例えば、基板に赤、緑及び青の各着色層を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット17から各着色層に対応する各液体を、ワークWに液滴として吐出させることによって、ワークWに赤、緑及び青のそれぞれのフィルターエレメントのパターンが描画される。
また、有機EL装置の製造では、例えば、赤、緑及び青の画素ごとに、各色に対応する機能層(有機層)を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット17から各色の機能層に対応する各液状体を、ワークWに液滴として吐出されることによって、ワークWに赤、緑及び青のそれぞれの機能層のパターンが描画される。
Such a droplet discharge device 1 can be applied to drawing (recording) processing on various workpieces W such as a substrate, cloth, paper, and resin film.
The droplet discharge device 1 can be applied to, for example, the manufacture of color filters used for liquid crystal display panels and the like, and the manufacture of organic EL (Electro Luminescence) devices.
In the case of a color filter having three color filter elements of red, green, and blue, the droplet discharge device 1 can be suitably used, for example, in a process of forming red, green, and blue colored layers on a substrate. In this case, each liquid corresponding to each colored layer is ejected from the head unit 17 as droplets onto the work W, whereby the patterns of the red, green and blue filter elements are drawn on the work W.
Further, in the manufacture of an organic EL device, for example, it can be suitably used in a step of forming a functional layer (organic layer) corresponding to each color for each of red, green and blue pixels. In this case, each liquid material corresponding to the functional layer of each color is ejected as a droplet from the head unit 17 to the work W, whereby the patterns of the red, green, and blue functional layers are drawn on the work W. .

ここで、液滴吐出装置1の各構成について、詳細を説明する。
ワーク搬送装置3は、図1に示すように、ベース部21と、ガイドレール23と、ガイドレール24と、2つのワークテーブル25と、を有している。
ベース部21は、例えば石などの経時変化が小さい材料で構成されており、Y方向に沿って延びるように据えられている。
ガイドレール23及びガイドレール24は、それぞれ、例えば石などの経時変化が小さい材料で構成されており、ベース部21の上面22上に配設されている。ガイドレール23及びガイドレール24は、それぞれ、Y方向に沿って延在している。ガイドレール23とガイドレール24とは、互いにX方向に隙間をあけた状態で並んでいる。
Here, the details of each component of the droplet discharge device 1 will be described.
As shown in FIG. 1, the work transfer device 3 includes a base portion 21, a guide rail 23, a guide rail 24, and two work tables 25.
The base portion 21 is made of a material that is small in change with time, such as stone, and is placed so as to extend along the Y direction.
Each of the guide rail 23 and the guide rail 24 is made of a material having a small change with time, such as a stone, and is disposed on the upper surface 22 of the base portion 21. Each of the guide rail 23 and the guide rail 24 extends along the Y direction. The guide rail 23 and the guide rail 24 are lined up with a gap in the X direction.

2つのワークテーブル25は、それぞれ、ガイドレール23及びガイドレール24を挟んでベース部21の上面22に対向した状態で設けられている。2つのワークテーブル25は、それぞれ、ベース部21から浮いた状態でガイドレール23及びガイドレール24上に載置されている。つまり、ガイドレール23及びガイドレール24上には、2つのワークテーブル25が並存している。2つのワークテーブル25は、Y方向において、互いに対峙している。
本実施形態では、2つのワークテーブル25は、互いに同じ大きさを有している。
以下において、2つのワークテーブル25のそれぞれを識別する場合には、2つのワークテーブル25は、それぞれ、ワークテーブル25a及びワークテーブル25bと表記される。
The two work tables 25 are provided so as to face the upper surface 22 of the base portion 21 with the guide rail 23 and the guide rail 24 interposed therebetween. The two work tables 25 are respectively placed on the guide rail 23 and the guide rail 24 in a state of floating from the base portion 21. That is, two work tables 25 coexist on the guide rail 23 and the guide rail 24. The two work tables 25 face each other in the Y direction.
In the present embodiment, the two work tables 25 have the same size.
In the following, when identifying each of the two work tables 25, the two work tables 25 are represented as a work table 25a and a work table 25b, respectively.

2つのワークテーブル25は、それぞれ、ワークWが載置される面である載置面28を有している。以下において、ワークテーブル25aに載置されているワークWと、ワークテーブル25bに載置されているワークWとを、互いに識別する場合に、ワークテーブル25aに載置されているワークWがワークW1と表記され、ワークテーブル25bに載置されているワークWがワークW2と表記される。
載置面28は、それぞれ、ベース部21側とは反対側(上側)に向けられている。ワークテーブル25a及びワークテーブル25bは、それぞれ、ガイドレール23及びガイドレール24によってY方向に沿って案内され、ベース部21上をY方向に沿って往復移動可能に構成されている。
Each of the two work tables 25 has a placement surface 28 that is a surface on which the workpiece W is placed. Hereinafter, when the work W placed on the work table 25a and the work W placed on the work table 25b are distinguished from each other, the work W placed on the work table 25a is referred to as the work W1. And the workpiece W placed on the workpiece table 25b is denoted as workpiece W2.
The placement surface 28 is directed to the side (upper side) opposite to the base part 21 side. The work table 25a and the work table 25b are guided along the Y direction by the guide rail 23 and the guide rail 24, respectively, and are configured to be able to reciprocate along the Y direction on the base portion 21.

2つのワークテーブル25は、それぞれ、図示しない移動機構及び動力源によって、互いに独立して(個別に)Y方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアモーター機構などが採用され得る。また、本実施形態では、2つのワークテーブル25のそれぞれをY方向に沿って移動させるための動力源として、後述するワーク搬送モーターが採用されている。ワーク搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
ワーク搬送モーターからの動力は、移動機構を介して2つのワークテーブル25のそれぞれに伝達される。これにより、2つのワークテーブル25は、それぞれ、ガイドレール23及びガイドレール24に沿って、すなわちY方向に沿って個別に往復移動することができる。つまり、ワーク搬送装置3は、ワークテーブル25aの載置面28に載置されたワークW1を、Y方向に沿って往復移動させることができる。また、ワーク搬送装置3は、ワークテーブル25bの載置面28に載置されたワークW2を、Y方向に沿って往復移動させることができる。
The two work tables 25 are configured to reciprocate in the Y direction independently (individually) by a moving mechanism and a power source (not shown). As the moving mechanism, for example, a mechanism in which a ball screw and a ball nut are combined, a linear motor mechanism, or the like can be adopted. In the present embodiment, a work transfer motor described later is employed as a power source for moving each of the two work tables 25 along the Y direction. As the work transfer motor, various motors such as a stepping motor, a servo motor, and a linear motor can be adopted.
The power from the work transport motor is transmitted to each of the two work tables 25 via the moving mechanism. Thereby, the two work tables 25 can individually reciprocate along the guide rail 23 and the guide rail 24, that is, along the Y direction. That is, the work transfer device 3 can reciprocate the work W1 placed on the placement surface 28 of the work table 25a along the Y direction. Moreover, the workpiece conveyance apparatus 3 can reciprocate the workpiece | work W2 mounted in the mounting surface 28 of the work table 25b along the Y direction.

ヘッドユニット17は、キャリッジ7を図1中のA視方向に見たときの正面図である図2に示すように、ヘッドプレート31を有している。吐出ヘッド19は、ヘッドプレート31に設けられている。
吐出ヘッド19は、底面図である図3に示すように、ノズル面35を有している。ノズル面35には、複数のノズル37が形成されている。なお、図3では、ノズル37をわかりやすく示すため、ノズル37が誇張され、且つノズル37の個数が減じられている。
吐出ヘッド19において、複数のノズル37は、Y方向に沿って配列するノズル列39を構成している。ノズル列39において、複数のノズル37は、Y方向に沿って所定のノズル間隔Pで形成されている。
The head unit 17 has a head plate 31 as shown in FIG. 2, which is a front view when the carriage 7 is viewed in the A viewing direction in FIG. The discharge head 19 is provided on the head plate 31.
As shown in FIG. 3 which is a bottom view, the discharge head 19 has a nozzle surface 35. A plurality of nozzles 37 are formed on the nozzle surface 35. In FIG. 3, the nozzles 37 are exaggerated and the number of the nozzles 37 is reduced in order to easily show the nozzles 37.
In the discharge head 19, the plurality of nozzles 37 constitute a nozzle row 39 arranged along the Y direction. In the nozzle row 39, the plurality of nozzles 37 are formed at a predetermined nozzle interval P along the Y direction.

吐出ヘッド19は、図2中のB−B線における断面図である図4に示すように、ノズルプレート46と、キャビティープレート47と、振動板48と、複数の駆動素子49と、を有している。本実施形態では駆動素子49として、縦振動型の圧電素子が採用されている。
ノズルプレート46は、ノズル面35を有している。複数のノズル37は、ノズルプレート46に設けられている。
キャビティープレート47は、ノズルプレート46のノズル面35とは反対側の面に設けられている。キャビティープレート47には、複数のキャビティー51が形成されている。各キャビティー51は、各ノズル37に対応して設けられており、対応する各ノズル37に連通している。各キャビティー51には、図示しないタンクから液状体である機能液53が供給される。
The discharge head 19 includes a nozzle plate 46, a cavity plate 47, a diaphragm 48, and a plurality of drive elements 49, as shown in FIG. 4 which is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. doing. In the present embodiment, a longitudinal vibration type piezoelectric element is employed as the drive element 49.
The nozzle plate 46 has a nozzle surface 35. The plurality of nozzles 37 are provided on the nozzle plate 46.
The cavity plate 47 is provided on the surface opposite to the nozzle surface 35 of the nozzle plate 46. A plurality of cavities 51 are formed in the cavity plate 47. Each cavity 51 is provided corresponding to each nozzle 37 and communicates with each corresponding nozzle 37. Each cavity 51 is supplied with a functional liquid 53 that is a liquid material from a tank (not shown).

振動板48は、キャビティープレート47のノズルプレート46側とは反対側の面に設けられている。振動板48は、Z方向に振動(縦振動)することによって、キャビティー51内の容積を拡大したり、縮小したりする。
複数の駆動素子49は、それぞれ、振動板48のキャビティープレート47側とは反対側の面に設けられている。各駆動素子49は、各キャビティー51に対応して設けられており、振動板48を挟んで各キャビティー51に対向している。各駆動素子49は、駆動信号に基づいて、伸長する。これにより、振動板48がキャビティー51内の容積を縮小させる。このとき、キャビティー51内の機能液53に圧力が付与される。その結果、ノズル37から、機能液53が液滴55として吐出される。吐出ヘッド19による液滴55の吐出法は、インクジェット法の1つである。インクジェット法は、塗布法の1つである。
The diaphragm 48 is provided on the surface of the cavity plate 47 opposite to the nozzle plate 46 side. The vibration plate 48 vibrates in the Z direction (longitudinal vibration), thereby enlarging or reducing the volume in the cavity 51.
The plurality of drive elements 49 are respectively provided on the surface of the diaphragm 48 opposite to the cavity plate 47 side. Each drive element 49 is provided corresponding to each cavity 51 and faces each cavity 51 with the diaphragm 48 interposed therebetween. Each drive element 49 expands based on the drive signal. Thereby, the diaphragm 48 reduces the volume in the cavity 51. At this time, pressure is applied to the functional liquid 53 in the cavity 51. As a result, the functional liquid 53 is discharged as droplets 55 from the nozzle 37. The method of discharging the droplet 55 by the discharge head 19 is one of ink jet methods. The ink jet method is one of coating methods.

上記の構成を有する吐出ヘッド19は、図2に示すように、ノズル面35がヘッドプレート31から突出した状態で、ヘッドプレート31に支持されている。
キャリッジ7は、図2に示すように、ヘッドユニット17を支持している。ここで、ヘッドユニット17は、ノズル面35がZ方向の下方に向けられた状態でキャリッジ7に支持されている。
上記により、ワークWには、吐出ヘッド19から機能液53が塗布され得る。
なお、本実施形態では、駆動素子49として、縦振動型の圧電素子が採用されているが、機能液53に圧力を付与するための駆動素子49は、これに限定されず、例えば、下電極と圧電体層と上電極とを積層形成した撓み変形型の圧電素子も採用され得る。また、駆動素子49としては、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズル37から液滴55を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなども採用され得る。さらに、発熱体を用いてノズル37内に泡を発生させ、その泡によって機能液53に圧力を付与する構成も採用され得る。
As shown in FIG. 2, the ejection head 19 having the above configuration is supported by the head plate 31 with the nozzle surface 35 protruding from the head plate 31.
As shown in FIG. 2, the carriage 7 supports a head unit 17. Here, the head unit 17 is supported by the carriage 7 with the nozzle surface 35 directed downward in the Z direction.
As described above, the functional liquid 53 can be applied to the workpiece W from the ejection head 19.
In this embodiment, a longitudinal vibration type piezoelectric element is used as the drive element 49, but the drive element 49 for applying pressure to the functional liquid 53 is not limited to this, and for example, the lower electrode Also, a bending deformation type piezoelectric element in which a piezoelectric layer and an upper electrode are laminated may be employed. Further, as the drive element 49, a so-called electrostatic actuator that generates static electricity between the diaphragm and the electrode, deforms the diaphragm by electrostatic force, and discharges the droplet 55 from the nozzle 37 can be employed. . Furthermore, the structure which produces a bubble in the nozzle 37 using a heat generating body, and gives a pressure to the functional liquid 53 with the bubble may be employ | adopted.

キャリッジ搬送装置11は、図1に示すように、架台61と、ガイドレール63と、を有している。
架台61は、X方向に延在しており、ワーク搬送装置3をX方向にまたいでいる。架台61は、ワークテーブル25のベース部21側とは反対側で、ワーク搬送装置3に対向している。架台61は、一対の支柱67によって支持されている。一対の支柱67は、ベース部21を挟んでX方向に互いに対峙する位置に設けられている。
なお、以下においては、一対の支柱67のそれぞれを識別する場合に、支柱67a及び支柱67bという表記が用いられる。支柱67a及び支柱67bは、それぞれ、2つのワークテーブル25のそれぞれよりもZ方向の上方に突出している。これにより、架台61と2つのワークテーブル25のそれぞれとの間には、隙間が保たれている。
As shown in FIG. 1, the carriage transport device 11 includes a gantry 61 and a guide rail 63.
The gantry 61 extends in the X direction and straddles the work transfer device 3 in the X direction. The gantry 61 is opposite to the base portion 21 side of the work table 25 and faces the work transfer device 3. The gantry 61 is supported by a pair of support columns 67. The pair of struts 67 are provided at positions facing each other in the X direction across the base portion 21.
In the following, when identifying each of the pair of columns 67, the notations of columns 67a and columns 67b are used. Each of the support columns 67a and the support columns 67b protrudes above the two work tables 25 in the Z direction. Thereby, a gap is maintained between the gantry 61 and each of the two work tables 25.

ガイドレール63は、架台61のベース部21側に設けられている。ガイドレール63は、X方向に沿って延在しており、架台61のX方向における幅にわたって設けられている。
前述したキャリッジ7は、ガイドレール63に支持されている。キャリッジ7がガイドレール63に支持された状態において、吐出ヘッド19のノズル面35は、Z方向において2つのワークテーブル25側に向いている。キャリッジ7は、ガイドレール63によってX方向に沿って案内され、X方向に往復動可能な状態でガイドレール63に支持されている。なお、平面視で、キャリッジ7が2つのワークテーブル25のそれぞれに重なっている状態において、ノズル面35と載置面28のそれぞれとは、互いに隙間を保った状態で対向する。
The guide rail 63 is provided on the base portion 21 side of the gantry 61. The guide rail 63 extends along the X direction, and is provided across the width of the gantry 61 in the X direction.
The carriage 7 described above is supported by the guide rail 63. In a state where the carriage 7 is supported by the guide rail 63, the nozzle surface 35 of the ejection head 19 faces the two worktables 25 in the Z direction. The carriage 7 is guided along the X direction by the guide rail 63, and is supported by the guide rail 63 so as to be able to reciprocate in the X direction. In a plan view, in a state where the carriage 7 overlaps each of the two work tables 25, the nozzle surface 35 and the placement surface 28 face each other with a gap therebetween.

キャリッジ7は、図示しない移動機構及び動力源によって、X方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアガイド機構などが採用され得る。また、本実施形態では、キャリッジ7をX方向に沿って移動させるための動力源として、後述するキャリッジ搬送モーターが採用されている。キャリッジ搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
キャリッジ搬送モーターからの動力は、移動機構を介してキャリッジ7に伝達される。これにより、キャリッジ7は、ガイドレール63に沿って、すなわちX方向に沿って往復移動することができる。つまり、キャリッジ搬送装置11は、キャリッジ7に支持されたヘッドユニット17を、X方向に沿って往復移動させることができる。
The carriage 7 is configured to reciprocate in the X direction by a moving mechanism and a power source (not shown). As the moving mechanism, for example, a mechanism combining a ball screw and a ball nut, a linear guide mechanism, or the like may be employed. In the present embodiment, a carriage transport motor, which will be described later, is employed as a power source for moving the carriage 7 along the X direction. As the carriage conveyance motor, various motors such as a stepping motor, a servo motor, and a linear motor can be employed.
The power from the carriage transport motor is transmitted to the carriage 7 through the moving mechanism. Thus, the carriage 7 can reciprocate along the guide rail 63, that is, along the X direction. That is, the carriage transport device 11 can reciprocate the head unit 17 supported by the carriage 7 along the X direction.

ワーク搬送装置3について、詳細を説明する。
本実施形態では、ワーク搬送装置3は、図1に示すように、Y方向に沿って、第1待機領域71と、処理領域73と、第2待機領域75と、に区分される。
第1待機領域71は、Y方向に沿って延在するベース部21において、Y方向に並ぶ2つのワークテーブル25のうちのワークテーブル25a側の一端側に設定されている。
第2待機領域75は、Y方向に沿って延在するベース部21において、第1待機領域71側とは反対側の他端側に設定されている。
処理領域73は、Y方向に沿って延在するベース部21において、第1待機領域71と第2待機領域75との間に設定されている。
Details of the work transfer device 3 will be described.
In the present embodiment, the workpiece transfer device 3 is divided into a first standby area 71, a processing area 73, and a second standby area 75 along the Y direction, as shown in FIG.
The first standby area 71 is set on one end side on the work table 25a side of the two work tables 25 arranged in the Y direction in the base portion 21 extending along the Y direction.
The second standby area 75 is set on the other end side opposite to the first standby area 71 side in the base portion 21 extending along the Y direction.
The processing area 73 is set between the first standby area 71 and the second standby area 75 in the base portion 21 extending along the Y direction.

キャリッジ搬送装置11は、処理領域73において、ベース部21をX方向にまたいでいる。このため、キャリッジ7に設けられたヘッドユニット17は、処理領域73において、ワーク搬送装置3を交差してX方向に移動する。
処理領域73は、液滴吐出装置1を図1中のC視向に見たときの側面図である図5に示すように、吐出ヘッド19のY方向における位置hyを境にして、2つのワークテーブル25を互いに当接させた状態で並べた分の領域を有している。
このため、処理領域73において、2つのワークテーブル25は、それぞれ、吐出ヘッド19のY方向における位置hyを越えて往復移動することができる。この結果、ワークW1及びワークW2のそれぞれと吐出ヘッド19とを、処理領域73内で互いに交差させることができる。つまり、処理領域73内でワークWの全域にわたって、ワークWと吐出ヘッド19とを対向させることができる。これにより、液滴吐出装置1では、処理領域73内でワークWの全域にわたって処理を施すことができる。
The carriage conveyance device 11 straddles the base portion 21 in the X direction in the processing region 73. For this reason, the head unit 17 provided on the carriage 7 moves in the X direction across the workpiece transfer device 3 in the processing region 73.
As shown in FIG. 5 which is a side view when the droplet discharge device 1 is viewed in the direction C in FIG. 1, the processing region 73 has two positions on the boundary hy in the Y direction of the discharge head 19. It has the area | region for which the work table 25 was arranged in the state which mutually contact | abutted.
For this reason, in the processing area 73, the two work tables 25 can reciprocate beyond the position hy in the Y direction of the ejection head 19, respectively. As a result, each of the workpiece W1 and the workpiece W2 and the ejection head 19 can intersect each other in the processing region 73. That is, the workpiece W and the ejection head 19 can be opposed to each other over the entire area of the workpiece W in the processing region 73. Thereby, in the droplet discharge device 1, the processing can be performed over the entire area of the workpiece W in the processing region 73.

なお、図1に示す第1待機領域71及び第2待機領域75も、それぞれ、2つのワークテーブル25を互いに当接させた状態で並べた分の領域を有している。
本実施形態では、ワークテーブル25aは、第1待機領域71と処理領域73とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第1待機領域71と処理領域73とを含めた領域が、ワークテーブル25aの可動領域として設定されている。
また、ワークテーブル25bは、第2待機領域75と処理領域73とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第2待機領域75と処理領域73とを含めた領域が、ワークテーブル25bの可動領域として設定されている。
つまり、ワークテーブル25aとワークテーブル25bとは、それぞれの移動経路のうちで処理領域73における経路を共通経路として共有している。
Note that each of the first standby area 71 and the second standby area 75 shown in FIG. 1 also has an area for arranging the two work tables 25 in contact with each other.
In the present embodiment, the work table 25 a can move over an area including the first standby area 71 and the processing area 73. That is, an area including the first standby area 71 and the processing area 73 is set as a movable area of the work table 25a.
In addition, the work table 25 b can move over an area including the second standby area 75 and the processing area 73. That is, an area including the second standby area 75 and the processing area 73 is set as a movable area of the work table 25b.
That is, the work table 25a and the work table 25b share a route in the processing area 73 as a common route among the respective movement routes.

第1検出装置14及び第2検出装置15のそれぞれの構成について、詳細を説明する。
第1検出装置14は、図1に示すように、処理領域73の外側に設けられている。本実施形態では、第1検出装置14は、第1待機領域71の内側に設けられている。第1検出装置14は、ワークW1の高さ位置を検出する検出センサー77を有している。本実施形態では、検出センサー77を介してワークW1の高さ位置が検出される。
第2検出装置15は、処理領域73の外側に設けられている。本実施形態では、第2検出装置15は、第2待機領域75の内側に設けられている。第2検出装置15は、ワークW2の高さ位置を検出する検出センサー78を有している。本実施形態では、検出センサー78を介してワークW2の高さ位置が検出される。
Details of the configurations of the first detection device 14 and the second detection device 15 will be described.
As shown in FIG. 1, the first detection device 14 is provided outside the processing region 73. In the present embodiment, the first detection device 14 is provided inside the first standby area 71. The first detection device 14 includes a detection sensor 77 that detects the height position of the workpiece W1. In the present embodiment, the height position of the workpiece W1 is detected via the detection sensor 77.
The second detection device 15 is provided outside the processing region 73. In the present embodiment, the second detection device 15 is provided inside the second standby region 75. The second detection device 15 includes a detection sensor 78 that detects the height position of the workpiece W2. In the present embodiment, the height position of the workpiece W2 is detected via the detection sensor 78.

検出センサー77及び検出センサー78としては、それぞれ、例えば、レーザー変位計などの各種光学式センサーが採用され得る。なお、本実施形態では、第1検出装置14の検出センサー77と、第2検出装置15の検出センサー78とは、互いに同じものが採用されている。そして、第1検出装置14と第2検出装置15とは、互いに同じ構成を有している。このため、以下においては、第1検出装置14の構成について説明し、第2検出装置15の構成については、第1検出装置14の構成と同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
第1検出装置14は、搬送装置81を有している。また、第2検出装置15は、搬送装置83を有している。
搬送装置81は、検出センサー77をX方向に沿って搬送する。搬送装置83は、検出センサー78をX方向に沿って搬送する。
搬送装置81と搬送装置83とは、それぞれ、キャリッジ85と、架台87と、ガイドレール89と、を有している。
As the detection sensor 77 and the detection sensor 78, for example, various optical sensors such as a laser displacement meter can be employed. In the present embodiment, the detection sensor 77 of the first detection device 14 and the detection sensor 78 of the second detection device 15 are the same as each other. The first detection device 14 and the second detection device 15 have the same configuration. For this reason, below, the structure of the 1st detection apparatus 14 is demonstrated, about the structure of the 2nd detection apparatus 15, the code | symbol same as the structure of the 1st detection apparatus 14 is attached | subjected, and detailed description is abbreviate | omitted.
The first detection device 14 has a transport device 81. Further, the second detection device 15 includes a transport device 83.
The transport device 81 transports the detection sensor 77 along the X direction. The transport device 83 transports the detection sensor 78 along the X direction.
Each of the transport device 81 and the transport device 83 includes a carriage 85, a gantry 87, and a guide rail 89.

搬送装置81において、キャリッジ85は、検出センサー77を支持している。また、搬送装置83において、キャリッジ85は、検出センサー78を支持している。
搬送装置81及び搬送装置83のそれぞれにおいて、架台87は、X方向に延在しており、ワーク搬送装置3をX方向にまたいでいる。架台87は、ワークテーブル25のベース部21側とは反対側で、ワーク搬送装置3に対向している。架台87は、一対の支柱91によって支持されている。一対の支柱91は、ベース部21を挟んでX方向に互いに対峙する位置に設けられている。
搬送装置81及び搬送装置83のそれぞれにおいて、一対の支柱91は、それぞれ、2つのワークテーブル25のそれぞれよりもZ方向の上方に突出している。これにより、各架台87と2つのワークテーブル25のそれぞれとの間には、隙間が保たれている。
搬送装置81及び搬送装置83のそれぞれにおいて、ガイドレール89は、架台87のベース部21側に設けられている。ガイドレール89は、X方向に沿って延在しており、架台87のX方向における幅にわたって設けられている。
In the transport device 81, the carriage 85 supports a detection sensor 77. In the transport device 83, the carriage 85 supports the detection sensor 78.
In each of the transport device 81 and the transport device 83, the gantry 87 extends in the X direction and straddles the work transport device 3 in the X direction. The gantry 87 faces the work transfer device 3 on the side opposite to the base portion 21 side of the work table 25. The gantry 87 is supported by a pair of support columns 91. The pair of support columns 91 are provided at positions facing each other in the X direction with the base portion 21 interposed therebetween.
In each of the transfer device 81 and the transfer device 83, the pair of support columns 91 protrudes upward in the Z direction from each of the two work tables 25. Thereby, a gap is maintained between each mount 87 and each of the two work tables 25.
In each of the transport device 81 and the transport device 83, the guide rail 89 is provided on the base portion 21 side of the gantry 87. The guide rail 89 extends along the X direction and is provided across the width of the gantry 87 in the X direction.

搬送装置81及び搬送装置83のそれぞれにおいて、キャリッジ85は、ガイドレール89に支持されている。キャリッジ85がガイドレール89に支持された状態において、検出センサー77及び検出センサー78は、それぞれ、Z方向において2つのワークテーブル25側に向いている。キャリッジ85は、ガイドレール89によってX方向に沿って案内され、X方向に往復動可能な状態でガイドレール89に支持されている。なお、平面視で、各キャリッジ85が2つのワークテーブル25のそれぞれに重なっている状態において、検出センサー77及び検出センサー78のそれぞれと載置面28のそれぞれとは、互いに隙間を保った状態で対向する。
搬送装置81及び搬送装置83は、それぞれ、キャリッジ85をX方向に移動させるための移動機構及び動力源(図示せず)を有している。
In each of the transport device 81 and the transport device 83, the carriage 85 is supported by the guide rail 89. In a state where the carriage 85 is supported by the guide rail 89, the detection sensor 77 and the detection sensor 78 are each directed toward the two work tables 25 in the Z direction. The carriage 85 is guided along the X direction by the guide rail 89 and is supported by the guide rail 89 in a state where the carriage 85 can reciprocate in the X direction. In plan view, in a state where each carriage 85 overlaps each of the two work tables 25, each of the detection sensor 77 and the detection sensor 78 and each of the placement surfaces 28 are in a state of maintaining a gap. opposite.
The transport device 81 and the transport device 83 each have a moving mechanism and a power source (not shown) for moving the carriage 85 in the X direction.

搬送装置81及び搬送装置83のそれぞれにおいて、キャリッジ85は、図示しない移動機構及び動力源によって、X方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアガイド機構などが採用され得る。また、本実施形態では、キャリッジ85をX方向に沿って移動させるための動力源として、後述するセンサー搬送モーターが採用されている。センサー搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
搬送装置81及び搬送装置83のそれぞれにおいて、センサー搬送モーターからの動力は、移動機構を介してキャリッジ85に伝達される。これにより、キャリッジ85は、ガイドレール89に沿って、すなわちX方向に沿って往復移動することができる。つまり、搬送装置81及び搬送装置83は、それぞれ、キャリッジ85に支持された検出センサー77及び検出センサー78のそれぞれを、X方向に沿って往復移動させることができる。
In each of the transport device 81 and the transport device 83, the carriage 85 is configured to be able to reciprocate in the X direction by a moving mechanism and a power source (not shown). As the moving mechanism, for example, a mechanism combining a ball screw and a ball nut, a linear guide mechanism, or the like may be employed. In the present embodiment, a sensor transport motor, which will be described later, is adopted as a power source for moving the carriage 85 along the X direction. Various motors such as a stepping motor, a servo motor, and a linear motor can be adopted as the sensor transport motor.
In each of the transport device 81 and the transport device 83, the power from the sensor transport motor is transmitted to the carriage 85 via the moving mechanism. Thereby, the carriage 85 can reciprocate along the guide rail 89, that is, along the X direction. That is, the transport device 81 and the transport device 83 can reciprocate the detection sensor 77 and the detection sensor 78 supported by the carriage 85 along the X direction, respectively.

搬送装置81の架台87及びガイドレール89は、第1待機領域71において、ベース部21をX方向にまたいでいる。このため、キャリッジ85に設けられた検出センサー77は、第1待機領域71において、ワーク搬送装置3を交差してX方向に移動する。
第1待機領域71は、液滴吐出装置1を図1中のC視向に見たときの側面図である図6に示すように、検出センサー77のY方向における位置s1を境にして、2つのワークテーブル25を互いに当接させた状態で並べた分の領域を有している。
このため、第1待機領域71において、ワークテーブル25aは、検出センサー77のY方向における位置s1を越えて往復移動することができる。この結果、ワークW1と検出センサー77とを、第1待機領域71内で互いに交差させることができる。つまり、第1待機領域71内でワークW1の全域にわたって、ワークW1と検出センサー77とを対向させることができる。これにより、液滴吐出装置1では、第1待機領域71内でワークW1の任意の箇所における高さ位置を検出することができる。
The gantry 87 and the guide rail 89 of the transport device 81 straddle the base portion 21 in the X direction in the first standby area 71. For this reason, the detection sensor 77 provided in the carriage 85 moves in the X direction across the workpiece transfer device 3 in the first standby area 71.
As shown in FIG. 6 which is a side view when the droplet discharge device 1 is viewed in the C view direction in FIG. 1, the first standby region 71 has a position s1 in the Y direction of the detection sensor 77 as a boundary. It has the area | region for which the two work tables 25 were arranged in the state which mutually contact | abutted.
Therefore, in the first standby area 71, the work table 25a can reciprocate beyond the position s1 in the Y direction of the detection sensor 77. As a result, the workpiece W1 and the detection sensor 77 can intersect each other in the first standby area 71. That is, the workpiece W1 and the detection sensor 77 can be opposed to each other over the entire area of the workpiece W1 in the first standby area 71. Thereby, the droplet discharge device 1 can detect the height position at an arbitrary position of the workpiece W <b> 1 in the first standby region 71.

搬送装置83の架台87及びガイドレール89は、第2待機領域75において、ベース部21をX方向にまたいでいる。このため、キャリッジ85に設けられた検出センサー78は、第2待機領域75において、ワーク搬送装置3を交差してX方向に移動する。
第2待機領域75は、液滴吐出装置1を図1中のC視向に見たときの側面図である図7に示すように、検出センサー78のY方向における位置s2を境にして、2つのワークテーブル25を互いに当接させた状態で並べた分の領域を有している。
このため、第2待機領域75において、ワークテーブル25bは、検出センサー78のY方向における位置s2を越えて往復移動することができる。この結果、ワークW2と検出センサー78とを、第2待機領域75内で互いに交差させることができる。つまり、第2待機領域75内でワークW2の全域にわたって、ワークW2と検出センサー78とを対向させることができる。これにより、液滴吐出装置1では、第2待機領域75内でワークW2の任意の箇所における高さ位置を検出することができる。
The gantry 87 and the guide rail 89 of the transport device 83 straddle the base portion 21 in the X direction in the second standby region 75. For this reason, the detection sensor 78 provided on the carriage 85 moves in the X direction across the workpiece transfer device 3 in the second standby area 75.
As shown in FIG. 7 which is a side view when the droplet discharge device 1 is viewed in the direction C in FIG. 1, the second standby region 75 has a position s2 in the Y direction of the detection sensor 78 as a boundary. It has the area | region for which the two work tables 25 were arranged in the state which mutually contact | abutted.
Therefore, in the second standby area 75, the work table 25b can reciprocate beyond the position s2 in the Y direction of the detection sensor 78. As a result, the workpiece W2 and the detection sensor 78 can cross each other in the second standby area 75. That is, the workpiece W2 and the detection sensor 78 can be opposed to each other over the entire area of the workpiece W2 within the second standby area 75. As a result, the droplet discharge device 1 can detect the height position at an arbitrary position of the workpiece W <b> 2 within the second standby region 75.

液滴吐出装置1は、図8に示すように、上記の各構成の動作を制御する制御部111を有している。制御部111は、CPU(Central Processing Unit)113と、駆動制御部115と、メモリー部117と、を有している。駆動制御部115及びメモリー部117は、バス119を介してCPU113に接続されている。
また、液滴吐出装置1は、キャリッジ搬送モーター121と、ワーク搬送モーター123と、ワーク搬送モーター124と、センサー搬送モーター125と、センサー搬送モーター126と、入力装置129と、表示装置131と、を有している。
キャリッジ搬送モーター121、ワーク搬送モーター123、ワーク搬送モーター124、センサー搬送モーター125、及びセンサー搬送モーター126は、それぞれ、入出力インターフェイス133とバス119とを介して制御部111に接続されている。また、入力装置129及び表示装置131も、それぞれ、入出力インターフェイス133とバス119とを介して制御部111に接続されている。
As shown in FIG. 8, the droplet discharge device 1 includes a control unit 111 that controls the operation of each of the above-described configurations. The control unit 111 includes a CPU (Central Processing Unit) 113, a drive control unit 115, and a memory unit 117. The drive control unit 115 and the memory unit 117 are connected to the CPU 113 via the bus 119.
The droplet discharge device 1 includes a carriage transport motor 121, a work transport motor 123, a work transport motor 124, a sensor transport motor 125, a sensor transport motor 126, an input device 129, and a display device 131. Have.
The carriage transport motor 121, the work transport motor 123, the work transport motor 124, the sensor transport motor 125, and the sensor transport motor 126 are connected to the control unit 111 via the input / output interface 133 and the bus 119, respectively. The input device 129 and the display device 131 are also connected to the control unit 111 via the input / output interface 133 and the bus 119, respectively.

キャリッジ搬送モーター121は、キャリッジ7を駆動するための動力を発生させる。
ワーク搬送モーター123は、ワークテーブル25aを駆動するための動力を発生させる。ワーク搬送モーター124は、ワークテーブル25bを駆動するための動力を発生させる。
センサー搬送モーター125は、検出センサー77が搭載されているキャリッジ85を駆動するための動力を発生させる。センサー搬送モーター126は、検出センサー78が搭載されているキャリッジ85を駆動するための動力を発生させる。
入力装置129は、各種の加工条件を入力する装置である。表示装置131は、加工条件や、作業状況を表示する装置である。液滴吐出装置1を操作するオペレーターは、表示装置131に表示される情報を確認しながら、入力装置129を介して種々の情報を入力することができる。
なお、昇降モーター18、吐出ヘッド19、検出センサー77及び検出センサー78も、それぞれ、入出力インターフェイス133とバス119とを介して制御部111に接続されている。
The carriage transport motor 121 generates power for driving the carriage 7.
The work conveyance motor 123 generates power for driving the work table 25a. The work conveyance motor 124 generates power for driving the work table 25b.
The sensor transport motor 125 generates power for driving the carriage 85 on which the detection sensor 77 is mounted. The sensor transport motor 126 generates power for driving the carriage 85 on which the detection sensor 78 is mounted.
The input device 129 is a device for inputting various processing conditions. The display device 131 is a device that displays processing conditions and work status. An operator who operates the droplet discharge device 1 can input various information via the input device 129 while confirming information displayed on the display device 131.
The lift motor 18, the discharge head 19, the detection sensor 77, and the detection sensor 78 are also connected to the control unit 111 via the input / output interface 133 and the bus 119, respectively.

CPU113は、プロセッサーとして各種の演算処理を行う。駆動制御部115は、各構成の駆動を制御する。メモリー部117は、RAM(Random Access Memory)や、ROM(Read Only Memory)などを含んでいる。メモリー部117には、液滴吐出装置1における動作の制御手順が記述されたプログラムソフト135を記憶する領域や、各種のデータを一時的に展開する領域であるデータ展開部137などが設定されている。データ展開部137に展開されるデータとしては、例えば、描画すべきパターンが示される記録データや、記録処理等のプログラムデータなどが挙げられる。
駆動制御部115は、モーター制御部141と、センサー制御部143と、吐出制御部145と、表示制御部151と、を有している。
The CPU 113 performs various arithmetic processes as a processor. The drive control unit 115 controls driving of each component. The memory unit 117 includes a RAM (Random Access Memory), a ROM (Read Only Memory), and the like. In the memory unit 117, an area for storing the program software 135 in which the operation control procedure in the droplet discharge device 1 is described, a data development unit 137 that is an area for temporarily developing various data, and the like are set. Yes. Examples of data developed in the data development unit 137 include recording data indicating a pattern to be drawn, program data such as recording processing, and the like.
The drive control unit 115 includes a motor control unit 141, a sensor control unit 143, a discharge control unit 145, and a display control unit 151.

モーター制御部141は、CPU113からの指令に基づいて、キャリッジ搬送モーター121の駆動と、ワーク搬送モーター123の駆動と、ワーク搬送モーター124の駆動と、センサー搬送モーター125の駆動と、センサー搬送モーター126の駆動と、昇降モーター18の駆動とを、個別に制御する。
センサー制御部143は、CPU113からの指令に基づいて、検出センサー77及び検出センサー78のそれぞれを個別に制御する。
吐出制御部145は、CPU113からの指令に基づいて、吐出ヘッド19の駆動を制御する。
表示制御部151は、CPU113からの指令に基づいて、表示装置131の駆動を制御する。
Based on a command from the CPU 113, the motor control unit 141 drives the carriage transport motor 121, the work transport motor 123, the work transport motor 124, the sensor transport motor 125, and the sensor transport motor 126. And the drive of the lift motor 18 are individually controlled.
The sensor control unit 143 individually controls each of the detection sensor 77 and the detection sensor 78 based on a command from the CPU 113.
The discharge controller 145 controls driving of the discharge head 19 based on a command from the CPU 113.
The display control unit 151 controls driving of the display device 131 based on a command from the CPU 113.

なお、センサー制御部143は、CPU113からの指令に基づいて、検出センサー77及び検出センサー78のそれぞれにワークWの高さ位置を検出させ、且つ高さ位置の検出結果をメモリー部117やCPU113に出力する。
このとき、CPU113は、検出センサー77や検出センサー78が検出した高さ位置の結果に基づいて、吐出ヘッド19とワークWとの間の隙間量に対する調整量を演算する。次いで、CPU113は、モーター制御部141に昇降モーター18に対する駆動指令を出力する。このとき、CPU113は、演算した調整量に応じた駆動量を、昇降モーター18の駆動量としてモーター制御部141に指示する。
The sensor control unit 143 causes each of the detection sensor 77 and the detection sensor 78 to detect the height position of the workpiece W based on a command from the CPU 113, and causes the memory unit 117 and the CPU 113 to detect the height position detection result. Output.
At this time, the CPU 113 calculates an adjustment amount for the gap amount between the ejection head 19 and the workpiece W based on the result of the height position detected by the detection sensor 77 or the detection sensor 78. Next, the CPU 113 outputs a drive command for the lift motor 18 to the motor control unit 141. At this time, the CPU 113 instructs the motor control unit 141 as the drive amount of the elevating motor 18 for the drive amount corresponding to the calculated adjustment amount.

上記の構成を有する液滴吐出装置1では、図1に示す第1待機領域71において、ワークテーブル25aに対するワークW1の給材(供給)及び除材や、ワークW1の高さ位置検出処理などが行われる。
第1待機領域71において、ワークテーブル25aにワークW1が給材(供給)される(給材工程)と、このワークW1に高さ位置検出処理とが行われる。
高さ位置検出処理とは、液滴吐出装置1に対するワークWの高さ位置を検出する処理である。
液滴吐出装置1では、図2に示す吐出ヘッド19のノズル面35とワークWとの間の隙間量GpがワークWの全域にわたって均一であることが、描画処理における描画品位の向上の観点から、望まれる。
本実施形態では、ワークWの高さ位置を検出した結果に基づいて、吐出ヘッド19のノズル面35とワークWとの間の隙間量Gpが調整される。ノズル面35とワークWとの間の隙間量Gpは、昇降モーター18を駆動することによって調整される。昇降モーター18を駆動することによって、吐出ヘッド19をZ方向に沿って昇降させることができるので、ノズル面35とワークWとの間の隙間量Gpが調整され得る。
In the droplet discharge device 1 having the above-described configuration, in the first standby area 71 shown in FIG. 1, the material supply (supply) and material removal of the workpiece W1 with respect to the workpiece table 25a, the height position detection processing of the workpiece W1, and the like. Done.
In the first standby area 71, when the work W1 is supplied (supplied) to the work table 25a (feeding process), the height position detection process is performed on the work W1.
The height position detection process is a process for detecting the height position of the workpiece W with respect to the droplet discharge device 1.
In the droplet discharge device 1, the gap amount Gp between the nozzle surface 35 of the discharge head 19 and the workpiece W shown in FIG. 2 is uniform over the entire area of the workpiece W from the viewpoint of improving the drawing quality in the drawing process. ,desired.
In the present embodiment, the gap amount Gp between the nozzle surface 35 of the ejection head 19 and the workpiece W is adjusted based on the result of detecting the height position of the workpiece W. The gap amount Gp between the nozzle surface 35 and the workpiece W is adjusted by driving the elevating motor 18. By driving the elevating motor 18, the ejection head 19 can be raised and lowered along the Z direction, so that the gap amount Gp between the nozzle surface 35 and the workpiece W can be adjusted.

ワークW1に対する高さ位置検出処理は、第1検出装置14を介してワークW1の高さ位置を検出する(検出工程)ことによって行われる。
ワークテーブル25aは、第1待機領域71でワークW1に対する高さ位置検出処理が行われてから、ワークW1を処理領域73に搬送する(搬送工程)。
処理領域73では、ワークテーブル25aに載置されたワークW1に対して描画処理が施される(処理工程)。液滴吐出装置1では、描画処理によって、ワークWへのパターンの描画が行われる。
The height position detection process for the workpiece W1 is performed by detecting the height position of the workpiece W1 via the first detection device 14 (detection step).
The work table 25a transports the work W1 to the processing area 73 after the height position detection process for the work W1 is performed in the first standby area 71 (conveying step).
In the processing area 73, a drawing process is performed on the work W1 placed on the work table 25a (processing step). In the droplet discharge device 1, a pattern is drawn on the workpiece W by a drawing process.

液滴吐出装置1では、吐出ヘッド19をワークWに対向させた状態で、吐出ヘッド19とワークWとを相対的に往復移動させながら、吐出ヘッド19から液滴55を吐出させることによって、ワークWへのパターンの描画が行われる。
ワークW1に対する描画処理では、ワークW1の高さ位置を検出した結果に基づいて、吐出ヘッド19のノズル面35とワークW1との間の隙間量Gpが調整される。
描画処理が施されたワークW1は、ワークテーブル25aによって、処理領域73から第1待機領域71に搬送される。
ワークテーブル25aによって第1待機領域71に搬送されたワークW1は、第1待機領域71において、ワークテーブル25aから除材される。そして、ワークテーブル25aには、新たなワークW1が給材される。
In the droplet discharge device 1, the workpiece 55 is discharged from the discharge head 19 while the discharge head 19 and the workpiece W are relatively reciprocated while the discharge head 19 is opposed to the workpiece W. A pattern is drawn on W.
In the drawing process for the workpiece W1, the gap amount Gp between the nozzle surface 35 of the ejection head 19 and the workpiece W1 is adjusted based on the result of detecting the height position of the workpiece W1.
The workpiece W1 that has been subjected to the drawing process is transported from the processing area 73 to the first standby area 71 by the work table 25a.
The workpiece W1 transferred to the first standby area 71 by the work table 25a is removed from the work table 25a in the first standby area 71. Then, a new work W1 is supplied to the work table 25a.

他方で、第2待機領域75では、ワークテーブル25bに対するワークW2の給材(供給)及び除材や、ワークW2の高さ位置検出処理などが行われる。
第2待機領域75において、ワークテーブル25bにワークW2が給材(供給)される(給材工程)と、このワークW2に対する高さ位置検出処理が行われる。ワークW2に対する高さ位置検出処理は、第2検出装置15(図1)を介してワークW2の高さ位置を検出する(検出工程)ことによって行われる。
ワークテーブル25bは、第2待機領域75でワークW2に対する高さ位置検出処理が行われてから、ワークW2を処理領域73に搬送する(搬送工程)。
On the other hand, in the second standby area 75, the material supply (supply) and material removal of the work W2 with respect to the work table 25b, the height position detection process of the work W2, and the like are performed.
In the second standby area 75, when the work W2 is supplied (supplied) to the work table 25b (feeding process), the height position detection process for the work W2 is performed. The height position detection process for the workpiece W2 is performed by detecting the height position of the workpiece W2 via the second detection device 15 (FIG. 1) (detection step).
The work table 25b transports the work W2 to the processing area 73 after the height position detection process for the work W2 is performed in the second standby area 75 (conveying process).

処理領域73では、ワークテーブル25bに載置されたワークW2に対して描画処理が施される(処理工程)。
このとき、ワークW2に対する描画処理では、ワークW2の高さ位置を検出した結果に基づいて、吐出ヘッド19のノズル面35とワークW2との間の隙間量Gpが調整される。
描画処理が施されたワークW2は、ワークテーブル25bによって、処理領域73から第2待機領域75に搬送される。
ワークテーブル25bによって第2待機領域75に搬送されたワークW2は、第2待機領域75において、ワークテーブル25bから除材される。そして、ワークテーブル25bには、新たなワークW2が給材される。
In the processing area 73, a drawing process is performed on the work W2 placed on the work table 25b (processing step).
At this time, in the drawing process for the workpiece W2, the gap amount Gp between the nozzle surface 35 of the ejection head 19 and the workpiece W2 is adjusted based on the result of detecting the height position of the workpiece W2.
The workpiece W2 subjected to the drawing processing is transported from the processing area 73 to the second standby area 75 by the work table 25b.
The workpiece W2 transferred to the second standby area 75 by the work table 25b is removed from the work table 25b in the second standby area 75. Then, a new work W2 is supplied to the work table 25b.

上述したように、液滴吐出装置1では、描画処理において、ワークWの高さ位置を検出した結果に基づいて、吐出ヘッド19のノズル面35とワークWとの間の隙間量Gpを調整することができる。
本実施形態では、ワークテーブル25及びワークWの平面図である図9に示すように、1つのワークWにおいて、複数の検出箇所Kpが設定される。検出箇所Kpは、高さ位置を検出センサー77や検出センサー78で検出する箇所である。
液滴吐出装置1では、各ワークテーブル25の載置面28に座標系が設定されている。そして、複数の検出箇所Kpには、それぞれ、各ワークテーブル25の載置面28に設定された座標系に基づく座標が規定されている。従って、複数の検出箇所Kpは、それぞれ、規定された座標によって個別に識別される。
このため、検出センサー77や検出センサー78によって検出箇所Kpごとに検出した高さ位置の結果は、検出箇所Kpごとに識別され得る。
As described above, in the droplet discharge device 1, the gap amount Gp between the nozzle surface 35 of the discharge head 19 and the workpiece W is adjusted based on the result of detecting the height position of the workpiece W in the drawing process. be able to.
In the present embodiment, as shown in FIG. 9 which is a plan view of the work table 25 and the work W, a plurality of detection points Kp are set in one work W. The detection location Kp is a location where the detection sensor 77 or the detection sensor 78 detects the height position.
In the droplet discharge device 1, a coordinate system is set on the placement surface 28 of each work table 25. And the coordinate based on the coordinate system set to the mounting surface 28 of each work table 25 is prescribed | regulated at the some detection location Kp, respectively. Accordingly, the plurality of detection points Kp are individually identified by the defined coordinates.
For this reason, the result of the height position detected for each detection location Kp by the detection sensor 77 or the detection sensor 78 can be identified for each detection location Kp.

そして、ワークWに対する描画処理では、このワークWにおける検出箇所Kpごとの高さ位置の結果に基づいて、吐出ヘッド19のノズル面35とワークWとの間の隙間量Gpが、検出箇所Kpごとに調整される。本実施形態では、ワークWは、図10に示すように、検出箇所Kpごとに、1つの検出箇所Kpだけを包含する複数の制御エリアSaに区分される。本実施形態では、ワークWに対する描画処理において、制御エリアSaごとに、吐出ヘッド19のノズル面35とワークWとの間の隙間量Gpを調整する方法が採用されている。これにより、吐出ヘッド19のノズル面35とワークWとの間の隙間量Gpが、検出箇所Kpごとに調整され得る。
この結果、ワークWへの機能液53の塗布精度を、ワークWにわたって高く維持しやすくすることができるので、ワークWにおける描画品位を向上させやすくすることができる。
In the drawing process for the workpiece W, the gap amount Gp between the nozzle surface 35 of the ejection head 19 and the workpiece W is determined for each detection location Kp based on the result of the height position for each detection location Kp in the workpiece W. Adjusted to In the present embodiment, as shown in FIG. 10, the workpiece W is divided into a plurality of control areas Sa including only one detection location Kp for each detection location Kp. In the present embodiment, a method of adjusting the gap amount Gp between the nozzle surface 35 of the ejection head 19 and the work W is employed for each control area Sa in the drawing process on the work W. Thereby, the gap amount Gp between the nozzle surface 35 of the ejection head 19 and the workpiece W can be adjusted for each detection location Kp.
As a result, the application accuracy of the functional liquid 53 to the workpiece W can be easily maintained high over the workpiece W, so that the drawing quality of the workpiece W can be easily improved.

本実施形態において、ワークテーブル25がテーブルに対応し、ガイドレール23及びガイドレール24がガイド部に対応し、吐出ヘッド19が処理部に対応し、昇降モーター18が隙間量調整装置及び変位装置に対応し、CPU113が制御部に対応している。
本実施形態では、2つのワークテーブル25のいずれか一方に載置されたワークWに処理領域73で描画処理が施されている間に、他方のワークテーブル25におけるワークWの高さ位置検出処理が実施される。このため、本実施形態では、描画処理の効率を向上させやすくすることができる。
In this embodiment, the work table 25 corresponds to the table, the guide rail 23 and the guide rail 24 correspond to the guide portion, the discharge head 19 corresponds to the processing portion, and the lifting motor 18 corresponds to the gap amount adjusting device and the displacement device. Correspondingly, the CPU 113 corresponds to the control unit.
In the present embodiment, while the drawing process is performed on the workpiece W placed on one of the two workpiece tables 25 in the processing area 73, the height position detection processing of the workpiece W on the other workpiece table 25 is performed. Is implemented. For this reason, in this embodiment, the efficiency of the drawing process can be easily improved.

(第2実施形態)
第1実施形態では、1つのワークWに対して複数の検出箇所Kpが設定されているが、検出箇所Kpの設定方法は、これに限定されない。検出箇所Kpの設定方法としては、複数の検出箇所Kpを各ワークテーブル25の載置面28に設定する方法も採用され得る。
複数の検出箇所Kpを各ワークテーブル25の載置面28に設定する例を第2実施形態として以下に説明する。なお、第2実施形態における液滴吐出装置1は、第1実施形態における液滴吐出装置1と同様の構成を有している。このため、第2実施形態において、第1実施形態と同様の構成については、第1実施形態と同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
(Second Embodiment)
In the first embodiment, a plurality of detection locations Kp are set for one workpiece W, but the method for setting the detection locations Kp is not limited to this. As a method of setting the detection location Kp, a method of setting a plurality of detection locations Kp on the placement surface 28 of each work table 25 may be employed.
An example in which a plurality of detection locations Kp are set on the placement surface 28 of each work table 25 will be described below as a second embodiment. Note that the droplet discharge device 1 in the second embodiment has the same configuration as the droplet discharge device 1 in the first embodiment. For this reason, in 2nd Embodiment, about the structure similar to 1st Embodiment, the code | symbol same as 1st Embodiment is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

基板などのワークWでは、1つのワークWにおいて、ワークWの部位ごとに厚みが大きく異なるということは稀なことと考えられる。このため、1つのワークWに対して多くの検出箇所Kpを設定することは、描画処理の効率と描画品位の向上とを比較考量すると、合理的でない場合がある。
そこで、このような場合には、図11に示すように、各ワークテーブル25の載置面28に複数の検出箇所Kpを設定する方法が有効であると考えられる。この場合でも、ワークWが載置される領域内に複数の検出箇所Kpを設定することが望ましい。
載置面28に複数の検出箇所Kpを設定することにより、載置面28の凹凸や、載置面28の傾斜などの載置面28の状態が検出され得る。
載置面28の凹凸や、載置面28の傾斜などの載置面28の状態は、頻繁に変化するものではない。このため、載置面28に複数の検出箇所Kpを設定するこの例では、載置面28の複数の検出箇所Kpにおける高さ位置を、ワークWの給除材のたびに検出することは合理的でないと考えられる。そこで、載置面28の複数の検出箇所Kpにおける高さ位置を検出する頻度としては、例えば、1日に1回とか、液滴吐出装置1を休止状態から稼動状態に立ち上げるごとなど、合理的な頻度が設定され得る。
In a workpiece W such as a substrate, it is rare that the thickness of one workpiece W varies greatly depending on the portion of the workpiece W. For this reason, setting many detection locations Kp for one work W may be unreasonable if the efficiency of the drawing process and the improvement in drawing quality are weighed.
Therefore, in such a case, as shown in FIG. 11, it is considered effective to set a plurality of detection locations Kp on the placement surface 28 of each work table 25. Even in this case, it is desirable to set a plurality of detection points Kp in the region where the workpiece W is placed.
By setting a plurality of detection points Kp on the mounting surface 28, the state of the mounting surface 28 such as the unevenness of the mounting surface 28 and the inclination of the mounting surface 28 can be detected.
The state of the mounting surface 28 such as the unevenness of the mounting surface 28 and the inclination of the mounting surface 28 does not change frequently. For this reason, in this example in which a plurality of detection locations Kp are set on the placement surface 28, it is reasonable to detect the height position of the placement surface 28 at the plurality of detection locations Kp each time the workpiece W is fed or unloaded. It seems that it is not right. Therefore, the frequency of detecting the height positions at the plurality of detection points Kp on the placement surface 28 is reasonable, for example, once a day or every time the droplet discharge device 1 is started from the rest state to the operation state. Frequency can be set.

載置面28の複数の検出箇所Kpにおける高さ位置の結果は、メモリー部117にデータとして保存される。そして、合理的な頻度で検出するたびに、載置面28の複数の検出箇所Kpにおける高さ位置の結果が更新される。
このように、載置面28の複数の検出箇所Kpにおける高さ位置が把握されれば、ワークWごとの厚みを載置面28の高さ位置に加算することによって、ワークWの高さ位置が把握され得る。凹凸が発生したり、傾斜したりした載置面28に基板などのワークWを載置すると、載置面28の凹凸や傾斜がワークWに反映する。つまり、このワークWでは、吐出ヘッド19とワークWとの間の隙間量Gpが載置面28の凹凸や傾斜に応じて変化する。
The results of the height positions at the plurality of detection locations Kp on the mounting surface 28 are stored as data in the memory unit 117. And whenever it detects with a reasonable frequency, the result of the height position in the some detection location Kp of the mounting surface 28 is updated.
Thus, if the height position in the several detection location Kp of the mounting surface 28 is grasped | ascertained, the height position of the workpiece | work W will be added by adding the thickness for every workpiece | work W to the height position of the mounting surface 28. Can be grasped. When the workpiece W such as a substrate is placed on the placement surface 28 where the unevenness is generated or inclined, the unevenness and the inclination of the placement surface 28 are reflected on the work W. That is, in this work W, the gap amount Gp between the ejection head 19 and the work W changes according to the unevenness or inclination of the mounting surface 28.

このため、載置面28に載置されたワークWにおいて、各検出箇所Kpに対応する箇所の高さ位置は、載置面28の各検出箇所Kpにおける高さ位置にワークWの厚みを加算することによって算出され得る。
第2実施形態では、ワークWごとにワークWの厚みを検出センサー77や検出センサー78で検出する方法が採用される。つまり、第2実施形態では、載置面28に載置されたワークWの厚みを高さ位置として検出する。
前述したように、基板などのワークWでは、1つのワークWにおいて、ワークWの部位ごとに厚みが大きく異なるということは稀なことと考えられる。従って、ワークWの厚みを検出する箇所の数としては、検出箇所Kpの数よりも少ない数で差し支えない。
第2実施形態では、ワークWの厚みを検出する箇所を1つとしている。
For this reason, in the workpiece W placed on the placement surface 28, the height position of the location corresponding to each detection location Kp is obtained by adding the thickness of the workpiece W to the height position at each detection location Kp on the placement surface 28. Can be calculated.
In the second embodiment, a method of detecting the thickness of the workpiece W by the detection sensor 77 or the detection sensor 78 is adopted for each workpiece W. That is, in the second embodiment, the thickness of the workpiece W placed on the placement surface 28 is detected as the height position.
As described above, in the work W such as the substrate, it is rare that the thickness of the work W differs greatly for each part of the work W. Therefore, the number of locations for detecting the thickness of the workpiece W may be smaller than the number of detected locations Kp.
In 2nd Embodiment, the location which detects the thickness of the workpiece | work W is made into one.

上述したように、第2実施形態では、複数の検出箇所Kpにおける高さ位置を検出する頻度を軽減することができるので、描画処理の効率を一層向上させやすくすることができる。
また、第2実施形態では、第1待機領域71及び第2待機領域75のそれぞれの領域を軽減することができる。
第1実施形態では、第1待機領域71及び第2待機領域75のそれぞれにワークテーブル25の2つ分の領域が必要になる。これは、処理領域73において描画処理を行っているときに、第1待機領域71や第2待機領域75でワークWの高さ位置を検出するためである。
これに対し、第2実施形態では、複数の検出箇所Kpにおける高さ位置を検出する頻度が、ワークWの給除材の頻度よりも低い。このため、載置面28の複数の検出箇所Kpにおける高さ位置を検出するときには、描画処理を停止させても支障ない。このため、第2実施形態では、第1実施形態における第1待機領域71及び第2待機領域75のそれぞれから、ワークテーブル25の1つ分の領域が軽減され得る。そして、載置面28の複数の検出箇所Kpにおける高さ位置は、第1待機領域71や第2待機領域75から処理領域73までを利用することによって検出され得る。
As described above, in the second embodiment, since the frequency of detecting the height positions at the plurality of detection locations Kp can be reduced, it is possible to further improve the efficiency of the drawing process.
In the second embodiment, each of the first standby area 71 and the second standby area 75 can be reduced.
In the first embodiment, two areas of the work table 25 are required in each of the first standby area 71 and the second standby area 75. This is because the height position of the workpiece W is detected in the first standby area 71 and the second standby area 75 when the drawing process is performed in the processing area 73.
On the other hand, in 2nd Embodiment, the frequency which detects the height position in the some detection location Kp is lower than the frequency of the feed material of the workpiece | work W. FIG. For this reason, when detecting the height position in the several detection location Kp of the mounting surface 28, even if a drawing process is stopped, it is satisfactory. For this reason, in the second embodiment, one area of the work table 25 can be reduced from each of the first standby area 71 and the second standby area 75 in the first embodiment. And the height position in the some detection location Kp of the mounting surface 28 can be detected by utilizing from the 1st standby area 71 or the 2nd standby area 75 to the process area 73. FIG.

第1実施形態及び第2実施形態では、それぞれ、第1検出装置14と第2検出装置15とを有する構成が採用されているが、液滴吐出装置1の構成は、これに限定されない。液滴吐出装置1の構成としては、例えば、第1検出装置14及び第2検出装置15のいずれか一方を省略した構成も採用され得る。そして、この場合、第1検出装置14及び第2検出装置15のうちの残した他方を、第1待機領域71と第2待機領域75との間で往復移動可能に構成することによって、第1待機領域71及び第2待機領域75のそれぞれにおいて、ワークWの高さ位置を検出することができる。   In the first embodiment and the second embodiment, the configuration including the first detection device 14 and the second detection device 15 is employed, but the configuration of the droplet discharge device 1 is not limited to this. As the configuration of the droplet discharge device 1, for example, a configuration in which one of the first detection device 14 and the second detection device 15 is omitted may be employed. In this case, the remaining one of the first detection device 14 and the second detection device 15 is configured to be capable of reciprocating between the first standby region 71 and the second standby region 75, so that the first In each of the standby area 71 and the second standby area 75, the height position of the workpiece W can be detected.

1…液滴吐出装置、3…ワーク搬送装置、14…第1検出装置、15…第2検出装置、18…昇降モーター、19…吐出ヘッド、23…ガイドレール、24…ガイドレール、25,25a,25b…ワークテーブル、28…載置面、35…ノズル面、53…機能液、55…液滴、71…第1待機領域、73…処理領域、75…第2待機領域、77…検出センサー、78…検出センサー、81…搬送装置、83…搬送装置、85…キャリッジ、87…架台、89…ガイドレール、91…支柱、Gp…隙間量、Kp…検出箇所、W,W1,W2…ワーク。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Droplet discharge apparatus, 3 ... Work conveying apparatus, 14 ... 1st detection apparatus, 15 ... 2nd detection apparatus, 18 ... Lifting motor, 19 ... Discharge head, 23 ... Guide rail, 24 ... Guide rail, 25, 25a , 25b ... Work table, 28 ... Placement surface, 35 ... Nozzle surface, 53 ... Functional liquid, 55 ... Droplet, 71 ... First standby area, 73 ... Processing area, 75 ... Second standby area, 77 ... Detection sensor , 78 ... detection sensor, 81 ... transport device, 83 ... transport device, 85 ... carriage, 87 ... frame, 89 ... guide rail, 91 ... strut, Gp ... gap amount, Kp ... detection location, W, W1, W2 ... work .

Claims (9)

第1のワークを支持する第1のテーブルと、
第2のワークを支持する第2のテーブルと、
前記第1のテーブル及び前記第2のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイド部と、
前記共通経路において、前記第1のテーブル及び前記第2のテーブルごとに、前記第1のテーブル及び前記第2のテーブルのそれぞれに支持された前記第1のワーク及び前記第2のワークに対向した状態で、対向する前記第1のワーク及び第前記第2のワークに対して処理を施す処理部と、
前記共通経路において前記第1のテーブル及び前記第2のテーブルのそれぞれが前記処理部に対向し得る領域である処理領域の外側に設けられ、前記第1のテーブルに支持された前記第1のワークの高さ位置を、前記処理領域の外側で検出する第1検出部、及び、前記第2のテーブルに支持された前記第2のワークの高さ位置を、前記処理領域の外側で検出する第2検出部、を含む検出装置と、
前記処理部と前記第1のワークとの間、及び、前記処理部と前記第2のワークとの間の隙間量を調整する隙間量調整装置と、を有し、
前記処理部が前記第1のワーク及び前記第2のワークのうちの一方に処理を施しているときに、前記検出装置が前記第1のワーク及び前記第2のワークのうちの他方の高さ位置を検出する、
ことを特徴とする処理装置。
A first table supporting a first workpiece;
A second table for supporting the second workpiece;
A guide unit that guides a moving route including a common route that is a common route between the first table and the second table ;
In the common path, each said first table and said second table, from and opposite to the first table and the first supported on each of the second table of the workpiece and the second workpiece A processing unit that performs processing on the first workpiece and the second workpiece facing each other in a state;
Said common each of said first table and said second table in a path is provided outside the processing region is a region that can be opposed to the processing unit, said supported on the first table the first workpiece A first detection unit for detecting the height position of the second workpiece supported on the second table, and a first detection unit for detecting the height position of the second workpiece supported by the second table on the outside of the processing region. A detection device including two detection units ;
During said processing section and said first work, and, have a, a gap amount adjustment device for adjusting the gap amount between said processing unit and the second workpiece,
When the processing unit is processing one of the first workpiece and the second workpiece, the detection device has the other height of the first workpiece and the second workpiece. Detect position,
The processing apparatus characterized by the above-mentioned.
前記検出装置での前記第1のワークの高さ位置の検出結果、又は、前記第2のワークの高さ位置の検出結果に基づいて、前記隙間量調整装置を制御する制御部を有する、
ことを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
Based on the detection result of the height position of the first workpiece in the detection device or the detection result of the height position of the second workpiece, the control unit controls the gap amount adjusting device.
The processing apparatus according to claim 1.
前記処理部は、液状体を吐出する吐出ヘッドを有する、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の処理装置。
The processing unit includes an ejection head that ejects a liquid.
The processing apparatus according to claim 1 or 2.
前記隙間量調整装置は、前記処理部を変位させる変位装置を有する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の処理装置。
The gap amount adjusting device includes a displacement device that displaces the processing unit.
The processing apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein:
ワークを支持する複数のテーブルと、  A plurality of tables supporting the workpiece;
前記複数のテーブルのそれぞれを、前記複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイド部と、  A guide unit that guides each of the plurality of tables by a movement route including a common route that is a route common to the plurality of tables;
前記共通経路において、前記複数のテーブルの前記テーブルごとに、前記複数のテーブルのそれぞれに支持された前記ワークに対向した状態で、対向する前記ワークに対して処理を施す処理部と、  In the common path, for each table of the plurality of tables, a processing unit that performs processing on the facing workpieces in a state of facing the workpieces supported on each of the plurality of tables;
前記共通経路において前記複数のテーブルのそれぞれが前記処理部に対向し得る領域である処理領域の外側に設けられ、前記テーブルに支持された前記ワークの高さ位置を、前記処理領域の外側で検出する検出装置と、  In the common path, each of the plurality of tables is provided outside the processing area which is an area that can face the processing unit, and the height position of the workpiece supported by the table is detected outside the processing area. A detecting device to
前記処理部と前記ワークとの間の隙間量を調整する隙間量調整装置と、  A gap amount adjusting device that adjusts a gap amount between the processing unit and the workpiece;
制御部と、を有し、  A control unit,
前記制御部は、  The controller is
前記処理部が前記複数のテーブルの内の1つの前記テーブルに支持された前記ワークに対して処理を施しているうちに、前記検出装置が前記複数のテーブルの内の他の前記テーブルに支持された処理前の前記ワークの高さ位置を検出するよう制御し、    While the processing unit is processing the workpiece supported by one of the plurality of tables, the detection device is supported by the other table among the plurality of tables. Control to detect the height position of the workpiece before processing,
前記1つのテーブルに支持された前記ワークに対する処理が終了した後に、前記処理領域において、前記他のテーブルに支持された前記ワークに対する処理を施すときに、前記ワークの高さ位置の把握結果に基づいて、前記処理部と前記ワークとの間の隙間量を調整するように前記隙間量調整装置を制御することを特徴とする処理装置。    Based on the result of grasping the height position of the workpiece when performing the processing on the workpiece supported by the other table in the processing area after the processing on the workpiece supported by the one table is completed. The gap amount adjusting device is controlled so as to adjust the gap amount between the processing section and the workpiece.
ワークを支持する複数のテーブルと、
前記複数のテーブルのそれぞれを、前記複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイド部と、
前記共通経路において、前記複数のテーブルの前記テーブルごとに、前記複数のテーブルのそれぞれに支持された前記ワークに対向した状態で、対向する前記ワークに対して処理を施す処理部と、
を有する処理装置の前記共通経路で前記複数のテーブルのそれぞれが前記処理部に対向し得る領域である処理領域において、前記複数のテーブルのうちの1つの前記テーブルに支持された前記ワークに対して前記処理部が処理を施しているときに、前記処理領域の外側で、前記複数のテーブルのうちの他の前記テーブルに支持された処理前の前記ワークの高さ位置を把握し、
前記1つのテーブルに支持された前記ワークに対する処理が終了した後に、前記処理領域において、前記他のテーブルに支持された前記ワークに対する処理を施すときに、前記ワークの高さ位置の把握結果に基づいて、前記処理部と前記ワークとの間の隙間量を調整する、
ことを特徴とする処理方法。
A plurality of tables supporting the workpiece;
A guide unit that guides each of the plurality of tables by a movement route including a common route that is a route common to the plurality of tables;
In the common path, for each table of the plurality of tables, a processing unit that performs processing on the facing workpieces in a state of facing the workpieces supported on each of the plurality of tables;
In the processing area that is an area where each of the plurality of tables can face the processing unit on the common path of the processing apparatus, the workpiece supported on one of the plurality of tables. When the processing unit is performing processing, outside the processing region, grasp the height position of the workpiece before processing supported by the other table among the plurality of tables,
Based on the result of grasping the height position of the workpiece when performing the processing on the workpiece supported by the other table in the processing area after the processing on the workpiece supported by the one table is completed. Adjusting the amount of gap between the processing unit and the workpiece,
A processing method characterized by the above.
前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記ワークの複数の箇所における前記高さ位置を把握する、
ことを特徴とする請求項に記載の処理方法。
When grasping the height position of the workpiece, grasp the height position in a plurality of locations of the workpiece,
The processing method according to claim 6 .
前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記ワークの高さ位置を検出することによって、前記ワークの高さ位置を把握する、
ことを特徴とする請求項に記載の処理方法。
Grasping the height position of the workpiece by detecting the height position of the workpiece when grasping the height position of the workpiece;
The processing method according to claim 7 .
前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記テーブルの複数の検出箇所における高さ位置を検出したそれぞれの結果に、前記テーブルの前記検出箇所の数よりも少ない数の箇所で検出した前記ワークの高さ位置の結果を加算することによって、前記ワークの高さ位置を把握する、
ことを特徴とする請求項に記載の処理方法。
When the height position of the workpiece is grasped, the workpiece detected at a number of locations smaller than the number of the detection locations of the table as a result of detecting the height position at a plurality of detection locations of the table. The height position of the workpiece is grasped by adding the result of the height position of
The processing method according to claim 7 .
JP2011141483A 2011-06-27 2011-06-27 Processing apparatus and processing method Active JP5849459B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011141483A JP5849459B2 (en) 2011-06-27 2011-06-27 Processing apparatus and processing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011141483A JP5849459B2 (en) 2011-06-27 2011-06-27 Processing apparatus and processing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013006158A JP2013006158A (en) 2013-01-10
JP5849459B2 true JP5849459B2 (en) 2016-01-27

Family

ID=47674005

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011141483A Active JP5849459B2 (en) 2011-06-27 2011-06-27 Processing apparatus and processing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5849459B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104399642B (en) * 2014-10-30 2017-02-15 马瑞利汽车零部件(芜湖)有限公司 Automobile lamp body annular gluing bench with tools
CN106423723A (en) * 2016-08-27 2017-02-22 无锡天奇信息技术有限公司 Lifting type wax injecting device

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4073990B2 (en) * 1997-12-01 2008-04-09 大日本印刷株式会社 Coating film forming method and coating apparatus
JP2004030941A (en) * 2002-06-21 2004-01-29 Toray Ind Inc Application device and application method
KR101156920B1 (en) * 2007-02-27 2012-06-21 캐논 가부시끼가이샤 Coating apparatus
JP2008225246A (en) * 2007-03-14 2008-09-25 Seiko Epson Corp Droplet discharge device, manufacturing method of electro-optical device, electro-optical device and electronic equipment
JP5218325B2 (en) * 2009-08-10 2013-06-26 セイコーエプソン株式会社 Method for measuring discharge weight of droplet discharge device and droplet discharge device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013006158A (en) 2013-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004337725A (en) Droplet discharging apparatus, electro-optical device production method, electro-optical device, electronic device, and substrate
JP2009022915A (en) Liquid droplet ejection method and liquid droplet ejection apparatus
JP5621277B2 (en) Droplet discharge device
JP5849459B2 (en) Processing apparatus and processing method
JP4320560B2 (en) Droplet discharge device
US11077978B2 (en) Product transfer apparatus and product transfer system
JP5621276B2 (en) Droplet discharge device
JP2011177643A (en) Droplet ejection apparatus
JP4478656B2 (en) Paste application method
JP5834500B2 (en) Stage apparatus, processing apparatus, and processing method
JP2012251822A (en) Stage device and processing apparatus
JP2011177641A (en) Droplet ejection apparatus
JP2015196106A (en) Coating liquid coating apparatus and method
JP2018092971A (en) Component mounting system, setup work management system, and setup work management method
JP2009125615A (en) Liquid droplet ejection apparatus, and method of controlling image drawing performed by the same
JP2011177679A (en) Droplet discharge device and method for controlling droplet discharge device
JP4688520B2 (en) Precision grinding equipment
CN109760418B (en) Conveyance stage and inkjet device using the same
JP2024034622A (en) Droplet discharge device, droplet discharge method, and storage medium
JP6737649B2 (en) Coating device and coating method
JP2012055846A (en) Droplet discharge apparatus
JP2004093369A (en) Work gap measuring method and work gap measuring device, rendering method and rendering device, electro-optical device and manufacturing method, and electronic equipment
JP2005044525A (en) Method for manufacturing electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus
KR20230001278A (en) Method for preheating substrate treating apparatus and computer program therefor
JP5879874B2 (en) Drawing apparatus and drawing method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140605

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20150107

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150317

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150324

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150521

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20151104

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20151117

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5849459

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350