JPH05285434A - Apparatus for discharging liquid - Google Patents
Apparatus for discharging liquidInfo
- Publication number
- JPH05285434A JPH05285434A JP12140392A JP12140392A JPH05285434A JP H05285434 A JPH05285434 A JP H05285434A JP 12140392 A JP12140392 A JP 12140392A JP 12140392 A JP12140392 A JP 12140392A JP H05285434 A JPH05285434 A JP H05285434A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve rod
- liquid
- ejecting apparatus
- liquid ejecting
- main body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Loading And Unloading Of Fuel Tanks Or Ships (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は液体吐出装置に関する。
具体的にいうと、バルブロッドを用いた空気圧送式の液
体吐出装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid ejection device.
More specifically, the present invention relates to an air pressure type liquid ejection device using a valve rod.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図１０はバルブロッドを用いた空気圧送
式の液体吐出装置５１の従来例を示す概略断面図であ
る。この液体吐出装置５１にあっては、シリンジ５２の
下部に設けられたノズル５３を電磁バルブ５４によって
開閉するようにしてあり、シリンジ５２の中に吐出液５
５を入れておき、シリンジ５２内に圧縮空気５６を圧送
して吐出液５５に一定の圧力を加えている。電磁バルブ
５４は、バルブロッド５７の先端でノズル５３を開閉す
るようにし、バネ５８によってバルブロッド５７をノズ
ル閉成方向に付勢し、電磁ソレノイド５９によってバル
ブロッド５７を後退させるようにしており、電磁ソレノ
イド５９をオンにしてバネ５８の弾性力に抗してバルブ
ロッド５７を引き上げるとノズル５３が開かれ、空気圧
によって吐出液５５がノズル５３から吐出される。吐出
を終える時には、電磁ソレノイド５９をオフにすると、
バネ５８によってバルブロッド５７が突出し、ノズル５
３が閉栓される。2. Description of the Related Art FIG. 10 is a schematic sectional view showing a conventional example of a pneumatic liquid discharge device 51 using a valve rod. In this liquid ejecting apparatus 51, the nozzle 53 provided at the lower portion of the syringe 52 is opened and closed by the electromagnetic valve 54, and the ejecting liquid 5 is put into the syringe 52.
5, the compressed air 56 is pressure-fed into the syringe 52 to apply a constant pressure to the discharge liquid 55. The electromagnetic valve 54 opens and closes the nozzle 53 with the tip of the valve rod 57, urges the valve rod 57 in the nozzle closing direction by a spring 58, and retracts the valve rod 57 by an electromagnetic solenoid 59. When the electromagnetic solenoid 59 is turned on and the valve rod 57 is pulled up against the elastic force of the spring 58, the nozzle 53 is opened and the discharge liquid 55 is discharged from the nozzle 53 by air pressure. When the electromagnetic solenoid 59 is turned off when the discharge is finished,
The valve rod 57 is projected by the spring 58 and the nozzle 5
3 is closed.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電磁バ
ルブによってバルブロッドの開閉を行なう方式では、バ
ルブロッドの最小応答速度に限界があった。このため、
従来の液体吐出装置５１にあっては、バルブロッド５７
の閉成時の応答速度が遅く、吐出液５５の吐出精度を低
下させる原因となっていた。However, in the system in which the valve rod is opened and closed by the electromagnetic valve, the minimum response speed of the valve rod is limited. For this reason,
In the conventional liquid ejecting apparatus 51, the valve rod 57
The response speed at the time of closing was slow, which was a cause of lowering the discharge accuracy of the discharge liquid 55.
【０００４】また、バルブロッド５７を閉じるバネ５８
が劣化すると、バルブロッド５７の閉成時の速度が変化
するので、バルブロッド５７の閉成時の応答速度が遅く
なったり、変化したりし、吐出液５５の吐出精度を低下
させる恐れがあった。A spring 58 for closing the valve rod 57 is also provided.
When the valve rod 57 closes, the speed of the valve rod 57 at the time of closing changes. Therefore, the response speed of the valve rod 57 at the time of closing may change or change, and the discharge accuracy of the discharge liquid 55 may decrease. It was
【０００５】また、電磁バルブ５４は、オン，オフ制御
しかできず、吐出量の微量制御が困難であった。しか
も、電磁バルブ５４は、オン時にバルブロッド５７を一
定距離後退させてノズル５３を開くだけであり、バルブ
ロッド５７のストロークの制御を行なえないので、ノズ
ル５３からの吐出液５５の吐出流量を調整できなかっ
た。Further, the electromagnetic valve 54 can only be turned on and off, and it has been difficult to control the discharge amount in minute amounts. Moreover, the electromagnetic valve 54 only retracts the valve rod 57 by a certain distance when it is turned on to open the nozzle 53, and cannot control the stroke of the valve rod 57. Therefore, the discharge flow rate of the discharge liquid 55 from the nozzle 53 is adjusted. could not.
【０００６】また、電磁バルブ５４をオンにしてノズル
５３を開いているので、ノズル５３の開成中に絶えず電
磁ソレノイド５９に通電する必要があり、消費電力が大
きいという欠点があった。Further, since the electromagnetic valve 54 is turned on and the nozzle 53 is opened, it is necessary to constantly energize the electromagnetic solenoid 59 during the opening of the nozzle 53, which has a drawback that the power consumption is large.
【０００７】本発明は叙上の従来例の欠点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、バルブロッ
ドの応答速度を速くして吐出液の吐出精度を向上させ、
また、液体吐出装置（本体）の移動速度等に応じて吐出
流量を調整することができ、さらに微量吐出の可能な液
体吐出装置を提供することにある。The present invention has been made in view of the drawbacks of the above-mentioned conventional examples, and an object thereof is to improve the discharge accuracy of the discharge liquid by increasing the response speed of the valve rod.
Another object of the present invention is to provide a liquid ejection device capable of adjusting the ejection flow rate according to the moving speed of the liquid ejection device (main body) and the like and capable of ejecting a small amount.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の液体吐出装置
は、バルブロッドによってノズルを開閉し、吐出液に加
えられている空気圧によって吐出液をノズルから吐出さ
せるようにした空気圧送式の液体吐出装置において、前
記バルブロッドを連続的に変位する変位アクチュエータ
により駆動させるようにしたことを特徴としている。A liquid discharge apparatus according to the present invention is a pneumatic discharge type liquid discharge in which a nozzle is opened and closed by a valve rod and the discharge liquid is discharged from the nozzle by air pressure applied to the discharge liquid. The device is characterized in that the valve rod is driven by a displacement actuator that is continuously displaced.
【０００９】また、この液体吐出装置は、前記容器、前
記バルブロッド及び当該バルブロッドを直接に駆動する
前記変位アクチュエータを備えた液体吐出装置本体と、
前記液体吐出装置本体を移動させるための２次元移動装
置と、２次元移動装置による液体吐出装置の移動速度を
検出する速度検出手段と、前記速度検出手段の出力に基
づいて変位アクチュエータの変位量を制御する手段とを
備えていても良い。Further, this liquid ejecting apparatus includes a liquid ejecting apparatus main body comprising the container, the valve rod, and the displacement actuator for directly driving the valve rod,
A two-dimensional moving device for moving the liquid ejecting apparatus main body, a speed detecting unit for detecting a moving speed of the liquid ejecting apparatus by the two-dimensional moving device, and a displacement amount of a displacement actuator based on an output of the speed detecting unit. It may be provided with a means for controlling.
【００１０】また、この液体吐出装置は、前記容器、前
記バルブロッド及び当該バルブロッドを直接に駆動する
前記変位アクチュエータを備えた液体吐出装置本体と、
前記液体吐出装置本体を移動させるための２次元移動装
置と、２次元移動装置による液体吐出装置の移動速度を
検出する速度検出手段と、液体吐出装置の位置を検出す
る位置検出手段と、前記速度検出手段と位置検出手段の
出力に基づいて変位アクチュエータの変位量を制御する
手段とを備えていても良い。Further, this liquid ejecting apparatus comprises a liquid ejecting apparatus main body comprising the container, the valve rod, and the displacement actuator for directly driving the valve rod,
A two-dimensional moving device for moving the liquid ejecting apparatus main body, a speed detecting means for detecting a moving speed of the liquid ejecting apparatus by the two-dimensional moving apparatus, a position detecting means for detecting a position of the liquid ejecting apparatus, and the speed. It may be provided with a detecting means and a means for controlling the displacement amount of the displacement actuator based on the output of the position detecting means.
【００１１】[0011]
【作用】本発明の液体吐出装置にあっては、連続的に変
位する変位アクチュエータによってバルブロッドを駆動
してノズルを開閉させるようにしているので、バルブロ
ッドの開閉時に変位アクチュエータの出力によってバル
ブロッドのストロークを連続的に制御することができ
る。したがって、バルブロッドのストロークによってノ
ズルの開閉量を調整することができ、吐出液の吐出流量
を変化させることができる。In the liquid discharge apparatus of the present invention, since the valve rod is driven by the displacement actuator which is continuously displaced to open and close the nozzle, the valve rod is opened and closed by the output of the displacement actuator. The stroke can be controlled continuously. Therefore, the opening / closing amount of the nozzle can be adjusted by the stroke of the valve rod, and the discharge flow rate of the discharge liquid can be changed.
【００１２】さらに、変位アクチュエータ（例えば、圧
電素子）によりバルブロッドの開閉を行なえば、電磁バ
ルブによるバルブロッドの最小開閉時間よりも短い時間
でバルブロッドの開閉を行なうことができ、変位アクチ
ュエータを高速駆動することによりバルブロッドの開成
速度や閉成速度を飛躍的に向上させることができる。ま
た、バネの劣化によってバルブロッドの閉成時の速度が
変化する恐れもなくなる。したがって、微量の吐出液を
より精密に吐出させることが可能になる。Further, if the valve rod is opened / closed by a displacement actuator (for example, a piezoelectric element), the valve rod can be opened / closed in a time shorter than the minimum opening / closing time of the valve rod by the electromagnetic valve. By driving, the opening speed and closing speed of the valve rod can be dramatically improved. Further, there is no fear that the speed of the valve rod at the time of closing will change due to the deterioration of the spring. Therefore, it becomes possible to discharge a minute amount of the discharge liquid more accurately.
【００１３】さらに、変位アクチュエータはバルブロッ
ドを変位させる際にのみ駆動すればよく、例えばバルブ
ロッドを開いた状態に保持するために変位アクチュエー
タを稼働させる必要がないので、消費電力を少なくする
ことができる。Further, the displacement actuator need only be driven when displacing the valve rod, and it is not necessary to operate the displacement actuator to hold the valve rod in an open state, for example, so that power consumption can be reduced. it can.
【００１４】また、容器とバルブロッドと変位アクチュ
エータを備えた液体吐出装置本体、液体吐出装置本体を
移動させる２次元移動装置、液体吐出装置の移動速度を
検出する速度検出手段、および変位アクチュエータの変
位量制御手段を備えた液体吐出装置にあっては、吐出液
を吐出する液体吐出装置本体の移動速度に応じて変位ア
クチュエータによるバルブロッドの変位量を制御し、吐
出流量を調整することができるので、例えば液体吐出装
置本体の移動速度が変化する場合でも吐出液の塗布量が
一定となるように調整することができる。Further, a liquid ejecting apparatus main body provided with a container, a valve rod and a displacement actuator, a two-dimensional moving device for moving the liquid ejecting apparatus main body, a speed detecting means for detecting a moving speed of the liquid ejecting apparatus, and a displacement of the displacement actuator. In the liquid ejecting apparatus provided with the amount control means, since the displacement amount of the valve rod by the displacement actuator can be controlled according to the moving speed of the liquid ejecting apparatus main body for ejecting the ejected liquid, the ejection flow rate can be adjusted. For example, even when the moving speed of the liquid ejecting apparatus main body changes, the application amount of the ejecting liquid can be adjusted to be constant.
【００１５】また、容器とバルブロッドと変位アクチュ
エータを備えた液体吐出装置本体、液体吐出装置本体を
移動させる２次元移動装置、液体吐出装置の移動速度を
検出する速度検出手段、液体吐出装置本体の位置を検出
する位置検出装置、および変位アクチュエータの変位量
制御手段を備えた液体吐出装置にあっては、液体吐出装
置本体の位置及び移動速度に応じてフレキシブルに吐出
液の吐出流量を調整することができる。Further, the liquid ejecting apparatus main body provided with the container, the valve rod and the displacement actuator, the two-dimensional moving device for moving the liquid ejecting apparatus main body, the speed detecting means for detecting the moving speed of the liquid ejecting apparatus, and the liquid ejecting apparatus main body In a liquid ejection device including a position detection device for detecting a position and a displacement amount control means for a displacement actuator, the ejection flow rate of ejection liquid is flexibly adjusted according to the position and movement speed of the liquid ejection device body. You can
【００１６】[0016]
【実施例】図１は本発明の一実施例による液体吐出装置
に用いられている液体吐出装置本体１を示す概略断面図
である。吐出液２を入れるシリンジ３の下端部には液体
吐出用のノズル４が設けられており、シリンジ３内の上
部には圧電素子（ＰＺＴ）５が設置されている。圧電素
子５にはノズル４を開閉するためのバルブロッド６が直
結されており、バルブロッド６の下端部はシリンジ３の
内側からノズル４に臨んでいる。また、シリンジ３内の
吐出液２の上方空間には圧縮空気７が圧送されており、
吐出液２の液面に一定圧力を常に加えている。1 is a schematic sectional view showing a liquid ejecting apparatus main body 1 used in a liquid ejecting apparatus according to an embodiment of the present invention. A nozzle 4 for ejecting a liquid is provided at a lower end portion of a syringe 3 for containing the ejection liquid 2, and a piezoelectric element (PZT) 5 is provided at an upper portion inside the syringe 3. A valve rod 6 for opening and closing the nozzle 4 is directly connected to the piezoelectric element 5, and the lower end of the valve rod 6 faces the nozzle 4 from the inside of the syringe 3. In addition, compressed air 7 is pressure-fed to the space above the discharge liquid 2 in the syringe 3.
A constant pressure is constantly applied to the liquid surface of the discharge liquid 2.
【００１７】このような圧電素子５は例えば高周波信号
を印加することにより高速で精密に変位するので、バル
ブロッド６の開閉速度、特に閉成時の速度が電磁バルブ
５４を用いたものに比較して大幅に向上する。この結
果、バルブロッド６を瞬間的に開閉できるようになり、
吐出液２の微量吐出精度を向上させることができる。Since such a piezoelectric element 5 is accurately displaced at high speed by applying a high-frequency signal, for example, the opening / closing speed of the valve rod 6, especially the closing speed, is higher than that using the electromagnetic valve 54. Greatly improve. As a result, the valve rod 6 can be opened and closed instantaneously,
It is possible to improve the precision of the minute amount of the discharge liquid 2.
【００１８】また、ノズル４からの吐出流量は、圧電素
子５によってバルブロッド６の変位量を制御し、ノズル
４とバルブロッド６の間のギャップ量ｓを変化させるこ
とにより調整できる。特に、この実施例では、バルブロ
ッド６からの吐出流量Ｑがバルブロッド６とノズル４の
ギャップ量ｓに比例するようノズル４の形状及びバルブ
ロッド６の先端形状を設計してあり、バルブロッド６と
ノズル４のギャップ量ｓは圧電素子５の変位量をリニア
に制御することにより調整される。したがって、図２に
示すように、圧電素子５によってバルブロッド６とノズ
ル４のギャップ量ｓを変化させると、それに比例してノ
ズル４からの吐出流量Ｑが増加するが、ギャップ量がｓ
ｃとなってノズル４が完全に開いた後は吐出流量Ｑは一
定値Ｑｃとなる。The discharge flow rate from the nozzle 4 can be adjusted by controlling the displacement amount of the valve rod 6 by the piezoelectric element 5 and changing the gap amount s between the nozzle 4 and the valve rod 6. Particularly, in this embodiment, the shape of the nozzle 4 and the tip shape of the valve rod 6 are designed so that the discharge flow rate Q from the valve rod 6 is proportional to the gap amount s between the valve rod 6 and the nozzle 4. The gap amount s of the nozzle 4 is adjusted by linearly controlling the displacement amount of the piezoelectric element 5. Therefore, as shown in FIG. 2, if the gap amount s between the valve rod 6 and the nozzle 4 is changed by the piezoelectric element 5, the discharge flow rate Q from the nozzle 4 increases in proportion thereto, but the gap amount is s.
After reaching c and the nozzle 4 is completely opened, the discharge flow rate Q becomes a constant value Qc.
【００１９】図３は上記液体吐出装置本体１をＸＹステ
ージ８に設置して２次元平面内で液体吐出装置本体１を
移動させられるようにした液体吐出装置Ａを示す平面図
である。液体吐出装置本体１は、ＸＹステージ８のＹ方
向フレーム９に沿って移動することによりＹ方向に変位
し、Ｙ方向フレーム９をＸ方向フレーム１０に沿って移
動させることによりＸ方向に変位する。しかして、液体
吐出装置本体１は、ＸＹステージ８によってＸ方向及び
Ｙ方向へ移動しながらノズル４から吐出液２を吐出し、
同時に、圧電素子５によってバルブロッド６を変位させ
ることにより吐出流量Ｑを制御される。FIG. 3 is a plan view showing a liquid ejecting apparatus A in which the liquid ejecting apparatus main body 1 is installed on an XY stage 8 so that the liquid ejecting apparatus main body 1 can be moved within a two-dimensional plane. The liquid ejecting apparatus main body 1 is displaced in the Y direction by moving along the Y direction frame 9 of the XY stage 8, and is displaced in the X direction by moving the Y direction frame 9 along the X direction frame 10. Then, the liquid ejecting apparatus main body 1 ejects the ejecting liquid 2 from the nozzle 4 while moving in the X direction and the Y direction by the XY stage 8,
At the same time, the discharge flow rate Q is controlled by displacing the valve rod 6 by the piezoelectric element 5.
【００２０】また、この液体吐出装置Ａは、ＸＹステー
ジ８による液体吐出装置１の移動速度Ｖに応じて圧電素
子５の出力変位量を制御し、吐出液２の吐出流量Ｑを調
整する制御装置１１を備えている。図４は圧電素子５を
制御するための制御装置１１の構成を示すブロック図で
あって、１２は線形速度演算器、１３は変位指令信号発
生装置、１４は圧電素子５を駆動するための駆動アンプ
である。ＸＹステージ８から線形速度演算部１２へは液
体吐出装置本体１のＸ方向及びＹ方向の移動速度（以
下、それぞれＸ軸速度、Ｙ軸速度という。）ＶX，ＶYが
出力されており、線形速度演算部１２では液体吐出装置
本体１の線形移動速度Ｖ（ただし、Ｖ2＝ＶX 2＋ＶY 2）
が演算されている。線形速度演算部１２で線形移動速度
Ｖが演算されると、液体吐出装置本体１の線形移動速度
Ｖを示す信号が変位指令信号発生装置１３へ出力され
る。変位指令信号発生装置１３は入力された線形移動速
度情報に基づき、吐出液２の対象物への塗布量（すなわ
ち、塗布厚や塗布幅など）が一定となるように圧電素子
５の変位量を演算し、圧電素子５を演算量だけ変位させ
るための変位指令信号（周波数信号など）ＤＣＳを出力
する。すなわち、変位指令信号発生装置１３は、液体吐
出装置本体１の線形移動速度Ｖが大きい場合にはバルブ
ロッド６を開いて吐出流量Ｑを増加させ、逆に、液体吐
出装置本体１の線形移動速度Ｖが小さい場合にはバルブ
ロッド６を閉じて吐出流量Ｑを減少させ、これによって
対象物上の塗布量が一定となるように圧電素子５を制御
する。例えば、図２のように圧電素子の変位量（ノズル
−バルブロッド間のギャップ量ｓ）と吐出液２の吐出流
量Ｑとが比例する場合には、圧電素子５の変位量は移動
速度Ｖと比例するように（比例係数は予め設定されてい
る。）決定される。変位指令信号発生装置１３から駆動
アンプ１４へ変位指令信号ＤＣＳが出力されると、変位
指令信号ＤＣＳは駆動アンプ１４で電力増幅された後、
圧電素子５に印加され、圧電素子５が駆動される。Further, the liquid ejecting apparatus A controls the output displacement amount of the piezoelectric element 5 according to the moving speed V of the liquid ejecting apparatus 1 by the XY stage 8 and adjusts the ejecting flow rate Q of the ejecting liquid 2. 11 is provided. FIG. 4 is a block diagram showing the configuration of the control device 11 for controlling the piezoelectric element 5, in which 12 is a linear velocity calculator, 13 is a displacement command signal generator, and 14 is a drive for driving the piezoelectric element 5. It is an amplifier. From the XY stage 8 to the linear velocity calculator 12, the moving velocities V X and V Y of the liquid ejecting apparatus main body 1 in the X and Y directions (hereinafter, respectively referred to as X axis velocity and Y axis velocity) are output, In the linear velocity calculation unit 12, the linear movement velocity V of the liquid ejecting apparatus main body 1 (where V 2 = V X 2 + V Y 2 )
Is being calculated. When the linear movement velocity V is calculated by the linear velocity calculation unit 12, a signal indicating the linear movement velocity V of the liquid ejection device body 1 is output to the displacement command signal generation device 13. The displacement command signal generator 13 determines the displacement amount of the piezoelectric element 5 based on the input linear movement speed information so that the application amount of the discharge liquid 2 (that is, the application thickness, the application width, etc.) becomes constant. A displacement command signal (frequency signal or the like) DCS for calculating and displacing the piezoelectric element 5 by the calculated amount is output. That is, the displacement command signal generator 13 increases the discharge flow rate Q by opening the valve rod 6 when the linear moving speed V of the liquid ejecting apparatus main body 1 is large, and conversely, the linear moving speed of the liquid ejecting apparatus main body 1 is increased. When V is small, the valve rod 6 is closed to reduce the discharge flow rate Q, and thereby the piezoelectric element 5 is controlled so that the coating amount on the object becomes constant. For example, when the displacement amount of the piezoelectric element (gap amount s between the nozzle and the valve rod) is proportional to the discharge flow rate Q of the discharge liquid 2 as shown in FIG. 2, the displacement amount of the piezoelectric element 5 is the moving speed V. It is determined to be proportional (the proportional coefficient is preset). When the displacement command signal DCS is output from the displacement command signal generator 13 to the drive amplifier 14, the displacement command signal DCS is power-amplified by the drive amplifier 14 and then
The piezoelectric element 5 is driven by being applied to the piezoelectric element 5.
【００２１】つぎに、上記のような制御装置１１を制御
しながら、ＸＹステージ８により液体吐出装置本体１を
移動させて図６（ａ）に示すような角枠形の塗布パター
ンに吐出液２を塗布する場合を考える。図５（ａ）
（ｂ）（ｃ）は、この場合におけるＸＹステージ８によ
る液体吐出装置本体１の移動速度Ｖの変化、圧電素子５
によるノズル４とバルブロッド６の間のギャップ量ｓの
変化、液体吐出装置本体１から対象物１６への塗布量Ｗ
の変化を示している。Next, while controlling the control device 11 as described above, the liquid ejecting apparatus main body 1 is moved by the XY stage 8 and the ejecting liquid 2 is formed into a rectangular frame-shaped coating pattern as shown in FIG. 6A. Consider the case of applying. Figure 5 (a)
(B) and (c) show changes in the moving speed V of the liquid ejecting apparatus main body 1 by the XY stage 8 in this case, and the piezoelectric element 5.
Of the gap amount s between the nozzle 4 and the valve rod 6 due to the
Shows the change.
【００２２】ＸＹステージ８により図６（ａ）のような
角枠状の塗布パターンに沿って液体吐出装置本体１を移
動させる場合には、例えば一定速度ＶXで液体吐出装置
本体１をＸ方向に移動させ（時間Ｔ１）、塗布パターン
のコーナー部１５に近づくにつれてＸ軸速度ＶXを減少
させて（時間Ｔ２）液体吐出装置本体１を停止させる。
ついで、Ｙ軸速度ＶYを増加させて（時間Ｔ３）液体吐
出装置本体１をＹ方向に移動させ、Ｙ軸速度ＶYが所定
速度に達したら一定のＹ軸速度ＶYを保つ（時間Ｔ
４）。同様に、次のコーナー部１５に近づくにつれてＹ
軸速度ＶYを減少させて（時間Ｔ５）液体吐出装置本体
１を停止させ、ついで、Ｘ軸速度ＶXを増加させて（時
間Ｔ６）液体吐出装置本体１をＸ方向に移動させる。こ
のような動作を繰り返すことにより、液体吐出装置本体
１は角枠状の塗布パターンに沿って移動してゆく。When the liquid ejecting apparatus main body 1 is moved by the XY stage 8 along the rectangular frame-shaped coating pattern as shown in FIG. 6A, the liquid ejecting apparatus main body 1 is moved in the X direction at a constant speed V X , for example. (Time T1), the X-axis speed V X is decreased as it approaches the corner portion 15 of the coating pattern (time T2), and the liquid ejecting apparatus main body 1 is stopped.
Then, the Y-axis speed V Y is increased (time T3) to move the liquid ejecting apparatus main body 1 in the Y direction, and when the Y-axis speed V Y reaches a predetermined speed, a constant Y-axis speed V Y is maintained (time T
4). Similarly, Y approaches the next corner 15
The axial velocity V Y is decreased (time T5) to stop the liquid ejection device main body 1, and then the X-axis velocity V X is increased (time T6) to move the liquid ejection device main body 1 in the X direction. By repeating such an operation, the liquid ejecting apparatus main body 1 moves along the rectangular frame-shaped coating pattern.
【００２３】上記のように液体吐出装置本体１は塗布パ
ターンのコーナー部１５にあたる変曲点で一時的に停止
し、その前後で移動速度Ｖが小さくなっている。ノズル
４からの吐出流量Ｑが一定であると、液体吐出装置本体
１の移動速度Ｖが遅くなったところでは対象物１６への
塗布量Ｗが大きくなり、液体吐出装置本体１の移動速度
Ｖが速くなったところでは対象物１６への塗布量Ｗが小
さくなるので、従来例のようにノズル４からの吐出流量
Ｑが一定であると、図５（ｄ）に示すように液体吐出装
置本体１の移動速度Ｖが遅くなったところでは塗布量Ｗ
が大きくなり、図６（ｂ）に示すようにコーナー部１５
で吐出液２の塗布量Ｗが大きくなる。As described above, the liquid ejecting apparatus main body 1 is temporarily stopped at the inflection point corresponding to the corner portion 15 of the coating pattern, and the moving speed V decreases before and after the inflection point. When the discharge flow rate Q from the nozzle 4 is constant, the coating amount W on the object 16 becomes large when the moving speed V of the liquid discharging apparatus main body 1 becomes slow, and the moving speed V of the liquid discharging apparatus main body 1 becomes large. Since the coating amount W on the target object 16 becomes smaller at a higher speed, if the discharge flow rate Q from the nozzle 4 is constant as in the conventional example, as shown in FIG. When the moving speed V of the
Becomes larger, as shown in FIG. 6 (b), the corner portion 15
Thus, the coating amount W of the discharge liquid 2 becomes large.
【００２４】これに対し、本実施例の変位指令信号発生
装置１３では、図５（ｂ）に示すように、ノズル４とバ
ルブロッド６とのギャップ量ｓを液体吐出装置本体１の
移動速度Ｖと比例するように制御しているので、図５
（ｃ）に示すように液体の塗布量Ｗが一定となる。この
結果、角枠状に吐出液２を塗布する場合でも、コーナー
部等の変曲点で塗布量Ｗが大きくなったりすることがな
く、図６（ａ）に示すように全体（特に、コーナー部１
５）に均一な塗布量で吐出液２をきれいに塗布すること
ができる。On the other hand, in the displacement command signal generator 13 of this embodiment, as shown in FIG. 5B, the gap amount s between the nozzle 4 and the valve rod 6 is set to the moving speed V of the liquid ejecting apparatus main body 1. Since it is controlled so as to be proportional to
As shown in (c), the application amount W of the liquid becomes constant. As a result, even when the ejection liquid 2 is applied in the shape of a square frame, the application amount W does not increase at the inflection point such as a corner portion, and as shown in FIG. Part 1
The discharge liquid 2 can be applied to 5) with a uniform application amount.
【００２５】図７は本発明のさらに別な実施例における
制御装置１７の構成を示すブロック図である。この制御
装置１７も、図３に示したようにＸＹステージ８に設置
されていて２方向（Ｘ方向及びＹ方向）に移動されるよ
うになった液体吐出装置本体１を制御するものである
が、液体吐出装置本体１の移動速度Ｖ及び位置（Ｘ，
Ｙ）に応じて吐出流量Ｑをフレキシブルに制御できるよ
うになっている。FIG. 7 is a block diagram showing the configuration of the control device 17 in still another embodiment of the present invention. The control device 17 is also installed in the XY stage 8 as shown in FIG. 3 and controls the liquid ejecting apparatus main body 1 which is moved in two directions (X direction and Y direction). , The moving speed V and the position (X,
The discharge flow rate Q can be flexibly controlled according to Y).
【００２６】図７の制御装置１７において、１８はＸＹ
ステージ８を制御するＸＹステージ速度制御装置、１９
は圧電素子５の変位量の指令信号を出力する変位指令信
号発生装置、１４は駆動アンプである。ＸＹステージ速
度制御装置１８には、予め塗布位置（Ｘ，Ｙ）及び各塗
布位置（Ｘ，Ｙ）に対する塗布量Ｗ（Ｘ，Ｙ）をティー
チングしてある。しかして、ＸＹステージ８からＸＹス
テージ速度制御装置１８へは、各時点における位置
（Ｘ，Ｙ）を示す情報が与えられており、ＸＹステージ
速度制御装置１８は予めティーチングされている塗布位
置へ液体吐出装置本体１を移動させるようにＸＹステー
ジ８へＸ軸及びＹ軸速度（ＶX，ＶY）の指令信号を出力
する。ＸＹステージ８は、ＸＹステージ速度制御装置１
８からＸ軸及びＹ軸速度（ＶX，ＶY）の指令信号を受信
すると、当該指令信号に従って液体吐出装置本体１を移
動させ、液体吐出装置本体１を移動させると移動した液
体吐出装置本体１の位置（Ｘ，Ｙ）をＸＹステージ速度
制御装置１８へフィードバックさせる。これにより、液
体吐出装置本体１はＸＹステージ８により吐出液２の塗
布パターンに沿って移動させられる。In the control device 17 of FIG. 7, 18 is XY
XY stage speed control device for controlling stage 8, 19
Is a displacement command signal generator that outputs a command signal for the amount of displacement of the piezoelectric element 5, and 14 is a drive amplifier. The XY stage speed control device 18 is previously taught the coating position (X, Y) and the coating amount W (X, Y) for each coating position (X, Y). Then, information indicating the position (X, Y) at each time point is given to the XY stage 8 from the XY stage 8 to the XY stage speed control device 18, and the XY stage speed control device 18 applies the liquid to the coating position taught in advance. The X-axis and Y-axis velocities (V X , V Y ) command signals are output to the XY stage 8 so as to move the ejection device main body 1. The XY stage 8 is the XY stage speed control device 1
When receiving the command signals of the X-axis and Y-axis velocities (V X , V Y ) from 8, the liquid ejecting apparatus main body 1 is moved according to the command signals, and when the liquid ejecting apparatus main body 1 is moved, the liquid ejecting apparatus main body moved The position (X, Y) of 1 is fed back to the XY stage speed control device 18. As a result, the liquid ejecting apparatus main body 1 is moved by the XY stage 8 along the application pattern of the ejecting liquid 2.
【００２７】また、ＸＹステージ８から変位指令信号発
生装置１９へは、液体吐出装置本体１の位置（Ｘ，Ｙ）
が出力され、ＸＹステージ速度制御装置１８から変位指
令信号発生装置１９へはティーチングされている各位置
の塗布量Ｗ（Ｘ，Ｙ）を指示する情報が出力されてい
る。従って、変位指令信号発生装置１９は、対象物への
塗布量がＸＹステージ速度制御装置１８から入力された
量Ｗ（Ｘ，Ｙ）となるように圧電素子５の変位量を演算
し、当該変位量だけ圧電素子５を駆動させるように駆動
アンプ１４へ指令信号を出力し、圧電素子５を駆動させ
る。これにより、液体吐出装置本体１から対象物へ所定
の塗布パターン及び塗布量となるように吐出液２が塗布
される。Further, from the XY stage 8 to the displacement command signal generator 19, the position (X, Y) of the liquid ejecting apparatus main body 1 is set.
Is output, and the XY stage speed control device 18 outputs to the displacement command signal generation device 19 information indicating the coating amount W (X, Y) at each position being taught. Therefore, the displacement command signal generator 19 calculates the amount of displacement of the piezoelectric element 5 so that the amount of application to the object becomes the amount W (X, Y) input from the XY stage speed controller 18, and the displacement is calculated. A command signal is output to the drive amplifier 14 so as to drive the piezoelectric element 5 by the amount, and the piezoelectric element 5 is driven. As a result, the ejection liquid 2 is applied from the liquid ejection apparatus main body 1 to the target object so as to have a predetermined application pattern and application amount.
【００２８】しかも、ＸＹステージ８から変位指令信号
発生装置１９へは、Ｘ軸及びＹ軸速度（ＶX，ＶY）が出
力されており、変位指令信号発生装置１９は移動速度Ｖ
が変動しても対象物への塗布量Ｗが設定量となるように
圧電素子５の変位量を補正している。Moreover, the X-axis and Y-axis velocities (V X , V Y ) are output from the XY stage 8 to the displacement command signal generator 19, and the displacement command signal generator 19 moves at the moving speed V.
The displacement amount of the piezoelectric element 5 is corrected so that the coating amount W on the target object becomes the set amount even if the value fluctuates.
【００２９】図７の制御装置１７の動作を具体的に説明
すると、例えば、図９に示すように（Ｘ１，Ｙ１）及び
（Ｘ２，Ｙ２）間の塗布量をＷ１とし、（Ｘ２，Ｙ２）
及び（Ｘ３，Ｙ３）間の塗布量をＷ３とし、（Ｘ３，Ｙ
３）及び（Ｘ４，Ｙ４）間の塗布量をＷ２とする場合に
は、図９の塗布位置と塗布量がＸＹステージ速度制御装
置１８にティーチングされる。The operation of the controller 17 of FIG. 7 will be described in detail. For example, as shown in FIG. 9, the application amount between (X1, Y1) and (X2, Y2) is W1, and (X2, Y2).
And the coating amount between (X3, Y3) is W3, and (X3, Y3)
When the coating amount between 3) and (X4, Y4) is W2, the coating position and the coating amount of FIG. 9 are taught to the XY stage speed control device 18.
【００３０】この後、時間ｔ＝０に液体吐出装置Ａを原
点（Ｘ＝０，Ｙ＝０）からスタートさせると、ｔ＝０〜
ｔ１の間に液体吐出装置本体１が始動して一定速度（Ｖ
X1，ＶY1）に達した後〔図８（ｃ）（ｄ）〕、液体吐出
装置本体１が吐出開始位置（Ｘ１，Ｙ１）に達する〔図
８（ａ）（ｂ）〕。この間は、ノズルは閉栓（ｓ＝０）
されていて〔図８（ｅ）〕吐出液２は塗布されない（Ｗ
＝０）〔図８（ｆ）〕。Thereafter, when the liquid ejecting apparatus A is started from the origin (X = 0, Y = 0) at time t = 0, t = 0 to 0.
During the time t1, the liquid ejection device main body 1 starts to operate at a constant speed (V
After reaching X1 , V Y1 ) [FIGS. 8 (c) and 8 (d)], the liquid ejection device main body 1 reaches the ejection start position (X1, Y1) [FIGS. 8 (a) and 8 (b)]. During this time, the nozzle is closed (s = 0)
However, the discharge liquid 2 is not applied (FIG. 8 (e)) (W
= 0) [FIG. 8 (f)].
【００３１】ついで、ｔ＝ｔ１〜ｔ２の間に液体吐出装
置本体１は位置（Ｘ１，Ｙ１）から（Ｘ２，Ｙ２）へ一
定速度（ＶX1，ＶY1）で移動する〔図８（ａ）〜
（ｄ）〕。この間変位指令信号発生装置１９によりノズ
ル４とバルブロッド６のギャップ量がｓ１に保たれ、対
象物には塗布量Ｗ１で吐出液２が塗布される〔図８
（ｅ）（ｆ）〕。Then, during the period of t = t1 to t2, the liquid ejecting apparatus main body 1 moves from the position (X1, Y1) to (X2, Y2) at a constant speed (V X1 , V Y1 ) [FIG. 8 (a)]. ~
(D)]. During this time, the displacement command signal generator 19 keeps the gap amount between the nozzle 4 and the valve rod 6 at s1, and the target liquid is applied with the discharge liquid 2 at the application amount W1 [FIG.
(E) (f)].
【００３２】さらに、ｔ＝ｔ２〜ｔ３の間に液体吐出装
置本体１は位置（Ｘ２，Ｙ２）から（Ｘ３，Ｙ３）へ一
定速度（ＶX1，ＶY1）で移動する〔図８（ａ）〜
（ｄ）〕。この間、ノズル４とバルブロッド６のギャッ
プ量はｓ３に保たれ、対象物には塗布量Ｗ３で吐出液２
が塗布される〔図８（ｅ）（ｆ）〕。Further, the liquid ejecting apparatus main body 1 moves from the position (X2, Y2) to (X3, Y3) at a constant speed (V X1 , V Y1 ) between t = t2 and t3 [FIG. 8 (a)]. ~
(D)]. During this time, the gap amount between the nozzle 4 and the valve rod 6 is maintained at s3, and the discharge liquid 2 is applied to the target object at the coating amount W3.
Is applied [FIGS. 8 (e) and 8 (f)].
【００３３】さらに、ｔ＝ｔ３〜ｔ４の間に液体吐出装
置本体１は位置（Ｘ３，Ｙ３）から（Ｘ４，Ｙ４）へ一
定速度（ＶX1，ＶY1）で移動する〔図８（ａ）〜
（ｄ）〕。この間、ノズル４とバルブロッド６のギャッ
プ量がｓ２に保たれ、対象物には塗布量Ｗ２で吐出液２
が塗布される〔図８（ｅ）（ｆ）〕。Further, during the period of t = t3 to t4, the liquid ejecting apparatus main body 1 moves from the position (X3, Y3) to (X4, Y4) at a constant speed (V X1 , V Y1 ) [FIG. 8 (a)]. ~
(D)]. During this period, the gap amount between the nozzle 4 and the valve rod 6 is maintained at s2, and the discharge liquid 2 is applied to the target object at the coating amount W2.
Is applied [FIGS. 8 (e) and 8 (f)].
【００３４】この結果、対象物の上には、図９のような
塗布パターンで精度よく吐出液２が塗布される。As a result, the discharge liquid 2 is accurately applied on the object with the application pattern as shown in FIG.
【００３５】なお、バルブロッドを変位させる変位アク
チュエータは、電気的信号によってバルブロッドの変位
量を精密かつ連続的に制御することができるものであれ
ば良く、その種類は特に問わないが、電圧信号等の入力
信号と出力される変位量とがリニアな関係にあるものが
好ましい。例えば、圧電素子（ＰＺＴ）以外にもリニア
モータを用いたものや、ネジ機構とサーボモータの組合
せからなるもの等でもよい。The displacement actuator for displacing the valve rod may be of any type as long as it can precisely and continuously control the displacement amount of the valve rod by an electric signal. It is preferable that the input signal and the like have a linear relationship with the output displacement amount. For example, other than the piezoelectric element (PZT), a linear motor may be used, or a combination of a screw mechanism and a servomotor may be used.
【００３６】[0036]
【発明の効果】本発明によれば、変位アクチュエータに
よってバルブロッドを連続的に変位させているので、バ
ルブロッドのストロークによって吐出液の吐出流量を変
化させることができる。しかも、変位アクチュエータに
よってバルブロッドを高速で開閉させることができ、バ
ルブロッドの開閉速度がバネ等の部品の劣化によって変
化する恐れもない。したがって、微量の吐出液をより精
密に吐出させることができる。According to the present invention, since the valve rod is continuously displaced by the displacement actuator, the discharge flow rate of the discharge liquid can be changed by the stroke of the valve rod. Moreover, the valve rod can be opened and closed at high speed by the displacement actuator, and there is no fear that the opening and closing speed of the valve rod will change due to deterioration of parts such as springs. Therefore, a small amount of the discharge liquid can be discharged more accurately.
【００３７】さらに、変位アクチュエータを用いること
により液体吐出装置の消費電力を少なくすることができ
る。Furthermore, by using the displacement actuator, the power consumption of the liquid ejection device can be reduced.
【００３８】また、液体吐出装置本体の移動速度に応じ
て変位アクチュエータの変位量を制御できるようにした
液体吐出装置にあっては、液体吐出装置の移動速度に応
じて吐出流量を調整できるので、液体吐出装置本体を移
動させながら均一な塗布量で吐出液を吐出させることが
できる。Further, in the liquid ejecting apparatus in which the displacement amount of the displacement actuator can be controlled according to the moving speed of the liquid ejecting apparatus main body, the ejection flow rate can be adjusted according to the moving speed of the liquid ejecting apparatus. It is possible to discharge the discharge liquid with a uniform coating amount while moving the liquid discharge device main body.
【００３９】また、液体吐出装置本体の位置と移動速度
に応じて変位アクチュエータの変位量を制御できるよう
にした液体吐出装置にあっては、液体吐出装置の位置及
び移動速度に応じて吐出流量を調整できるので、吐出位
置に応じてフレキシブルに塗布量を変えることができ、
しかも、液体吐出装置の移動速度による塗布量のバラツ
キをなくすことができる。Further, in the liquid ejecting apparatus in which the displacement amount of the displacement actuator can be controlled in accordance with the position and the moving speed of the liquid ejecting apparatus main body, the ejection flow rate is changed in accordance with the position and the moving speed of the liquid ejecting apparatus. Since it can be adjusted, the coating amount can be changed flexibly according to the discharge position,
Moreover, it is possible to eliminate the variation in the coating amount due to the moving speed of the liquid ejection device.
【図１】本発明の一実施例における液体吐出装置本体を
示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a liquid ejection device body according to an embodiment of the present invention.
【図２】同上の液体吐出装置本体における吐出流量とバ
ルブロッド−ノズル間ギャップ量との関係を示す図であ
る。FIG. 2 is a diagram showing a relationship between a discharge flow rate and a valve rod-nozzle gap amount in the above liquid discharge device main body.
【図３】同上の液体吐出装置本体をＸＹステージに設置
した液体吐出装置を示す概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view showing a liquid ejecting apparatus in which the same liquid ejecting apparatus main body is installed on an XY stage.
【図４】上記液体吐出装置を制御するための制御装置の
構成を示すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a control device for controlling the liquid ejection device.
【図５】（ａ）はＸＹステージの移動速度の変化を示す
タイムチャート、（ｂ）（ｃ）は本発明の一実施例にお
けるバルブロッド−ノズル間ギャップ量の変化を示すタ
イムチャート及び塗布量の変化を示すタイムチャート、
（ｄ）は従来例における塗布量の変化を示すタイムチャ
ートである。5A is a time chart showing a change in moving speed of an XY stage, and FIGS. 5B and 5C are time charts showing changes in a gap amount between a valve rod and a nozzle and an application amount in one embodiment of the present invention. Time chart showing changes in
(D) is a time chart showing changes in the coating amount in the conventional example.
【図６】（ａ）（ｂ）は吐出液の塗布パターンを示す平
面図であって、（ａ）は本発明の実施例の場合における
塗布パターンを示し、（ｂ）は従来例の場合における塗
布パターンを示す図である。6A and 6B are plan views showing a coating pattern of a discharge liquid, FIG. 6A shows a coating pattern in the case of the embodiment of the present invention, and FIG. 6B shows a coating pattern in the case of a conventional example. It is a figure which shows a coating pattern.
【図７】本発明の別な実施例による制御装置の構成を示
すブロック図である。FIG. 7 is a block diagram showing a configuration of a control device according to another embodiment of the present invention.
【図８】（ａ）（ｂ）は液体吐出装置本体の座標（Ｘ，
Ｙ）の変化を示すタイムチャート、（ｃ）（ｄ）はＸＹ
ステージによる液体吐出装置本体のＸ軸速度及びＹ軸速
度の変化を示すタイムチャート、（ｅ）はノズル−バル
ブロッド間のギャップ量の変化を示すタイムチャート、
（ｆ）は塗布量の変化を示すタイムチャートである。8A and 8B are coordinates (X,
Time chart showing changes in Y), (c) and (d) are XY
A time chart showing changes in the X-axis speed and the Y-axis speed of the liquid ejecting apparatus main body by the stage, (e) a time chart showing changes in the gap amount between the nozzle and the valve rod,
(F) is a time chart showing changes in the coating amount.
【図９】同上の実施例における塗布パターンの一例を示
す図である。FIG. 9 is a diagram showing an example of a coating pattern in the above-mentioned embodiment.
【図１０】従来例の概略断面図である。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of a conventional example.
１ 液体吐出装置本体 ２ 吐出液 ３ シリンジ ４ ノズル ５ 圧電素子 ６ バルブロッド ７ 圧縮空気 ８ ＸＹステージ １１ 制御装置 １２ 線形速度演算器 １３ 変位指令信号発生装置 １８ ＸＹステージ速度制御装置 １９ 変位指令信号発生装置 1 Liquid Discharge Device Main Body 2 Discharge Liquid 3 Syringe 4 Nozzle 5 Piezoelectric Element 6 Valve Rod 7 Compressed Air 8 XY Stage 11 Controller 12 Linear Velocity Calculator 13 Displacement Command Signal Generator 18 XY Stage Speed Controller 19 Displacement Command Signal Generator
Claims (3)
閉し、容器内の吐出液に加えられている空気圧によって
吐出液をノズルから吐出させるようにした空気圧送式の
液体吐出装置において、 前記バルブロッドを連続的に変位する変位アクチュエー
タにより駆動させるようにしたことを特徴とする液体吐
出装置。1. An air pressure type liquid ejecting apparatus in which a nozzle of a container is opened and closed by a valve rod and the ejected liquid is ejected from the nozzle by air pressure applied to the ejected liquid in the container. A liquid ejecting apparatus characterized in that it is driven by a displacement actuator that is continuously displaced.
ルブロッドを直接に駆動する前記変位アクチュエータを
備えた液体吐出装置本体と、 前記液体吐出装置本体を移動させるための２次元移動装
置と、 ２次元移動装置による液体吐出装置の移動速度を検出す
る速度検出手段と、 前記速度検出手段の出力に基づいて変位アクチュエータ
の変位量を制御する手段とを備えた請求項１に記載の液
体吐出装置。2. A liquid ejecting apparatus main body comprising the container, the valve rod, and the displacement actuator for directly driving the valve rod, a two-dimensional moving device for moving the liquid ejecting apparatus main body, and a two-dimensional apparatus. The liquid ejecting apparatus according to claim 1, further comprising: speed detecting means for detecting a moving speed of the liquid ejecting apparatus by the moving device; and means for controlling a displacement amount of the displacement actuator based on an output of the speed detecting means.
ルブロッドを直接に駆動する前記変位アクチュエータを
備えた液体吐出装置本体と、 前記液体吐出装置本体を移動させるための２次元移動装
置と、 ２次元移動装置による液体吐出装置の移動速度を検出す
る速度検出手段と、 液体吐出装置の位置を検出する位置検出手段と、 前記速度検出手段と位置検出手段の出力に基づいて変位
アクチュエータの変位量を制御する手段とを備えた請求
項１に記載の液体吐出装置。3. A liquid ejecting apparatus main body comprising the container, the valve rod, and the displacement actuator that directly drives the valve rod, a two-dimensional moving device for moving the liquid ejecting apparatus main body, and a two-dimensional apparatus. Speed detecting means for detecting the moving speed of the liquid ejecting device by the moving device, position detecting means for detecting the position of the liquid ejecting device, and controlling the displacement amount of the displacement actuator based on the outputs of the speed detecting means and the position detecting means. The liquid ejecting apparatus according to claim 1, further comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12140392A JPH05285434A (en) | 1992-04-14 | 1992-04-14 | Apparatus for discharging liquid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12140392A JPH05285434A (en) | 1992-04-14 | 1992-04-14 | Apparatus for discharging liquid |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05285434A true JPH05285434A (en) | 1993-11-02 |
Family
ID=14810317
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12140392A Pending JPH05285434A (en) | 1992-04-14 | 1992-04-14 | Apparatus for discharging liquid |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05285434A (en) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10314640A (en) * | 1997-05-19 | 1998-12-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Coating method for adhesive and apparatus therefor |
| JP2004344883A (en) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Nordson Corp | Noncontact jetting system for viscous material |
| EP1516683A1 (en) * | 2003-09-20 | 2005-03-23 | ACHENBACH BUSCHHÜTTEN GmbH | Roll cooling and/or lubricating device for cold strip rolling mills, in particular fine strip and foil rolling mills |
| JP2005103463A (en) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Shibaura Mechatronics Corp | Device and method for dripping liquid member |
| KR100841621B1 (en) * | 2002-03-21 | 2008-06-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | A liquid crystal dispensing apparatus having confirming function of remainder of liquid crystal |
| KR100841622B1 (en) * | 2002-03-21 | 2008-06-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | Liquid crystal dispensing apparatus |
| KR100841619B1 (en) * | 2002-03-21 | 2008-06-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | A liquid crystal dispensing apparatus having heating function of liquid crystal |
| JP2011088138A (en) * | 2009-09-25 | 2011-05-06 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Coater and coating controller |
| CN102059194A (en) * | 2009-11-18 | 2011-05-18 | 塔工程有限公司 | Method for setting coating conditions of coaters and coater using method |
| WO2015083722A1 (en) * | 2013-12-06 | 2015-06-11 | 武蔵エンジニアリング株式会社 | Liquid material application device |
| KR101940598B1 (en) | 2017-05-25 | 2019-01-21 | 무사시 엔지니어링 가부시키가이샤 | Liquid material application device and liquid material application method |
-
1992
- 1992-04-14 JP JP12140392A patent/JPH05285434A/en active Pending
Cited By (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10314640A (en) * | 1997-05-19 | 1998-12-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Coating method for adhesive and apparatus therefor |
| KR100841621B1 (en) * | 2002-03-21 | 2008-06-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | A liquid crystal dispensing apparatus having confirming function of remainder of liquid crystal |
| KR100841622B1 (en) * | 2002-03-21 | 2008-06-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | Liquid crystal dispensing apparatus |
| KR100841619B1 (en) * | 2002-03-21 | 2008-06-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | A liquid crystal dispensing apparatus having heating function of liquid crystal |
| JP2004344883A (en) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Nordson Corp | Noncontact jetting system for viscous material |
| EP1516683A1 (en) * | 2003-09-20 | 2005-03-23 | ACHENBACH BUSCHHÜTTEN GmbH | Roll cooling and/or lubricating device for cold strip rolling mills, in particular fine strip and foil rolling mills |
| JP2005103463A (en) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Shibaura Mechatronics Corp | Device and method for dripping liquid member |
| JP2011088138A (en) * | 2009-09-25 | 2011-05-06 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Coater and coating controller |
| CN102059194A (en) * | 2009-11-18 | 2011-05-18 | 塔工程有限公司 | Method for setting coating conditions of coaters and coater using method |
| EP3078427A4 (en) * | 2013-12-06 | 2017-07-26 | Musashi Engineering, Inc. | Liquid material application device |
| CN105792946A (en) * | 2013-12-06 | 2016-07-20 | 武藏工业株式会社 | Liquid material application device |
| JPWO2015083722A1 (en) * | 2013-12-06 | 2017-03-16 | 武蔵エンジニアリング株式会社 | Liquid material applicator |
| WO2015083722A1 (en) * | 2013-12-06 | 2015-06-11 | 武蔵エンジニアリング株式会社 | Liquid material application device |
| US9952602B2 (en) | 2013-12-06 | 2018-04-24 | Musashi Engineering, Inc. | Liquid material application device |
| TWI642485B (en) * | 2013-12-06 | 2018-12-01 | 武藏工業股份有限公司 | Liquid material coating device |
| EP3825013A1 (en) * | 2013-12-06 | 2021-05-26 | Musashi Engineering, Inc. | Liquid material application device |
| JP2020040066A (en) * | 2013-12-06 | 2020-03-19 | 武蔵エンジニアリング株式会社 | Liquid material application device |
| CN110000050A (en) * | 2013-12-06 | 2019-07-12 | 武藏工业株式会社 | Liquid material application device |
| KR20200001594A (en) | 2017-05-25 | 2020-01-06 | 무사시 엔지니어링 가부시키가이샤 | Liquid material application apparatus and liquid material application method |
| CN110678270A (en) * | 2017-05-25 | 2020-01-10 | 武藏工业株式会社 | Liquid material application device and liquid material application method |
| KR101972061B1 (en) | 2017-05-25 | 2019-04-24 | 무사시 엔지니어링 가부시키가이샤 | Liquid material application apparatus and liquid material application method |
| US10786827B2 (en) | 2017-05-25 | 2020-09-29 | Musashi Engineering, Inc. | Liquid material application apparatus and liquid material application method |
| KR20210016081A (en) | 2017-05-25 | 2021-02-10 | 무사시 엔지니어링 가부시키가이샤 | Liquid material application apparatus and liquid material application method |
| KR101940598B1 (en) | 2017-05-25 | 2019-01-21 | 무사시 엔지니어링 가부시키가이샤 | Liquid material application device and liquid material application method |
| CN110678270B (en) * | 2017-05-25 | 2022-06-17 | 武藏工业株式会社 | Liquid material application device and liquid material application method |
| US11396028B2 (en) | 2017-05-25 | 2022-07-26 | Musashi Engineering, Inc. | Liquid material application apparatus and liquid material application method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5425434B2 (en) | Method of operating a dispenser to dispense a drop of fluid material | |
| JPH11197571A (en) | Method for controlling opening and closing speed of valve mechanism of discharge gun, apparatus therefor, and discharge coating method for liquid body | |
| JPH05285434A (en) | Apparatus for discharging liquid | |
| JP2625135B2 (en) | Fluid material discharge apparatus and method | |
| US6688580B2 (en) | Adjustable die for a fluid dispenser and method | |
| US20230191598A1 (en) | Contact Force Overshoot Mitigation in Pneumatic Force Control Devices | |
| JP6919607B2 (en) | Robot system and robot control method | |
| JPH10137655A (en) | Liquid coating apparatus | |
| US20200198329A1 (en) | Droplet discharge head | |
| US6179600B1 (en) | Process and device for hydraulic drive of injection molding machines | |
| JP4078568B2 (en) | Discharge coating method of liquid material | |
| JPH06277597A (en) | Nozzle device | |
| JP6896484B2 (en) | Position control device, hydraulic drive device | |
| US5807588A (en) | Extrusion molding apparatus and an apparatus for controlling the same | |
| JPH1158719A (en) | Ink jet recorder | |
| KR102663958B1 (en) | System and method for controlling spray dispenser position | |
| US11959559B2 (en) | Valve control device, drive control device, and fluid control device | |
| JP4486222B2 (en) | Viscous material applicator | |
| JP2007260531A (en) | Coating discharge control system in robot coating | |
| JPH1061602A (en) | Hydraulic driving device and in-mold molten metal level controller in continuous molding facilities | |
| KR101884946B1 (en) | Liquid chemical discharge valve and liquid chemical supply system | |
| JPS62213868A (en) | Sealing robot | |
| JPH0494755A (en) | Reciprocating coating device provided with coating width control mechanism | |
| JPH0596214A (en) | Controlling device for discharge of sealing compound | |
| CN109857062B (en) | Dual-drive electro-hydraulic control type precision machining system and control method thereof |