JP4496584B2 - キノリルプロペナールの製造法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、キノリルアクリロニトリル誘導体からキノリルプロペナール誘導体を製造する方法に関する。本発明の製造法によって得られるキノリルプロペナール誘導体は、例えば、コレステロール低下剤(HMG-CoA還元酵素阻害薬)の合成中間体として有用な化合物である。
【0002】
【従来の技術】
従来、キノリルプロペナール誘導体を製造する方法としては、キノリンアクリル酸エステルを水素化ジイソブチルアルミニウムで還元してキノリルプロぺノールを得て、これをオキサリルクロライド及びジメチルスルホキシド、又は二酸化マンガンを用いて酸化してキノリルプロペナールとすることからなる、二工程で製造する方法が知られている(J.Med.Chem.,34,367(1991))。
また、アクリロニトリル化合物の二重結合を保持したまま、シアノ基のみを選択的にホルミル基に還元してプロペナール化合物を製造する方法としては、還元剤として水素化ジイソブチルアルミニウムを用いる方法が知られている(Heterocycles,29,691(1989))。
しかしながら、これらのいずれの方法も、取り扱いや後処理が煩雑となる水素化ジイソブチルアルミニウムや二酸化マンガンを用いなければならず、工業的な製造法としては不利である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、上記の問題点を解決し、簡便な方法によってキノリルアクリロニトリル誘導体からキノリルプロペナール誘導体を高収率で製造することが出来る、工業的に有利なキノリルプロペナール誘導体の製造法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明の課題は、式(1)
【0005】
【化3】
Figure 0004496584
【0006】
で表わされるキノリルアクリロニトリル誘導体{3−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−キノリル]プロプ−2−エンニトリル}を、ギ酸と、ギ酸に対して0.25乃至1容量倍の水の存在下にて、ラネーニッケルにより還元することを特徴とする、式(2)
【0007】
【化4】
Figure 0004496584
【0008】
で表わされるキノリルプロペナール誘導体{3−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−キノリル]プロプ−2−エナール}の製造法によって解決される。
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明の製造法の出発原料となる式(1)のキノリルアクリロニトリル誘導体は、新規化合物であるが、公知の2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン−3−カルボアルデヒド(特開平1−279866号公報、欧州公開特許出願第304063号公報、米国特許第5011930号明細書)に、ジエチルシアノメチルホスホネートを、好ましくは水酸化ナトリウムのような塩基と芳香族炭化水素のような溶媒の存在下で反応させることによって製造することができる。
【0010】
本発明の製造法において利用される還元反応で用いるラネーニッケルとは、ニッケルとアルミニウムとを主成分とする合金であり、ニッケル含有量が、好ましくは10〜90重量%、更に好ましくは40〜80重量%のものを意味する。通常は、展開されたラネーニッケルが使用されるが、種々の方法によって、前処理されたラネーニッケルや、安定化されたラネーニッケルも使用することが出来る。更に、ラネーニッケル中に、コバルト、鉄、鉛、クロム、チタン、モリブデン、バナジウム、マンガン、スズ、タングステン等のような金属が含まれているものも使用することが出来る。
【0011】
本発明の製造法の還元反応におけるラネーニッケルの使用量は、原料のキノリルアクリロニトリル誘導体に対して、ニッケル原子換算で、好ましくは0.30〜2重量倍、更に好ましくは0.30〜1.2重量倍である。
【0012】
本発明の製造法におけるラネーニッケルを用いる還元反応は、ギ酸と、ギ酸に対して0.25乃至1容量倍の水の存在下で行なわれる。本発明者の研究によると、この範囲の量の水の使用により、目的の前記式(2)のキノリルプロペナール誘導体を、高い収率で、かつ制御が容易な反応条件にて得ることができることが確認された。
【0013】
ギ酸の使用量は、原料のキノリルアクリロニトリルに対して、好ましくは0.25〜50重量倍、更に好ましくは1〜40重量倍である。
【0014】
本発明における還元反応の実施に際しては、ギ酸あるいは水以外の溶媒を存在させることもできる。使用され得る溶媒については、反応を阻害しないものであれば特に制限はなく、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド類;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、t−ブチルアルコール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;ペンタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。
【0015】
還元反応において、上記のような他の溶媒を使用する場合には、原料のキノリルアクリロニトリル誘導体に対して、好ましくは60重量倍以下、更に好ましくは10重量倍以下での量で用いられる。これらの溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
【0016】
本発明の還元反応は、ラネーニッケルの存在下、キノリルアクリロニトリル誘導体にギ酸と水とを液相で接触させて行なうことが好ましく、例えば、不活性ガス雰囲気にて、ラネーニッケル、キノリルアクリロニトリル誘導体、ギ酸、そして水を混合して、加熱攪拌する等の方法によって、常圧下または加圧下で行われる。その際の反応温度は、好ましくは20〜110℃、更に好ましくは30〜80℃である。
【0017】
また、必要に応じて、無機塩基、有機塩基、白金塩等を系内に添加することによって、反応性を調節しても良い(久保松照夫、小松信一郎、ラネー触媒(川研ファインケミカル株式会社発行)、123〜147頁に記載)。
【0018】
なお、最終生成物である前記式(2)のキノリルプロペナール誘導体は、例えば、反応終了後に濾過及び抽出し、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等による一般的な方法によって分離・精製される。
【0019】
【実施例】
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
【0020】
[参考例1]
3−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−キノリル]プロプ−2−エンニトリルの合成
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積100mLのガラス製フラスコに、窒素雰囲気下、2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン−3−カルボアルデヒド4.98g(17.1ミリモル)、純度98%のジエチルシアノメチルホスホネート3.10mL(18.8ミリモル)、トリカプリルメチルアンモニウムクロライド(Aliquat 336:Aldrich社製)0.15mL(0.33ミリモル)及びトルエン35mLを加え、液温を25〜35℃に保ちながら、20重量%水酸化ナトリウム水溶液10.1g(50.5ミリモル)を50分間かけてゆるやかに滴下し、同温度で3時間反応させた。その後、純度98%のジエチルシアノメチルホスホネート0.14mL(0.85ミリモル)を加え、同温度で66時間反応させた。反応終了後、水5mLを加えて30分間攪拌した。得られた反応液にトルエン50mLを加え、有機層を分離して10重量%水酸化ナトリウム水溶液10mLで洗浄し、飽和食塩水10mLを加えた。次いで、1モル/L塩酸5.6mLを加えて中和した後、有機層を取り出し、攪拌装置を備えた内容積200mLのガラス製フラスコに移した。それに、無水硫酸ナトリウム1.60gを加えて室温で1時間攪拌させ、更に、活性炭0.14g(粉末状:和光純薬株式会社製)及びシリカゲル(ワコーゲルC−200:和光純薬株式会社製)0.62gを加えて室温で1.75時間攪拌させた後、セライトで濾過し、セライトをトルエン50mLで洗浄した。得られた反応液を減圧下で濃縮すると結晶が析出してきたので、結晶を加熱して溶解させ、次いで、ヘキサン30mLを加えて30分間加熱還流させた。その後、液温を5℃まで冷却して2時間攪拌すると結晶が析出してきたので、結晶を濾過した後、ヘキサン30mLで洗浄し、減圧下、55℃にて乾燥させて、白色結晶として3−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−キノリル]プロプ−2−エンニトリル4.81gを得た(収率90%)。
【0021】
得られた3−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−キノリル]プロプ−2−エンニトリルの物性値を次に記す。
融点:175〜176℃、EI−MS(m/e):313(M−1)、CI−MS(m/e):315(M+1)
【0022】
[実施例1]
3−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−キノリル]プロプ−2−エナールの製造
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積5mLのガラス製フラスコに、窒素雰囲気下、参考例1で合成した3−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−キノリル]プロプ−2−エンニトリル314mg(1.0ミリモル)、ギ酸2.25mL(100%ギ酸換算、60ミリモル)、水0.75mL、および含水展開ラネーニッケル(川研ファインケミカル(株)製:NDHT−90:ニッケル含有量50重量%品)620mg(ニッケル原子として5.3ミリモル)を加え、80℃で1.5時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、水9mLと1モル/L塩酸9mLを加えた後、触媒をセライトで濾過した。次いで、セライトを、2−ブタノール1mLで2回、トルエン9mLで2回洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、減圧下で濃縮し、黄色固体として純度97%(高速液体クロマトグラフィーによる面積百分率)の3−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−キノリル]プロプ-2−エナール307mgを得た(収率91%)。
【0023】
3−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−キノリル]プロプ−2−エナールの物性値を次に記す。
CI−MS(m/e);318(M+1)
1H−NMR(CDCl3、δ(ppm)):1.07〜1.13(2H,m)、1.40〜1.45(2H,m)、2.32〜2.37(1H,m)、6.43(1H,dd,J=7.8,16.2Hz)、7.22〜7.26(4H,m)、7.35〜7.38(2H,m)、7.55(1H,d,J=16.2Hz)、7.64〜7.69(1H,m)、7.97(1H,d,J=8.4Hz)、9.51(1H,d,J=7.5Hz)
【0024】
[実施例2]
反応条件を65℃で5時間に変えた以外は、実施例1と同じ操作を行なって、収率83%にて、3−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−キノリル]プロプ-2−エナールを得た。
【0025】
[実施例3]
ギ酸の使用量を1.8mLに変え、水の使用量を1.2mLに変えた以外は、実施例2と同じ操作を行なって、収率91%にて、3−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−キノリル]プロプ-2−エナールを得た。
【0026】
[実施例4]
ギ酸の使用量を2.55mLに変え、水の使用量を0.45mLに変えた以外は、実施例2と同じ操作を行なって、収率85%にて、3−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−キノリル]プロプ−2−エナールを得た。
【0027】
[比較例1]
ギ酸の使用量を1.2mLに変え、水の使用量を1.8mLに変えた以外は、実施例2と同じ操作を行なって、3−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−3−キノリル]プロプ−2−エナールを得たが、その収率は70%であった。
【0028】
【発明の効果】
本発明の製造法により、簡便な方法によって前記式(1)のキノリルアクリロニトリル誘導体から前記式(2)のキノリルプロペナール誘導体を高収率で製造することが出来る。従って、工業的に有利なキノリルアクロレインの製造法を提供することが出来る。

Claims (3)

  1. 式(1)
    Figure 0004496584
    で表わされるキノリルアクリロニトリル誘導体を、ギ酸と、ギ酸に対して0.25乃至1容量倍の水の存在下にて、ラネーニッケルにより還元することを特徴とする、式(2)
    Figure 0004496584
    で表わされるキノリルプロペナール誘導体の製造法。
  2. 式(1)のキノリルアクリロニトリル誘導体に対して、ラネーニッケルをニッケル原子換算で0.30乃至2重量倍の量にて使用することを特徴とする請求項1に記載のキノリルプロペナール誘導体の製造法。
  3. 式(1)のキノリルアクリロニトリル誘導体に対してギ酸を0.25乃至50重量倍の量にて使用することを特徴とする請求項1もしくは2に記載のキノリルプロペナール誘導体の製造法。
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