JP4486651B2 - 光波散乱測定データに基づいてプロセスパラメータ値を決定する方法 - Google Patents
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Description
本願は、2004年2月23日提出の米国特許仮出願第60/546,165号の優先権を主張する。この仮出願は、参照によりその全体が本明細書に援用される。
あるキャリブレーション物体上に設けられた複数のキャリブレーションマーカ構造体の組からキャリブレーション測定データを得るステップであって、前記複数のキャリブレーションマーカ構造体の組の各々が少なくとも1つのキャリブレーションマーカ構造体を有し、異なるキャリブレーションマーカ構造体の組のキャリブレーションマーカ構造体が、前記少なくとも1つのプロセスパラメータの、既知である異なる値により生成されるステップと、
前記少なくとも1つのプロセスパラメータの前記既知の値を使用することにより、また、前記キャリブレーション測定データに回帰技術を用いることにより、数学的モデルを決定するステップであって、前記数学的モデルはある数の回帰係数を有するステップと、
ある物体上に設けられた少なくとも1つのマーカ構造体から測定データを得るステップであって、前記少なくとも1つのマーカ構造体が、前記少なくとも1つのプロセスパラメータの未知の値を用いて作成されるステップと、
前記数学的モデルの前記回帰係数を用いることにより、前記得られた測定データから前記物体に関する前記少なくとも1つのプロセスパラメータの未知の値を決定するステップと
を有する方法を提供する。
あるキャリブレーション物体上に設けられた複数のキャリブレーションマーカ構造体の組からキャリブレーション測定データを得るように配置された検出器であって、前記複数のキャリブレーションマーカ構造体の組の各々が少なくとも1つのキャリブレーションマーカ構造体を有し、異なるキャリブレーションマーカ構造体の組のキャリブレーションマーカ構造体が、前記少なくとも1つのプロセスパラメータの、既知である異なる値により生成される検出器と、
前記少なくとも1つのプロセスパラメータの前記既知の値を使用することにより、また、前記キャリブレーション測定データに回帰技術を用いることにより決定された数学的モデルを記憶する処理装置であって、前記数学的モデルはある数の回帰係数を有する処理装置と
を有するシステムであって、
前記処理装置が、ある物体上に設けられた少なくとも1つのマーカ構造体から測定データを得るように配置され、前記少なくとも1つのマーカ構造体が、前記少なくとも1つのプロセスパラメータの未知の値を使用して作成されるとともに、前記処理装置が、前記数学的モデルの前記回帰係数を用いることにより、前記得られた測定データから前記物体に関する前記少なくとも1つのプロセスパラメータの未知の値を決定するように配置されているシステムが提供される。
表1.光波散乱測定とLVTとの間のフォーカス差
Claims (15)
- 少なくとも1つのプロセスパラメータを決定するための方法であって、方法が、
キャリブレーション物体上に設けられた複数のキャリブレーションマーカ構造体の組からキャリブレーション測定データを得るステップであって、前記複数のキャリブレーションマーカ構造体の組の各々が少なくとも1つのキャリブレーションマーカ構造体を有し、異なるキャリブレーションマーカ構造体の組のキャリブレーションマーカ構造体が、前記少なくとも1つのプロセスパラメータの、異なる既知の値を使用して生成されるステップと、
前記少なくとも1つのプロセスパラメータの前記既知の値を使用することにより、また、前記キャリブレーション測定データに回帰技術を用いることにより数学的モデルを決定するステップであって、前記数学的モデルは複数の回帰係数を有するステップと、
物体上に設けられた少なくとも1つのマーカ構造体から測定データを得るステップであって、前記少なくとも1つのマーカ構造体が、前記少なくとも1つのプロセスパラメータの未知の値を使用して作成されるステップと、
前記数学的モデルの前記回帰係数を用いることにより、前記得られた測定データから前記物体に関する前記少なくとも1つのプロセスパラメータの未知の値を決定するステップと、を備え、
前記複数のキャリブレーションマーカ構造体の組の各々が、少なくとも第1のキャリブレーションマーカ構造体および異なる第2のキャリブレーションマーカ構造体を有することを特徴とする、
方法。 - 少なくとも1つのプロセスパラメータを決定するためのシステムであって、システムが、
キャリブレーション物体上に設けられた複数のキャリブレーションマーカ構造体の組からキャリブレーション測定データを得るように配置された検出器であって、前記複数のキャリブレーションマーカ構造体の組の各々が少なくとも1つのキャリブレーションマーカ構造体を有し、異なるキャリブレーションマーカ構造体の組のキャリブレーションマーカ構造体が、前記少なくとも1つのプロセスパラメータの、異なる既知の値を使用して生成される検出器と、
前記少なくとも1つのプロセスパラメータの前記既知の値を使用することにより、また、前記キャリブレーション測定データに回帰技術を用いることにより決定された数学的モデルを記憶する処理装置であって、前記数学的モデルは複数の回帰係数を含む処理装置と、を有するシステムであって、
前記処理装置が、物体上に設けられた少なくとも1つのマーカ構造体から測定データを得るように配置され、前記少なくとも1つのマーカ構造体が、前記少なくとも1つのプロセスパラメータの未知の値を使用して作成されるとともに、
前記処理装置が、前記数学的モデルの前記回帰係数を用いることにより、前記得られた測定データから前記物体に関する前記少なくとも1つのプロセスパラメータの未知の値を決定するように配置され、
前記複数のキャリブレーションマーカ構造体の組の各々が、少なくとも第1のキャリブレーションマーカ構造体および異なる第2のキャリブレーションマーカ構造体を有することを特徴とする、
システム。 - 前記検出器が光学検出器であり、前記光学検出器が散乱計であることを特徴とする、
請求項2に記載のシステム。 - 前記数学的モデルにより使用された回帰技術が、主成分回帰、非線形主成分回帰、部分的最小二乗法のモデル化、および非線形部分的最小二乗法のモデル化を含むグループから選択されることを特徴とする、
請求項2又は3に記載のシステム。 - 前記物体が基板であり、前記基板が、テストウェーハおよび製品ウェーハを含むグループのうちの1つを有することを特徴とする、
請求項2から4の何れか一項に記載のシステム。 - 前記少なくとも1つのマーカ構造体が、チップ領域内部の素子パターンの一部であって、前記基板上にてチップ領域およびスクライブラインを含むグループのうちの1つの内部に位置決めされていることを特徴とする、
請求項5に記載のシステム。 - 前記少なくとも1つのマーカ構造体が回折格子を有することを特徴とする、
請求項2から6の何れか一項に記載のシステム。 - 前記回帰係数を用いるステップの前に、前記処理装置が、前記得られた測定データに予備的処理をするように配置され、
前記予備的処理をするステップが、平均値の減法、標準偏差による除法、光学パラメータの選択、および光学パラメータの重みづけを含む数学的演算のグループのうちの少なくとも1つを前記データに実行するステップを有し、
ここで、前記光学パラメータが、波長、角度、および偏光状態を含むパラメータのグループのうちの少なくとも1つを有することを特徴とする、
請求項2から7の何れか一項に記載のシステム。 - 前記第1キャリブレーションマーカ構造体が、複数の非パターニング層を有し、
前記第2キャリブレーションマーカ構造体が、その上部にパターンが設けられた同一の非パターニング層を有することを特徴とする、
請求項2から8の何れか一項に記載のシステム。 - 前記第1キャリブレーションマーカ構造体が、孤立ラインを備えたパターンを有し、
前記第2キャリブレーションマーカ構造体が、密集ラインまたは孤立スペースを備えたパターンを有することを特徴とする、
請求項2から9の何れか一項に記載のシステム。 - 第1および第2キャリブレーションマーカ構造体間の距離が第1および第2キャリブレーションマーカ構造体の寸法と同じ大きさオーダーの規模となるように、第1および第2キャリブレーションマーカ構造体が相互に近接することを特徴とする、
請求項2から10の何れか一項に記載のシステム。 - キャリブレーションマーカ構造体の組の内部の少なくとも1つのキャリブレーション構造体と前記マーカ構造体とが概ね同程度の形状を有することを特徴とする、
請求項2から11の何れか一項に記載のシステム。 - 前記キャリブレーションデータおよび測定データがスペクトルデータを有することを特徴とする、
請求項2から12の何れか一項に記載のシステム。 - 前記システムが、少なくとも一つのリソグラフィ装置およびトラックを有し、前記少なくとも1つのプロセスパラメータが、フォーカス、露光ドーズ、オーバレイ誤差、ドーズに関連するトラックパラメータ、レチクルにわたる線幅の変動、レチクル同士での変動、投影レンズ収差、投影レンズのフレア、およびレチクルを照明する光の角度分布を含むグループから選択されることを特徴とする、
請求項2から13の何れか一項に記載のシステム。 - 放射ビームを提供するように構成された照明システムと、
パターン形成構造体を支持するように構成された支持構造体であって、前記パターン形成構造体が、放射ビームの断面にパターンを付与するべく働くことを特徴とする支持構造体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターニングされたビームを前記基板のターゲット部分へ投影するように構成された投影システムと、を有する、
請求項14に記載のシステム。
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