JP4483301B2 - 光走査装置および画像形成装置 - Google Patents
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(1)走査範囲内で、かつ入射光ビームの光軸と基準線との角度が直角であるとき:
偏向ミラー面上での入射光ビームのスポット寸法が偏向ミラー面の幅以下である、
(2)走査範囲内で、かつ角度が最大値または最小値となったとき:
偏向ミラー面上での入射光ビームのスポット寸法が偏向ミラー面の幅よりも大きい、
を満足している。
(1)走査範囲内で、かつ入射光ビームLiの光軸OAiと基準線SLとの角度が直角であるとき:
偏向ミラー面651上での入射光ビームLiのスポット寸法Hbsが偏向ミラー面651の幅Hb以下である、
(2)走査範囲内で、かつ上記角度が最大値または最小値となったとき:
偏向ミラー面651上での入射光ビームLiのスポット寸法Hbsが偏向ミラー面651の幅Hbsよりも大きい、
を満足している。
Hbs≦Hb
という不等式が満足されているため、偏向ミラー面651では、ミラー幅方向Yにおいて入射光ビームLiの全部が反射されて走査レンズ66および折り返しミラー67を介して感光体2に結像され、感光体表面に光ビームLsのスポットが形成される。したがって、レーザ光源62から射出された光ビームを効率良く感光体2の表面に結像して明るいビームスポットを感光体表面に結像することができる。
となった時点より、入射光ビームLiは偏向ミラー面651に対してオーバーフィル状態となり、入射光ビームLiの一部のみが偏向される。すなわち、入射光ビームLiの中央部は、基準面SSと同一高さ位置で偏向ミラー面651で反射されるが、その一方部は基準面SSよりも下側に偏り下方部分が欠けた状態で、また他方部は基準面SSよりも上側に偏り上方部分が欠けた状態で、それぞれ偏向ミラー面651で反射されることとなる。その結果、オーバーフィル状態では射出光ビーム(走査光ビーム)Lsの中心軸CLsは、揺動角θがゼロのときの中心軸CLs(図10(b))に近づいてくる。つまり、入射光ビームLiが大きくローテーションしたとしても、走査光ビームLsのローテーションは緩和されている。その結果、感光体2の表面上におけるビームスポットのローテーションも緩和することができる。
Claims (4)
- 被走査面上で光ビームを主走査方向に走査させる光走査装置において、
入射される光ビームを反射する偏向ミラー面を有し、前記主走査方向とほぼ直交する駆動軸回りに前記偏向ミラー面を変位させることで入射光ビームを所定の走査範囲内で前記主走査方向に偏向させる偏向手段と、
光ビームを射出する光源と、
前記光源からの光ビームを整形し、前記駆動軸と直交する基準面に対して鋭角をなすように前記偏向ミラー面に入射する第1光学系と、
光ビームを前記被走査面に結像する第2光学系とを備え、
前記偏向ミラー面への前記入射光ビームの入射位置で前記偏向ミラー面と前記基準面とが交差して形成される交線を基準線とし、前記偏向ミラー面内において前記基準線に対して直交する方向をミラー幅方向としたとき、
前記ミラー幅方向における前記偏向ミラー面に形成される入射光ビームのスポット寸法が、
前記走査範囲内で、かつ入射光ビームの光軸と前記基準線との角度が直角であるときに前記ミラー幅方向における前記偏向ミラー面の幅以下である一方、
前記走査範囲内で、かつ前記角度が最大値または最小値となったときに前記ミラー幅方向における前記偏向ミラー面の幅よりも大きい
ことを特徴とする光走査装置。 - 前記第1光学系は前記光源からの光ビームを平行光束に整形し、前記入射光ビームとして前記偏向ミラー面に入射する請求項1記載の光走査装置。
- 前記偏向手段が前記入射光ビームを所定の走査範囲内で偏向する請求項1または2記載の光走査装置であって、
前記主走査方向において、前記走査範囲内で、かつ前記入射光ビームの光軸と前記基準線との角度が最大値となったときに前記偏向ミラー面に形成される前記入射光ビームのスポット寸法が前記偏向ミラー面の長さよりも短い光走査装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の光走査装置を用いて潜像担持体の表面に光ビームを走査して前記潜像担持体上に静電潜像を形成することを特徴とする画像形成装置。
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