JP4479249B2 - 有機el素子の製造方法 - Google Patents
有機el素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4479249B2 JP4479249B2 JP2004011471A JP2004011471A JP4479249B2 JP 4479249 B2 JP4479249 B2 JP 4479249B2 JP 2004011471 A JP2004011471 A JP 2004011471A JP 2004011471 A JP2004011471 A JP 2004011471A JP 4479249 B2 JP4479249 B2 JP 4479249B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- atoms
- layer
- organic
- nitrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 75
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 62
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 52
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 48
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 39
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 claims description 29
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 7
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 6
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 65
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 19
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 17
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 1
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000005394 sealing glass Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- -1 tris (8-quinolinol) aluminum Chemical compound 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
NH3ガス流量 300SCCM→0SCCM
N2Oガス流量 30SCCM→270SCCM
N2ガス流量 2000SCCM
成膜温度 230℃
圧力 120pa
RF電力 1000W
成膜時間 3分
NH3ガス流量 300SCCM→100SCCM
N2Oガス流量 30SCCM→170SCCM
N2ガス流量 2000SCCM
成膜温度 230℃
圧力 120pa
RF電力 1000W
成膜時間 3分
NH3ガス流量 0SCCM→300SCCM(30秒保持)
N2Oガス流量 270SCCM→0SCCM(30秒保持)
N2ガス流量 2000SCCM
成膜温度 230℃
圧力 120pa
RF電力 1000W
成膜時間 3分
NH3ガス流量 0SCCM→300SCCM(1分保持)
N2Oガス流量 270SCCM→0SCCM(1分保持)
N2ガス流量 2000SCCM
成膜温度 230℃
圧力 120pa
RF電力 1000W
成膜時間 3分
NH3ガス流量 0SCCM→300SCCM(1分保持)
N2Oガス流量 270SCCM(1分保持)→0SCCM(1分保持)
N2ガス流量 2000SCCM
成膜温度 230℃
圧力 120pa
RF電力 1000W
成膜時間 3分
(1回目)
SiH4ガス流量 100SCCM
NH3ガス流量 0SCCM
N2Oガス流量 270SCCM
N2ガス流量 2000SCCM
成膜温度 230℃
圧力 120pa
RF電力 1000W
成膜時間 2分
(2回目)
SiH4ガス流量 100SCCM
NH3ガス流量 300SCCM
N2Oガス流量 0SCCM
N2ガス流量 2000SCCM
成膜温度 230℃
圧力 120pa
RF電力 1000W
成膜時間 2分
<比較例1>
オーバーコート樹脂層と透明電極(陽極)の間のパッシベーション膜をプラズマCVD装置を用いて下記条件で成膜した。
NH3ガス流量 0SCCM
N2Oガス流量 270SCCM
N2ガス流量 2000SCCM
成膜温度 230℃
圧力 120pa
RF電力 1000W
成膜時間 3分
<比較例2>
オーバーコート樹脂層と透明電極(陽極)の間のパッシベーション膜をプラズマCVD装置を用いて下記条件で成膜した。
NH3ガス流量 300SCCM
N2Oガス流量 0SCCM
N2ガス流量 2000SCCM
成膜温度 230℃
圧力 120pa
RF電力 1000W
成膜時間 3分
上記各実施例及び比較例のパッシベーション膜を有する有機EL素子を、60℃湿度90%の促進条件下で保存試験を行い、非発光部(ダークスポット)の拡大を観察して、ガラス基板上に直接形成した有機EL素子と比較して評価した。その結果を表1に示す。
CF:カラーフィルター OC:オーバーコート層
参考例2はオーバーコート(以下OCと表記する)層と透明電極(陽極)の間にパッシベーション層を形成せずに素子化したサンプルであるが、表1に示すように60℃、90%環境下でのダークスポット(以下DSと表記する)の状況を観察すると、当初発光していた素子も100時間経過後にはDSの拡大が進んで発光しなくなった。参考例3のように、カラーフィルター(以下CFと表記する)とOCがない場合には、パッシベーション層がなくてもDSの拡大がほとんどみられないことから、CFやOCからの水分や有機ガスがEL素子のDS拡大に強く影響することが示唆される。
2 カラーフィルター層
3 オーバーコート樹脂層
4 パッシベーション膜
5 透明電極(陽極)
6 有機発光層
7 陰極
8 乾燥剤
9 封止缶
Claims (6)
- 窒化酸化珪素(SiOxNy)からなるパッシベーション膜中に膜の深さ方向で窒素原子(N)と酸素原子(O)の比率が傾斜的に変化している層を有する有機EL素子の製造方法であって、
CVD法の原料ガスとしてシランガス、酸化窒素ガス、アンモニアを用いた成膜中に、アンモニアの流量を時間と共に上げ、同時に酸化窒素ガスの流量を時間と共に下げて前記膜の深さ方向で窒素原子と酸素原子の比率が傾斜的に変化している層を形成し、続けて酸化窒素ガスの流量を0にした状態で成膜することで窒素高濃度層を形成することを特徴とする有機EL素子の製造方法。 - 前記膜の深さ方向で窒素原子と酸素原子の比率が傾斜的に変化している層の深さ方向での窒素原子(N)と酸素原子(O)の比率の変化が、N原子数/(O原子数+N原子数)の値で0.4から0.9の範囲で変化することを特徴とする請求項1記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記膜の深さ方向で窒素原子と酸素原子の比率が傾斜的に変化している層の深さ方向での窒素原子(N)と酸素原子(O)の比率の変化が、N原子数/(O原子数+N原子数)の値で0.6から0.9の範囲で変化することを特徴とする請求項1記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記膜の深さ方向で窒素原子と酸素原子の比率が傾斜的に変化している層のN原子数/(O原子数+N原子数)の値は平均すると0.6以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記窒素高濃度層の厚さが、50nmから100nmの範囲にあることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記パッシベーション膜が、基板上のカラーフィルター層と透明電極間に形成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか記載の有機EL素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004011471A JP4479249B2 (ja) | 2004-01-20 | 2004-01-20 | 有機el素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004011471A JP4479249B2 (ja) | 2004-01-20 | 2004-01-20 | 有機el素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005209356A JP2005209356A (ja) | 2005-08-04 |
JP4479249B2 true JP4479249B2 (ja) | 2010-06-09 |
Family
ID=34898150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004011471A Expired - Lifetime JP4479249B2 (ja) | 2004-01-20 | 2004-01-20 | 有機el素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4479249B2 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4748386B2 (ja) * | 2005-10-20 | 2011-08-17 | 富士電機株式会社 | 有機el素子 |
JP2007123174A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Canon Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2007123173A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Canon Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
TW200930135A (en) * | 2007-08-31 | 2009-07-01 | Tokyo Electron Ltd | Organic electronic device, organic electronic device manufacturing method, organic electronic device manufacturing apparatus, substrate processing system, protection film structure and storage medium with control program stored therein |
JP5136114B2 (ja) * | 2008-02-20 | 2013-02-06 | 大日本印刷株式会社 | ガスバリア膜の作製方法及び作製装置 |
KR20090107882A (ko) * | 2008-04-10 | 2009-10-14 | 삼성전자주식회사 | 고정층을 포함하는 경사 조성 봉지 박막 및 그의 제조방법 |
US8492751B2 (en) | 2008-08-26 | 2013-07-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Organic EL device and process for manufacturing same |
CN101810050B (zh) | 2008-09-26 | 2011-12-28 | 富士电机株式会社 | 有机el器件及其制造方法 |
CN102077686B (zh) * | 2009-06-29 | 2015-04-22 | 夏普株式会社 | 用于有机el元件的密封膜,有机el元件以及有机el显示器 |
JP5499612B2 (ja) * | 2009-10-09 | 2014-05-21 | 大日本印刷株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 |
JP5266532B2 (ja) * | 2010-01-12 | 2013-08-21 | コニカミノルタ株式会社 | 発光素子 |
JP5381734B2 (ja) * | 2010-01-14 | 2014-01-08 | コニカミノルタ株式会社 | バリア性フィルム及び有機電子デバイス |
CN105073406B (zh) * | 2013-03-29 | 2017-06-27 | 琳得科株式会社 | 阻气性层压体、电子器件用部件及电子器件 |
CN104157790B (zh) * | 2014-06-30 | 2017-03-15 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种有机发光薄膜封装结构,其器件、装置及制造方法 |
WO2016046914A1 (ja) * | 2014-09-24 | 2016-03-31 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
CN109935717B (zh) * | 2017-12-15 | 2021-05-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 封装结构及封装方法、电致发光器件、显示装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4463373B2 (ja) * | 1999-03-23 | 2010-05-19 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置およびその作製方法 |
JP3962572B2 (ja) * | 2001-10-30 | 2007-08-22 | 出光興産株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス発光装置 |
-
2004
- 2004-01-20 JP JP2004011471A patent/JP4479249B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005209356A (ja) | 2005-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4479249B2 (ja) | 有機el素子の製造方法 | |
KR101366449B1 (ko) | 광 반도체 장치 및 그 제조 방법 | |
TWI399999B (zh) | 有機el顯示裝置及其製造方法 | |
US6710542B2 (en) | Organic light emitting device with improved moisture seal | |
JP4795779B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス表示パネル | |
KR102435156B1 (ko) | 투명 표시 기판 및 투명 표시 장치 | |
US20090079328A1 (en) | Thin film encapsulation containing zinc oxide | |
JP2000223264A (ja) | 有機el素子およびその製造方法 | |
WO2005105428A1 (ja) | 積層体、発光素子及びその使用 | |
US20170117503A1 (en) | Buffer layer for organic light emitting devices and method of making the same | |
JP5241173B2 (ja) | 有機el素子の製造方法 | |
JP2005285659A (ja) | 有機el装置及びその製造方法 | |
JP2008270172A (ja) | 有機el素子の製造方法 | |
JP2002033186A (ja) | 有機発光素子 | |
US8928217B2 (en) | Organic light emitting display device and manufacturing method thereof | |
JP2005203321A (ja) | 保護膜および有機el素子 | |
JP2007123174A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP2015080855A (ja) | 封止フィルム、その製造方法及び封止フィルムで封止された機能素子 | |
KR101877402B1 (ko) | 유기전자소자용 보호막 및 그 증착 방법 | |
US20040195966A1 (en) | Method of providing a layer including a metal or silicon or germanium and oxygen on a surface | |
KR101616929B1 (ko) | 유기발광 표시장치 제조방법 | |
CN103427035A (zh) | 一种有机电致发光器件及其制备方法 | |
KR20050029790A (ko) | 투습방지막을 구비한 유기이엘 패널 및 그의 제조방법 | |
KR100903486B1 (ko) | 유기 발광 소자 및 유기 발광 소자용 보호막 형성 방법 | |
JP2007066580A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090901 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090908 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091109 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100127 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100223 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100308 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130326 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4479249 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140326 Year of fee payment: 4 |