JP4478627B2 - ガス化装置 - Google Patents
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Description
図1及び図2は本発明の第1実施形態に係るガス化装置1を示す。このガス化装置1は木チップ(ガス原料)を加熱して熱分解させ、燃料として使用される可燃性のガスを発生する。
図3及び図4は、本発明の第2実施形態に係るガス化装置1を示す。仕切壁24の外周面には、外向き、すなわちガス通路25内へ突出し、かつ上下方向に延びる複数のフィン35が形成されている。これらのフィン35を設けることにより、ガス通路25を仕切壁24の上端開口からガス取出口26に向けて降下するガスに対して仕切壁24内で発生している熱を伝達する伝熱面積が増加する。従って、ガス通路25中でより効率的にガスを再加熱し、ガス取出口26からより高温のガスを取り出すことができるので、改質のためにガスを加熱するのに必要な加熱量をより一層低減できる。
図5は、本発明の第3実施形態に係るガス化装置1を示す。仕切壁24の外周面には、外向き、すなわちガス通路25内へ突出し、かつ仕切壁24の上端付近から下端付近まで延びる螺旋状の単一のフィン36が形成されている。このフィン36を設けることにより、ガス通路25中のガスに対して仕切壁24内で発生している熱を伝達する伝熱面積が増加する。また、フィン36を螺旋状としたことにより、仕切壁24の上端開口24bから流出したガスは、フィン36に沿って仕切壁24の周囲を数回循環し、ガス通路25内に十分な時間滞在した後にガス取出口26に到達する。換言すれば、フィン36を設けたことにより十分な再加熱の時間が確保される。これらの理由により、ガス通路25中でより効率的にガスを再加熱し、ガス取出口26からより高温のガスを取り出すことができる。
図6は、本発明の第4実施形態に係るガス化装置1を示す。ガス通路25内には複数の電気加熱ヒータ37が配置されている。これらのガス通路25内に配置した電気加熱ヒータ37でガス通路25中のガスを積極的に加熱することにより、ガス通路25中でより効率的にガスを再加熱し、ガス取出口26からより高温のガスを取り出すことができる。その結果、改質のためにガスを加熱するのに必要な加熱量をより一層低減できる。例えば、電気加熱ヒータ37で積極的に加熱することにより、ガス取出口26から取り出されるガスの温度を500℃以上に加熱できれば、改質のための加熱に必要な加熱量を非常に大幅に低減できる。また、加熱能力の高い電気加熱ヒータ37を使用すれば、ガス通路25中のガスを700℃程度の高温に加熱し、タールの分解除去をガス通路25内で実行できる。この場合、ガス取出口26から取り出したガスをガス化装置1とは別の改質装置で改質する必要がなくなり、設備の大幅な簡素化を図ることができる。換言すれば、電気加熱ヒータ37を設けてガス通路25中でのタールの分解除去を実現できれば、タール改質装置一体型のガス化装置1を実現できる。
図7は本発明の第5実施形態に係るガス化装置1を示す。第2実施形態と同様に、仕切壁24の外周面には、外向きに突出し、かつ上下方向に延びる複数のフィン35が形成されている。また、第4実施形態と同様に、ガス通路25には電気加熱ヒータ37が配置されている。フィン35を設けたことによる伝熱面積増加と、電気加熱ヒータ37による積極的な加熱の両方の効果が相俟って、ガス通路25中でガスを非常に効率的に再加熱できる。なお、第3実施形態のような螺旋状のフィン36を設けた構成でさらにガス流路中に電気加熱ヒータ37を配置してもよい。
2 基台
3 炉外壁
4 側壁部
5 天壁部
6 底壁部
8 断熱材
11 供給管
11a 吐出口
12 開閉装置
13 投入装置
15 耐熱構造体
16 燃焼室
18 固定床
19 排出穴
21 灰取出装置
22 着火口
23 送風口
24 仕切壁
24a 基部
24b 上端開口
24c 下端開口
25 ガス通路
26 ガス取出口
31 燃焼層
32 ガス化層
33 木チップ堆積層
35,36 フィン
37 電気加熱ヒータ
Claims (4)
- 内部に充填されたガス化用固体燃料を支持する固定床を備え、この固定床上の前記ガス化用固体燃料を加熱してガス化させ、装置内を上昇させて前記ガスを取り出すガス化装置において、
炉外壁で囲まれた炉内に配置され、その内部に前記ガス化用固体燃料が充填される筒状の仕切壁と
前記炉外壁の側壁部と前記仕切壁の外周との間に形成された隙間からなるガス通路と、
前記炉内で開口して前記ガス通路と連通する前記仕切壁の上端開口と、
前記炉外壁の前記仕切壁の高さの1/2以下の位置に設けられ、前記ガス通路と連通するガス取出口とを備え、
前記仕切壁の内部で前記ガス化用固体燃料を加熱してガス化させ、仕切壁内を上昇して前記仕切壁の前記上端開口から流出したガスを前記ガス通路に導いて降下させ、前記ガス取出口から炉外に取り出すようにしていることを特徴とするガス化装置。 - 前記仕切壁の外周面から前記ガス流路内に突出するフィンをさらに備えることを特徴とする、請求項1に記載のガス化装置。
- 前記ガス通路に配置されたヒータをさらに備えることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載のガス化装置。
- 前記仕切壁は下方に向けて寸法が拡大するテーパ状であることを特徴とする、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のガス化装置。
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- 2005-07-29 JP JP2005221111A patent/JP4478627B2/ja active Active
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