JP4464218B2 - Lsi設計システム、lsi設計方法、及びレイアウトデータ構造 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態に係るLSI設計システムの構成を示すブロック図である。このLSI設計システム100は、データベース10と、作業メモリ20と、レイアウト編集ツール30と、デザインルール検証ツール40と、制御部50と、入力部60と、出力部70と、記憶部80とを備えている。
次に、本発明に係るLSI設計システム100の動作を説明する。ここでは、例として、図2に示されたような構成が設計されるとする。
11 レイアウト層定義ファイル
12 デザインルールファイル
20 作業メモリ
21 レイアウト層
30 レイアウト編集ツール
40 デザインルール検証ツール
50 制御部
60 入力部
70 出力部
80 記憶部
90 レイアウトデータ
100 LSI設計システム
150 EBデータ変換部
200 EBデータ生成システム
210 EBデータ
300 EB描画装置
Claims (9)
- 複数のレイアウト層が構築されるメモリと、
前記メモリにアクセス可能に接続されたレイアウト編集手段と
を具備し、
前記複数のレイアウト層は、同一の物理層に形成される第1構造と第2構造がそれぞれ配置される第1レイアウト層と第2レイアウト層を含み、前記第1構造と前記第2構造の長手方向は異なり、
前記レイアウト編集手段は、前記第1構造の図形情報を前記第1レイアウト層に対応づけ、前記第2構造の図形情報を前記第2レイアウト層に対応づける
LSI設計システム。 - 請求項1に記載のLSI設計システムであって、
前記第1構造の前記長手方向と、前記第2構造の前記長手方向とは互いに直交する
LSI設計システム。 - 請求項1又は2に記載のLSI設計システムであって、
前記第1構造と前記第2構造は、前記同一の物理層において互いに接続する
LSI設計システム。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載のLSI設計システムであって、
前記レイアウト編集手段は、前記複数のレイアウト層のそれぞれに、対応する前記構造の図形情報を対応づけ、前記複数のレイアウト層と前記図形情報との対応関係を示すレイアウトデータを作成する
LSI設計システム。 - データベースと、
メモリと、
前記データベース及び前記メモリにアクセス可能に接続されたレイアウト編集手段と
を具備し、
前記データベースは、配置される構造及び前記構造の長手方向を、複数のレイアウト層のそれぞれに対して定義するレイアウト層定義ファイルを有し、
前記複数のレイアウト層は、同一の物理層に形成される第1構造と第2構造がそれぞれ配置される第1レイアウト層と第2レイアウト層を含み、前記第1構造と前記第2構造の前記長手方向は異なり、
前記レイアウト編集手段は、前記レイアウト層定義ファイルを参照することによって、前記メモリに前記複数のレイアウト層を構築し、
前記レイアウト編集手段は、前記第1レイアウト層と前記第2レイアウト層を含む前記複数のレイアウト層のそれぞれに、対応する前記構造の図形情報を対応づけ、前記複数のレイアウト層と前記図形情報との対応関係を示すレイアウトデータを作成する
LSI設計システム。 - 請求項4又は5に記載のLSI設計システムであって、
作成された前記レイアウトデータが、前記複数のレイアウト層に対する設計基準に適合するかどうか検証するデザインルール検証部を更に具備する
LSI設計システム。 - 請求項6に記載のLSI設計システムと、
前記LSI設計システムに接続されたEBデータ変換部と
を具備し、
前記EBデータ変換部は、前記LSI設計システムから前記レイアウトデータを受け取り、前記レイアウトデータを電子ビーム描画装置に適したフォーマットを有するEBデータに変換し、前記EBデータを前記電子ビーム描画装置に出力する
EBデータ生成システム。 - メモリ領域と、前記メモリ領域にアクセス可能に接続されたレイアウト編集手段とを備えるLSI設計システムにおけるLSI設計方法であって、
(A)前記レイアウト編集手段が、前記メモリ領域に、複数のレイアウト層を構築するステップと、ここで、前記複数のレイアウト層は、同一の物理層に形成される第1構造と第2構造がそれぞれ配置される第1レイアウト層と第2レイアウト層を含み、前記第1構造と前記第2構造の長手方向は異なり、
(B)前記レイアウト編集手段が、入力される前記第1構造の図形情報を前記第1レイアウト層に対応づけるステップと、
(C)前記レイアウト編集手段が、入力される前記第2構造の図形情報を前記第2レイアウト層に対応づけるステップと、
(D)前記レイアウト編集手段が、前記複数のレイアウト層と前記図形情報との対応関係を示すレイアウトデータを作成するステップと
を具備する
LSI設計方法。 - メモリ領域と、前記メモリ領域にアクセス可能に接続されたレイアウト編集手段とを備えるLSI設計システムにおけるLSI設計方法であって、
(a)配置される構造及び前記構造の長手方向を複数のレイアウト層のそれぞれに定義するレイアウト層定義ファイルを提供するステップと、ここで、前記複数のレイアウト層は、同一の物理層に形成される第1構造と第2構造がそれぞれ配置される第1レイアウト層と第2レイアウト層を含み、前記第1構造と前記第2構造の前記長手方向は異なり、
(b)前記レイアウト編集手段が、前記レイアウト層定義ファイルを参照することによって、前記メモリ領域に前記複数のレイアウト層を構築するステップと、
(c)前記レイアウト編集手段が、入力される前記第1構造の図形情報を前記第1レイアウト層に対応づけるステップと、
(d)前記レイアウト編集手段が、入力される前記第2構造の図形情報を前記第2レイアウト層に対応づけるステップと、
(e)前記レイアウト編集手段が、前記複数のレイアウト層と前記図形情報との対応関係を示すレイアウトデータを作成するステップと
を具備する
LSI設計方法。
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